JP2989936B2 - Glass frit, resistor paste and wiring board - Google Patents

Glass frit, resistor paste and wiring board

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JP2989936B2 JP3155877A JP15587791A JP2989936B2 JP 2989936 B2 JP2989936 B2 JP 2989936B2 JP 3155877 A JP3155877 A JP 3155877A JP 15587791 A JP15587791 A JP 15587791A JP 2989936 B2 JP2989936 B2 JP 2989936B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、厚膜抵抗体製造用のペ
ーストに用いられるガラスフリット、抵抗体ペーストお
よび配線基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a glass frit, a resistor paste and a wiring board used for a paste for producing a thick film resistor.

【0002】[0002]

【従来の技術】電気・電子機器の配線基板などに用いる
基板材料として、低温で焼成可能なものが開発されてお
り、これにより基板材料、導体、抵抗体等を例えば10
00℃以下の低温で同時一体焼成することが可能となっ
ている。
2. Description of the Related Art As a substrate material used for a wiring substrate of electric / electronic equipment, a material which can be fired at a low temperature has been developed.
Simultaneous and integral firing can be performed at a low temperature of 00 ° C. or less.

【0003】抵抗体ペーストは、通常、導電粒子、ガラ
スフリットおよびビヒクル等から構成され、基板上に印
刷後、焼成することにより厚膜抵抗体となるものであ
る。
[0003] A resistor paste is usually composed of conductive particles, glass frit, a vehicle, and the like, and is formed into a thick-film resistor by firing after printing on a substrate.

【0004】抵抗体ペーストに用いられる導電粒子とし
ては、二酸化ルテニウムあるいはルテニウム酸鉛等のパ
イロクロール化合物が多用されている。
As the conductive particles used for the resistor paste, pyrochlore compounds such as ruthenium dioxide or lead ruthenate are frequently used.

【0005】抵抗体ペーストに用いられるガラスフリッ
トとしては、軟化点450〜800℃、40〜290℃
での平均熱膨張係数5〜8×10-6deg-1 程度のホウケ
イ酸鉛系非結晶ガラスが一般的である。
The glass frit used for the resistor paste has a softening point of 450 to 800 ° C. and a softening point of 40 to 290 ° C.
In general, a lead borosilicate amorphous glass having an average coefficient of thermal expansion of about 5 to 8 × 10 −6 deg −1 is used.

【0006】また、厚膜抵抗体に要求される特性として
は、抵抗値の温度係数(TCR)が0に近いこと、ノイ
ズが低いこと等であり、例えば基板の熱膨張係数と、厚
膜抵抗の熱膨張係数とを近付けることによりTCR特性
を改善できることが知られている。
The characteristics required for the thick film resistor include a temperature coefficient (TCR) of the resistance value close to 0 and low noise. For example, the thermal expansion coefficient of the substrate and the thick film resistance It is known that the TCR characteristic can be improved by making the thermal expansion coefficient close to the thermal expansion coefficient.

【0007】しかし、ホウケイ酸鉛系非結晶質ガラスを
初めとし、従来のガラスフリットは前記のとおり熱膨張
係数が高いため、基板の熱膨張係数と、厚膜抵抗体の熱
膨張係数とを近付けることが困難である。
However, since the conventional glass frit such as lead borosilicate amorphous glass has a high coefficient of thermal expansion as described above, the coefficient of thermal expansion of the substrate and the coefficient of thermal expansion of the thick film resistor are brought close to each other. It is difficult.

【0008】このため、抵抗体ペースト中にTCR調整
剤を添加してTCRを減少させている。
For this reason, a TCR regulator is added to the resistor paste to reduce the TCR.

【0009】しかし、TCR調整剤は添加量が極めて微
量となるために均一な混合が困難であり、製造が難しく
製品に特性のバラツキが生じ易い。しかも、TCR調整
剤の添加により抵抗値のトリミング性やTCR以外の電
気特性に悪影響を与える危険性がある。
However, since the amount of the TCR regulator added is extremely small, it is difficult to mix uniformly, and it is difficult to produce the TCR regulator, and characteristics of the product tend to vary. In addition, there is a risk that the addition of the TCR regulator may adversely affect the resistance trimming property and the electrical characteristics other than the TCR.

【0010】また、抵抗体の熱膨張係数が高いと、抵抗
体と基板との熱膨張係数の違いにより、特にガラスとア
ルミナ等の酸化物骨材とを含有する比較的熱膨張係数が
低い基板の場合には、焼成後抵抗体にクラックが生じ易
い。
If the coefficient of thermal expansion of the resistor is high, the substrate having a relatively low coefficient of thermal expansion, especially containing glass and an oxide aggregate such as alumina, is caused by the difference in the coefficient of thermal expansion between the resistor and the substrate. In the case of (1), cracks are easily generated in the resistor after firing.

