JP3002458B2 - カラー液晶表示装置用遮光膜付き透光性基板およびその製造方法 - Google Patents
カラー液晶表示装置用遮光膜付き透光性基板およびその製造方法Info
- Publication number
- JP3002458B2 JP3002458B2 JP10-296621A JP29662198A JP3002458B2 JP 3002458 B2 JP3002458 B2 JP 3002458B2 JP 29662198 A JP29662198 A JP 29662198A JP 3002458 B2 JP3002458 B2 JP 3002458B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- shielding film
- transmitting substrate
- chromium oxide
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 91
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims description 37
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 60
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 60
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 44
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 44
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 34
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 14
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 claims description 14
- 229910000424 chromium(II) oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N chromium Chemical group [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 28
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 22
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 10
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 230000003247 decreasing Effects 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 230000003287 optical Effects 0.000 description 4
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- XMPZTFVPEKAKFH-UHFFFAOYSA-P Ceric ammonium nitrate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[Ce+4].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O XMPZTFVPEKAKFH-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N Perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N AI2O3 Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N Lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005407 aluminoborosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000006011 modification reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラー液晶表示装
置の画像のコントラストを向上させるために使用される
カラー液晶表示装置用遮光膜付き透光性基板、および、
その製造方法に関する。
置の画像のコントラストを向上させるために使用される
カラー液晶表示装置用遮光膜付き透光性基板、および、
その製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】表示装置における画像のコントラストを
向上させるための一法として、遮光膜によって不要光を
低減させる方法が知られており、高い遮光膜と低い裏面
反射率とを有する遮光膜として、酸化クロム（Ｃｒ
2Ｏ3）膜とクロム（Ｃｒ）膜とを透光性基板上に順次積
層してなる遮光膜が知られている。この遮光膜は、透光
性基板表面に比較的厚いＣｒ2Ｏ3膜を形成することによ
り低い裏面反射率を得ており、このＣｒ2Ｏ3膜の表面に
Ｃｒ膜を形成することにより高い遮光率を得ている。
向上させるための一法として、遮光膜によって不要光を
低減させる方法が知られており、高い遮光膜と低い裏面
反射率とを有する遮光膜として、酸化クロム（Ｃｒ
2Ｏ3）膜とクロム（Ｃｒ）膜とを透光性基板上に順次積
層してなる遮光膜が知られている。この遮光膜は、透光
性基板表面に比較的厚いＣｒ2Ｏ3膜を形成することによ
り低い裏面反射率を得ており、このＣｒ2Ｏ3膜の表面に
