JP2994295B2 - Build-up printed wiring board and method of manufacturing the same - Google Patents

Build-up printed wiring board and method of manufacturing the same

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JP2994295B2
JP2994295B2 JP1602197A JP1602197A JP2994295B2 JP 2994295 B2 JP2994295 B2 JP 2994295B2 JP 1602197 A JP1602197 A JP 1602197A JP 1602197 A JP1602197 A JP 1602197A JP 2994295 B2 JP2994295 B2 JP 2994295B2
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via hole
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、プリント配線板
の同一層にレーザー加工により形成したレーザービアホ
ールとフォトリソグラフ加工により形成したフォトビア
ホールとを有するビルドアッププリント配線板とその製
造方法とに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a build-up printed wiring board having a laser via hole formed by laser processing on the same layer of a printed wiring board and a photo via hole formed by photolithographic processing, and a method of manufacturing the same. is there.

【0002】[0002]

【従来の技術】多層プリント配線板の製造方法におい
て、絶縁基板の少なくとも一方の面に回路パターンと絶
縁層とを順次積み上げてゆくビルドアップ法が公知であ
る。この場合には、各層の回路パターン間を電気的に接
続するために、ビアホール(バイアホール、ビヤホー
ル)を設けている。
2. Description of the Related Art In a method of manufacturing a multilayer printed wiring board, there is known a build-up method in which a circuit pattern and an insulating layer are sequentially stacked on at least one surface of an insulating substrate. In this case, via holes (via holes, via holes) are provided to electrically connect the circuit patterns of each layer.

【0003】図2と図3はこのビアホールの製造工程を
示す図である。図2はレーザーを用いてビアホールを形
成する工程を、また図3はフォトリソグラフ加工により
ビアホールを形成する工程を示す。まず図2のレーザー
ビアホールの形成法を説明する。
FIG. 2 and FIG. 3 are views showing a process of manufacturing this via hole. FIG. 2 shows a step of forming a via hole using a laser, and FIG. 3 shows a step of forming a via hole by photolithographic processing. First, a method for forming the laser via hole in FIG. 2 will be described.

【0004】図2において符号10は銅張積層板であ
り、紙やガラス繊維などの補強基材に樹脂を含浸させた
シート(プリプレグ)を重ね、加圧加熱処理して得た絶
縁板(積層板)の両面または片面に銅箔12を張り付け
たものである。ここではガラス布にエポキシ樹脂を含浸
させたもの、例えばNEMA規格FR−4の両面銅張積
層板を用いる。この銅箔12,12には公知のフォトエ
ッチング法によって適宜の回路パターンが形成される。
In FIG. 2, reference numeral 10 denotes a copper-clad laminate, which is an insulating plate (laminate) obtained by laminating a sheet (prepreg) impregnated with a resin on a reinforcing base material such as paper or glass fiber and subjecting the sheet to pressure and heat treatment. A copper foil 12 is adhered to both sides or one side of a plate. Here, a glass cloth impregnated with an epoxy resin, for example, a double-sided copper-clad laminate of NEMA standard FR-4 is used. An appropriate circuit pattern is formed on the copper foils 12, 12 by a known photo etching method.

【0005】14,14は熱硬化性樹脂層であり、銅張
積層板10の両面に例えばエポキシ系の熱硬化性樹脂を
塗布し加熱することにより形成される。これらの熱硬化
性樹脂層14,14の上には銅箔16,16が積層され
ている。これらの銅箔16,16には、公知のフォトエ
ッチング法によりビアホール用の小開口部18および所
定の回路パターンが形成される(図2の(A))。
[0005] Reference numerals 14 and 14 denote thermosetting resin layers, which are formed by applying an epoxy-based thermosetting resin to both surfaces of the copper-clad laminate 10 and heating the same. Copper foils 16, 16 are laminated on these thermosetting resin layers 14, 14. Small opening portions 18 for via holes and a predetermined circuit pattern are formed in these copper foils 16 and 16 by a known photoetching method (FIG. 2A).