【0011】さらには、ホウケイ酸鉛系ガラスは焼成し
た場合流動性に富むため、外部導体パターンに抵抗体パ
ターンを印刷、焼成すると、外部導体中のガラスと抵抗
体中のガラスとが反応して、導体のガラスが押し出され
るブリードアウト現象が生じてしまい、抵抗体の電気特
性に悪影響を及ぼしてしまうという問題がある。特に配
線パターンを微細にし、かつ膜厚を薄くした高密度配線
基板では、このブリードアウト現象によりショートが生
じ易い。
Furthermore, since lead borosilicate glass has high fluidity when fired, when a resistor pattern is printed and fired on the external conductor pattern, the glass in the external conductor reacts with the glass in the resistor. There is a problem that a bleed-out phenomenon occurs in which the glass of the conductor is extruded, which adversely affects the electrical characteristics of the resistor. In particular, in a high-density wiring substrate having a fine wiring pattern and a thin film thickness, a short circuit easily occurs due to the bleed-out phenomenon.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、厚膜
抵抗体製造用のペーストに用いた場合、抵抗体のTCR
特性を改善でき、抵抗体のクラックの発生を防止でき、
しかもブリードアウト現象を防止できるガラスフリット
と、抵抗体ペーストと、このような抵抗体ペーストを用
いた配線基板とを提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a method for producing a thick film resistor, which is used in a paste.
The characteristics can be improved and the occurrence of cracks in the resistor can be prevented.
Moreover, it is an object of the present invention to provide a glass frit capable of preventing a bleed-out phenomenon, a resistor paste, and a wiring board using such a resistor paste.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(8)の本発明により達成される。
This and other objects are achieved by the present invention which is defined below as (1) to (8).

【0014】(1) 抵抗体ペーストのバインダガラス
であって、ZnO2 を40〜70重量%、B2 3 を1
0〜30重量%、SiO2 を5〜15重量%およびMn
2 を5〜15重量%(但し5wt%を含まない)含有す
ることを特徴とするガラスフリット。 (2) 40〜290℃での平均熱膨張係数αが3〜5
×10-6deg-1である上記(1)に記載のガラスフリッ
ト。 (3) 上記(1)または(2)に記載のガラスフリッ
トと、導電粒子とを含有することを特徴とする抵抗体ペ
ースト。 (4) 前記導電粒子が二酸化ルテニウム、ルテニウム
酸鉛およびルテニウム酸ビスマスの1種以上を主成分と
する上記(3)に記載の抵抗体ペースト。 (5) 前記ガラスフリットおよび前記導電粒子全体に
対する前記ガラスフリットの含有量が、60〜90重量
%である上記(3)または(4)に記載の抵抗体ペース
ト。 (6) 上記(3)ないし(5)のいずれかに記載の抵
抗体ペーストを用いて厚膜抵抗体を形成したことを特徴
とする配線基板。 (7) 前記厚膜抵抗体がガラスと酸化物骨材とを含有
する基板上に形成されている上記(6)に記載の配線基
板。 (8) 前記厚膜抵抗体と接して外部導体が形成されて
いる上記(6)または(7)に記載の配線基板。
(1) A binder glass of a resistor paste, wherein ZnO 2 is 40 to 70% by weight and B 2 O 3 is 1
0-30 wt%, a SiO 2 5 to 15 wt% and Mn
O 2 and 5-15 wt% (but not including 5 wt%) glass frit, characterized in that it contains. (2) The average coefficient of thermal expansion α at 40 to 290 ° C. is 3 to 5
The glass frit according to the above (1), which has × 10 −6 deg −1 . (3) A resistor paste comprising the glass frit according to (1) or (2) and conductive particles. (4) The resistor paste according to (3), wherein the conductive particles contain at least one of ruthenium dioxide, lead ruthenate and bismuth ruthenate as a main component. (5) The resistor paste according to (3) or (4), wherein the content of the glass frit with respect to the entire glass frit and the conductive particles is 60 to 90% by weight. (6) A wiring board, wherein a thick-film resistor is formed using the resistor paste according to any of (3) to (5). (7) The wiring substrate according to (6), wherein the thick film resistor is formed on a substrate containing glass and an oxide aggregate. (8) The wiring board according to (6) or (7), wherein an external conductor is formed in contact with the thick film resistor.

【0015】[0015]

【作用】本発明のガラスフリットは、ZnO2 を40〜
70重量%、B23 を10〜30重量%、SiO2
5〜15重量%およびMnO2 を1〜15重量%含有す
る。この組成のガラスは焼成により結晶化するため、抵
抗体ペーストに用いた場合、結晶相の存在により、外部
導体中のガラス成分と抵抗体中のガラス成分とが反応す
るのを抑制することができ、抵抗体ないし導体中のガラ
スのブリードアウト現象の発生が防止される。
The glass frit of the present invention has a ZnO 2 content of 40 to
70 wt%, B 2 O 3 10 to 30% by weight, containing SiO 2 5 to 15 wt% and MnO 2 1 to 15 wt%. Since glass of this composition is crystallized by firing, when used in a resistor paste, the presence of a crystal phase can suppress the reaction between the glass component in the external conductor and the glass component in the resistor. The bleed-out phenomenon of the glass in the resistor or conductor is prevented.