Ｃｒ膜を形成することにより高い遮光率を得ている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、比較的
厚いＣｒ2Ｏ3 膜とこのＣｒ2Ｏ3 膜の表面に形成された
Ｃｒ膜とからなる従来の遮光膜においては、Ｃｒ2Ｏ3
膜とＣｒ膜とのエッチング・レートが異なるために、エ
ッチングをしたときに、Ｃｒ2Ｏ3 膜とこのＣｒ2Ｏ3 膜
が設けられた基材との界面にオーバー・エッチングが生
じ、良好なエッチング・プロファイルが得られない。ま
た、Ｃｒ2Ｏ3 膜は元来、平滑なエッチング・プロファ
イルが得ずらい膜であり、膜厚を厚くした場合には、エ
ッチング・プロファイルの粗悪化の傾向は顕著になる。
厚いＣｒ2Ｏ3 膜とこのＣｒ2Ｏ3 膜の表面に形成された
Ｃｒ膜とからなる従来の遮光膜においては、Ｃｒ2Ｏ3
膜とＣｒ膜とのエッチング・レートが異なるために、エ
ッチングをしたときに、Ｃｒ2Ｏ3 膜とこのＣｒ2Ｏ3 膜
が設けられた基材との界面にオーバー・エッチングが生
じ、良好なエッチング・プロファイルが得られない。ま
た、Ｃｒ2Ｏ3 膜は元来、平滑なエッチング・プロファ
イルが得ずらい膜であり、膜厚を厚くした場合には、エ
ッチング・プロファイルの粗悪化の傾向は顕著になる。
【０００４】このようなエッチング・プロファイルの粗
悪化は、遮光膜の遮光性を低下させて不要光の増加をも
たらすものであるため、比較的厚いＣｒ2Ｏ3 膜とこの
Ｃｒ2Ｏ3 膜の表面に形成されたＣｒ膜とからなる従来
の遮光膜においては、遮光膜自体は高い遮光率と低い裏
面反射率とを有するものの、良好なエッチング・プロフ
ァイルを得ることができないことに起因する不要光の増
加により、画像のコントラストを向上させることが困難
であるという問題があった。
悪化は、遮光膜の遮光性を低下させて不要光の増加をも
たらすものであるため、比較的厚いＣｒ2Ｏ3 膜とこの
Ｃｒ2Ｏ3 膜の表面に形成されたＣｒ膜とからなる従来
の遮光膜においては、遮光膜自体は高い遮光率と低い裏
面反射率とを有するものの、良好なエッチング・プロフ
ァイルを得ることができないことに起因する不要光の増
加により、画像のコントラストを向上させることが困難
であるという問題があった。
【０００５】本発明の目的は、実用上十分に高い遮光率
と低い裏面反射率とを有し、かつ、良好なエッチング・
プロファイルを有する遮光膜を備えたカラー液晶表示装
置用遮光膜付き透光性基板、および、その製造方法を提
供することにある。
と低い裏面反射率とを有し、かつ、良好なエッチング・
プロファイルを有する遮光膜を備えたカラー液晶表示装
置用遮光膜付き透光性基板、および、その製造方法を提
供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたものであり、本発明のカラー液晶
表示装置用遮光膜付き透光性基板は、透光性基板と、こ
の透光性基板表面に選択的に形成された遮光膜とを備
え、カラー液晶表示装置の画像のコントラストを向上さ
せるために使用されるカラー液晶表示装置用遮光膜付き
透光性基板であり、前記遮光膜はクロム酸化物を含有
し、該遮光膜の前記透光性基板側の端面におけるクロム
酸化物の酸化度が前記端面に対向する他端面におけるク
ロム酸化物の酸化度より大きく、かつ、該遮光膜に含有
されているクロム酸化物の酸化度が前記透光性基板側の
端面から前記他端面にかけて連続的に変化していること
を特徴とするものである。
成するためになされたものであり、本発明のカラー液晶
表示装置用遮光膜付き透光性基板は、透光性基板と、こ
の透光性基板表面に選択的に形成された遮光膜とを備
え、カラー液晶表示装置の画像のコントラストを向上さ
せるために使用されるカラー液晶表示装置用遮光膜付き
透光性基板であり、前記遮光膜はクロム酸化物を含有
し、該遮光膜の前記透光性基板側の端面におけるクロム
酸化物の酸化度が前記端面に対向する他端面におけるク
ロム酸化物の酸化度より大きく、かつ、該遮光膜に含有
されているクロム酸化物の酸化度が前記透光性基板側の
端面から前記他端面にかけて連続的に変化していること
を特徴とするものである。
【０００７】また、本発明のカラー液晶表示装置用遮光
膜付き透光性基板の製造方法は、透光性基板と、この透
光性基板表面に選択的に形成された遮光膜とを備え、カ
ラー液晶表示装置の画像のコントラストを向上させるた
めに使用されるカラー液晶表示装置用遮光膜付き透光性
基板を製造するにあたって、前記遮光膜の基となる層と
して、クロム酸化物を含有する層をスパッタリング法に
よって成膜し、その際、クロムからなるスパッタ・ター
ゲットを用い、かつ、成膜開始時から成膜終了時にかけ
て雰囲気ガス流量中に占めるＯ2 流量の割合を徐々に減
少させ、その後、前記遮光膜の基となる層を所定形状に
パターニングして遮光層とする、ことを特徴とするもの
である。
膜付き透光性基板の製造方法は、透光性基板と、この透
光性基板表面に選択的に形成された遮光膜とを備え、カ
ラー液晶表示装置の画像のコントラストを向上させるた
めに使用されるカラー液晶表示装置用遮光膜付き透光性
基板を製造するにあたって、前記遮光膜の基となる層と
して、クロム酸化物を含有する層をスパッタリング法に
よって成膜し、その際、クロムからなるスパッタ・ター
ゲットを用い、かつ、成膜開始時から成膜終了時にかけ
て雰囲気ガス流量中に占めるＯ2 流量の割合を徐々に減
少させ、その後、前記遮光膜の基となる層を所定形状に
パターニングして遮光層とする、ことを特徴とするもの
である。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明のカラー液晶表示装置用遮
光膜付き透光性基板における遮光膜は、上記のようにク
ロム酸化物を含有する特定の膜であり、当該遮光膜にお
いては、透光性基板側の端面におけるクロム酸化物の酸
化度が前記端面に対向する他端面におけるクロム酸化物
の酸化度より大きく、かつ、当該遮光膜に含有されてい
るクロム酸化物の酸化度が前記透光性基板側の端面から
前記他端面にかけて連続的に変化している。
光膜付き透光性基板における遮光膜は、上記のようにク
ロム酸化物を含有する特定の膜であり、当該遮光膜にお