【0006】このように作られた積層体20には、各小
開口部18を指向してレーザーが順番に照射される。レ
ーザーは表面の銅箔16を透過しないので、銅箔16が
無い小開口部18を通して熱硬化樹脂層14を加熱し消
失させる。この結果小開口部18の下にレーザービアホ
ール用の小孔22が形成される。レーザーは下の銅箔1
2の下に到達することができないから、小孔22の底に
は下の銅箔12が現れる。図2の(B)はこの状態を示
している。
[0006] The laminated body 20 thus manufactured is sequentially irradiated with a laser beam directed toward each small opening 18. Since the laser does not pass through the copper foil 16 on the surface, the thermosetting resin layer 14 is heated and disappears through the small opening 18 without the copper foil 16. As a result, a small hole 22 for a laser via hole is formed below the small opening 18. Laser is copper foil 1 below
2 cannot be reached, the lower copper foil 12 appears at the bottom of the small hole 22. FIG. 2B shows this state.

【0007】次にこの積層体20は銅めっきされる。す
なわち無電解銅めっきにより小孔22の内面を含む表面
に導電性が付与された後、電解銅めっきが施され、所定
厚さの銅めっき層24が形成される。小孔22の内面に
形成された銅めっき層24は、下の銅箔12の回路パタ
ーンと上の銅箔16の回路パターンとを接続するビアホ
ール(レーザービアホール)26となる(図2の
(C))。
Next, the laminate 20 is plated with copper. That is, after the surface including the inner surface of the small hole 22 is given conductivity by electroless copper plating, electrolytic copper plating is performed, and a copper plating layer 24 having a predetermined thickness is formed. The copper plating layer 24 formed on the inner surface of the small hole 22 becomes a via hole (laser via hole) 26 connecting the circuit pattern of the lower copper foil 12 and the circuit pattern of the upper copper foil 16 ((C in FIG. 2). )).

【0008】なお表面の銅箔16には必要に応じてフォ
トエッチング法などによって回路パターンを形成するの
は勿論である。またこの上に前記と同様の手順によって
さらに他の熱硬化性樹脂層14や銅箔16を重ね、レー
ザービアホール26を形成することにより、積層数を増
やすことができる。
It is needless to say that a circuit pattern is formed on the surface of the copper foil 16 by photo-etching or the like, if necessary. Further, another thermosetting resin layer 14 or copper foil 16 is further laminated thereon by the same procedure as above, and the laser via hole 26 is formed, whereby the number of laminations can be increased.

【0009】次に図3を用いてフォトビアホールの形成
法を説明する。まず前記図2で用いたのと同様な銅張積
層板10を用意する。そしてこの両面に感光性樹脂、例
えばエポキシアクリレート系の光硬化性樹脂を塗布する
(図3の(A))。この光硬化性樹脂の塗布層(光硬化
性樹脂層)30を低温の恒温槽に入れ、樹脂の溶媒中に
含まれる揮発性有機溶剤を除いて乾燥させ、膜質を適当
に硬化させる。
Next, a method of forming a photo via hole will be described with reference to FIG. First, a copper-clad laminate 10 similar to that used in FIG. 2 is prepared. Then, a photosensitive resin, for example, an epoxy acrylate-based photocurable resin is applied to both surfaces (FIG. 3A). The coating layer (photo-curable resin layer) 30 of the photo-curable resin is placed in a low-temperature constant-temperature bath, dried except for the volatile organic solvent contained in the solvent of the resin, and the film quality is appropriately cured.

【0010】次にこの積層体32の表面にビアホールの
パターンを焼付けたフォトマスク34を密着させ、ある
いは僅かに離して位置合わせを行い、適切な波長の光
(通常紫外線(UV)の光線を用いる)を照射して露光
する(図3の(B))。この結果ビアホールのパターン
の下の樹脂層30は硬化せず、パターン以外の部分の樹
脂層30が硬化する。
Next, a photomask 34 having a via hole pattern printed thereon is closely attached to or slightly separated from the surface of the laminated body 32 to perform alignment, and light of an appropriate wavelength (usually ultraviolet (UV) light is used). ) For exposure (FIG. 3B). As a result, the resin layer 30 under the pattern of the via hole is not cured, and the resin layer 30 other than the pattern is cured.