【0016】この結果、電気特性の劣化を防止するこが
でき、外部導体層のパターンを例えば200μm 以下の
細線パターンとしてその膜厚も薄くした高密度配線基板
においてもショートの発生が有効に防止される。
As a result, deterioration of the electrical characteristics can be prevented, and short circuiting can be effectively prevented even in a high-density wiring board in which the pattern of the external conductor layer is a thin line pattern of, for example, 200 μm or less and the film thickness is reduced. You.

【0017】また、前記組成のガラスの40〜290℃
における平均熱膨張係数α(以下αという)は低く、例
えば3〜5×10-6deg-1程度であるため、抵抗体のα
を低く、例えば4〜6×10-6deg-1 程度にできる。こ
のため基板のαと抵抗体のαとが一致ないし接近し、抵
抗値の温度係数(TCR)が減少する。この場合、TC
Rが十分低いためTCR調整剤を添加する必要がないの
でトリミング性やTCR以外の電気特性に悪影響を与え
ることがなく、しかも製造が簡単でかつバラツキの少な
い製品を得ることができる。
Further, the glass of the above composition has a temperature of 40 to 290 ° C.
Has a low average thermal expansion coefficient α (hereinafter referred to as α) at about 3 to 5 × 10 −6 deg −1 , for example.
Can be reduced, for example, to about 4 to 6 × 10 −6 deg −1 . Therefore, α of the substrate matches or approaches α of the resistor, and the temperature coefficient of resistance (TCR) decreases. In this case, TC
Since R is sufficiently low, there is no need to add a TCR adjuster, so that there is no adverse effect on trimming properties and electrical characteristics other than TCR, and a product which is easy to produce and has little variation can be obtained.

【0018】また、特にガラスと酸化物骨材とを含有す
る比較的αが低い基板を用いる場合でも、基板のαに抵
抗体のαを一致ないし基板のαより抵抗体のαを小さく
でき、しかも抵抗体のガラス中に結晶相が析出するた
め、抵抗体の強度が向上する。このため抵抗体のクラッ
クの発生を有効に防止できる。
Further, even when a substrate having a relatively low α containing glass and oxide aggregate is used, it is possible to make α of the resistor equal to α of the substrate or to make α of the resistor smaller than α of the substrate. In addition, since a crystal phase is precipitated in the glass of the resistor, the strength of the resistor is improved. For this reason, the occurrence of cracks in the resistor can be effectively prevented.

【0019】[0019]

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。本発明のガラスフリットは、抵抗体ペース
トのガラスバインダであり、主成分としてZnO2 、B
23 、SiO2 およびMnO2 を含有する。
[Specific Configuration] Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be described in detail. The glass frit of the present invention is a glass binder of a resistor paste, and has ZnO 2 , B
Contains 2 O 3 , SiO 2 and MnO 2 .

【0020】ガラスフリット中のZnO2 の含有量は、
40〜70重量%、好ましくは50〜65重量%とす
る。前記範囲未満では焼成時の結晶化が進まず、本発明
の効果が低い。前記範囲を超えるとガラス化しにくくな
る。
The content of ZnO 2 in the glass frit is:
It is 40 to 70% by weight, preferably 50 to 65% by weight. If it is less than the above range, crystallization during firing does not proceed, and the effect of the present invention is low. If it exceeds the above range, vitrification becomes difficult.

【0021】B23 の含有量は、10〜30重量%、
好ましくは15〜25重量%とする。前記範囲未満では
ガラス化しにくくなる。前記範囲を超えると焼成後抵抗
体中に気泡が生じやすい。
The content of B 2 O 3 is 10 to 30% by weight,
Preferably, it is 15 to 25% by weight. If it is less than the above range, it becomes difficult to vitrify. If it exceeds the above range, bubbles are likely to be generated in the resistor after firing.

【0022】SiO2 の含有量は、5〜15重量%、好
ましくは10〜15重量%とする。前記範囲未満ではガ
ラス軟化点が低下し、ブリードアウト現象を生じやす
い。前記範囲を超えるとガラス軟化点が上昇し、緻密な
焼結体が得られにくい。
The content of SiO 2 is 5 to 15% by weight, preferably 10 to 15% by weight. If it is less than the above range, the glass softening point is lowered, and the bleed out phenomenon is likely to occur. If it exceeds the above range, the glass softening point increases, and it is difficult to obtain a dense sintered body.