いては、透光性基板側の端面におけるクロム酸化物の酸
化度が前記端面に対向する他端面におけるクロム酸化物
の酸化度より大きく、かつ、当該遮光膜に含有されてい
るクロム酸化物の酸化度が前記透光性基板側の端面から
前記他端面にかけて連続的に変化している。
【０００９】このような遮光膜では、エッチング・レー
トが透光性基板側の端面で高くこの端面に対向する他端
面で低く、かつ、膜厚方向に連続的に変化しているの
で、遮光膜の基となる層を所定形状にエッチングして遮
光膜を得る際に、遮光膜とこの遮光膜が設けられた基材
（透光性基板または透光性基板上に設けられた物質層
等）との界面においてオーバー・エッチングを生じるこ
となく、比較的平坦なエッチング・プロファイルを得る
ことができる。
トが透光性基板側の端面で高くこの端面に対向する他端
面で低く、かつ、膜厚方向に連続的に変化しているの
で、遮光膜の基となる層を所定形状にエッチングして遮
光膜を得る際に、遮光膜とこの遮光膜が設けられた基材
（透光性基板または透光性基板上に設けられた物質層
等）との界面においてオーバー・エッチングを生じるこ
となく、比較的平坦なエッチング・プロファイルを得る
ことができる。
【００１０】また、前記他端面側を酸化度の低いクロム
酸化物もしくはクロム（Ｃｒ）によって形成することに
より、実用上十分に高い遮光率と低い裏面反射率とを有
する遮光膜を容易に得ることができる。なお、本発明に
おけるクロム酸化物の酸化度は、クロム酸化物の組成を
式ＣｒＯx で表わしたときのｘの値で表わすものとし、
酸化度の大小は、このｘの値の大小により比較するもの
とする。そして、本明細書におけるクロム酸化物とは、
酸化度が０であるもの、すなわちＣｒも含むものとす
る。
酸化物もしくはクロム（Ｃｒ）によって形成することに
より、実用上十分に高い遮光率と低い裏面反射率とを有
する遮光膜を容易に得ることができる。なお、本発明に
おけるクロム酸化物の酸化度は、クロム酸化物の組成を
式ＣｒＯx で表わしたときのｘの値で表わすものとし、
酸化度の大小は、このｘの値の大小により比較するもの
とする。そして、本明細書におけるクロム酸化物とは、
酸化度が０であるもの、すなわちＣｒも含むものとす
る。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を用いて
説明する。 実施例１ まず、表面および裏面を精密研磨した、石英ガラスから
なる透光性基板を用意した。次いで、この透光性基板の
一主表面に、遮光膜の基となる層（以下、この層を単に
「材料層」ということがある。）として、クロム酸化物
を含有する層であって、透光性基板側の端面におけるク
ロム酸化物の酸化度が前記端面に対向する他端面におけ
るクロム酸化物の酸化度より大きく、かつ、クロム酸化
物の酸化度が透光性基板側の端面からこの端面に対向す
る他端面にかけて連続的に変化している、膜厚１５００
オングストロームの層をスパッタリングにより成膜し
た。なお、材料層の成膜条件の詳細については後述す
る。
説明する。 実施例１ まず、表面および裏面を精密研磨した、石英ガラスから
なる透光性基板を用意した。次いで、この透光性基板の
一主表面に、遮光膜の基となる層（以下、この層を単に
「材料層」ということがある。）として、クロム酸化物
を含有する層であって、透光性基板側の端面におけるク
ロム酸化物の酸化度が前記端面に対向する他端面におけ
るクロム酸化物の酸化度より大きく、かつ、クロム酸化
物の酸化度が透光性基板側の端面からこの端面に対向す
る他端面にかけて連続的に変化している、膜厚１５００
オングストロームの層をスパッタリングにより成膜し
た。なお、材料層の成膜条件の詳細については後述す
る。
【００１２】次に、透光性基板の一主表面に成膜した上
記材料層に、レジスト塗布、電子ビーム描画、現像、エ
ッチング、レジスト除去を順次施すことにより、図１に
示すように、透光性基板１上に前記材料層の一部からな
る遮光膜２を形成し、これによってカラー液晶表示装置
用遮光膜付き透光性基板３を得た。なおエッチング液と
しては、硝酸第二セリウムアンモニウム５７８ｇに、過
塩素酸１４２mlを純水で３．５ｌに希釈した液を加えた
エッチング液を用いた。
記材料層に、レジスト塗布、電子ビーム描画、現像、エ
ッチング、レジスト除去を順次施すことにより、図１に
示すように、透光性基板１上に前記材料層の一部からな
る遮光膜２を形成し、これによってカラー液晶表示装置
用遮光膜付き透光性基板３を得た。なおエッチング液と
しては、硝酸第二セリウムアンモニウム５７８ｇに、過
塩素酸１４２mlを純水で３．５ｌに希釈した液を加えた
エッチング液を用いた。
【００１３】ここで、前述した材料層の成膜方法につい
て説明する。本実施例１における遮光膜２の基となった
層（材料層）の成膜は、Ｃｒをスパッタ・ターゲットと
し、雰囲気ガスとしてＡｒとＯ2 との混合ガスを使用
し、定電流電源（電流６．０Ａ）を用いたＤＣスパッタ
装置により、次のようにして行った。
て説明する。本実施例１における遮光膜２の基となった
層（材料層）の成膜は、Ｃｒをスパッタ・ターゲットと
し、雰囲気ガスとしてＡｒとＯ2 との混合ガスを使用
し、定電流電源（電流６．０Ａ）を用いたＤＣスパッタ
装置により、次のようにして行った。
【００１４】すなわち、雰囲気ガス圧は１×１０-3Ｔor
r の一定圧として、下記式（Ｉ）で表わされる雰囲気ガ
ス流量中に占めるＯ2 流量の割合を、図２中の実線に
示すように、膜厚が８００オングストロームに至るまで
は０．２の一定値として成膜した後、徐々に減少させて
最終的には０として、前述したように膜厚１５００オン
グストロームの材料層を成膜した。
r の一定圧として、下記式（Ｉ）で表わされる雰囲気ガ
ス流量中に占めるＯ2 流量の割合を、図２中の実線に
示すように、膜厚が８００オングストロームに至るまで
は０．２の一定値として成膜した後、徐々に減少させて
最終的には０として、前述したように膜厚１５００オン
グストロームの材料層を成膜した。
【数１】
【００１５】このようにしてなる材料層（クロム酸化物