【0011】そしてアルカリ溶剤の現像液で現像して未
硬化部分(可溶部分)を取り去れば、フォトマスク34
に焼付けられたビアホールのパターンに一致する小孔3
6,すなわちフォトビアホール用の小孔36が形成され
る(図3の(C))。この表面に銅めっきを施して銅め
っき層38を形成すれば、下の銅箔12と表面の銅めっ
き層38とを接続するビアホールすなわちフォトビアホ
ール40が得られる(図3の(D))。
Then, by developing with a developing solution of an alkaline solvent to remove an uncured portion (soluble portion), the photomask 34 is removed.
Small holes 3 matching the pattern of via holes baked in
6, that is, small holes 36 for photo via holes are formed (FIG. 3C). If copper plating is applied to this surface to form a copper plating layer 38, a via hole, that is, a photo via hole 40 connecting the lower copper foil 12 and the surface copper plating layer 38 is obtained (FIG. 3D).

【0012】なお表面の銅めっき層38にはフォトエッ
チング法などにより適宜の回路パターンを形成すること
ができる。また同様の手順を繰り返して積層数を増やす
ことができる。
An appropriate circuit pattern can be formed on the surface of the copper plating layer 38 by a photo-etching method or the like. The same procedure can be repeated to increase the number of layers.

【0013】[0013]

【従来技術の問題点】図3により説明したフォトビアホ
ール40の形成法では、フォトリソグラフ法を用いるた
めに一度の露光・現像により多数のフォトビアホール4
0を能率良く形成することができ、生産性を高くするこ
とが可能である。
In the method of forming the photo via hole 40 described with reference to FIG. 3, since a photolithographic method is used, a large number of photo via holes 4 are formed by one exposure and development.
0 can be formed efficiently and productivity can be increased.

【0014】しかしながら露光に用いる光(通常紫外
線)は回折現象などにより広がりが大きい。このために
加工精度の限界があり、通常の生産ラインでは直径15
0μm以下のビアホールを形成することは難しいという
問題がある。
However, light (usually ultraviolet light) used for exposure has a large spread due to a diffraction phenomenon or the like. For this reason, there is a limit to the processing accuracy.
There is a problem that it is difficult to form a via hole of 0 μm or less.

【0015】一方図2に示したレーザービアホール26
の形成法では、加工に用いるレーザーの直進性(指向
性)が良く広がりが小さいため、加工精度が良い。通常
は直径100μmレベルの加工が可能である。しかしな
がらこの方法はレーザーをフォトエッチングした小開口
部18ごとに別々に照射する必要があり、レーザーを移
動させながら小孔22を1つずつ順番に加工しなければ
ならない。このためレーザーによる小孔22の加工工数
が増え生産性が悪いという問題が生じる。
On the other hand, the laser via hole 26 shown in FIG.
In the method of forming a laser beam, the straightness (directivity) of the laser used for processing is good and the spread is small, so that the processing accuracy is good. Usually, processing at the level of 100 μm in diameter is possible. However, in this method, it is necessary to separately irradiate the laser to each of the small openings 18 that have been photoetched, and the small holes 22 must be processed one by one while moving the laser. For this reason, there arises a problem that the number of steps for processing the small holes 22 by the laser increases and productivity is poor.

【0016】[0016]

【発明の目的】本発明はこのような事情に鑑みなされた
ものであり、生産性が良いフォトビアホールの長所と加
工精度が高く超小径化が可能なレーザービアホールの長
所とを備えるビルドアッププリント配線板を提供するこ
とを第1の目的とする。またその製造方法を提供するこ
とを第2の目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object a build-up printed wiring having the advantages of a photo-via hole with good productivity and the advantages of a laser via hole with a high processing accuracy and an ultra-small diameter. A primary object is to provide a board. A second object is to provide a method of manufacturing the same.

