JP2990086B2 - イオン注入装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はイオン注入装置に係
わり、特に機機械的走査をするディスク上に保持された
半導体ウェハー（以下、ウェハー、と称す）にイオンビ
ームを照射するためのイオン注入装置において、イオン
ビームを中性化するためのエレクトロンシャワー装置
（中性化装置もしくは帯電抑制装置とも呼ばれているが
本明細書ではエレクトロンシャワー装置と称す）に関す
る。
わり、特に機機械的走査をするディスク上に保持された
半導体ウェハー（以下、ウェハー、と称す）にイオンビ
ームを照射するためのイオン注入装置において、イオン
ビームを中性化するためのエレクトロンシャワー装置
（中性化装置もしくは帯電抑制装置とも呼ばれているが
本明細書ではエレクトロンシャワー装置と称す）に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来技術のイオン注入装置のエレクトロ
ンシャワー装置を図６に例示する。図６（Ａ）は側面
図、図６（Ｂ）は正面断面図である。
ンシャワー装置を図６に例示する。図６（Ａ）は側面
図、図６（Ｂ）は正面断面図である。
【０００３】回転するディスク８に多数のウェハー７を
裁置し、そこにイオンビーム１を照射してウェハー７の
処理を行う。このイオンビームによる帯電を抑制するエ
レクトロンシャワー装置はウェハーの直前に設置されて
おり、電子導入部２３を開口した円形もしくは楕円形の
筒形部材２１とその内面に載置されたターゲット２２と
を有して構成されている。また、筒形部材２１の外側に
フィラメント１２とフィラメント電源１３からなる電子
発生手段を設け、フィラメント電源１３により加熱され
たフィラメント１２から発せられた熱電子９が電子導入
部２３から筒状部材２１内に入り、イオンビーム１に対
して直角方向に走行する。
裁置し、そこにイオンビーム１を照射してウェハー７の
処理を行う。このイオンビームによる帯電を抑制するエ
レクトロンシャワー装置はウェハーの直前に設置されて
おり、電子導入部２３を開口した円形もしくは楕円形の
筒形部材２１とその内面に載置されたターゲット２２と
を有して構成されている。また、筒形部材２１の外側に
フィラメント１２とフィラメント電源１３からなる電子
発生手段を設け、フィラメント電源１３により加熱され
たフィラメント１２から発せられた熱電子９が電子導入
部２３から筒状部材２１内に入り、イオンビーム１に対
して直角方向に走行する。
【０００４】熱電子９はフィラメント１２に対して高電
位にある対向側のターゲット２２に向かって、移動、衝
突し、２次電子１０を発生する。この２次電子１０が放
出された雰囲気中を正に帯電したイオンビーム１が通る
ことにより、２次電子１０と結合し、結果的のイオンビ
ーム１は中和される。
位にある対向側のターゲット２２に向かって、移動、衝
突し、２次電子１０を発生する。この２次電子１０が放
出された雰囲気中を正に帯電したイオンビーム１が通る
ことにより、２次電子１０と結合し、結果的のイオンビ
ーム１は中和される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】第１の問題点は、従来
のイオン注入装置のエレクトロンシャワー装置では、イ
オンビームの中和効率が悪くなることである。
のイオン注入装置のエレクトロンシャワー装置では、イ
オンビームの中和効率が悪くなることである。
【０００６】その理由は、エレクトロンシャワー装置の
径と位置すなわちエレクトロンシャワー装置の筒形部材
の径と位置が固定しているためである。例えば、イオン
ビームの径が小さく且つエレクトロンシャワー装置の中
心より離れた所を通過するような場合、イオンビームが
通過しない所に２次電子が放出されるからである。
径と位置すなわちエレクトロンシャワー装置の筒形部材
の径と位置が固定しているためである。例えば、イオン
ビームの径が小さく且つエレクトロンシャワー装置の中
心より離れた所を通過するような場合、イオンビームが
通過しない所に２次電子が放出されるからである。
【０００７】第２の問題点は、従来のイオン注入装置の
エレクトロンシャワー装置では、エレクトロンシャワー
装置自体が発塵源となり得るからである。
エレクトロンシャワー装置では、エレクトロンシャワー
装置自体が発塵源となり得るからである。
