JP2991543B2 - フルオロベンゼン誘導体およびこれを含む液晶組成物 - Google Patents
フルオロベンゼン誘導体およびこれを含む液晶組成物Info
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- JP2991543B2 JP2991543B2 JP3220085A JP22008591A JP2991543B2 JP 2991543 B2 JP2991543 B2 JP 2991543B2 JP 3220085 A JP3220085 A JP 3220085A JP 22008591 A JP22008591 A JP 22008591A JP 2991543 B2 JP2991543 B2 JP 2991543B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はフルオロベンゼン誘導体
およびこの誘導体を含有する液晶組成物に関する。
およびこの誘導体を含有する液晶組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】ネマチック液晶相の電気光学効果を利用
した液晶表示装置は従来より種々の分野で広く用いられ
ており、その表示方法としては動的散乱型（ＤＳ型）、
ゲストーホスト型（ＧーＨ型）、ツイストネマチック型
（ＴＮ型）、スーパーツイストネマチック型（ＳＴＮ
型）などが知られている。
した液晶表示装置は従来より種々の分野で広く用いられ
ており、その表示方法としては動的散乱型（ＤＳ型）、
ゲストーホスト型（ＧーＨ型）、ツイストネマチック型
（ＴＮ型）、スーパーツイストネマチック型（ＳＴＮ
型）などが知られている。
【０００３】各種表示方式により液晶材料に要求される
特性はさまざまであるが、（１）着色がなく、熱、光、
電気的、化学的に安定であること、（２）ネマチック液
晶温度範囲が室温付近で適正な範囲であること、（３）
電気光学的な応答速度が速いこと、（４）駆動電圧が低
いこと、（５）電圧ー光学特性の立ち上がりが急峻であ
ること、などは、各種表示方式に共通して要求される特
性である。
特性はさまざまであるが、（１）着色がなく、熱、光、
電気的、化学的に安定であること、（２）ネマチック液
晶温度範囲が室温付近で適正な範囲であること、（３）
電気光学的な応答速度が速いこと、（４）駆動電圧が低
いこと、（５）電圧ー光学特性の立ち上がりが急峻であ
ること、などは、各種表示方式に共通して要求される特
性である。
【０００４】しかし、これらの特性を単一成分で満足す
る液晶化合物は、現在のところ知られていないので、こ
れらの特性を得るためには複数のネマチック液晶化合物
またはネマチック液晶類似化合物を混合したネマチック
液晶化合物を用いているのが現状である。
る液晶化合物は、現在のところ知られていないので、こ
れらの特性を得るためには複数のネマチック液晶化合物
またはネマチック液晶類似化合物を混合したネマチック
液晶化合物を用いているのが現状である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】例えばＳＴＮ型液晶表
示装置を製造する上で液晶セルのなかに液晶材料を封入
した後、セルの配向膜と液晶材料を安定に配向させるこ
とを目的とし、液晶材料のＮーＩ点（ネマチック相ー等
方性液体相転移温度）以上の高温で数時間放置するアニ
ール操作を行なう必要がある。この時液晶材料のＮーＩ
点が高いとアニール操作後に種々の悪影響を及ぼすこと
が知られている。従ってＮーＩ点を好ましくは７０℃か
ら１００℃程度に調整する必要がある。このような問題
を解決するために従来は２環系液晶材料を多く用いた液
晶組成物でＮーＩ点の調整を行なってきた。一方ＳＴＮ
型表示用液晶材料において光学特性急峻性（γ値）は、
ベンドとスプレーの弾性定数比（Ｋ３３／Ｋ１１）が大
きいほど急峻性が高いことが知られている（ Euro disp
lay 84 " Liquid Crystal properties in relation to
multiplexing requierment”, Gunter Baur ) 。また現
在知られている２環系液晶材料のＫ３３／Ｋ１１の弾性
定数比は小さく、ＮーＩ点調整のために、液晶組成物中
の２環系液晶材料の成分が多くなると、ＮーＩ点の低下
と共にＫ３３／Ｋ１１の弾性定数比を著しく低下させて
しまう欠点がある。
示装置を製造する上で液晶セルのなかに液晶材料を封入
した後、セルの配向膜と液晶材料を安定に配向させるこ
とを目的とし、液晶材料のＮーＩ点（ネマチック相ー等
方性液体相転移温度）以上の高温で数時間放置するアニ
ール操作を行なう必要がある。この時液晶材料のＮーＩ
点が高いとアニール操作後に種々の悪影響を及ぼすこと
が知られている。従ってＮーＩ点を好ましくは７０℃か
ら１００℃程度に調整する必要がある。このような問題
を解決するために従来は２環系液晶材料を多く用いた液
晶組成物でＮーＩ点の調整を行なってきた。一方ＳＴＮ
型表示用液晶材料において光学特性急峻性（γ値）は、
ベンドとスプレーの弾性定数比（Ｋ３３／Ｋ１１）が大
きいほど急峻性が高いことが知られている（ Euro disp
lay 84 " Liquid Crystal properties in relation to
multiplexing requierment”, Gunter Baur ) 。また現
在知られている２環系液晶材料のＫ３３／Ｋ１１の弾性
定数比は小さく、ＮーＩ点調整のために、液晶組成物中
の２環系液晶材料の成分が多くなると、ＮーＩ点の低下
と共にＫ３３／Ｋ１１の弾性定数比を著しく低下させて
しまう欠点がある。
【０００６】従来ネマチック液晶材料の開発において
は、ネマチック相の温度範囲が広いほど優れた化合物と
されてきた。そのような観点から種々の３環系化合物
（６員環を３つ有する化合物）が開発され、なかにはＮ
ーＩ点が２００℃を越えるような液晶材料も開発され
た。しかし、大きなＫ３３／Ｋ１１の弾性定数比をも
ち、かつ極めて低いＮーＩ点をもつ化合物はまだ知られ
てはいない。
は、ネマチック相の温度範囲が広いほど優れた化合物と
されてきた。そのような観点から種々の３環系化合物
（６員環を３つ有する化合物）が開発され、なかにはＮ
ーＩ点が２００℃を越えるような液晶材料も開発され
た。しかし、大きなＫ３３／Ｋ１１の弾性定数比をも
ち、かつ極めて低いＮーＩ点をもつ化合物はまだ知られ
てはいない。
【０００７】本発明の目的は、他の複数のネマチック液
晶またはその類似化合物と混合することにより大きな弾
性定数比Ｋ３３／Ｋ１１を保持したまま、ネマチック液
晶組成物のＮーＩ点を任意に調整することができる新規
なフルオロベンゼン誘導体およびこれを含有する液晶組
成物を提供することにある。本願に類似の化合物とし
て、特開昭５８ー７２５２８号公報には、
晶またはその類似化合物と混合することにより大きな弾
性定数比Ｋ３３／Ｋ１１を保持したまま、ネマチック液
晶組成物のＮーＩ点を任意に調整することができる新規
なフルオロベンゼン誘導体およびこれを含有する液晶組
成物を提供することにある。本願に類似の化合物とし
て、特開昭５８ー７２５２８号公報には、
【０００８】
【化２】
【０００９】（ＣーＳ点：４０．２℃、ＳーＮ点：１２
６．０℃、Ｎー１点：１３２．７℃）
６．０℃、Ｎー１点：１３２．７℃）
【００１０】
【化３】
【００１１】〔Ｃ−Ｓ点：１０．４℃（または２１．６
℃ ２変態）、Ｓ−Ｉ点：１２５．８℃〕（ここで各転
移点は摂氏温度（℃）で示し、下記の意味を有する。） Ｃ−Ｓ点：液晶−スメクチック相転移点 Ｓ−Ｎ点：スメクチック相−ネマチック相転移点 Ｎ−Ｉ点：ネマチック相−等方性液体相転移点 Ｓ−Ｉ点：スメクチック相−等方性液体相転移点 Ｃ−Ｎ点：液晶−ネマチック相転移点 上記のような化合物が開示されているが、これらの透明
点（Ｎ−Ｉ点またはＳ−Ｉ点）は１２０℃を越える高温
であり、また、それらの化合物が示す液晶相の大部分は
スメクチック相であるため、ネマチック液晶組成物を構
成する際Ｎ−Ｉ点の調整剤として使用するには好ましく
ない。
℃ ２変態）、Ｓ−Ｉ点：１２５．８℃〕（ここで各転
移点は摂氏温度（℃）で示し、下記の意味を有する。） Ｃ−Ｓ点：液晶−スメクチック相転移点 Ｓ−Ｎ点：スメクチック相−ネマチック相転移点 Ｎ−Ｉ点：ネマチック相−等方性液体相転移点 Ｓ−Ｉ点：スメクチック相−等方性液体相転移点 Ｃ−Ｎ点：液晶−ネマチック相転移点 上記のような化合物が開示されているが、これらの透明
点（Ｎ−Ｉ点またはＳ−Ｉ点）は１２０℃を越える高温
であり、また、それらの化合物が示す液晶相の大部分は
スメクチック相であるため、ネマチック液晶組成物を構
成する際Ｎ−Ｉ点の調整剤として使用するには好ましく
ない。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式
【００１３】
【化４】
【００１４】（ここで、Ｒ1 、Ｒ2 は炭素数１〜１０の
アルキル基、ｎは０または１、Ａはトランスー１，４ー
シクロヘキシレンまたは１，４ーフェニレンを示す）で
表されるフルオロベンゼン誘導体化合物、および該化合
物を少なくとも一種含有することを特徴とする液晶組成
物である。本発明の好ましい態様の化合物は次の一般式
群（Ｉーａ）〜（Ｉーｇ）により表される化合物であ
る。
アルキル基、ｎは０または１、Ａはトランスー１，４ー
シクロヘキシレンまたは１，４ーフェニレンを示す）で
表されるフルオロベンゼン誘導体化合物、および該化合
物を少なくとも一種含有することを特徴とする液晶組成
物である。本発明の好ましい態様の化合物は次の一般式
群（Ｉーａ）〜（Ｉーｇ）により表される化合物であ
る。
【００１５】
【化５】
【００１６】（これらの式においてＲ1 およびＲ2 は、
それぞれ前述した意味をもつ。） 本発明の化合物は、例えば次の製造法に従って製造する
ことができる。以下の式においてＲ1 、Ｒ2 、ｎ、Ａは
それぞれ前述の意味をもつ。
それぞれ前述した意味をもつ。） 本発明の化合物は、例えば次の製造法に従って製造する
ことができる。以下の式においてＲ1 、Ｒ2 、ｎ、Ａは
それぞれ前述の意味をもつ。
【００１７】
【化６】
【００１８】まず、式（II）で表される置換ベンゼンに
ニトロベンゼンまたは二硫化炭素などの有機溶媒中で、
式（III)で表される置換酢酸クロリドと無水塩化アルミ
ニウムを反応させて式（IV）のケトン誘導体を得る。こ
の式（IV）のケトン誘導体にエーテルあるいはテトラヒ
ドロフラン等の無水溶媒中で金属水素化物を反応させて
式（V)の化合物を得る。
ニトロベンゼンまたは二硫化炭素などの有機溶媒中で、
式（III)で表される置換酢酸クロリドと無水塩化アルミ
ニウムを反応させて式（IV）のケトン誘導体を得る。こ
の式（IV）のケトン誘導体にエーテルあるいはテトラヒ
ドロフラン等の無水溶媒中で金属水素化物を反応させて
式（V)の化合物を得る。