膜）に含有されるクロム酸化物の酸化度（クロム酸化物
の組成を式ＣｒＯx で表わしたときのｘの値。以下同
じ。）は、透光性基板側の端面において１であり、透光
性基板側の端面に対向する他端面において０であった。
そして、この材料層に含有されるクロム酸化物の酸化度
は、透光性基板側の端面からこの端面に対向する他端面
にかけて連続的に変化していた。
膜）に含有されるクロム酸化物の酸化度（クロム酸化物
の組成を式ＣｒＯx で表わしたときのｘの値。以下同
じ。）は、透光性基板側の端面において１であり、透光
性基板側の端面に対向する他端面において０であった。
そして、この材料層に含有されるクロム酸化物の酸化度
は、透光性基板側の端面からこの端面に対向する他端面
にかけて連続的に変化していた。
【００１６】上記の材料層から形成された遮光膜２の可
視光に対する透過率および裏面反射率を日立製作所
（株）製の分光光度計３４０型により測定した結果を、
表１に示す。また、遮光膜２におけるエッチング・プロ
ファイルの良否を評価するにあたり、形成直後の遮光膜
２を顕微鏡により上面から観察して、図３に示すパター
ン粗さｚを測定した。この結果も表１に示す。
視光に対する透過率および裏面反射率を日立製作所
（株）製の分光光度計３４０型により測定した結果を、
表１に示す。また、遮光膜２におけるエッチング・プロ
ファイルの良否を評価するにあたり、形成直後の遮光膜
２を顕微鏡により上面から観察して、図３に示すパター
ン粗さｚを測定した。この結果も表１に示す。
【００１７】実施例２ 遮光膜の基となる層（材料層）を成膜するにあたり、混
合ガス流量中に占めるＯ2 流量の割合を、図２中の実線
に示すように、膜厚が８００オングストロームに至る
までは０．１の一定値として成膜した後、Ｏ2 流量の割
合を徐々に減少させ最終的には０として、膜厚１５００
オングストロームの材料層（クロム酸化物膜）を成膜し
た以外は実施例１と同様にして、本発明のカラー液晶表
示装置用遮光膜付き透光性基板を得た。
合ガス流量中に占めるＯ2 流量の割合を、図２中の実線
に示すように、膜厚が８００オングストロームに至る
までは０．１の一定値として成膜した後、Ｏ2 流量の割
合を徐々に減少させ最終的には０として、膜厚１５００
オングストロームの材料層（クロム酸化物膜）を成膜し
た以外は実施例１と同様にして、本発明のカラー液晶表
示装置用遮光膜付き透光性基板を得た。
【００１８】このカラー液晶表示装置用遮光膜付き透光
性基板に設けた遮光膜に含有されているクロム酸化物の
酸化度は、透光性基板側の端面において０．５であり、
透光性基板側の端面に対向する他端面において０であっ
た。そして、この遮光膜に含有されるクロム酸化物の酸
化度は、透光性基板側の端面からこの端面に対向する他
端面にかけて連続的に変化していた。
性基板に設けた遮光膜に含有されているクロム酸化物の
酸化度は、透光性基板側の端面において０．５であり、
透光性基板側の端面に対向する他端面において０であっ
た。そして、この遮光膜に含有されるクロム酸化物の酸
化度は、透光性基板側の端面からこの端面に対向する他
端面にかけて連続的に変化していた。
【００１９】上記の遮光膜の透過率および裏面反射率を
実施例１と同様にして測定した結果を、表１に示す。ま
た、実施例１と同様にして測定した、遮光膜におけるパ
ターン粗さｚの測定結果も表１に示す。
実施例１と同様にして測定した結果を、表１に示す。ま
た、実施例１と同様にして測定した、遮光膜におけるパ
ターン粗さｚの測定結果も表１に示す。
【００２０】実施例３ 遮光膜の基となる層（材料層）を成膜するにあたり、混
合ガス流量中に占めるＯ2 流量の割合を０．２として成
膜を開始し、以降、図２中の実線に示すように、Ｏ2
流量の割合を徐々に減少させ最終的には０として、膜厚
１５００オングストロームの材料層（クロム酸化物膜）
を成膜した以外は実施例１と同様にして、本発明のカラ
ー液晶表示装置用遮光膜付き透光性基板を得た。
合ガス流量中に占めるＯ2 流量の割合を０．２として成
膜を開始し、以降、図２中の実線に示すように、Ｏ2
流量の割合を徐々に減少させ最終的には０として、膜厚
１５００オングストロームの材料層（クロム酸化物膜）
を成膜した以外は実施例１と同様にして、本発明のカラ
ー液晶表示装置用遮光膜付き透光性基板を得た。
【００２１】このカラー液晶表示装置用遮光膜付き透光
性基板に設けた遮光膜に含有されているクロム酸化物の
酸化度は、透光性基板側の端面において１であり、透光
性基板側の端面に対向する他端面において０であった。
そして、この遮光膜に含有されるクロム酸化物の酸化度
は、透光性基板側の端面からこの端面に対向する他端面
にかけて連続的に変化していた。
性基板に設けた遮光膜に含有されているクロム酸化物の
酸化度は、透光性基板側の端面において１であり、透光
性基板側の端面に対向する他端面において０であった。
そして、この遮光膜に含有されるクロム酸化物の酸化度
は、透光性基板側の端面からこの端面に対向する他端面
にかけて連続的に変化していた。
【００２２】上記の遮光膜の透過率および裏面反射率を
実施例１と同様にして測定した結果を、表１に示す。ま
た、実施例１と同様にして測定した、遮光膜におけるパ
ターン粗さｚの測定結果も表１に示す。
実施例１と同様にして測定した結果を、表１に示す。ま
た、実施例１と同様にして測定した、遮光膜におけるパ
ターン粗さｚの測定結果も表１に示す。
【００２３】実施例４ 遮光膜の基となる層（材料層）を成膜するにあたり、混
合ガス流量中に占めるＯ2 流量の割合を０．２として成
膜を開始し、図２中の実線に示すように、Ｏ2 流量の
割合が０．２６になるまでは徐々にＯ2 流量を増加さ
せ、以降、Ｏ2流量を徐々に減少させ最終的には０とし
て、膜厚１５００オングストロームの材料層（クロム酸
化物膜）を成膜した以外は実施例１と同様にして、本発
明のカラー液晶表示装置用遮光膜付き透光性基板を得
た。
合ガス流量中に占めるＯ2 流量の割合を０．２として成
膜を開始し、図２中の実線に示すように、Ｏ2 流量の