【０００８】その理由は、第１の問題点に掲示した理由
と同様である。例えば、イオンビームの径が大きく且つ
エレクトロンシャワー装置の中心すなわちエレクトロン
シャワー装置の筒形部材の中心より離れた所を通過する
ような場合、イオンビームがエレクトロンシャワー装置
の筒状部材に衝突するからである。
と同様である。例えば、イオンビームの径が大きく且つ
エレクトロンシャワー装置の中心すなわちエレクトロン
シャワー装置の筒形部材の中心より離れた所を通過する
ような場合、イオンビームがエレクトロンシャワー装置
の筒状部材に衝突するからである。
【０００９】したがって本発明の目的は、上記問題点を
解決し、イオンビームの径と通過位置に影響することな
く、イオンビームの中和効率を向上し、かつイオンビー
ムの衝突による発塵を防止したイオン注入装置を提供す
ることである。
解決し、イオンビームの径と通過位置に影響することな
く、イオンビームの中和効率を向上し、かつイオンビー
ムの衝突による発塵を防止したイオン注入装置を提供す
ることである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、エレク
トロンシャワー装置を有するイオン注入装置において、
イオンビームの径と位置を計測できるモニター手段を有
し、このイオンビームの径と位置に応じてエレクトロン
シャワー装置の内面積と位置を可変できるようにしたイ
オン注入装置にある。ここで前記エレクトロンシャワー
装置はその内部をイオンビームが通過する筒状部材を有
し、前記モニターで計測したイオンビームの径と位置に
合わせて、前記筒状部材のイオンビームに対して直角方
向の内面積を可変できる調整機構および前記筒状部材の
位置を可変できる調整機構を備えることが好ましい。こ
の場合、前記筒状部材は互いにスクリューにより結合し
た第１および第２の半円断面形状部材から構成され、前
記スクリューを回転することにより前記内面積を可変す
ることができる。また、前記筒状部材に結合する駆動ブ
ロック、真空チャンバ外に載置された移動機構、前記駆
動ブロックと前記移動機構とを結合する回転シャフトを
有し、前記回転シャフトの回転により前記位置を可変す
ることができる。
トロンシャワー装置を有するイオン注入装置において、
イオンビームの径と位置を計測できるモニター手段を有
し、このイオンビームの径と位置に応じてエレクトロン
シャワー装置の内面積と位置を可変できるようにしたイ
オン注入装置にある。ここで前記エレクトロンシャワー
装置はその内部をイオンビームが通過する筒状部材を有
し、前記モニターで計測したイオンビームの径と位置に
合わせて、前記筒状部材のイオンビームに対して直角方
向の内面積を可変できる調整機構および前記筒状部材の
位置を可変できる調整機構を備えることが好ましい。こ
の場合、前記筒状部材は互いにスクリューにより結合し
た第１および第２の半円断面形状部材から構成され、前
記スクリューを回転することにより前記内面積を可変す
ることができる。また、前記筒状部材に結合する駆動ブ
ロック、真空チャンバ外に載置された移動機構、前記駆
動ブロックと前記移動機構とを結合する回転シャフトを
有し、前記回転シャフトの回転により前記位置を可変す
ることができる。
【００１１】このように本発明のイオン注入装置は、イ
オンビームの径と位置を計測するモニタ手段を有してい
るから、この手段の測定結果により、エレクトロンシャ
ワー装置の内面積と位置を任意に可変でき、イオンビー
ムをエレクトロンシャワー装置のの中心部を通過させる
ことができる。
オンビームの径と位置を計測するモニタ手段を有してい
るから、この手段の測定結果により、エレクトロンシャ
ワー装置の内面積と位置を任意に可変でき、イオンビー
ムをエレクトロンシャワー装置のの中心部を通過させる
ことができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】次に本発明について図を参照して
詳細に説明する。
詳細に説明する。
【００１３】図１は本発明の第１の実施の形態のイオン
ビーム装置を示す概略図である。真空チャンバー６内で
回転しながら機機械的走査をするディスク８上に多数の
ウェハー（一枚のみ図示）７が保持され、このウェハー
７にイオンビーム１を照射して半導体装置のウェハー段
階の処理を行う。この際にイオンビーム１を中性化する
ためのエレクトロンシャワー装置２がウェハー８の直前
に設けられている。