【００１９】続いてこのアルコール誘導体を不活性有機
溶媒中で後述の触媒の存在化に常圧で常温から還留温度
の範囲にて脱水反応を行ない、（VI）のエチレン誘導体
を得る。不活性有機溶媒としては、ベンゼン、トルエ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、塩化メチレン等が適し
ており、触媒としては、塩化アルミニウム、四塩化ス
ズ、四塩化チタンなどのルイス酸や硫酸、リン酸などの
鉱酸やトルエンスルホン酸などの有機酸を使用できる。
溶媒中で後述の触媒の存在化に常圧で常温から還留温度
の範囲にて脱水反応を行ない、（VI）のエチレン誘導体
を得る。不活性有機溶媒としては、ベンゼン、トルエ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、塩化メチレン等が適し
ており、触媒としては、塩化アルミニウム、四塩化ス
ズ、四塩化チタンなどのルイス酸や硫酸、リン酸などの
鉱酸やトルエンスルホン酸などの有機酸を使用できる。
【００２０】続いて（VI）のエチレン誘導体を酢酸エチ
ル、エタノール等の有機溶媒中でパラジウムカーボン、
ラーネーニッケル等の触媒存在下常圧にて水素添加反応
を行ない、続いて抽出、洗浄、再結晶等の一連の精製操
作を施すことにより目的の式（Ｉ）の化合物を製造す
る。出発原料とした式（II）の置換ベンゼンは、容易に
入手できる原料に周知の反応を適用することにより得ら
れる。すなわち、（II）式でｎが１である置換ベンゼン
は、トランスー４ーアルキルシクロヘキシル酢酸クロリ
ドとビス（３ーフルオロフェニル）カドミウム（または
ビス（２ーフルオロフェニル）カドミウム）とのカップ
リングにより得られるケトン誘導体を還元することによ
り得られ、また（II）式でｎが０である置換ベンゼンは
３ーフルオロフェニルマグネシウムブロミド（または２
ーフルオロフェニルマグネシウムブロミド）と４ーアル
キルシクロヘキサノンとのグリニヤール反応により得ら
れる置換シクロヘキサノールから脱水反応と還元反応を
経て得ることができる。
ル、エタノール等の有機溶媒中でパラジウムカーボン、
ラーネーニッケル等の触媒存在下常圧にて水素添加反応
を行ない、続いて抽出、洗浄、再結晶等の一連の精製操
作を施すことにより目的の式（Ｉ）の化合物を製造す
る。出発原料とした式（II）の置換ベンゼンは、容易に
入手できる原料に周知の反応を適用することにより得ら
れる。すなわち、（II）式でｎが１である置換ベンゼン
は、トランスー４ーアルキルシクロヘキシル酢酸クロリ
ドとビス（３ーフルオロフェニル）カドミウム（または
ビス（２ーフルオロフェニル）カドミウム）とのカップ
リングにより得られるケトン誘導体を還元することによ
り得られ、また（II）式でｎが０である置換ベンゼンは
３ーフルオロフェニルマグネシウムブロミド（または２
ーフルオロフェニルマグネシウムブロミド）と４ーアル
キルシクロヘキサノンとのグリニヤール反応により得ら
れる置換シクロヘキサノールから脱水反応と還元反応を
経て得ることができる。
【００２１】また、本発明の化合物は式（II′）で表さ
れる置換ブロモベンゼンをトリアセチルアセトネート鉄
触媒存在下に式（III)で表される置換酢酸クロリドと反
応させ式（IV）で表される化合物を製造することができ
る。式（IV）以下前述の反応手順に従って式（I)で表さ
れる化合物を製造できる。出発原料とした式（II′）の
置換ブロモベンゼンは、容易に入手できる原料に周知の
反応を適用することにより得られる。すなわち式（I
I′）でｎが０である置換ブロモベンゼンは、２，５−
ジブロモフルオロベンゼンと金属マグネシウムを作用さ
せて得られる２−フルオロ−４−ブロモフェニルマグネ
シウムブロミドと３−フルオロ−４−ブロモフェニルマ
グネシウムブロミドの混合試薬と４−アルキルシクロヘ
キサノンとのグリニヤール反応により得られる置換シク
ロヘキサノールから脱水反応と還元反応を経た後ｏ−フ
ルオロ置換体とｍ−フルオロ置換体を分離精製すること
により製造できる。また、式（II′）でｎが１である置
換ブロモベンゼンは、トランス−４−アルキルシクロヘ
キシル酢酸クロリドと上述のグリニヤール試薬をトリア
セチルアセトネート鉄触媒存在下に反応させ、得られた
ケトン体を還元反応した後、ｏ−フルオロ置換体とｍ−
フルオロ置換体を分離精製して製造できる。
れる置換ブロモベンゼンをトリアセチルアセトネート鉄
触媒存在下に式（III)で表される置換酢酸クロリドと反
応させ式（IV）で表される化合物を製造することができ
る。式（IV）以下前述の反応手順に従って式（I)で表さ
れる化合物を製造できる。出発原料とした式（II′）の
置換ブロモベンゼンは、容易に入手できる原料に周知の
反応を適用することにより得られる。すなわち式（I
I′）でｎが０である置換ブロモベンゼンは、２，５−
ジブロモフルオロベンゼンと金属マグネシウムを作用さ
せて得られる２−フルオロ−４−ブロモフェニルマグネ
シウムブロミドと３−フルオロ−４−ブロモフェニルマ
グネシウムブロミドの混合試薬と４−アルキルシクロヘ
キサノンとのグリニヤール反応により得られる置換シク
ロヘキサノールから脱水反応と還元反応を経た後ｏ−フ
ルオロ置換体とｍ−フルオロ置換体を分離精製すること
により製造できる。また、式（II′）でｎが１である置
換ブロモベンゼンは、トランス−４−アルキルシクロヘ
キシル酢酸クロリドと上述のグリニヤール試薬をトリア
セチルアセトネート鉄触媒存在下に反応させ、得られた
ケトン体を還元反応した後、ｏ−フルオロ置換体とｍ−
フルオロ置換体を分離精製して製造できる。
【００２２】本発明によるこれらの液晶組成物は、式Ｉ
で示される化合物の少なくとも一種を包含する２〜２５
種、好ましくは３〜１５種の成分からなる。その他の構
成成分は、ネマチック物質、特にアゾキシベンゼン化合
物、ベンジリデンアニリン化合物、ビフェニル化合物、
ターフェニル化合物、フェニルまたはシクロヘキシルシ
クロヘキサンカルボキシレート化合物、フェニルシクロ
ヘキサン化合物、シクロヘキシルビフェニル化合物、シ
クロヘキシルシクロヘキサン化合物、シクロヘキシルナ
フタレン化合物、１，４ービスシクロヘキシルベンゼン
化合物、４，４′ービスシクロヘキシルビフェニル化合
物、フェニルピリミジン化合物、またはシクロヘキシル
ピリミジン化合物、フェニルピリダジン化合物、または
シクロヘキシルピリダジン化合物およびそのＮーオキシ
ド化合物、フェニルジオキサン化合物またはシクロヘキ
シルジオキサン化合物、フェニルー１，３ージチアン化
合物またはシクロヘキシルー１，３ージチアン化合物、
１，２ージフェニルエタン化合物、１ーフェニルー２ー
シクロヘキシルエタン化合物、１，２ージシクロヘキシ
ルエタン化合物、場合によりハロゲン化されているスチ
ルベン化合物、ベンジルフェニルエーテル化合物、トラ
ン化合物および置換されているケイ皮酸化合物の群に属
する既知物質から選択するのが好ましい。
で示される化合物の少なくとも一種を包含する２〜２５
種、好ましくは３〜１５種の成分からなる。その他の構
成成分は、ネマチック物質、特にアゾキシベンゼン化合
物、ベンジリデンアニリン化合物、ビフェニル化合物、
ターフェニル化合物、フェニルまたはシクロヘキシルシ
クロヘキサンカルボキシレート化合物、フェニルシクロ
ヘキサン化合物、シクロヘキシルビフェニル化合物、シ
クロヘキシルシクロヘキサン化合物、シクロヘキシルナ
フタレン化合物、１，４ービスシクロヘキシルベンゼン
化合物、４，４′ービスシクロヘキシルビフェニル化合
物、フェニルピリミジン化合物、またはシクロヘキシル
ピリミジン化合物、フェニルピリダジン化合物、または
シクロヘキシルピリダジン化合物およびそのＮーオキシ
ド化合物、フェニルジオキサン化合物またはシクロヘキ
シルジオキサン化合物、フェニルー１，３ージチアン化
合物またはシクロヘキシルー１，３ージチアン化合物、
１，２ージフェニルエタン化合物、１ーフェニルー２ー
シクロヘキシルエタン化合物、１，２ージシクロヘキシ
ルエタン化合物、場合によりハロゲン化されているスチ
ルベン化合物、ベンジルフェニルエーテル化合物、トラ
ン化合物および置換されているケイ皮酸化合物の群に属
する既知物質から選択するのが好ましい。
【００２３】本発明の液晶組成物の構成成分として適当
である最も重要な化合物は式 I′で示すことができる。 Ｒ′−Ｌ−Ｇ−Ｅ−Ｒ″ …（ I′) （式中ＬおよびＥはそれぞれ１，４−ジ置換ベンゼン、
シクロヘキサン環、４，４′−ジ置換ビフェニル、フェ
ニルシクロヘキサン、シクロヘキシルシクロヘキサン、
２，５−ジ置換ナフタレン、キナゾリンおよびテトラヒ
ドロキナゾリンから形成される群に属する炭素環または
複素環系化合物の基であり、Ｇは−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ
（Ｏ）＝Ｎ−、−ＣＨ＝ＣＹ−、−ＣＨ＝Ｎ（Ｏ）−、
−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ
2 Ｏ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＨ2Ｓ−、−ＣＨ＝Ｎ−、
またはＣ−Ｃ単結合であり、Ｙはハロゲン、好ましくは
塩素または−ＣＮであり、そしてＲ′およびＲ″は、１
８個まで好ましくは８個までの炭素原子を有するアルキ
ル、アルコキシ、アルカノイルオキシ、アルコキシカル
ボニルまたはアルコキシカルボニルオキシであるが、こ
れらの基の一つはＣＮ、ＮＣ、ＮＯ2 、ＣＦ3 、Ｆ、Ｃ
ｌまたはＢｒでもよい。）これらの化合物の大部分にお
いて、Ｒ′およびＲ″は相互に異なり、これらの基の一
方は大部分の場合にアルキルまたはアルコキシ基であ
る。しかしながら、これらのＲ′およびＲ″は他の種々
の置換基に替えることも可能である。これらの物質は既
知の方法により得ることができる。
である最も重要な化合物は式 I′で示すことができる。 Ｒ′−Ｌ−Ｇ−Ｅ−Ｒ″ …（ I′) （式中ＬおよびＥはそれぞれ１，４−ジ置換ベンゼン、
シクロヘキサン環、４，４′−ジ置換ビフェニル、フェ
ニルシクロヘキサン、シクロヘキシルシクロヘキサン、
２，５−ジ置換ナフタレン、キナゾリンおよびテトラヒ
ドロキナゾリンから形成される群に属する炭素環または
複素環系化合物の基であり、Ｇは−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ
（Ｏ）＝Ｎ−、−ＣＨ＝ＣＹ−、−ＣＨ＝Ｎ（Ｏ）−、
−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ
2 Ｏ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＨ2Ｓ−、−ＣＨ＝Ｎ−、
またはＣ−Ｃ単結合であり、Ｙはハロゲン、好ましくは
塩素または−ＣＮであり、そしてＲ′およびＲ″は、１