【0017】[0017]

【発明の構成】この発明は、通常プリント配線板では全
てのビアホールを超小径にする必要性は少なく、一部の
ビアホールだけを超小径化すれば足りることに着目し、
超小径化が必要なビアホールだけをレーザービアホール
として加工工数の増加を極力抑制し、その他のビアホー
ルは生産性の良いフォトビアホールとして、2種のビア
ホールを混在させたものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention focuses on the fact that it is generally not necessary for a printed wiring board to make all via holes ultra-small, and it is sufficient to make only some of the via holes ultra-small.
Only via holes requiring ultra-small diameters are used as laser via holes to minimize the increase in the number of processing steps, and the other via holes are photo via holes having good productivity, and two types of via holes are mixed.

【0018】そのためにこの発明では、フォトビアホー
ルの形成に用いた感光性樹脂層を、フォトビアホールの
形成後にベーキングして硬化することにより、レーザー
ビアホールの形成にそのまま利用できるようにした。
Therefore, in the present invention, the photosensitive resin layer used for forming the photo via hole is baked and cured after the formation of the photo via hole, so that the photosensitive resin layer can be directly used for forming the laser via hole.

【0019】この発明によれば第1の目的は、異なる層
の回路パターンを接続するビアホールを有するビルドア
ッププリント配線板において、少なくとも一方の面に回
路パターンが形成された絶縁基板と、この回路パターン
の上に積層された感光性樹脂層と、この感光性樹脂層に
形成されたフォトビアホールと、ベーキングによって硬
化した前記感光性樹脂層に形成されたレーザービアホー
ルとを有することを特徴とするビルドアッププリント配
線板、により達成される。
According to the present invention, a first object is to provide a build-up printed wiring board having via holes for connecting circuit patterns of different layers, an insulating substrate having a circuit pattern formed on at least one surface thereof, Characterized by having a photosensitive resin layer laminated thereon, a photo via hole formed in the photosensitive resin layer, and a laser via hole formed in the photosensitive resin layer cured by baking. This is achieved by a printed wiring board.

【0020】また第2の目的は、アホールを有するビル
ドアッププリント配線板の製造方法において、 a)回路パターンを形成した銅張り積層板に感光性樹脂
を積層し、 b)この感光性樹脂にフォトリソグラフ加工により前記
回路パターンに到達するフォトビアホール用の小孔を形
成し、 c)銅張り積層板上に残った感光性樹脂をベーキングに
より硬化し、 d)この感光性樹脂に銅めっきを施して第1銅めっき層
を形成し、 e)この第1銅めっき層にフォトエッチング加工により
レーザービアホール用の小開口部を形成し、 f)この第1銅めっき層にレーザーを照射してこのレー
ザービアホール用の小開口部から前記回路パターンに到
達するレーザービアホール用小孔を感光性樹脂に形成
し、 g)第1銅めっき層およびレーザービアホール用小孔に
銅めっきを施して第2銅めっき層を形成する、 ことを特徴とするビルドアッププリント配線板の製造方
法、により達成される。
A second object of the present invention is to provide a method for manufacturing a build-up printed wiring board having holes, comprising: a) laminating a photosensitive resin on a copper-clad laminate on which a circuit pattern is formed; A small hole for a photo via hole reaching the circuit pattern is formed by lithographic processing, c) the photosensitive resin remaining on the copper-clad laminate is cured by baking, and d) the photosensitive resin is plated with copper. Forming a first copper plating layer; e) forming a small opening for a laser via hole by photo-etching in the first copper plating layer; and f) irradiating a laser to the first copper plating layer to form the laser via hole. Forming a small hole for a laser via hole reaching the circuit pattern from a small opening for the photosensitive resin; g) a first copper plating layer and a laser via hole; And forming a second copper plating layer by applying copper plating to the small holes for use in the build-up printed wiring board.