【0023】MnO2 の含有量は、5〜15重量%、好
ましくは5〜10重量%とする。前記範囲未満では焼成
後の抵抗体と基板との接着強度が低下する。前記範囲を
超えるとガラス化が阻害される。
The content of MnO 2 is 5 to 15% by weight, preferably 5 to 10% by weight. If it is less than the above range, the adhesive strength between the resistor and the substrate after firing is reduced. If it exceeds the above range, vitrification is inhibited.

【0024】この場合、ガラスフリット中にはMgO、
CaO、SrO、BaO等の1種以上が5重量%程度以
下含有されていてもよい。
In this case, MgO,
One or more of CaO, SrO, BaO and the like may be contained in an amount of about 5% by weight or less.

【0025】前記組成のガラスフリットは、通常、焼成
前は非晶質であるが、焼成により結晶化する。
The glass frit having the above composition is usually amorphous before firing, but crystallizes by firing.

【0026】また、本発明のガラスフリットは、軟化点
が、400〜700℃、特に500〜600℃程度のガ
ラスが好ましい。前記範囲未満ではブリードアウト現象
が生じ易く、前記範囲を超えると厚膜抵抗体を形成した
場合、抵抗体のノイズ特性が悪化する。なお、軟化点
は、5mm×5mm×10mm程度の試料を用い、荷重10g
にて、示差熱膨張計を用いて測定すればよい。
Further, the glass frit of the present invention is preferably a glass having a softening point of 400 to 700 ° C., particularly about 500 to 600 ° C. When the thickness is less than the above range, the bleed-out phenomenon easily occurs. When the thickness exceeds the above range, the noise characteristics of the resistor deteriorate when a thick-film resistor is formed. The softening point was about 5 mm x 5 mm x 10 mm using a sample with a load of 10 g.
May be measured using a differential thermal dilatometer.

【0027】また、ガラスフリットの40〜290℃に
おける平均熱膨張係数αは、3〜5×10-6deg-1 、特
に3.5〜4.0×10-6deg-1 程度が好ましい。前記
範囲未満では抵抗体のαが基板のαに比べて小さくなり
すぎ、TCR特性が悪化する。前記範囲を超えると抵抗
体のαを十分に低減できない。このため抵抗体にクラッ
クが発生する危険性があり、またTCR特性が悪化す
る。なお、本発明では前記のαを有するガラスフリット
が実現する。
The average thermal expansion coefficient α of the glass frit at 40 to 290 ° C. is preferably 3 to 5 × 10 −6 deg −1 , particularly preferably about 3.5 to 4.0 × 10 −6 deg −1 . If the value is less than the above range, α of the resistor becomes too small compared to α of the substrate, and the TCR characteristic deteriorates. If it exceeds the above range, α of the resistor cannot be sufficiently reduced. For this reason, there is a risk that a crack may occur in the resistor, and the TCR characteristic deteriorates. In the present invention, a glass frit having the above α is realized.

【0028】本発明のガラスフリットの平均粒径には特
に制限がないが、5μm 程度以下が好ましい。前記範囲
を超えるとガラス成分の粒子径が大きくなるためスクリ
ーン印刷性が劣化する。
The average particle size of the glass frit of the present invention is not particularly limited, but is preferably about 5 μm or less. If it exceeds the above range, the particle diameter of the glass component becomes large, so that the screen printability deteriorates.

【0029】本発明の抵抗体ペーストは、前記のガラス
フリットと、導電粒子と、ビヒクルとを含有する。
The resistor paste of the present invention contains the above glass frit, conductive particles, and a vehicle.

【0030】導電粒子の組成は特に制限がなく、例え
ば、RuO2 、Pb2 Ru27 、Bi2 Ru27
CdBiRu2 7 、NdBiRu2 7 、BiInR
2 7 、Bi2 IrRuO7 、GdBiRu2 7
BaRuO3 、Ba2 RuO4、SrRuO3 、CaR
uO3 、Co2 RuO4、LaRuO3 、LiRuO3
SnO2 、LaB6 、Pd−Ag、CoCrO4 、Ni
CrO4、SiC、TaC、CaB6 、BaB6 、Sr
6 、LaB6 、YB6 、Ta2 N、TiSi2 、VS
2 、CrSi2 、TaSi2 、MoSi2 、WSi2
など、各種ルテニウム化合物や他の導電性化合物、ある
いは各種合金を用いることができるが、TCR特性、ノ
イズ特性が良好である等の点で二酸化ルテニウム、ルテ
ニウム酸鉛およびルテニウム酸ビスマスの1種以上を主
成分とするものが好ましい。
The composition of the conductive particles is not particularly limited. For example, RuO 2 , Pb 2 Ru 2 O 7 , Bi 2 Ru 2 O 7 ,
CdBiRu 2 O 7 , NdBiRu 2 O 7 , BiInR
u 2 O 7 , Bi 2 IrRuO 7 , GdBiRu 2 O 7 ,
BaRuO 3 , Ba 2 RuO 4 , SrRuO 3 , CaR
uO 3 , Co 2 RuO 4 , LaRuO 3 , LiRuO 3 ,
SnO 2 , LaB 6 , Pd-Ag, CoCrO 4 , Ni
CrO 4 , SiC, TaC, CaB 6 , BaB 6 , Sr
B 6 , LaB 6 , YB 6 , Ta 2 N, TiSi 2 , VS
i 2 , CrSi 2 , TaSi 2 , MoSi 2 , WSi 2
For example, various ruthenium compounds, other conductive compounds, or various alloys can be used, but at least one of ruthenium dioxide, lead ruthenate, and bismuth ruthenate in terms of good TCR characteristics and noise characteristics can be used. Those having a main component are preferred.