ビーム装置を示す概略図である。真空チャンバー６内で
回転しながら機機械的走査をするディスク８上に多数の
ウェハー（一枚のみ図示）７が保持され、このウェハー
７にイオンビーム１を照射して半導体装置のウェハー段
階の処理を行う。この際にイオンビーム１を中性化する
ためのエレクトロンシャワー装置２がウェハー８の直前
に設けられている。
【００１４】エレクトロンシャワー装置２は、円形もし
くは楕円形の筒状部材２１とその内面に設けられたター
ゲット２２とを有し、筒状部材２２に電子導入部となる
開口部２３を設け、筒形部材２１の外側に位置してフィ
ラメント電源１３により加熱されたフィラメント１２か
ら発せられた熱電子９が、電子導入部２３から筒状部材
２１内に入り、イオンビーム１に対して直角方向に走行
して、フィラメント１２に対して高電位にある対向側の
ターゲット２２に向かって、移動、衝突し、２次電子１
０を発生する。この２次電子１０が放出された雰囲気中
を正に帯電したイオンビーム１が通ることにより、２次
電子１０と結合し、結果的のイオンビーム１は中和され
る。
くは楕円形の筒状部材２１とその内面に設けられたター
ゲット２２とを有し、筒状部材２２に電子導入部となる
開口部２３を設け、筒形部材２１の外側に位置してフィ
ラメント電源１３により加熱されたフィラメント１２か
ら発せられた熱電子９が、電子導入部２３から筒状部材
２１内に入り、イオンビーム１に対して直角方向に走行
して、フィラメント１２に対して高電位にある対向側の
ターゲット２２に向かって、移動、衝突し、２次電子１
０を発生する。この２次電子１０が放出された雰囲気中
を正に帯電したイオンビーム１が通ることにより、２次
電子１０と結合し、結果的のイオンビーム１は中和され
る。
【００１５】そして、イオンビーム１の径と位置を計測
するイオンビーム計測モニター機構３がエレクトロンシ
ャワー１０の前段に設けられている。このイオンビーム
計測モニター機構３は、イオンビーム１の径と位置を計
測するイオンビーム径、位置計測モニター３１と、イオ
ンビーム１を垂直に横切るようにモニター３１を上下さ
せる計測モニター駆動部３２とを有して構成されてい
る。
するイオンビーム計測モニター機構３がエレクトロンシ
ャワー１０の前段に設けられている。このイオンビーム
計測モニター機構３は、イオンビーム１の径と位置を計
測するイオンビーム径、位置計測モニター３１と、イオ
ンビーム１を垂直に横切るようにモニター３１を上下さ
せる計測モニター駆動部３２とを有して構成されてい
る。
【００１６】制御コントローラ１１からの計測モニター
駆動部駆動信号３４により計測モニター駆動部３２を駆
動してモニター３１を上昇させてイオンビーム１の中に
挿入して（図で２点鎖線の位置）、イオンビームの径と
位置をモニター計測し、そのイオンビーム径、計測デー
タ３３を制御コントローラ１１に送り、制御コントロー
ラ１１からの計測モニター駆動部駆動信号３４により計
測モニター駆動部３２を駆動してモニター３１を下降さ
せてイオンビーム１から待避（図で実線の位置）させ
る。
駆動部駆動信号３４により計測モニター駆動部３２を駆
動してモニター３１を上昇させてイオンビーム１の中に
挿入して（図で２点鎖線の位置）、イオンビームの径と
位置をモニター計測し、そのイオンビーム径、計測デー
タ３３を制御コントローラ１１に送り、制御コントロー
ラ１１からの計測モニター駆動部駆動信号３４により計
測モニター駆動部３２を駆動してモニター３１を下降さ
せてイオンビーム１から待避（図で実線の位置）させ
る。
【００１７】また、エレクトロンシャワー装置の円形部
材の径を変化させる等によりその内面積を可変させる内
面積可変調整機構４が内面積可変調整駆動部４３を有し
て構成され、さらにイオンビームに対してエレクトロン
シャワー装置を左右に移動させて水平方向の位置を可変
させる移動調整機構５が移動調整駆動部５３を有して構
成されている。
材の径を変化させる等によりその内面積を可変させる内
面積可変調整機構４が内面積可変調整駆動部４３を有し
て構成され、さらにイオンビームに対してエレクトロン
シャワー装置を左右に移動させて水平方向の位置を可変
させる移動調整機構５が移動調整駆動部５３を有して構
成されている。
【００１８】そして、イオンビーム１の径、計測データ
３３に基づいた制御コントローラ１１からの内面積調整
データ４１によりエレクトロンシャワー装置の筒形部材