【0021】第2の目的は次の方法によっても達成でき
る。すなわち、ビアホールを有するビルドアッププリン
ト配線板の製造方法において、 a)回路パターンを形成した銅張り積層板に感光性樹脂
を積層し、 b)この感光性樹脂にフォトリソグラフ加工により前記
回路パターンに到達するフォトビアホール用の小孔を形
成し、 c)銅張り積層板上に残った感光性樹脂をベーキングに
より硬化し、 d)この硬化した感光性樹脂層にレーザ径を十分に小さ
絞ったレーザーを照射して前記回路パターンに到達す
るレーザービアホール用の小孔を形成し、 e)感光性樹脂層に銅めっきを施してフォトビアホール
用小孔およびレーザービアホール用小孔に前記回路パタ
ーンに到達するビアホールを形成する、 ことを特徴とするビルドアッププリント配線板の製造方
法、である。
The second object can also be achieved by the following method. That is, in a method of manufacturing a build-up printed wiring board having via holes, a) a photosensitive resin is laminated on a copper-clad laminate having a circuit pattern formed thereon, and b) the photosensitive resin reaches the circuit pattern by photolithographic processing. C) curing the photosensitive resin remaining on the copper-clad laminate by baking, and d) reducing the laser diameter of the cured photosensitive resin layer to a sufficiently small value.
By irradiating Ku focused laser to form a small hole for laser via hole reaching the circuit pattern, e) the circuit is subjected to copper plating to the small hole for the small hole and laser via hole photo via hole in the photosensitive resin layer Forming a via hole reaching the pattern.

【0022】 ここに用いる感光性樹脂は、感光性樹脂と
熱硬化性樹脂との混合物とし、ベーキングの工程(c)
における樹脂の硬化を促進させるのが望ましい。
The photosensitive resin used here is a mixture of a photosensitive resin and a thermosetting resin, and is subjected to a baking step (c).
It is desirable to accelerate the curing of the resin in the above.

【0023】[0023]

【実施態様】図1はこの発明による製造方法の一実施態
様を示す図である。この実施態様ではフォトリソグラフ
法によるフォトビアホールの加工を行った後にレーザー
ビアホールの加工を行っている。
FIG. 1 is a view showing one embodiment of a manufacturing method according to the present invention. In this embodiment, the laser via hole is processed after the photo via hole is processed by the photolithographic method.

【0024】 まず前記図2,3で用いたものと同様な銅
張積層板10を用意する。これは絶縁基板の両面に銅箔
12を張り付け、回路パターンを形成したものである。
この銅張積層板10の両面には感光性樹脂、例えばエポ
キシアクリレート系の樹脂を塗布し乾燥させて適度に硬
化させることにより感光性樹脂層30を形成する(図1
の(A))。この工程(A)から(D)までは、前記図
3に示したフォトビアホール40の形成工程とほとんど
同じであるから、同一部分に同一符号を付し、その説明
は繰り返さない。
Firstly prepared similar copper-clad laminate 10 as those used in FIG 2. This is a circuit pattern formed by attaching copper foil 12 to both surfaces of an insulating substrate.
A photosensitive resin, for example, an epoxy acrylate-based resin is applied to both surfaces of the copper-clad laminate 10, dried and cured appropriately to form a photosensitive resin layer 30 (FIG. 1).
(A)). Steps (A) to (D) are almost the same as the steps of forming photovia hole 40 shown in FIG. 3, and thus the same portions are denoted by the same reference characters and description thereof will not be repeated.

【0025】 図3の工程と異なるのは、工程(C)にお
ける現像の後、ベーキングを行って樹脂層30を十分に
硬化させる点である。このベーキングでは、例えば恒温
槽内で約150℃、30〜60分間加熱する。このベー
キングにより、後記するレーザービアホールの加工時に
レーザービアホール用小孔を正確に加工することが可能
になる。
The difference from the step of FIG . 3 is that baking is performed after the development in step (C) to sufficiently cure the resin layer 30. In this baking, for example, heating is performed in a thermostat at about 150 ° C. for 30 to 60 minutes. This baking makes it possible to accurately process small holes for laser via holes when processing the laser via holes described later.