【0031】この場合、二酸化ルテニウム、ルテニウム
酸鉛およびルテニウム酸ビスマスとしては、通常、Ru
2 、Pb2 Ru27 およびBi2 Ru27 で表さ
れるものを用いるが、これから多少偏倚した組成であっ
てもよく、偏倚した組成のものとの混合物、あるいは偏
倚した組成のもの同志の混合物であってもよい。
In this case, as ruthenium dioxide, lead ruthenate and bismuth ruthenate, Ru is usually used.
O 2, Pb 2 Ru 2 O 7 and Bi 2 Ru 2 O 7 is used those represented by, but may be a composition which now has somewhat biased, mixtures of those biasing the composition, or biasing the composition It may be a mixture of one another.

【0032】なお、二酸化ルテニウム、ルテニウム酸鉛
およびルテニウム酸ビスマスの1種以上を主成分とする
導電粒子とは、これらの合計の含有率が90重量%以上
であることを意味し、これら以外に、例えば前記した各
種Ru化合物以外の導電成分や各種合金などの導電性物
質を含んでいてもよい。
The conductive particles containing at least one of ruthenium dioxide, lead ruthenate and bismuth ruthenate as a main component mean that their total content is 90% by weight or more. For example, conductive materials other than the various Ru compounds described above and conductive materials such as various alloys may be included.

【0033】導電粒子の平均粒径は0.05〜1.0μ
m 程度が好ましい。前記範囲未満では導電粒子の粒径が
小さいためにペースト中で粒子の分散が不十分となり、
抵抗体ペーストの流動性が悪化する。前記範囲を超える
とノイズ特性等に悪影響を与える。
The average particle size of the conductive particles is 0.05 to 1.0 μm
m is preferred. Below the range, the dispersion of the particles in the paste becomes insufficient due to the small particle size of the conductive particles,
The fluidity of the resistor paste deteriorates. Exceeding the above range adversely affects noise characteristics and the like.

【0034】抵抗体ペースト中のガラスフリットと導電
粒子との含有比率には特に制限がなく、必要とされる抵
抗値に応じて適宜決定すればよいが、ガラスフリットお
よび導電粒子全体に対するガラスフリットの含有量は、
60〜90重量%、特に70〜85重量%が好ましい。
重量比が前記範囲未満では導電粒子過多のため抵抗値の
制御が困難となり、TCR特性が非常に悪化する。重量
比が前記範囲を超える場合、ガラスが多すぎるため導電
粒子が導電ネットワークを形成できず、絶縁化する傾向
にある。
The content ratio of the glass frit and the conductive particles in the resistor paste is not particularly limited and may be appropriately determined according to the required resistance value. The content is
It is preferably from 60 to 90% by weight, particularly preferably from 70 to 85% by weight.
When the weight ratio is less than the above range, it is difficult to control the resistance value due to excessive conductive particles, and the TCR characteristic is extremely deteriorated. If the weight ratio exceeds the above range, the conductive particles cannot form a conductive network due to too much glass, and tend to be insulated.

【0035】ビヒクルとしては、エチルセルロース、ポ
リビニルブチラール、メタクリル樹脂、ブチルメタアク
リレート等のバインダ、テルピネオール、ブチルカルビ
トール、ブチルカルビトールアセテート、アセテート、
トルエン、アルコール、キシレン等の溶剤、その他各種
分散剤、活性剤、可塑剤等が挙げられ、これらのうち任
意のものが目的に応じて適宜選択される。なお、前述し
たように本発明ではTCR調整剤を添加しなくても十分
に0に近いTCRが得られるため、好ましくはTCR調
整剤を添加しないが、必要に応じて、CuO、MnO
2 、V25 、Nd25 、MgO、ZnO等の各種T
CR調整剤を添加してもよい。TCR調整剤の添加量
は、導電粒子とガラスフリットの合計量100重量部に
対し、0.1〜6重量部程度とすることが好ましい。ビ
ヒクルの添加量は、導電粒子とガラスフリットの合計量
100重量部に対し、5〜30重量部程度とすることが
好ましい。
Examples of the vehicle include binders such as ethyl cellulose, polyvinyl butyral, methacrylic resin, and butyl methacrylate, terpineol, butyl carbitol, butyl carbitol acetate, acetate, and the like.
Examples of the solvent include solvents such as toluene, alcohol, and xylene, various dispersants, activators, plasticizers, and the like. Any of these can be appropriately selected depending on the purpose. As described above, in the present invention, a TCR sufficiently close to 0 can be obtained without adding a TCR adjuster. Therefore, preferably, a TCR adjuster is not added, but if necessary, CuO, MnO
2 , V 2 O 5 , Nd 2 O 5 , MgO, ZnO, etc.
A CR modifier may be added. The addition amount of the TCR regulator is preferably about 0.1 to 6 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the conductive particles and the glass frit. The added amount of the vehicle is preferably about 5 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the conductive particles and the glass frit.