８個まで好ましくは８個までの炭素原子を有するアルキ
ル、アルコキシ、アルカノイルオキシ、アルコキシカル
ボニルまたはアルコキシカルボニルオキシであるが、こ
れらの基の一つはＣＮ、ＮＣ、ＮＯ2 、ＣＦ3 、Ｆ、Ｃ
ｌまたはＢｒでもよい。）これらの化合物の大部分にお
いて、Ｒ′およびＲ″は相互に異なり、これらの基の一
方は大部分の場合にアルキルまたはアルコキシ基であ
る。しかしながら、これらのＲ′およびＲ″は他の種々
の置換基に替えることも可能である。これらの物質は既
知の方法により得ることができる。
【００２４】本発明による液晶組成物は、式Ｉで示され
る化合物の一種または二種以上を０．１〜４０重量
（％）、好ましくは１０〜３０重量（％）の量で含有す
る。本発明による組成物はそれ自体慣用である方法で製
造することができる。一般に構成成分を相互に、好まし
くは高められた温度で溶解する。以下、実施例により本
発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例
に限定されるものではない。なお、実施例中の相転移点
は前述のとおりである。
る化合物の一種または二種以上を０．１〜４０重量
（％）、好ましくは１０〜３０重量（％）の量で含有す
る。本発明による組成物はそれ自体慣用である方法で製
造することができる。一般に構成成分を相互に、好まし
くは高められた温度で溶解する。以下、実施例により本
発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例
に限定されるものではない。なお、実施例中の相転移点
は前述のとおりである。
【００２５】
実施例１ ２ー（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）ー５ー（２
ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）エチル）
フルオロベンゼンの製造（（Ｉーａ）式においてＲ1 が
プロピル基、Ｒ2 がエチル基のもの） ニトロベンゼン１６０ml中に無水塩化アルミニウム２
７．７ｇを加え冷却下に４ーエチルフェニル酢酸クロリ
ド３１．７ｇを加え、続いて３ー（２ー（トランスー４
ープロピルシクロヘキシル）エチル）フルオロベンゼン
４０ｇを約１時間で加えた。ついで反応混合物を室温に
て１０時間反応し、ニトロベンゼンを留去し、残留物を
希塩酸水溶液中に加えて分解した。生成した粗結晶をト
ルエン１００mlにて抽出し、水洗、乾燥した後トルエン
を留去し、残った固形物を酢酸エチルから再結晶精製
し、下記化合物３４ｇを得た。
ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）エチル）
フルオロベンゼンの製造（（Ｉーａ）式においてＲ1 が
プロピル基、Ｒ2 がエチル基のもの） ニトロベンゼン１６０ml中に無水塩化アルミニウム２
７．７ｇを加え冷却下に４ーエチルフェニル酢酸クロリ
ド３１．７ｇを加え、続いて３ー（２ー（トランスー４
ープロピルシクロヘキシル）エチル）フルオロベンゼン
４０ｇを約１時間で加えた。ついで反応混合物を室温に
て１０時間反応し、ニトロベンゼンを留去し、残留物を
希塩酸水溶液中に加えて分解した。生成した粗結晶をト
ルエン１００mlにて抽出し、水洗、乾燥した後トルエン
を留去し、残った固形物を酢酸エチルから再結晶精製
し、下記化合物３４ｇを得た。
【００２６】
【化７】
【００２７】この化合物を無水テトラヒドロフラン５０
mlに溶解し、水素化リチウムアルミニウム２．７ｇと無
水テトラヒドロフラン１００mlの混合溶液中に滴下し
た。さらに０℃で１時間かくはん後、反応物に２０ｗｔ
％硫酸５０mlを加え無機物を溶解させ、分離した油状物
をトルエン１００mlにて抽出した。分離したトルエン溶
液を１０％炭酸水素ナトリウム水溶液にて洗浄後、中性
になるまで水洗した。このトルエン溶液を無水硫酸ナト
リウムで乾燥後ｐートルエンスルホン酸１．８ｇを加え
加熱還流させ、生成する水を系外に除去した。反応終了
後室温にまで放冷し、トルエン溶媒を中性になるまで水
洗した。このトルエン溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、トルエンを留去し残った固形物を酢酸エチルから再
結晶精製して下記化合物２４ｇを得た。
mlに溶解し、水素化リチウムアルミニウム２．７ｇと無
水テトラヒドロフラン１００mlの混合溶液中に滴下し
た。さらに０℃で１時間かくはん後、反応物に２０ｗｔ
％硫酸５０mlを加え無機物を溶解させ、分離した油状物
をトルエン１００mlにて抽出した。分離したトルエン溶
液を１０％炭酸水素ナトリウム水溶液にて洗浄後、中性
になるまで水洗した。このトルエン溶液を無水硫酸ナト
リウムで乾燥後ｐートルエンスルホン酸１．８ｇを加え
加熱還流させ、生成する水を系外に除去した。反応終了
後室温にまで放冷し、トルエン溶媒を中性になるまで水
洗した。このトルエン溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、トルエンを留去し残った固形物を酢酸エチルから再
結晶精製して下記化合物２４ｇを得た。
【００２８】
【化８】
【００２９】このものは、液晶相を示し、ＣーＳ点：７
５．４℃、ＳーＮ点：８１．２℃、ＮーＩ点：１７３．
６℃であった。この化合物を酢酸エチル１５０mlに溶解
し３ｇのＰｄ／Ｃ触媒存在下水素添加反応を行ない、触
媒除去後、酢酸エチルを留去し、エタノール、酢酸エチ
ル（１：１）の混合溶媒から再結晶精製し表題の化合
物、２ー（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）ー５ー
（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン（化合物No. １）を得た。
５．４℃、ＳーＮ点：８１．２℃、ＮーＩ点：１７３．
６℃であった。この化合物を酢酸エチル１５０mlに溶解
し３ｇのＰｄ／Ｃ触媒存在下水素添加反応を行ない、触
媒除去後、酢酸エチルを留去し、エタノール、酢酸エチ
ル（１：１）の混合溶媒から再結晶精製し表題の化合
物、２ー（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）ー５ー
（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン（化合物No. １）を得た。
【００３０】このものは液晶相を示しＣーＮ点：５３．
２℃、ＮーＩ点：５４．３℃であった。以下、出発原料
のアルキル鎖長を種々変換した原料を使用して前述の反
応操作に準じて下記化合物を製造する。 ２ー（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）ー５ー
（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （化合物No. ２） ＣーＮ点：５１．０℃、ＮーＩ点：６０．９℃ ２ー（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）ー５ー（２
ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）エチル）
フルオロベンゼン （No. ３） ＣーＮ点：４６．８℃、ＮーＩ点：５５．４℃ ２ー（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）ー５ー
（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ４） ２ー（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）ー５ー（２
ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エチル）フ
ルオロベンゼン （No. ５） ２ー（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ６） ２ー（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）ー５ー（２
ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エチル）フ
ルオロベンゼン （No. ７） ２ー（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ８） ２ー（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）ー５ー（２
ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エチル）フ
ルオロベンゼン （No. ９） ２ー（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. １０） ２ー（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）ー５ー（２
ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エチル）フ
ルオロベンゼン （No. １１） ２ー（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. １２） ２ー（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）ー５ー（２
ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）エチル）
フルオロベンゼン （No. １３） ２ー（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. １４） ２ー（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）ー５ー（２
ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）エチル）
フルオロベンゼン （No. １５） ２ー（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. １６）
２℃、ＮーＩ点：５４．３℃であった。以下、出発原料
のアルキル鎖長を種々変換した原料を使用して前述の反
応操作に準じて下記化合物を製造する。 ２ー（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）ー５ー
（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （化合物No. ２） ＣーＮ点：５１．０℃、ＮーＩ点：６０．９℃ ２ー（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）ー５ー（２
ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）エチル）
フルオロベンゼン （No. ３） ＣーＮ点：４６．８℃、ＮーＩ点：５５．４℃ ２ー（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）ー５ー
（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ４） ２ー（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）ー５ー（２
ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エチル）フ
ルオロベンゼン （No. ５） ２ー（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ６） ２ー（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）ー５ー（２
ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エチル）フ
ルオロベンゼン （No. ７） ２ー（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ８） ２ー（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）ー５ー（２
ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エチル）フ
ルオロベンゼン （No. ９） ２ー（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. １０） ２ー（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）ー５ー（２
ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エチル）フ
ルオロベンゼン （No. １１） ２ー（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. １２） ２ー（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）ー５ー（２
ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）エチル）
フルオロベンゼン （No. １３） ２ー（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. １４） ２ー（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）ー５ー（２
ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）エチル）
フルオロベンゼン （No. １５） ２ー（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. １６）
【００３１】実施例２ 実施例１で使用した原料の一つである４ーエチルフェニ
ル酢酸クロリドを換えてトランスー４ーエチルシクロヘ
キシル酢酸クロリドを使用し実施例１の反応操作に準じ
て次の化合物を製造する。（（Ｉーｃ）式においてＲ1
がプロピル基、Ｒ2 がエチル基のもの） ２ー（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘ
キシル）エチル）フルオロベンゼン（No. １７） 以下、出発原料のアルキル鎖長を種々変換した原料を使
用して実施例１の反応操作に準じて下記化合物を製造す
る。
ル酢酸クロリドを換えてトランスー４ーエチルシクロヘ
キシル酢酸クロリドを使用し実施例１の反応操作に準じ
て次の化合物を製造する。（（Ｉーｃ）式においてＲ1
がプロピル基、Ｒ2 がエチル基のもの） ２ー（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘ
キシル）エチル）フルオロベンゼン（No. １７） 以下、出発原料のアルキル鎖長を種々変換した原料を使
用して実施例１の反応操作に準じて下記化合物を製造す
る。
【００３２】２ー（２ー（トランスー４ーエチルシクロ
ヘキシル）エチル）ー５ー（２ー（トランスー４ーエチ
ルシクロヘキシル）エチル）フルオロベンゼン（No. １
８） ２ー（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキ
シル）エチル）フルオロベンゼン（No. １９） ２ー（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘ
キシル）エチル）フルオロベンゼン（No. ２０） ２ー（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（２ー（トランスー４ープロピルシクロ
ヘキシル）エチル）フルオロベンゼン（No.２１） ２ー（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘ
キシル）エチル）フルオロベンゼン（No. ２２） ２ー（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（２ー（トランスー４ープロピルシクロ
ヘキシル）エチル）フルオロベンゼン（No.２３） ２ー（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキ
シル）エチル）フルオロベンゼン（No. ２４） ２ー（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘ
キシル）エチル）フルオロベンゼン（No. ２５） ２ー（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（２ー（トランスー４ーペンチルシクロ
ヘキシル）エチル）フルオロベンゼン（No.２６）
ヘキシル）エチル）ー５ー（２ー（トランスー４ーエチ
ルシクロヘキシル）エチル）フルオロベンゼン（No. １
８） ２ー（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキ
シル）エチル）フルオロベンゼン（No. １９） ２ー（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘ
キシル）エチル）フルオロベンゼン（No. ２０） ２ー（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（２ー（トランスー４ープロピルシクロ
ヘキシル）エチル）フルオロベンゼン（No.２１） ２ー（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘ
キシル）エチル）フルオロベンゼン（No. ２２） ２ー（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（２ー（トランスー４ープロピルシクロ
ヘキシル）エチル）フルオロベンゼン（No.２３） ２ー（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキ
シル）エチル）フルオロベンゼン（No. ２４） ２ー（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘ
キシル）エチル）フルオロベンゼン（No. ２５） ２ー（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（２ー（トランスー４ーペンチルシクロ
ヘキシル）エチル）フルオロベンゼン（No.２６）
【００３３】実施例３ ４−エチルフェニル酢酸クロリド４５．０ｇを９０mlの
ＴＨＦに溶解し、トリアセチルアセトネート鉄錯体１．
７４ｇを加え０℃に冷却し、そこに４−（２−（トラン
ス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）−３−フル
オロブロモベンゼン９６．７ｇと金属マグネシウム７．
５６ｇから調製したグリニヤール試薬のＴＨＦ溶液を２
時間かけて滴下し１０時間かくはんした後、水１００ml
と６Ｎ−ＨＣｌ１００mlを加えトルエン３００mlにて抽
出し有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し
残留物を酢酸エチルから再結晶精製し下記化合物を製造
する。
ＴＨＦに溶解し、トリアセチルアセトネート鉄錯体１．
７４ｇを加え０℃に冷却し、そこに４−（２−（トラン
ス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）−３−フル
オロブロモベンゼン９６．７ｇと金属マグネシウム７．
５６ｇから調製したグリニヤール試薬のＴＨＦ溶液を２
時間かけて滴下し１０時間かくはんした後、水１００ml
と６Ｎ−ＨＣｌ１００mlを加えトルエン３００mlにて抽
出し有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し
残留物を酢酸エチルから再結晶精製し下記化合物を製造
する。
【００３４】
【化９】
【００３５】ここで製造したケトン誘導体を使用して実
施例１の反応操作に準じて次の化合物を製造する。
（（Ｉーｂ）式においてＲ1 がプロピル基、Ｒ2 がエチ
ル基のもの） ２ー（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）
フルオロベンゼン （No. ２７） 以下、出発原料のアルキル鎖長を種々変換した原料を使
用し実施例１の反応操作に準じて下記化合物を製造す
る。
施例１の反応操作に準じて次の化合物を製造する。
（（Ｉーｂ）式においてＲ1 がプロピル基、Ｒ2 がエチ
ル基のもの） ２ー（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）
フルオロベンゼン （No. ２７） 以下、出発原料のアルキル鎖長を種々変換した原料を使
用し実施例１の反応操作に準じて下記化合物を製造す
る。
【００３６】２ー（２ー（トランスー４ーエチルシクロ
ヘキシル）エチル）ー５ー（２ー（４ーエチルフェニ
ル）エチル）フルオロベンゼン （No. ２
８） ２ー（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）
フルオロベンゼン （No. ２９） ２ー（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）フ