【0026】 フォトビアホール40を形成した積層体3
2の両面は銅めっき層38(第1銅めっき層)で全面が
覆われている。この両面の銅めっき層38にはフォトエ
ッチングによりレーザービアホール用の小開口部18A
を形成するが、その準備としてまずフォトレジスト50
を塗布または貼る。フォトレジスト50としては液状の
ものが使用できるが、液状フォトレジストに代えてドラ
イフォトレジストを用いてもよいのは勿論である。
[0026] The laminate 3 to form a photo via hole 40
2 are entirely covered with a copper plating layer 38 (first copper plating layer). A small opening 18A for a laser via hole is formed in the copper plating layers 38 on both sides by photoetching.
Is formed. First, as a preparation, a photoresist 50 is formed.
Apply or paste. A liquid photoresist can be used as the photoresist 50, but it is a matter of course that a dry photoresist may be used instead of the liquid photoresist.

【0027】 このフォトレジスト50の上にレーザービ
アホールのパターンを焼き付けたフオトマスク52を位
置合わせして重ねる。そして紫外線などで露光し、フォ
トレジスト50にレーザービアホールのパターンの潜像
を形成する(図1の(E))。フォトマスク52を除去
し、現像溶剤によって現像し、未露光部分(レーザービ
アホールのパターン部分)のフォトレジスト50を除去
する。残ったフォトレジスト50を硬化させた後、第1
銅めっき層38にエッチングによりレーザービアホール
用の小開口部18Aを形成する(図1の(F))。
On this photoresist 50, a photomask 52 having a laser via hole pattern printed thereon is aligned and overlaid. Then, exposure is performed with ultraviolet light or the like, so that a latent image of a pattern of a laser via hole is formed in the photoresist 50 (FIG. 1E). The photomask 52 is removed, developed with a developing solvent, and the photoresist 50 in an unexposed portion (pattern portion of the laser via hole) is removed. After hardening the remaining photoresist 50, the first
A small opening 18A for a laser via hole is formed in the copper plating layer 38 by etching (FIG. 1 (F)).

【0028】 次にレーザーを各小開口部18Aに順番に
照射して樹脂層30に小孔22Aを形成する(図1の
(G))。そしてさらに銅めっきを施して銅めっき層
(第2銅めっき層)24Aを形成する(図1の
(H))。この銅めっき層24Aはレーザービアホール
用の小孔22Aの内面にも形成され、この結果銅箔12
と銅めっき層24Aおよび38とを接続するレーザービ
アホール26Aが形成される。
[0028] Then the laser is irradiated sequentially to each small opening portion 18A to form the small hole 22A to the resin layer 30 (in FIG. 1 (G)). Then, copper plating is further performed to form a copper plating layer (second copper plating layer) 24A (FIG. 1 (H)). This copper plating layer 24A is also formed on the inner surface of the small hole 22A for the laser via hole.
Laser via hole 26A is formed to connect to copper plating layers 24A and 38.

【0029】 この実施態様で用いる感光性樹脂30はベ
ーキング(エ程(C))において十分に硬化するものが
望ましく、例えば熱硬化性樹脂と感光性樹脂とを混合し
たものが望ましい。感光性樹脂30としては光硬化性が
適する。
The photosensitive resin 30 used in this embodiment baking is desirable that cures well in (as d (C)), is a mixture of for example a thermosetting resin and photosensitive resin desired. As the photosensitive resin 30, photocurability is suitable.

【0030】[0030]

【他の実施態様】以上の実施態様ではフォトビアホール
40を形成する際に第1銅めっき層38を形成し、その
後にレーザービアホール26Aの形成に伴い第2銅めっ
き層24Aを重ねて形成している。このため第1,第2
銅めっき層38,24Aが重なる部分が生じる。
[Other Embodiments] In the above embodiment, the first copper plating layer 38 is formed when the photo via hole 40 is formed, and then the second copper plating layer 24A is formed by overlapping with the formation of the laser via hole 26A. I have. Therefore, the first and second
A portion where the copper plating layers 38 and 24A overlap is generated.