【0036】本発明の抵抗体ペーストは、導電粒子と、
ガラスフリットとを混合し、さらに上記ビヒクルを加
え、これらを通常の3本ロール等を用いて混練してペー
スト化することにより得られる。
The resistor paste of the present invention comprises conductive particles,
It is obtained by mixing a glass frit, further adding the above-mentioned vehicle, kneading them using a usual three-roll or the like, and forming a paste.

【0037】本発明の抵抗体ペーストは、基板上に所定
のパターンに印刷されて焼成するなどして使用される。
The resistor paste of the present invention is used after being printed in a predetermined pattern on a substrate and baked.

【0038】このように、本発明の抵抗体ペーストを用
いて厚膜抵抗体とした多層配線基板の一構成例が図1に
示されている。図1は、多層配線基板の部分断面図であ
る。
FIG. 1 shows an example of the configuration of a multilayer wiring board in which the resistor paste of the present invention is used as a thick film resistor. FIG. 1 is a partial cross-sectional view of the multilayer wiring board.

【0039】同図に示すように、多層配線基板1は、複
数の層を積層し、焼成により一体化した絶縁体の基板4
を有し、この基板4の内部には、所定パターンの内部導
体2が形成され、この内部導体2が基板4の表面に露出
した部分に外部導体3が形成されている。
As shown in the figure, a multilayer wiring board 1 is composed of an insulating substrate 4 having a plurality of layers stacked and integrated by firing.
The internal conductor 2 having a predetermined pattern is formed inside the substrate 4, and the external conductor 3 is formed at a portion where the internal conductor 2 is exposed on the surface of the substrate 4.

【0040】基板4の構成材料には特に制限がないが、
内部導体2等とともに同時焼成可能なものとして、アル
ミナ−ホウケイ酸ガラス、アルミナ−鉛ホウケイ酸ガラ
ス、アルミナ−ホウケイ酸バリウムガラス、アルミナ−
ホウケイ酸カルシウムガラス、アルミナ−ホウケイ酸ス
トロンチウムガラス、アルミナ−ホウケイ酸マグネシウ
ムガラス等の酸化物骨材とガラスとを含む低温焼結材料
が好ましい。
The material of the substrate 4 is not particularly limited.
Alumina-borosilicate glass, alumina-lead borosilicate glass, alumina-barium borosilicate glass, alumina-
A low-temperature sintering material containing an oxide aggregate such as calcium borosilicate glass, alumina-strontium borosilicate glass, and alumina-magnesium borosilicate glass and glass is preferable.

【0041】このような基板材料において、ガラスの含
有率は、一般に50〜80wt%程度とするのがよい。
In such a substrate material, the glass content is generally preferably about 50 to 80 wt%.

【0042】なお、アルミナ基板の40〜290℃にお
ける平均熱膨張係数αは7〜8×10-6deg-1 程度であ
り、酸化物骨材とガラスとを含む低温焼結材料を用いた
基板の40〜290℃における平均熱膨張係数αは5〜
6.5×10-6deg-1 程度である。
The average thermal expansion coefficient α of the alumina substrate at 40 to 290 ° C. is about 7 to 8 × 10 −6 deg −1 , and a substrate using a low-temperature sintering material containing an oxide aggregate and glass is used. Has an average coefficient of thermal expansion α at 40 to 290 ° C. of 5 to 5.
It is about 6.5 × 10 −6 deg −1 .

【0043】内部導体2は、通常多層配線され、基板4
の厚さ方向に形成されたスルーホール5を介して互いに
導通されている。
The internal conductor 2 is usually multilayered and
Are electrically connected to each other via a through hole 5 formed in the thickness direction of the first and second electrodes.

【0044】外部導体3は、基板4の表面に形成され、
抵抗体8への導通用として用いられ、あるいはチップイ
ンダクタ、チップコンデンサ等のチップ部品や半導体集
積回路素子、ダイオード等の素子等の表面実装部品7を
半田6により半田付けするためのパッドとして用いられ
る。なお、表面を覆うように絶縁被覆層が形成されてい
てもよい。
The outer conductor 3 is formed on the surface of the substrate 4,
It is used for conduction to the resistor 8 or used as a pad for soldering chip components such as chip inductors and chip capacitors and surface mounting components 7 such as semiconductor integrated circuit devices and devices such as diodes with solder 6. . Note that an insulating coating layer may be formed so as to cover the surface.