２１の内面積を適切な大きさにし、同様に計測データ３
３に基づいた制御コントローラ１１からの位置調整デー
タ５１によりエレクトロンシャワー装置の筒形部材２１
をイオンビーム１に対して適切の位置（図面の紙面に垂
直方向の位置）に設定する。
３３に基づいた制御コントローラ１１からの内面積調整
データ４１によりエレクトロンシャワー装置の筒形部材
２１の内面積を適切な大きさにし、同様に計測データ３
３に基づいた制御コントローラ１１からの位置調整デー
タ５１によりエレクトロンシャワー装置の筒形部材２１
をイオンビーム１に対して適切の位置（図面の紙面に垂
直方向の位置）に設定する。
【００１９】次に、本発明の実施の形態のイオンビーム
径及び位置計測モニターについて図２を参照して説明す
る。
径及び位置計測モニターについて図２を参照して説明す
る。
【００２０】図２を参照すると、イオンビーム計測モニ
タ機構３のイオンビーム径、位置計測モニター３１は、
マトリックス状にビーム通過孔３７が開いてある円板状
のプレート３６とイオンビーム１を検出するビームコレ
クタ部３５を有して構成されている。
タ機構３のイオンビーム径、位置計測モニター３１は、
マトリックス状にビーム通過孔３７が開いてある円板状
のプレート３６とイオンビーム１を検出するビームコレ
クタ部３５を有して構成されている。
【００２１】またプレート３６とビームコレクタ部３５
をイオンビーム１に対し垂直に横切るように、真空チャ
ンバー６を気密的に貫通して上下するシャフト３８を介
して、移動させるための計測モニター駆動部３２と位置
を認識するためのポテンショメーターやロータリーエン
コーダ等（図示省略）が取り付けてあり、ビームコレク
タ部３５での測定データとポテンショメータにより、イ
オンビーム１と径と位置の情報を得ることができる。
をイオンビーム１に対し垂直に横切るように、真空チャ
ンバー６を気密的に貫通して上下するシャフト３８を介
して、移動させるための計測モニター駆動部３２と位置
を認識するためのポテンショメーターやロータリーエン
コーダ等（図示省略）が取り付けてあり、ビームコレク
タ部３５での測定データとポテンショメータにより、イ
オンビーム１と径と位置の情報を得ることができる。
【００２２】次に、本発明の実施の形態のエレクトロン
シャワー装置について、図３を参照して説明する。
シャワー装置について、図３を参照して説明する。
【００２３】図３を参照すると、エレクトロンシャワー
装置の筒形部材２１は円筒形状になっており、２つの半
円断面形状部材２１Ａ，２１Ｂに分離されている。
装置の筒形部材２１は円筒形状になっており、２つの半
円断面形状部材２１Ａ，２１Ｂに分離されている。
【００２４】そして、内面積可変調整機構４のスクリュ
ーロッド４２が、半円断面形状部材２１Ａと半円断面形
状部材２１Ｂとで互いに逆ねじの関係で結合している。
そして、内面積可変調整機構４の内面積可変調整駆動部
４３の作用により、真空チャンバー６（図１）を気密的
に貫通し、途中に絶縁部分を有するスクリューロッド４
２を回転させることにより、例えば約５〜２０ｍｍの範
囲内で部材２Ａ、２Ｂ間を変化させ、筒形部材２１の内
径を可変、すなわち筒形部材２１の内面積を可変させ
る。
ーロッド４２が、半円断面形状部材２１Ａと半円断面形
状部材２１Ｂとで互いに逆ねじの関係で結合している。
そして、内面積可変調整機構４の内面積可変調整駆動部
４３の作用により、真空チャンバー６（図１）を気密的
に貫通し、途中に絶縁部分を有するスクリューロッド４
２を回転させることにより、例えば約５〜２０ｍｍの範
囲内で部材２Ａ、２Ｂ間を変化させ、筒形部材２１の内
径を可変、すなわち筒形部材２１の内面積を可変させ
る。
【００２５】また、図４を参照すると、イオンビーム１
に対して左右に（図面の紙面に対して前後に）エレクト
ロンシャワー装置の２の筒形部材２１を移動させるエレ
クトロンシャワー装置の移動調整機構５は、絶縁ガイシ
５５により筒形部材２１と結合した駆動ブロック部５２
と移動調整駆動部５３とが真空チャンバー６を気密的に
貫通する回転シャフト５４により連結されており、移動
調整駆動部５３による回転シャフト５４の回転から駆動
ブロック部５２内の歯車機構により、絶縁ガイシ５５を
介して筒形部材２１をイオンビーム１に対して左右に所
定の値だけ移動させる。尚、図３の内面積可変調整機構
４と図４の移動調整機構５は３軸方向スライド機構（図
示省略）により互いに独立に動作することが出来るよう