【0031】 そこで第1銅めっき層38を薄く形成して
銅めっき処理の時間を短縮することが可能である。なお
この第1銅めっき層38を過度に薄くすると、レーザー
による小孔22Aの加工時に(工程(G))レーザーが
小開口部18Aの周囲を加工することになるから好まし
くない。またレーザー加工時にレーザー径を十分に小さ
く絞ることにより、工程(C)の後で直ちに小孔22A
の加工を行い、第1銅めっき層38の工程を省くことが
可能である。
[0031] Therefore it is possible to thinly form the first copper plating layer 38 to shorten the time of copper plating treatment. If the first copper plating layer 38 is excessively thin, it is not preferable because the laser processes the periphery of the small opening 18A when the small hole 22A is processed by the laser (step (G)). Also, by narrowing the laser diameter sufficiently small during laser processing, the small holes 22A can be formed immediately after the step (C).
And the step of the first copper plating layer 38 can be omitted.

【0032】[0032]

【発明の効果】請求項1の発明は以上のように、フォト
ビアホールの形成に用いた感光性樹脂層を利用してレー
ザービアホールを形成したものであるから、超小径ビア
ホールが必要な部分だけをレーザービアホールとし、他
のビアホールを生産性の良いフォトビアホールとするこ
とにより同一プリント配線板にフォトビアホールとレー
ザービアホールとを混在させることができる。このため
レーザービアホールおよびフォトビアホールのそれぞれ
の短所を補いつつそれぞれの長所を生かすことができ
る。
According to the first aspect of the present invention, as described above, a laser via hole is formed by using the photosensitive resin layer used for forming a photo via hole. By using laser via holes and other via holes as photo via holes with good productivity, photo via holes and laser via holes can be mixed on the same printed wiring board. For this reason, the advantages of the laser via hole and the photo via hole can be utilized while compensating for the disadvantages.

【0033】また請求項2の発明によれば、このプリン
ト配線板の製造方法が得られる。請求項3の発明によれ
ば同様にプリント配線板の製造方法が得られるものであ
るが、この請求項3の発明ではレーザー径を十分に小さ
絞ったレーザーを用いて直接感光性樹脂層にレーザー
ビアホール用小孔を加工するから、銅めっき処理の回数
を減らすことができる。ここに感光性樹脂には熱硬化性
樹脂を混入しておき、ベーキングの工程により感光性樹
脂を十分硬くしてレーザー加工に適する硬さにするのが
望ましい。
According to the second aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a printed wiring board. Although the manufacturing method of the same printed wiring board according to the invention of claim 3 is obtained, sufficiently small laser diameter by the invention as claimed in claim 3
Since small holes for laser via holes are directly formed in the photosensitive resin layer using a narrowed laser, the number of copper plating processes can be reduced. Here, a thermosetting resin is mixed with the photosensitive resin, and it is desirable that the photosensitive resin be sufficiently hardened by a baking process to have a hardness suitable for laser processing.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の製造工程を示す図FIG. 1 is a diagram showing a manufacturing process of the present invention.

【図2】従来のフォトビアホール形成工程を示す図FIG. 2 is a diagram showing a conventional photo via hole forming process.

【図3】従来のレーザービアホール形成工程を示す図FIG. 3 is a diagram showing a conventional laser via hole forming process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 銅張積層板 12 銅箔 16 銅めっき層 18、18A 小開口部 20、32 積層体 22、22A レーザービアホール用小孔 24 銅めっき層 24A 第2銅めっき層 26、26A レーザービアホール 30 感光性樹脂層 34 マスクフィルム 36 フォトビアホール用小孔 38 第1銅めっき層 40 フォトビアホール 50 フォトレジスト 52 マスクフィルム DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Copper clad laminated board 12 Copper foil 16 Copper plating layer 18 and 18A Small opening 20 and 32 Laminated body 22 and 22A Small hole for laser via hole 24 Copper plating layer 24A 2nd copper plating layer 26 and 26A Laser via hole 30 Photosensitive resin Layer 34 Mask film 36 Small hole for photo via hole 38 First copper plating layer 40 Photo via hole 50 Photo resist 52 Mask film