【0045】本発明の抵抗体ペーストは、上記抵抗体8
を形成するのに適用される。
The resistor paste of the present invention comprises the above resistor 8
Applied to form

【0046】抵抗体8の膜厚には特に制限はないが、通
常4〜25μm 、特に8〜15μm程度である。また、
抵抗体8の抵抗値には特に制限がなく、目的等に応じて
適宜選択されるが、通常10Ω/□〜1MΩ/□程度で
ある。そして、抵抗体8は、抵抗値の温度係数(TC
R)が低い。具体的には、基板構成材料としてアルミナ
等の酸化物骨材とガラスとを含む低温焼成材料を用い、
しかもTCR調整剤を添加しない場合でも、−50〜2
5℃において−50〜10ppm /℃、特に−30〜0pp
m /℃、25〜125℃において0〜50ppm /℃、特
に、0〜30ppm/℃の範囲にTCRが収まる。なお、
抵抗体8の40〜290℃における平均熱膨張係数αは
6×10-6deg-1 程度以下、特に4〜5.5×10-6de
g-1 程度である。
The thickness of the resistor 8 is not particularly limited, but is usually 4 to 25 μm, particularly about 8 to 15 μm. Also,
The resistance value of the resistor 8 is not particularly limited and is appropriately selected depending on the purpose and the like, but is usually about 10 Ω / □ to 1 MΩ / □. The resistor 8 has a temperature coefficient of resistance (TC
R) is low. Specifically, using a low-temperature firing material containing an oxide aggregate such as alumina and glass as a substrate constituent material,
Moreover, even when the TCR regulator is not added, -50 to 2
-5 to 10 ppm / ° C at 5 ° C, especially -30 to 0 pp
The TCR falls within the range of 0 to 50 ppm / ° C at m / ° C and 25 to 125 ° C, particularly 0 to 30 ppm / ° C. In addition,
The average thermal expansion coefficient α of the resistor 8 at 40 to 290 ° C. is about 6 × 10 −6 deg −1 or less, particularly 4 to 5.5 × 10 −6 de.
It is about g -1 .

【0047】内部導体2には、導電性が良いことを優先
させる点でAgを主体とする導電粒子、特にAgを用い
ることが好ましい。内部導体用ペーストは、導電粒子
と、導電粒子に対し、1〜5重量%程度のガラスフリッ
トと、ビヒクルとを含有する。
As the inner conductor 2, it is preferable to use conductive particles mainly composed of Ag, particularly Ag, from the viewpoint of giving priority to good conductivity. The internal conductor paste contains conductive particles, glass frit of about 1 to 5% by weight based on the conductive particles, and a vehicle.

【0048】また、内部導体2の膜厚は、通常5〜20
μm 程度とされる。そして、内部導体の導通抵抗は、そ
の組成にもよるが、一般的に2〜10mΩ/□程度が好
ましい。
The thickness of the inner conductor 2 is usually 5 to 20.
It is about μm. The conduction resistance of the internal conductor is generally preferably about 2 to 10 mΩ / □, though it depends on the composition.

【0049】外部導体3には、耐マイグレーション性、
半田喰われ性、半田濡れ性等の点でAgを主体とする導
電粒子、特にAgと、Pdおよび/またはPtとを含有
する導電粒子を用いることが好ましい。外部導体用ペー
ストは、導電粒子と導電粒子に対し1〜5重量%程度の
ガラスフリットと、ビヒクルとを含有する。また、ビヒ
クル含有量は、一般に外部導体ペースト中、3〜10重
量%程度である。
The outer conductor 3 has migration resistance,
It is preferable to use conductive particles mainly composed of Ag, particularly conductive particles containing Ag and Pd and / or Pt in terms of solder wettability and solder wettability. The external conductor paste contains conductive particles, glass frit of about 1 to 5% by weight based on the conductive particles, and a vehicle. Further, the content of the vehicle is generally about 3 to 10% by weight in the outer conductor paste.

【0050】ガラスフリットのガラス組成としては、P
bO−B23 −SiO2 、B23 −SiO2 −Zn
O、PbO−B23 −SiO2−ZnO、等が挙げら
れる。また、ガラスフリットの40〜290℃の平均熱
膨張係数αは、6〜8×10-6deg-1 程度、軟化点は4
00〜600℃程度が好ましい。
The glass composition of the glass frit is P
bO-B 2 O 3 -SiO 2 , B 2 O 3 -SiO 2 -Zn
O, PbO-B 2 O 3 -SiO 2 -ZnO, and the like. Further, the average thermal expansion coefficient α of the glass frit at 40 to 290 ° C. is about 6 to 8 × 10 −6 deg −1 and the softening point is 4
About 00-600 degreeC is preferable.