ルオロベンゼン （No. ３０） ２ー（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）
フルオロベンゼン （No. ３１） ２ー（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（２ー（４ープロピルフェニル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ３２） ２ー（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）
フルオロベンゼン （No. ３３） ２ー（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（２ー（４ーペンチルフェニル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ３４） ２ー（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）フ
ルオロベンゼン （No. ３５） ２ー（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）
フルオロベンゼン （No. ３６） ２ー（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）フ
ルオロベンゼン （No. ３７） ２ー（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）
フルオロベンゼン （No. ３８） ２ー（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）
フルオロベンゼン （No. ３９） ２ー（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（２ー（４ープロピルフェニル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ４０） ２ー（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）
フルオロベンゼン （No. ４１） ２ー（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（２ー（４ーペンチルフェニル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ４２）
ヘキシル）エチル）ー５ー（２ー（４ーエチルフェニ
ル）エチル）フルオロベンゼン （No. ２
８） ２ー（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）
フルオロベンゼン （No. ２９） ２ー（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）フ
ルオロベンゼン （No. ３０） ２ー（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）
フルオロベンゼン （No. ３１） ２ー（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（２ー（４ープロピルフェニル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ３２） ２ー（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）
フルオロベンゼン （No. ３３） ２ー（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（２ー（４ーペンチルフェニル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ３４） ２ー（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）フ
ルオロベンゼン （No. ３５） ２ー（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）
フルオロベンゼン （No. ３６） ２ー（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）フ
ルオロベンゼン （No. ３７） ２ー（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）
フルオロベンゼン （No. ３８） ２ー（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）
フルオロベンゼン （No. ３９） ２ー（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（２ー（４ープロピルフェニル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ４０） ２ー（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）
フルオロベンゼン （No. ４１） ２ー（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（２ー（４ーペンチルフェニル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ４２）
【００３７】実施例４ ２ー（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）ー５ー（ト
ランスー４ープロピルシクロヘキシル）フルオロベンゼ
ンの製造（（Ｉーｄ）式においてＲ1 がプロピル基、Ｒ
2 がエチル基のもの） ニトロベンゼン３００ml中に無水塩化アルミニウム１４
５．４ｇを加え冷却下に４ーエチルフェニル酢酸クロリ
ド９５．５ｇを加え、続いて３ー（トランスー４ープロ
ピルシクロヘキシル）フルオロベンゼン１２０ｇを約１
時間で加えた。次いで反応混合物を室温にて１０時間か
くはんし、ニトロベンゼンを留去し、残留物を希塩酸水
溶液中に加え、１時間かくはんした。生成した粗結晶を
トルエン５００mlにて抽出し、水洗、乾燥した後トルエ
ンを留去し、残った固形物を酢酸エチルから再結晶精製
し、下記化合物１６０ｇを得た。
ランスー４ープロピルシクロヘキシル）フルオロベンゼ
ンの製造（（Ｉーｄ）式においてＲ1 がプロピル基、Ｒ
2 がエチル基のもの） ニトロベンゼン３００ml中に無水塩化アルミニウム１４
５．４ｇを加え冷却下に４ーエチルフェニル酢酸クロリ
ド９５．５ｇを加え、続いて３ー（トランスー４ープロ
ピルシクロヘキシル）フルオロベンゼン１２０ｇを約１
時間で加えた。次いで反応混合物を室温にて１０時間か
くはんし、ニトロベンゼンを留去し、残留物を希塩酸水
溶液中に加え、１時間かくはんした。生成した粗結晶を
トルエン５００mlにて抽出し、水洗、乾燥した後トルエ
ンを留去し、残った固形物を酢酸エチルから再結晶精製
し、下記化合物１６０ｇを得た。
【００３８】
【化１０】
【００３９】この化合物を無水テトラヒドロフラン５０
０mlに溶解し、水素化リチウムアルミニウム１２．７ｇ
と無水テトラヒドロフラン１００mlの混合溶液中に滴下
した。さらに０℃で１時間かくはん後、反応物に２０ｗ
ｔ％硫酸５００mlを加え無機物を溶解させ、分離した油
状物をトルエン１０００mlにて抽出した。分離したトル
エン溶液を１０％炭酸水素ナトリウム水溶液にて洗浄
後、中性になるまで水洗した。このトルエン溶液を無水
硫酸ナトリウムで乾燥後ｐ−トルエンスルホン酸１０．
８ｇを加え加熱還流させ、生成する水を系外に除去し
た。反応終了後室温にまで放冷し、トルエン溶媒を中性
になるまで水洗した。このトルエン溶液を無水硫酸ナト
リウムで乾燥後、トルエンを留去し残った固形物を酢酸
エチルから再結晶精製して下記化合物１２４ｇを得た。
０mlに溶解し、水素化リチウムアルミニウム１２．７ｇ
と無水テトラヒドロフラン１００mlの混合溶液中に滴下
した。さらに０℃で１時間かくはん後、反応物に２０ｗ
ｔ％硫酸５００mlを加え無機物を溶解させ、分離した油
状物をトルエン１０００mlにて抽出した。分離したトル
エン溶液を１０％炭酸水素ナトリウム水溶液にて洗浄
後、中性になるまで水洗した。このトルエン溶液を無水
硫酸ナトリウムで乾燥後ｐ−トルエンスルホン酸１０．
８ｇを加え加熱還流させ、生成する水を系外に除去し
た。反応終了後室温にまで放冷し、トルエン溶媒を中性
になるまで水洗した。このトルエン溶液を無水硫酸ナト
リウムで乾燥後、トルエンを留去し残った固形物を酢酸
エチルから再結晶精製して下記化合物１２４ｇを得た。
【００４０】
【化１１】
【００４１】このものは、液晶相を示しＣーＮ点：７
０．３℃、ＮーＩ点：２１２．９℃であった。この化合
物を酢酸エチル３５０mlに溶解し５ｇのＰｄ／Ｃ触媒存
在下水素添加反応を行ない、触媒除去後、酢酸エチルを
留去し、エタノール、酢酸エチル（１：１）の混合溶媒
から再結晶精製し表題の化合物、２ー（２ー（４ーエチ
ルフェニル）エチル）ー５ー（トランスー４ープロピル
シクロヘキシル）フルオロベンゼン（No. ４３）を得
た。
０．３℃、ＮーＩ点：２１２．９℃であった。この化合
物を酢酸エチル３５０mlに溶解し５ｇのＰｄ／Ｃ触媒存
在下水素添加反応を行ない、触媒除去後、酢酸エチルを
留去し、エタノール、酢酸エチル（１：１）の混合溶媒
から再結晶精製し表題の化合物、２ー（２ー（４ーエチ
ルフェニル）エチル）ー５ー（トランスー４ープロピル
シクロヘキシル）フルオロベンゼン（No. ４３）を得
た。
【００４２】このものは、液晶相を示しＣーＮ点：４
０．６℃、ＮーＩ点：６０．７℃であった。以下、出発
原料のアルキル鎖長を種々変換した原料を使用して実施
例４の反応操作に準じて下記化合物を製造する。 ２ー（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）ー５ー（ト
ランスー４ーエチルシクロヘキシル）フルオロベンゼン
（No. ４４） ２ー（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）ー５ー
（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）フルオロベン
ゼン （No. ４５） ２ー（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）ー５ー（ト
ランスー４ーエチルシクロヘキシル）フルオロベンゼン
（No. ４６） ２ー（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）ー５ー
（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）フルオロベン