割合が０．２６になるまでは徐々にＯ2 流量を増加さ
せ、以降、Ｏ2流量を徐々に減少させ最終的には０とし
て、膜厚１５００オングストロームの材料層（クロム酸
化物膜）を成膜した以外は実施例１と同様にして、本発
明のカラー液晶表示装置用遮光膜付き透光性基板を得
た。
【００２４】このカラー液晶表示装置用遮光膜付き透光
性基板に設けた遮光膜に含有されているクロム酸化物の
酸化度は、透光性基板側の端面において１であり、透光
性基板側の端面に対向する他端面において０であった。
そして、この遮光膜に含有されるクロム酸化物の酸化度
は、透光性基板側の端面からこの端面に対向する他端面
にかけて連続的に変化していた。なお、この材料層に含
有されているクロム酸化物の酸化度の最大値は１．４で
あった。
性基板に設けた遮光膜に含有されているクロム酸化物の
酸化度は、透光性基板側の端面において１であり、透光
性基板側の端面に対向する他端面において０であった。
そして、この遮光膜に含有されるクロム酸化物の酸化度
は、透光性基板側の端面からこの端面に対向する他端面
にかけて連続的に変化していた。なお、この材料層に含
有されているクロム酸化物の酸化度の最大値は１．４で
あった。
【００２５】上記の遮光膜の透過率および裏面反射率を
実施例１と同様にして測定した結果を、表１に示す。ま
た、実施例１と同様にして測定した、遮光膜におけるパ
ターン粗さｚの測定結果も表１に示す。
実施例１と同様にして測定した結果を、表１に示す。ま
た、実施例１と同様にして測定した、遮光膜におけるパ
ターン粗さｚの測定結果も表１に示す。
【００２６】実施例５ 遮光膜の基となる層（材料層）を成膜するにあたり、混
合ガス流量中に占めるＯ2 流量の割合を０．２５として
成膜を開始し、以降、図２中の実線に示すように、Ｏ
2 流量の割合を徐々に減少させ最終的には０として、膜
厚１５００オングストロームの材料層（クロム酸化物
膜）を成膜した以外は実施例１と同様にして、本発明の
カラー液晶表示装置用遮光膜付き透光性基板を得た。
合ガス流量中に占めるＯ2 流量の割合を０．２５として
成膜を開始し、以降、図２中の実線に示すように、Ｏ
2 流量の割合を徐々に減少させ最終的には０として、膜
厚１５００オングストロームの材料層（クロム酸化物
膜）を成膜した以外は実施例１と同様にして、本発明の
カラー液晶表示装置用遮光膜付き透光性基板を得た。
【００２７】このカラー液晶表示装置用遮光膜付き透光
性基板に設けた遮光膜に含有されているクロム酸化物の
酸化度は、透光性基板側の端面において１．３であり、
透光性基板側の端面に対向する他端面において０であっ
た。そして、この遮光膜に含有されるクロム酸化物の酸
化度は、透光性基板側の端面からこの端面に対向する他
端面にかけて連続的に変化していた。
性基板に設けた遮光膜に含有されているクロム酸化物の
酸化度は、透光性基板側の端面において１．３であり、
透光性基板側の端面に対向する他端面において０であっ
た。そして、この遮光膜に含有されるクロム酸化物の酸
化度は、透光性基板側の端面からこの端面に対向する他
端面にかけて連続的に変化していた。
【００２８】上記の遮光膜の透過率および裏面反射率を
実施例１と同様にして測定した結果を、表１に示す。ま
た、実施例１と同様にして測定した、遮光膜におけるパ
ターン粗さｚの測定結果も表１に示す。
実施例１と同様にして測定した結果を、表１に示す。ま
た、実施例１と同様にして測定した、遮光膜におけるパ
ターン粗さｚの測定結果も表１に示す。
【００２９】比較例１ 遮光膜の基となる層（材料層）を成膜するにあたり、混
合ガス流量中に占めるＯ2 流量の割合を、図２中の破線
に示すように、膜厚が２００オングストロームに至る
までは０．３の一定値として、膜厚２００オングストロ
ームの酸化クロム（Ｃｒ2Ｏ3）膜を成膜した後、Ｏ2 ガ
スを排出して、Ｃｒ2Ｏ3 膜上に膜厚１ ３００オングス
トロームのＣｒ膜を成膜した以外は実施例１と同様にし
て、遮光膜付き透光性基板を得た。この遮光膜付き透光
性基板に設けた遮光膜の透過率および裏面反射率を実施
例１と同様にして測定した結果を、表１に示す。また、
実施例１と同様にして測定した、遮光膜におけるパター
ン粗さｚの測定結果も表１に示す。
合ガス流量中に占めるＯ2 流量の割合を、図２中の破線
に示すように、膜厚が２００オングストロームに至る
までは０．３の一定値として、膜厚２００オングストロ
ームの酸化クロム（Ｃｒ2Ｏ3）膜を成膜した後、Ｏ2 ガ
スを排出して、Ｃｒ2Ｏ3 膜上に膜厚１ ３００オングス
トロームのＣｒ膜を成膜した以外は実施例１と同様にし
て、遮光膜付き透光性基板を得た。この遮光膜付き透光
性基板に設けた遮光膜の透過率および裏面反射率を実施
例１と同様にして測定した結果を、表１に示す。また、
実施例１と同様にして測定した、遮光膜におけるパター
ン粗さｚの測定結果も表１に示す。
【００３０】比較例２ 遮光膜の基となる層（材料層）を成膜するにあたり、混
合ガス流量中に占めるＯ2 流量の割合を、図２中の破線
に示すように、膜厚が８００オングストロームに至る
までは０．３の一定値として、膜厚８００オングストロ
ームの酸化クロム（Ｃｒ2Ｏ3）膜を成膜した後、Ｏ2 ガ
スを排出して、Ｃｒ2Ｏ3 膜上に膜厚７ ００オングスト
ロームのＣｒ膜を成膜した以外は実施例１と同様にし
て、遮光膜付き透光性基板を得た。この遮光膜付き透光
性基板に設けた遮光膜の透過率および裏面反射率を実施
例１と同様にして測定した結果を、表１に示す。また、
実施例１と同様にして測定した、遮光膜におけるパター
ン粗さｚの測定結果も表１に示す。
合ガス流量中に占めるＯ2 流量の割合を、図２中の破線
に示すように、膜厚が８００オングストロームに至る
までは０．３の一定値として、膜厚８００オングストロ
ームの酸化クロム（Ｃｒ2Ｏ3）膜を成膜した後、Ｏ2 ガ
スを排出して、Ｃｒ2Ｏ3 膜上に膜厚７ ００オングスト
ロームのＣｒ膜を成膜した以外は実施例１と同様にし
て、遮光膜付き透光性基板を得た。この遮光膜付き透光
性基板に設けた遮光膜の透過率および裏面反射率を実施