になっている。
に対して左右に（図面の紙面に対して前後に）エレクト
ロンシャワー装置の２の筒形部材２１を移動させるエレ
クトロンシャワー装置の移動調整機構５は、絶縁ガイシ
５５により筒形部材２１と結合した駆動ブロック部５２
と移動調整駆動部５３とが真空チャンバー６を気密的に
貫通する回転シャフト５４により連結されており、移動
調整駆動部５３による回転シャフト５４の回転から駆動
ブロック部５２内の歯車機構により、絶縁ガイシ５５を
介して筒形部材２１をイオンビーム１に対して左右に所
定の値だけ移動させる。尚、図３の内面積可変調整機構
４と図４の移動調整機構５は３軸方向スライド機構（図
示省略）により互いに独立に動作することが出来るよう
になっている。
【００２６】次に本発明の第２の実施の形態について図
５を参照して詳細に説明する。尚、図５において図１乃
至図４と同一もしくは類似の箇所は同じ符号を付してい
るから重複する説明は省略する。
５を参照して詳細に説明する。尚、図５において図１乃
至図４と同一もしくは類似の箇所は同じ符号を付してい
るから重複する説明は省略する。
【００２７】この第２の実施の形態では第１の実施の形
態の機構に加えて、上下移動駆動部６２と真空チャンバ
ー６を気密的に貫通して上下動する絶縁体のシャフト６
３を有して構成される上下移動調整機構６０が設けられ
ており、制御コントローラ１１からの上下移動調整デー
タ６１により上下移動駆動部６２内のボールスクリュウ
等の移動機構によりシャフト６３を介して、エレクトロ
ンシャワー装置の筒形部材２１全体をイオンビーム１に
対し上下させて、所定の高さの位置に設定する。またこ
の図５でも上下移動調整機構６０と内面積可変調整機構
４と移動調整機構５とは３軸方向スライド機構（図示省
略）により互いに独立に動作することが出来るようにな
っている。
態の機構に加えて、上下移動駆動部６２と真空チャンバ
ー６を気密的に貫通して上下動する絶縁体のシャフト６
３を有して構成される上下移動調整機構６０が設けられ
ており、制御コントローラ１１からの上下移動調整デー
タ６１により上下移動駆動部６２内のボールスクリュウ
等の移動機構によりシャフト６３を介して、エレクトロ
ンシャワー装置の筒形部材２１全体をイオンビーム１に
対し上下させて、所定の高さの位置に設定する。またこ
の図５でも上下移動調整機構６０と内面積可変調整機構
４と移動調整機構５とは３軸方向スライド機構（図示省
略）により互いに独立に動作することが出来るようにな
っている。
【００２８】
【発明の効果】本発明の第１の効果は、イオンビームの
中和効率を向上できるということである。
中和効率を向上できるということである。
【００２９】その理由は、イオンビームの径と位置に応
じて、エレクトロンシャワーの内面積（径）と位置を可
変できるからである。
じて、エレクトロンシャワーの内面積（径）と位置を可
変できるからである。
【００３０】本発明の第２の効果は、エレクトロンシャ
ワー装置からの発塵を防止できるということである。
ワー装置からの発塵を防止できるということである。
【００３１】その理由は、イオンビームの径と位置に応
じて、エレクトロンシャワー装置の筒状部材の内面積
（径）と位置を可変できるからである。
じて、エレクトロンシャワー装置の筒状部材の内面積
（径）と位置を可変できるからである。
【図１】本発明の第１の実施の形態のイオン注入装置を
示す構成図である。
示す構成図である。
【図２】図１のイオンビーム計測モニター機構を示す構
成図である。
成図である。
【図３】図１の内面積可変調整機構を示す構成図であ
る。
る。
【図４】図１の移動調整機構を示す構成図である。
【図５】本発明の第２の実施の形態のイオン注入装置を
示す構成図である。
示す構成図である。
【図６】従来技術のイオン注入装置を示す構成図であ
る。
る。
１ イオンビーム ２ エレクトロンシャワー装置 ３ イオンビーム計測モニター機構 ４ エレクトロンシャワー装置の内面積可変調整機構 ５ エレクトロンシャワー装置の移動調整機構 ６ 真空チャンバー ７ ウェハー ８ ディスク ９ 熱電子 １０ ２次電子 １１ 制御コントローラ １２ フィラメント １３ フィラメント電源 ２１ エレクトロンシャワー装置の筒形部材 ２１Ａ，２１Ｂ 半円断面形状部材 ２２ エレクトロンシャワー装置のターゲット ２３ エレクトロンシャワー装置の開口部（電子導入