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 異なる層の回路パターンを接続するビア
ホールを有するビルドアッププリント配線板において、
少なくとも一方の面に回路パターンが形成された絶縁基
板と、この回路パターンの上に積層された感光性樹脂層
と、この感光性樹脂層に形成されたフォトビアホール
と、ベーキングによって硬化した前記感光性樹脂層に形
成されたレーザービアホールとを有することを特徴とす
るビルドアッププリント配線板。
1. A build-up printed wiring board having via holes connecting circuit patterns of different layers,
An insulating substrate having a circuit pattern formed on at least one surface thereof, a photosensitive resin layer laminated on the circuit pattern, a photo via hole formed in the photosensitive resin layer, and the photosensitive cured by baking; A build-up printed wiring board having a laser via hole formed in a resin layer.
【請求項2】 ビアホールを有するビルドアッププリン
ト配線板の製造方法において、 a)回路パターンを形成した銅張り積層板に感光性樹脂
を積層し、 b)この感光性樹脂にフォトリソグラフ加工により前記
回路パターンに到達するフォトビアホール用の小孔を形
成し、 c)銅張り積層板上に残った感光性樹脂をベーキングに
より硬化し、 d)この感光性樹脂に銅めっきを施して第1銅めっき層
を形成し、 e)この第1銅めっき層にフォトエッチング加工により
レーザービアホール用の小開口部を形成し、 f)この第1銅めっき層にレーザーを照射してこのレー
ザービアホール用の小開口部から前記回路パターンに到
達するレーザービアホール用小孔を感光性樹脂に形成
し、 g)第1銅めっき層およびレーザービアホール用小孔に
銅めっきを施して第2銅めっき層を形成する、 ことを特徴とするビルドアッププリント配線板の製造方
法。
2. A method of manufacturing a build-up printed wiring board having a via hole, comprising: a) laminating a photosensitive resin on a copper-clad laminate having a circuit pattern formed thereon; b) photolithographically processing the photosensitive resin on the circuit board. Forming small holes for photo via holes reaching the pattern; c) curing the photosensitive resin remaining on the copper clad laminate by baking; d) applying a copper plating to the photosensitive resin to form a first copper plating layer E) forming a small opening for a laser via hole by photo-etching in the first copper plating layer; and f) irradiating a laser to the first copper plating layer to form a small opening for the laser via hole. G) forming a small hole for a laser via hole reaching the circuit pattern from the photosensitive resin, and g) forming a copper hole in the first copper plating layer and the small hole for the laser via hole. Subjected to come to form a second copper plating layer, the manufacturing method of build-up printed wiring board, characterized in that.
【請求項3】 ビアホールを有するビルドアッププリン
ト配線板の製造方法において、 a)回路パターンを形成した銅張り積層板に感光性樹脂
を積層し、 b)この感光性樹脂にフォトリソグラフ加工により前記
回路パターンに到達するフォトビアホール用の小孔を形
成し、 c)銅張り積層板上に残った感光性樹脂をベーキングに
より硬化し、 d)この硬化した感光性樹脂層にレーザ径を十分に小さ
絞ったレーザーを照射して前記回路パターンに到達す
るレーザービアホール用の小孔を形成し、 e)感光性樹脂層に銅めっきを施してフォトビアホール
用小孔およびレーザービアホール用小孔に前記回路パタ
ーンに到達するビアホールを形成する、 ことを特徴とするビルドアッププリント配線板の製造方
法。
3. A method of manufacturing a build-up printed wiring board having a via hole, comprising: a) laminating a photosensitive resin on a copper-clad laminate having a circuit pattern formed thereon, and b) photolithographically processing the photosensitive resin on the photosensitive resin. Forming small holes for photo via holes reaching the pattern; c) curing the photosensitive resin remaining on the copper-clad laminate by baking; and d) reducing the laser diameter of the cured photosensitive resin layer to a sufficiently small value.
By irradiating Ku focused laser to form a small hole for laser via hole reaching the circuit pattern, e) the circuit is subjected to copper plating to the small hole for the small hole and laser via hole photo via hole in the photosensitive resin layer A method of manufacturing a build-up printed wiring board, wherein a via hole reaching a pattern is formed.
【請求項4】 感光性樹脂は、感光性樹脂と熱硬化性樹
脂との混合物である請求項2または3のビルドアッププ
リント配線板の製造方法。
4. A photosensitive resin method according to claim 2 or 3 buildup printed circuit board is a mixture of a photosensitive resin and a thermosetting resin.
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