例１と同様にして測定した結果を、表１に示す。また、
実施例１と同様にして測定した、遮光膜におけるパター
ン粗さｚの測定結果も表１に示す。
【００３１】
【表１】
【００３２】表１から明らかなように、本実施例１〜５
のカラー液晶表示装置用遮光膜付き透光性基板において
は、遮光膜の透過率および裏面反射率が実用上十分に低
く、かつ遮光膜のエッチング・プロファイルも良好であ
る。これに対し、膜厚が相対的に薄いＣｒ2Ｏ3 膜とＣ
ｒ膜とからなる遮光膜を備えた比較例１の遮光膜付き透
光性基板においては、遮光膜のエッチング・プロファイ
ルは良好であるものの、裏面反射率を低く抑えることが
できない。また、膜厚が相対的に厚いＣｒ2Ｏ3 膜とＣ
ｒ膜とからなる遮光膜を備えた比較例２の遮光膜付き透
光性基板においては、遮光膜の透過率および裏面反射率
は実用上十分に低いものではあるものの、エッチング・
プロファイルは極めて粗悪化している。
のカラー液晶表示装置用遮光膜付き透光性基板において
は、遮光膜の透過率および裏面反射率が実用上十分に低
く、かつ遮光膜のエッチング・プロファイルも良好であ
る。これに対し、膜厚が相対的に薄いＣｒ2Ｏ3 膜とＣ
ｒ膜とからなる遮光膜を備えた比較例１の遮光膜付き透
光性基板においては、遮光膜のエッチング・プロファイ
ルは良好であるものの、裏面反射率を低く抑えることが
できない。また、膜厚が相対的に厚いＣｒ2Ｏ3 膜とＣ
ｒ膜とからなる遮光膜を備えた比較例２の遮光膜付き透
光性基板においては、遮光膜の透過率および裏面反射率
は実用上十分に低いものではあるものの、エッチング・
プロファイルは極めて粗悪化している。
【００３３】なお、本発明のカラー液晶表示装置用遮光
膜付き透光性基板は、上述した実施例に限定されるもの
ではなく、下記の変形例や応用例を含むものである。ま
ず、上記実施例では透光性基板として石英ガラスを使用
したが、本発明のカラー液晶表示装置用遮光膜付き透光
性基板に使用する透光性基板の材料は特に限定されるも
のではなく、アルミノボロシリケートガラス、ソーダラ
イムガラス等の透明ガラスや、透光性アルミナ焼結体、
サイアロン、ＰＬＺＴ等の透明セラミックス、アクリル
系樹脂、塩化ビニル等の透明樹脂等を用いることがで
き、用途に応じて適宜選択可能である。
膜付き透光性基板は、上述した実施例に限定されるもの
ではなく、下記の変形例や応用例を含むものである。ま
ず、上記実施例では透光性基板として石英ガラスを使用
したが、本発明のカラー液晶表示装置用遮光膜付き透光
性基板に使用する透光性基板の材料は特に限定されるも
のではなく、アルミノボロシリケートガラス、ソーダラ
イムガラス等の透明ガラスや、透光性アルミナ焼結体、
サイアロン、ＰＬＺＴ等の透明セラミックス、アクリル
系樹脂、塩化ビニル等の透明樹脂等を用いることがで
き、用途に応じて適宜選択可能である。
【００３４】また遮光膜は、クロム酸化物を含有し、透
光性基板側の端面におけるクロム酸化物の酸化度が前記
端面に対向する他端面におけるクロム酸化物の酸化度よ
り大きく、かつ、クロム酸化物の酸化度が透光性基板側
の端面からこの端面に対向する他端面にかけて連続的に
変化していればよく、実施例１〜５で適用した方法以外
の方法でも設けることができる。ただし、遮光膜に含有
されるクロム酸化物の酸化度は１．５より小さいことが
望ましい。
光性基板側の端面におけるクロム酸化物の酸化度が前記
端面に対向する他端面におけるクロム酸化物の酸化度よ
り大きく、かつ、クロム酸化物の酸化度が透光性基板側
の端面からこの端面に対向する他端面にかけて連続的に
変化していればよく、実施例１〜５で適用した方法以外
の方法でも設けることができる。ただし、遮光膜に含有
されるクロム酸化物の酸化度は１．５より小さいことが
望ましい。
【００３５】遮光膜の基となる層（材料層）は、例え
ば、Ｃｒをスパッタ・ターゲットとし、雰囲気ガスとし
てＡｒとＯ2 との混合ガスを使用し、定電流電源（電流
６．０Ａ）を用いたＤＣスパッタ装置により、雰囲気ガ
ス圧を１×１０-3Ｔorr の一定圧として成膜する場合
は、以下のようにして成膜することができる。
ば、Ｃｒをスパッタ・ターゲットとし、雰囲気ガスとし
てＡｒとＯ2 との混合ガスを使用し、定電流電源（電流
６．０Ａ）を用いたＤＣスパッタ装置により、雰囲気ガ
ス圧を１×１０-3Ｔorr の一定圧として成膜する場合
は、以下のようにして成膜することができる。
【００３６】すなわち、下記式（II）で表わされる上記
成膜条件時の雰囲気ガス流量中に占めるＯ2 流量の割合
を、このときの混合ガス流量中に占めるＯ2 流量の割合
と電圧（スパッタ・ターゲットと基板との間の電圧）と
の関係を示す図４中のＡ点におけるＯ2 流量の割合以下
の範囲内で、成膜終了時の雰囲気ガス中のＯ2 流量の割
合を成膜開始時のＯ2 流量の割合より小さくするととも
に、成膜開始から終了に至る間のＯ2 流量の割合を連続
的に変化させつつ成膜する。
成膜条件時の雰囲気ガス流量中に占めるＯ2 流量の割合
を、このときの混合ガス流量中に占めるＯ2 流量の割合
と電圧（スパッタ・ターゲットと基板との間の電圧）と
の関係を示す図４中のＡ点におけるＯ2 流量の割合以下
の範囲内で、成膜終了時の雰囲気ガス中のＯ2 流量の割
合を成膜開始時のＯ2 流量の割合より小さくするととも
に、成膜開始から終了に至る間のＯ2 流量の割合を連続
的に変化させつつ成膜する。
【数２】
【００３７】成膜開始時のＯ2 流量の割合の方が成膜終
了時のＯ2 流量の割合より大きければ、実施例４のよう
に、途中のＯ2 流量の割合は成膜開始時のＯ2 流量の割
合より大きくてもよい。また、実施例１および２から明
らかなように、成膜開始から終了に至る間において、遮
光性を低下させない範囲内でＯ2 流量の割合を一定とし
て成膜してもよい。
了時のＯ2 流量の割合より大きければ、実施例４のよう
に、途中のＯ2 流量の割合は成膜開始時のＯ2 流量の割
合より大きくてもよい。また、実施例１および２から明
らかなように、成膜開始から終了に至る間において、遮
光性を低下させない範囲内でＯ2 流量の割合を一定とし