部） ３１ イオンビーム径、位置計測データ ３２ 計測モニター駆動部 ３３ イオンビーム径、位置計測データ ３４ 計測モニター駆動部駆動信号 ３５ ビームコレクタ ３６ プレート ３７ ビーム通過孔 ３８ シャフト ４１ 内面積調整データ ４２ スクリューロッド ４３ 内面積可変調整駆動部 ５１ 位置調整データ ５２ 駆動ブロック部 ５３ 移動調整駆動部 ５４ 回転シャフト ５５ 絶縁ガイシ ６０ 上下移動調整機構 ６１ 上下移動調整データ ６２ 上下移動駆動部 ６３ シャフト
部） ３１ イオンビーム径、位置計測データ ３２ 計測モニター駆動部 ３３ イオンビーム径、位置計測データ ３４ 計測モニター駆動部駆動信号 ３５ ビームコレクタ ３６ プレート ３７ ビーム通過孔 ３８ シャフト ４１ 内面積調整データ ４２ スクリューロッド ４３ 内面積可変調整駆動部 ５１ 位置調整データ ５２ 駆動ブロック部 ５３ 移動調整駆動部 ５４ 回転シャフト ５５ 絶縁ガイシ ６０ 上下移動調整機構 ６１ 上下移動調整データ ６２ 上下移動駆動部 ６３ シャフト
Claims (4)
- 【請求項１】 エレクトロンシャワー装置を有するイオ
ン注入装置において、イオンビームの径と位置を計測で
きるモニター手段を有し、このイオンビームの径と位置
に応じてエレクトロンシャワー装置の内面積と位置を可
変できるようにしたことを特徴とするイオン注入装置。 - 【請求項２】 前記エレクトロンシャワー装置はその内
部をイオンビームが通過する筒状部材を有し、前記モニ
ターで計測したイオンビームの径と位置に合わせて、前
記筒状部材のイオンビームに対して直角方向の内面積を
可変できる調整機構および前記筒状部材の位置を可変で
きる調整機構を備えたことを特徴とする請求項１記載の
イオン注入装置。 - 【請求項３】 前記筒状部材は互いにスクリューにより
結合した第１および第２の半円断面形状部材から構成さ
れ、前記スクリューを回転することにより前記内面積を
可変することを特徴とする請求項２記載のイオン注入装
置。 - 【請求項４】 前記筒状部材に結合する駆動ブロック、
真空チャンバ外に載置された移動機構、前記駆動ブロッ
クと前記移動機構とを結合する回転シャフトを有し、前
記回転シャフトの回転により前記位置を可変することを
特徴とする請求項２記載のイオン注入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9028056A JP2990086B2 (ja) | 1997-02-12 | 1997-02-12 | イオン注入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9028056A JP2990086B2 (ja) | 1997-02-12 | 1997-02-12 | イオン注入装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10223173A JPH10223173A (ja) | 1998-08-21 |
| JP2990086B2 true JP2990086B2 (ja) | 1999-12-13 |
Family
ID=12238110
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9028056A Expired - Fee Related JP2990086B2 (ja) | 1997-02-12 | 1997-02-12 | イオン注入装置 |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP2990086B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2382717B (en) * | 1998-07-21 | 2003-09-03 | Applied Materials Inc | Ion Implantation Beam Monitor |
-
1997
- 1997-02-12 JP JP9028056A patent/JP2990086B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10223173A (ja) | 1998-08-21 |
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