ゼン （No. ４７） ２ー（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）ー５ー
（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）フルオロベ
ンゼン （No. ４８） ＣーＮ点：３８．７℃、ＮーＩ点：７０．３℃ ２ー（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）ー５ー（ト
ランスー４ープロピルシクロヘキシル）フルオロベンゼ
ン （No. ４９） ＣーＮ点：４６．６℃、ＮーＩ点：６１．３℃ ２ー（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）ー５ー
（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）フルオロベ
ンゼン （No. ５０） ２ー（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）ー５ー（ト
ランスー４ーブチルシクロヘキシル）フルオロベンゼン
（No. ５１） ２ー（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）ー５ー
（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）フルオロベン
ゼン （No. ５２） ２ー（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）ー５ー（ト
ランスー４ーブチルシクロヘキシル）フルオロベンゼン
（No. ５３） ２ー（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）ー５ー
（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）フルオロベン
ゼン （No. ５４） ２ー（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）ー５ー（ト
ランスー４ーペンチルシクロヘキシル）フルオロベンゼ
ン （No. ５５） ２ー（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）ー５ー
（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）フルオロベ
ンゼン （No. ５６） ２ー（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）ー５ー（ト
ランスー４ーペンチルシクロヘキシル）フルオロベンゼ
ン （No. ５７） ２ー（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）ー５ー
（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）フルオロベ
ンゼン （No. ５８）
０．６℃、ＮーＩ点：６０．７℃であった。以下、出発
原料のアルキル鎖長を種々変換した原料を使用して実施
例４の反応操作に準じて下記化合物を製造する。 ２ー（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）ー５ー（ト
ランスー４ーエチルシクロヘキシル）フルオロベンゼン
（No. ４４） ２ー（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）ー５ー
（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）フルオロベン
ゼン （No. ４５） ２ー（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）ー５ー（ト
ランスー４ーエチルシクロヘキシル）フルオロベンゼン
（No. ４６） ２ー（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）ー５ー
（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）フルオロベン
ゼン （No. ４７） ２ー（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）ー５ー
（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）フルオロベ
ンゼン （No. ４８） ＣーＮ点：３８．７℃、ＮーＩ点：７０．３℃ ２ー（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）ー５ー（ト
ランスー４ープロピルシクロヘキシル）フルオロベンゼ
ン （No. ４９） ＣーＮ点：４６．６℃、ＮーＩ点：６１．３℃ ２ー（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）ー５ー
（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）フルオロベ
ンゼン （No. ５０） ２ー（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）ー５ー（ト
ランスー４ーブチルシクロヘキシル）フルオロベンゼン
（No. ５１） ２ー（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）ー５ー
（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）フルオロベン
ゼン （No. ５２） ２ー（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）ー５ー（ト
ランスー４ーブチルシクロヘキシル）フルオロベンゼン
（No. ５３） ２ー（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）ー５ー
（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）フルオロベン
ゼン （No. ５４） ２ー（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）ー５ー（ト
ランスー４ーペンチルシクロヘキシル）フルオロベンゼ
ン （No. ５５） ２ー（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）ー５ー
（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）フルオロベ
ンゼン （No. ５６） ２ー（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）ー５ー（ト
ランスー４ーペンチルシクロヘキシル）フルオロベンゼ
ン （No. ５７） ２ー（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）ー５ー
（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）フルオロベ
ンゼン （No. ５８）
【００４３】実施例５ 実施例４で使用した原料の一つである４ーエチルフェニ
ル酢酸クロリドを換えてトランスー４ーエチルシクロヘ
キシル酢酸クロリドを使用し、実施例４の反応操作に準
じて次の化合物を製造する。（（Ｉーｅ）式においてＲ
1 がプロピル基、Ｒ2 がエチル基のもの） ２ー（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシ
ル）フルオロベンゼン （No. ５９） 以下、出発原料のアルキル鎖長を種々変換した原料を使
用して実施例４の反応操作に準じて下記化合物を製造す
る。
ル酢酸クロリドを換えてトランスー４ーエチルシクロヘ
キシル酢酸クロリドを使用し、実施例４の反応操作に準
じて次の化合物を製造する。（（Ｉーｅ）式においてＲ
1 がプロピル基、Ｒ2 がエチル基のもの） ２ー（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシ
ル）フルオロベンゼン （No. ５９） 以下、出発原料のアルキル鎖長を種々変換した原料を使
用して実施例４の反応操作に準じて下記化合物を製造す
る。
【００４４】２ー（２ー（トランスー４ーエチルシクロ
ヘキシル）エチル）ー５ー（トランスー４ーエチルシク
ロヘキシル）フルオロベンゼン （No. ６
０） ２ー（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシ
ル）フルオロベンゼン （No. ６１） ２ー（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）
フルオロベンゼン （No. ６２） ２ー（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシ
ル）フルオロベンゼン （No. ６３） ２ー（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシ
ル）フルオロベンゼン （No. ６４） ２ー（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシ
ル）フルオロベンゼン （No. ６５） ２ー（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシ
ル）フルオロベンゼン （No. ６６） ２ー（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）
フルオロベンゼン （No. ６７） ２ー（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシ
ル）フルオロベンゼン （No. ６８） ２ー（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）
フルオロベンゼン （No. ６９） ２ー（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシ
ル）フルオロベンゼン （No. ７０） ２ー（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシ
ル）フルオロベンゼン （No. ７１） ２ー（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシ
ル）フルオロベンゼン （No. ７２） ２ー（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシ
ル）フルオロベンゼン （No. ７３） ２ー（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシ
ル）フルオロベンゼン （No. ７４）
ヘキシル）エチル）ー５ー（トランスー４ーエチルシク
ロヘキシル）フルオロベンゼン （No. ６
０） ２ー（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシ
ル）フルオロベンゼン （No. ６１） ２ー（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）
フルオロベンゼン （No. ６２） ２ー（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシ
ル）フルオロベンゼン （No. ６３） ２ー（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシ
ル）フルオロベンゼン （No. ６４） ２ー（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシ
ル）フルオロベンゼン （No. ６５） ２ー（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシ
ル）フルオロベンゼン （No. ６６） ２ー（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）
フルオロベンゼン （No. ６７） ２ー（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシ
ル）フルオロベンゼン （No. ６８） ２ー（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）
フルオロベンゼン （No. ６９） ２ー（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシ
ル）フルオロベンゼン （No. ７０） ２ー（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシ
ル）フルオロベンゼン （No. ７１） ２ー（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシ
ル）フルオロベンゼン （No. ７２） ２ー（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エ
チル）ー５ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシ
ル）フルオロベンゼン （No. ７３） ２ー（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）
エチル）ー５ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシ
ル）フルオロベンゼン （No. ７４）
【００４５】実施例６ 実施例３の出発原料の４ー（２ー（トランスー４ープロ
ピルシクロヘキシル）エチル）ー３ーフルオロブロモベ
ンゼンを換えて、４ー（トランスー４ープロピルシクロ
ヘキシル）ー３ーフルオロブロモベンゼンを使用し実施
例３の反応操作に準じて次の化合物を製造する。（（Ｉ
ーｆ）式においてＲ1 がプロピル基、Ｒ 2 がエチル基の
もの） ２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）フルオロベンゼ
ン （No. ７５） 以下、出発原料のアルキル鎖長を種々変換した原料を使
用して実施例４の反応操作に準じて下記化合物を製造す
る。
ピルシクロヘキシル）エチル）ー３ーフルオロブロモベ
ンゼンを換えて、４ー（トランスー４ープロピルシクロ
ヘキシル）ー３ーフルオロブロモベンゼンを使用し実施
例３の反応操作に準じて次の化合物を製造する。（（Ｉ
ーｆ）式においてＲ1 がプロピル基、Ｒ 2 がエチル基の
もの） ２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）フルオロベンゼ
ン （No. ７５） 以下、出発原料のアルキル鎖長を種々変換した原料を使
用して実施例４の反応操作に準じて下記化合物を製造す
る。
【００４６】２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシ
ル）ー５ー（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）フル
オロベンゼン （No. ７
６） ２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）フルオロベン
ゼン （No. ７７） ２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）フルオロベンゼ
ン （No. ７８） ２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）フルオロベン
ゼン （No. ７９） ２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）フルオロベン
ゼン （No. ８０） ２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）フルオロベンゼ
ン （No. ８１） ２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）フルオロベン
ゼン （No. ８２） ２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）フルオロベンゼ
ン （No. ８３） ２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）フルオロベン
ゼン （No. ８４） ２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）フルオロベンゼ
ン （No. ８５） ２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）フルオロベン
ゼン （No. ８６） ２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）フルオロベンゼ
ン （No. ８７） ２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）フルオロベン
ゼン （No. ８８） ２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）フルオロベンゼ
ン （No. ８９） ２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）フルオロベン
ゼン （No. ９０）
ル）ー５ー（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）フル
オロベンゼン （No. ７
６） ２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）フルオロベン
ゼン （No. ７７） ２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）フルオロベンゼ
ン （No. ７８） ２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）フルオロベン
ゼン （No. ７９） ２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）フルオロベン
ゼン （No. ８０） ２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）フルオロベンゼ
ン （No. ８１） ２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）フルオロベン
ゼン （No. ８２） ２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）フルオロベンゼ
ン （No. ８３） ２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）フルオロベン
ゼン （No. ８４） ２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）フルオロベンゼ
ン （No. ８５） ２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）フルオロベン
ゼン （No. ８６） ２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ーエチルフェニル）エチル）フルオロベンゼ
ン （No. ８７） ２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ープロピルフェニル）エチル）フルオロベン
ゼン （No. ８８） ２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ーブチルフェニル）エチル）フルオロベンゼ
ン （No. ８９） ２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（４ーペンチルフェニル）エチル）フルオロベン
ゼン （No. ９０）
【００４７】実施例７ 実施例３の出発原料の４ー（２ー（トランスー４ープロ
ピルシクロヘキシル）エチル）ー３ーフルオロブロモベ
ンゼンを換えて、４ー（トランスー４ープロピルシクロ
ヘキシル）ー３ーフルオロブロモベンゼンそして、４ー
エチルフェニル酢酸クロリドを換えて、トランスー４ー
エチルシクロヘキシル酢酸クロリドを使用し、実施例３
の反応操作に準じて次の化合物を製造する。（（Ｉー
ｇ）式においてＲ1 がプロピル基、Ｒ2 がエチル基のも
の） ２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ９１） 以下、出発原料のアルキル鎖長を種々変換した原料を使
用して実施例４の反応操作に準じて下記化合物を製造す
る。
ピルシクロヘキシル）エチル）ー３ーフルオロブロモベ
ンゼンを換えて、４ー（トランスー４ープロピルシクロ
ヘキシル）ー３ーフルオロブロモベンゼンそして、４ー
エチルフェニル酢酸クロリドを換えて、トランスー４ー
エチルシクロヘキシル酢酸クロリドを使用し、実施例３
の反応操作に準じて次の化合物を製造する。（（Ｉー
ｇ）式においてＲ1 がプロピル基、Ｒ2 がエチル基のも