て成膜してもよい。
【００３８】したがって本明細書において、遮光膜に含
有されているクロム酸化物の酸化度が透光性基板側の端
面からこの端面に対向する他端面にかけて連続的に変化
しているとは、透光性基板側の端面からこの端面に対向
する他端面にかけての範囲内で、部分的に酸化度が一定
である範囲がある場合をも含むものとする。
有されているクロム酸化物の酸化度が透光性基板側の端
面からこの端面に対向する他端面にかけて連続的に変化
しているとは、透光性基板側の端面からこの端面に対向
する他端面にかけての範囲内で、部分的に酸化度が一定
である範囲がある場合をも含むものとする。
【００３９】なお図４は、成膜条件を前述の条件としつ
つ雰囲気ガス流量中に占めるＯ2 流量の割合を０から徐
々に増加させた場合の図であり、Ｏ2 流量の割合を図４
中のＡ点におけるＯ2 流量の割合よりも大きくすると、
同図から明らかなように電圧が急激に降下し、この時点
でクロム酸化物の酸化度は１．５となって、以後、Ｂ点
までＯ2 流量の割合を増加させても１．５のままであ
る。Ｂ点まで達した後にＯ2 流量の割合を徐々に減少さ
せた場合にも、クロム酸化物の酸化度が１．５より小さ
くなるＯ2 流量の割合の範囲（図示せず）がある。しか
しながら、この範囲はクロム酸化物の酸化度を一旦１．
５とした場合の範囲であり、本発明のカラー液晶表示装
置用遮光膜付き透光性基板を得るにあたっては、前述し
たようにクロム酸化物の酸化度が１．５より小さくなる
範囲で成膜することが望ましいため、成膜条件を前述の
条件とした場合のＯ2 流量の割合の範囲は、図４中のＡ
点におけるＯ2 流量の割合以下の範囲とすることが好ま
しい。
つ雰囲気ガス流量中に占めるＯ2 流量の割合を０から徐
々に増加させた場合の図であり、Ｏ2 流量の割合を図４
中のＡ点におけるＯ2 流量の割合よりも大きくすると、
同図から明らかなように電圧が急激に降下し、この時点
でクロム酸化物の酸化度は１．５となって、以後、Ｂ点
までＯ2 流量の割合を増加させても１．５のままであ
る。Ｂ点まで達した後にＯ2 流量の割合を徐々に減少さ
せた場合にも、クロム酸化物の酸化度が１．５より小さ
くなるＯ2 流量の割合の範囲（図示せず）がある。しか
しながら、この範囲はクロム酸化物の酸化度を一旦１．
５とした場合の範囲であり、本発明のカラー液晶表示装
置用遮光膜付き透光性基板を得るにあたっては、前述し
たようにクロム酸化物の酸化度が１．５より小さくなる
範囲で成膜することが望ましいため、成膜条件を前述の
条件とした場合のＯ2 流量の割合の範囲は、図４中のＡ
点におけるＯ2 流量の割合以下の範囲とすることが好ま
しい。
【００４０】本実施例１〜５における遮光膜はいずれ
も、透光性基板側の端面に対向する他端面におけるクロ
ム酸化物の酸化度が０である膜、換言すれば、透光性基
板側の端面に対向する他端面がＣｒからなる膜により形
成したが、本発明のカラー液晶表示装置用遮光膜付き透
光性基板に設ける遮光膜は、透光性基板側の端面に対向
する他端におけるクロム酸化物の酸化度が０ではない膜
により形成してもよい。このような遮光膜は、透光性基
板上に直接設けてもよいし、透光性基板上に設けられた
他の材料層上に設けてもよい。
も、透光性基板側の端面に対向する他端面におけるクロ
ム酸化物の酸化度が０である膜、換言すれば、透光性基
板側の端面に対向する他端面がＣｒからなる膜により形
成したが、本発明のカラー液晶表示装置用遮光膜付き透
光性基板に設ける遮光膜は、透光性基板側の端面に対向
する他端におけるクロム酸化物の酸化度が０ではない膜
により形成してもよい。このような遮光膜は、透光性基
板上に直接設けてもよいし、透光性基板上に設けられた
他の材料層上に設けてもよい。
【００４１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のカラー液
晶表示装置用遮光膜付き透光性基板は、透過率および裏
面反射率が実用上十分に低く、かつ、良好なエッチング
・プロファイルを有する遮光膜を備えている。したがっ
て本発明を実施することにより、不要光を実用上十分に
低く抑えることができるカラー液晶表示装置用遮光膜付
き透光性基板を得ることができ、これにより、カラー液
晶表示装置において高コントラストの画像を再現するこ
とが可能となる。
晶表示装置用遮光膜付き透光性基板は、透過率および裏
面反射率が実用上十分に低く、かつ、良好なエッチング
・プロファイルを有する遮光膜を備えている。したがっ
て本発明を実施することにより、不要光を実用上十分に
低く抑えることができるカラー液晶表示装置用遮光膜付
き透光性基板を得ることができ、これにより、カラー液
晶表示装置において高コントラストの画像を再現するこ
とが可能となる。
【図１】本発明のカラー液晶表示装置用遮光膜付き透光
性基板の一例を説明するための端面図である。
性基板の一例を説明するための端面図である。
【図２】実施例において遮光膜の基となった層（材料
層）の成膜条件を説明するための図である。
層）の成膜条件を説明するための図である。
【図３】遮光膜のエッチング・プロファイルの評価方法
を説明するための上面図である。
を説明するための上面図である。
【図４】遮光膜の基となる層（材料層）の成膜条件の範
囲を説明するための図である。
囲を説明するための図である。
１…透光性基板、 ２…遮光膜、 ３…カラー液晶表示
装置用遮光膜付き透光性基板。
装置用遮光膜付き透光性基板。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02F 1/1335 G02B 5/00 G02B 5/20 101
Claims (6)
- 【請求項１】 透光性基板と、この透光性基板表面に選
択的に形成された遮光膜とを備え、カラー液晶表示装置
の画像のコントラストを向上させるために使用されるカ
ラー液晶表示装置用遮光膜付き透光性基板において、 前記遮光膜はクロム酸化物を含有し、該遮光膜の前記透
光性基板側の端面におけるクロム酸化物の酸化度が前記
端面に対向する他端面におけるクロム酸化物の酸化度よ