の） ２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ９１） 以下、出発原料のアルキル鎖長を種々変換した原料を使
用して実施例４の反応操作に準じて下記化合物を製造す
る。
【００４８】２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシ
ル）ー５ー（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシ
ル）エチル）フルオロベンゼン （No. ９
２） ２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ９３） ２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ９４） ２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ９５） ２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ９６） ２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ９７） ２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ９８） ２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ９９） ２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. １００） ２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. １０１） ２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. １０２） ２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. １０３） ２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. １０４） ２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. １０５） ２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. １０６）
ル）ー５ー（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシ
ル）エチル）フルオロベンゼン （No. ９
２） ２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ９３） ２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ９４） ２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ９５） ２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ９６） ２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ９７） ２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ９８） ２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. ９９） ２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. １００） ２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. １０１） ２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. １０２） ２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーエチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. １０３） ２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ープロピルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. １０４） ２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーブチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. １０５） ２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）ー５ー
（２ー（トランスー４ーペンチルシクロヘキシル）エチ
ル）フルオロベンゼン （No. １０６）
【００４９】比較例１
【化１２】
【００５０】上記組成からなる組成物ＡのＮーＩ点は９
２．０℃、Ｋ３３／Ｋ１１は１．８７、であった。 この組成物Ａに本願実施例１の化合物
２．０℃、Ｋ３３／Ｋ１１は１．８７、であった。 この組成物Ａに本願実施例１の化合物
【００５１】
【化１３】
【００５２】を１６ｗｔ％を添加した組成物を調製した
ところＮーＩ点は８２．１℃に低下したがＫ３３／Ｋ１
１は１．８６とほとんど変化なかった。
ところＮーＩ点は８２．１℃に低下したがＫ３３／Ｋ１
１は１．８６とほとんど変化なかった。
【００５３】比較例２
【化１４】
【００５４】上記組成からなる組成物Ｂを調製し、この
ものを前述の組成物Ａに１６ｗｔ％添加し、比較例１で
調製した組成物とほぼ同じＮーＩ点を示すように組成物
を調製した。この組成物のＮーＩ点は８１．０℃、Ｋ３
３／Ｋ１１は１．７１であった。
ものを前述の組成物Ａに１６ｗｔ％添加し、比較例１で
調製した組成物とほぼ同じＮーＩ点を示すように組成物
を調製した。この組成物のＮーＩ点は８１．０℃、Ｋ３
３／Ｋ１１は１．７１であった。
【００５５】
【発明の効果】本発明の化合物は、大きなＫ３３／Ｋ１
１の弾性定数比を有し３環系液晶材料としては比較的低
いＮーＩ点をもつため、比較例１、２をみれば明らかな
ように、本発明の化合物を他の複数のネマチック液晶ま
たは類似化合物と混合することにより、大きな弾性定数
比Ｋ３３／Ｋ１１を保持したままネマチック液晶組成物
のＮーＩ点を任意に調整することができる。
１の弾性定数比を有し３環系液晶材料としては比較的低
いＮーＩ点をもつため、比較例１、２をみれば明らかな
ように、本発明の化合物を他の複数のネマチック液晶ま
たは類似化合物と混合することにより、大きな弾性定数
比Ｋ３３／Ｋ１１を保持したままネマチック液晶組成物
のＮーＩ点を任意に調整することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−4725（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−4754（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−161956（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07C 25/18 C09K 19/30 ＣＡ（ＳＴＮ) ＣＡＯＬＤ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (7)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 （ここで、Ｒ1 、Ｒ2 は炭素数１〜１０のアルキル基、
ｎは０または１、Ａはトランスー１，４ーシクロヘキシ
レンまたは１，４ーフェニレンを示す）で表されるフル
オロベンゼン誘導体。 - 【請求項２】 請求項１記載の一般式（Ｉ）においてｎ
が０、Ａが１，４ーフェニレンで表される化合物。 - 【請求項３】 請求項１記載の一般式（Ｉ）においてｎ
が０、Ａがトランスー１，４ーシクロヘキシレンで表さ
れる化合物。 - 【請求項４】 請求項１記載の一般式（Ｉ）においてｎ
が１、Ａが１，４ーフェニレンで表される化合物。 - 【請求項５】 請求項１記載の一般式（Ｉ）においてｎ
が１、Ａがトランスー１，４ーシクロヘキシレンで表さ
れる化合物。 - 【請求項６】 請求項１記載の一般式（Ｉ）においてＲ
1 、Ｒ2 が炭素数１〜５のアルキル基で表される化合
物。 - 【請求項７】 請求項１記載の化合物を少なくとも１種
含有する液晶組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3220085A JP2991543B2 (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | フルオロベンゼン誘導体およびこれを含む液晶組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3220085A JP2991543B2 (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | フルオロベンゼン誘導体およびこれを含む液晶組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0558927A JPH0558927A (ja) | 1993-03-09 |
| JP2991543B2 true JP2991543B2 (ja) | 1999-12-20 |
Family
ID=16745698
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3220085A Expired - Lifetime JP2991543B2 (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | フルオロベンゼン誘導体およびこれを含む液晶組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2991543B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3579728B2 (ja) | 1994-06-23 | 2004-10-20 | チッソ株式会社 | 液晶組成物および液晶表示素子 |
-
1991
- 1991-08-30 JP JP3220085A patent/JP2991543B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0558927A (ja) | 1993-03-09 |
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