り大きく、かつ、該遮光膜に含有されているクロム酸化
物の酸化度が前記透光性基板側の端面から前記他端面に
かけて連続的に変化していることを特徴とするカラー液
晶表示装置用遮光膜付き透光性基板。 - 【請求項２】 前記クロム酸化物をＣｒＯx と表したと
き、前記遮光層に含有されるクロム酸化物の最大の酸化
度ｘが１．５より小さい、請求項１に記載のカラー液晶
表示装置用遮光膜付き透光性基板。 - 【請求項３】 前記クロム酸化物をＣｒＯx と表したと
き、前記透光性基板側の端面に対向する他端面における
クロム酸化物の酸化度ｘが０である、請求項１または請
求項２に記載のカラー液晶表示装置用遮光膜付き透光性
基板。 - 【請求項４】 透光性基板と、この透光性基板表面に選
択的に形成された遮光膜とを備え、カラー液晶表示装置
の画像のコントラストを向上させるために使用されるカ
ラー液晶表示装置用遮光膜付き透光性基板を製造するに
あたって、 前記遮光膜の基となる層として、クロム酸化物を含有す
る層をスパッタリング法によって成膜し、その際、クロ
ムからなるスパッタ・ターゲットを用い、かつ、成膜開
始時から成膜終了時にかけて雰囲気ガス流量中に占める
Ｏ2 流量の割合を徐々に減少させ、 その後、前記遮光膜の基となる層を所定形状にパターニ
ングして遮光層とする、ことを特徴とするカラー液晶表
示装置用遮光膜付き透光性基板の製造方法。 - 【請求項５】 前記クロム酸化物をＣｒＯx と表したと
きに、前記遮光層に含有されるクロム酸化物の最大の酸
化度ｘを１．５より小さくする、請求項４に記載の方
法。 - 【請求項６】 前記クロム酸化物をＣｒＯx と表したと
きに、前記透光性基板側の端面に対向する他端面におけ
るクロム酸化物の酸化度ｘを０にする、請求項４または
請求項５に記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10-296621A JP3002458B2 (ja) | 1990-03-30 | カラー液晶表示装置用遮光膜付き透光性基板およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10-296621A JP3002458B2 (ja) | 1990-03-30 | カラー液晶表示装置用遮光膜付き透光性基板およびその製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8383190A Division JP2925643B2 (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | カラーフィルター |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11194333A JPH11194333A (ja) | 1999-07-21 |
| JP3002458B2 true JP3002458B2 (ja) | 2000-01-24 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4363846A (en) | Photomask and photomask blank | |
| JP3132193B2 (ja) | 液晶表示デバイス及び液晶表示デバイスの製造方法 | |
| JP3440346B2 (ja) | ブラックマトリックス用クロムブランクスおよび液晶デイスプレイ用カラーフイルター | |
| KR102277835B1 (ko) | 포토마스크 블랭크 및 그 제조 방법, 포토마스크의 제조 방법, 그리고 표시 장치의 제조 방법 | |
| JPS61272746A (ja) | フオトマスクブランクおよびフオトマスク | |
| JPS6232782B2 (ja) | ||
| US4166148A (en) | Photomask blanks and photomasks prepared therefrom | |
| CN1940719B (zh) | 灰调掩模及其制造方法 | |
| KR20080016949A (ko) | 그레이톤 마스크용 블랭크스와 이것을 사용한 그레이톤마스크 및 그 제조방법 | |
| JPH02245702A (ja) | 反射防止膜及びその製作方法 | |
| JP3002458B2 (ja) | カラー液晶表示装置用遮光膜付き透光性基板およびその製造方法 | |
| JP4569016B2 (ja) | 液晶表示装置用ブラックマトリクスおよびカラーフィルタ | |
| JPH0580327A (ja) | 液晶表示体用拡散反射板およびその製造方法 | |
| JPH11194333A (ja) | カラー液晶表示装置用遮光膜付き透光性基板およびその製造方法 | |
| JP3351892B2 (ja) | ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス | |
| JPS6095437A (ja) | フオトマスクブランク | |
| CN1936703B (zh) | 灰调掩模及其制造方法 | |
| JP2925643B2 (ja) | カラーフィルター | |
| JPH08286359A (ja) | フォトマスクブランクおよびフォトマスク | |
| JP2001147516A (ja) | ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク | |
| JPS6251460B2 (ja) | ||
| JPH0695362A (ja) | フォトマスクブランク | |
| JPH11231125A (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| JP3483878B1 (ja) | クロムエッチング液、およびそれを使用した液晶カラーフィルター用ブラックマトリックスの製造方法 | |
| JP3305189B2 (ja) | カラー表示装置及び該カラー表示装置の製造方法 |