【0051】このようなガラスフリットを用いても本発
明によりブリードアウト現象を有効に防止できる。
Even if such a glass frit is used, the bleed-out phenomenon can be effectively prevented by the present invention.

【0052】また、ガラスは、0.1〜10μm の平均
粒径の粉末として用いられる。平均粒径が0.1μm 未
満となると、粉砕時の不純物混入が著しくなり、10μ
m を超えると、印刷性が悪くなる傾向にある。
The glass is used as a powder having an average particle size of 0.1 to 10 μm. If the average particle size is less than 0.1 μm, impurities are significantly mixed during pulverization, and
If it exceeds m, the printability tends to deteriorate.

【0053】さらに、ガラスフリット以外の添加剤とし
ては、Al23 、Cr23 、CuO、TiO2 、C
oO、Bi23 等を挙げることができる。なお、この
なかでBi23 は焼成中にガラス化するものであり、
場合によってはガラス化して添加されることもある。
Further, additives other than the glass frit include Al 2 O 3 , Cr 2 O 3 , CuO, TiO 2 , C
oO, Bi 2 O 3 and the like. Among them, Bi 2 O 3 vitrifies during firing,
In some cases, it may be added by vitrification.

【0054】外部導体2の膜厚は、通常5〜20μm 程
度とされる。そして外部導体の導通抵抗は、その組成に
もよるが、一般に2〜10mΩ/□程度が好ましい。
The thickness of the outer conductor 2 is usually about 5 to 20 μm. The conduction resistance of the outer conductor is generally preferably about 2 to 10 mΩ / □ although it depends on the composition.

【0055】このような多層配線基板は、例えば以下の
ようにして製造する。
Such a multilayer wiring board is manufactured, for example, as follows.

【0056】まず、基板材料となるグリーンシートを作
製する。
First, a green sheet as a substrate material is prepared.

【0057】このグリーンシートは、基板の原材料であ
るアルミナ粉末等の骨材とガラス粉末(例えば、ホウケ
イ酸ガラス)とを所定量混合し、これにバインダー樹
脂、溶剤等を加え、これらを混練してスラリー化し、例
えばドクターブレード法によりグリーンシートを所定枚
数作製する。
In this green sheet, a predetermined amount of an aggregate such as alumina powder, which is a raw material of the substrate, and a glass powder (for example, borosilicate glass) are mixed, a binder resin, a solvent, etc. are added thereto, and these are kneaded. Then, a predetermined number of green sheets are produced by, for example, a doctor blade method.

【0058】次いで、グリーンシートにパンチングマシ
ーンや金型プレスを用いてスルーホール5を形成し、そ
の後、内部導体用ペーストを各グリーンシート上に例え
ばスクリーン印刷法により印刷し、所定パターンの内部
導体2を形成するとともにスルーホール5内に充填す
る。
Next, a through hole 5 is formed in the green sheet by using a punching machine or a die press, and then, an internal conductor paste is printed on each green sheet by, for example, a screen printing method to form a predetermined pattern of the internal conductor 2. Is formed and the inside of the through hole 5 is filled.

【0059】次いで、各グリーンシートを重ね合せ、熱
プレス(約40〜120℃、50〜1000Kgf/cm2)を
加えてグリーンシートの積層体とし、必要に応じて脱バ
インダー処理、切断用溝の形成等を行なう。
Next, the green sheets are superimposed, and hot pressed (about 40 to 120 ° C., 50 to 1000 kgf / cm 2 ) to form a green sheet laminate. Perform formation and the like.

【0060】その後、グリーンシートの積層体を通常空
気中で800〜1000℃程度の温度で焼成、一体化
し、基板4に内部導体が形成された多層配線基板を得
る。そして、外部導体用ペーストをスクリーン印刷法等
により印刷し、焼成して外部導体3を形成する。
Thereafter, the green sheet laminate is usually fired and integrated at a temperature of about 800 to 1000 ° C. in air to obtain a multilayer wiring board having the internal conductor formed on the substrate 4. Then, the external conductor paste is printed by a screen printing method or the like and fired to form the external conductor 3.

【0061】さらに、抵抗体材料ペーストを印刷して焼
成し、抵抗体8を形成する。この場合、好ましくは、こ
れら外部導体3や抵抗体8を基板4と一体同時焼成して
形成する。
Further, the resistor material paste is printed and baked to form the resistor 8. In this case, preferably, the external conductor 3 and the resistor 8 are formed by simultaneous firing with the substrate 4.

【0062】抵抗体8の焼成は、通常空気中にて、10
00℃程度以下、特に800〜1000℃程度で1〜3
時間程度行ない、最高温度に保持する時間は5〜20分
程度とすることが好ましい。この焼成により、抵抗体8
中のガラスフリットが結晶化し、ブリードアウト現象が
有効に防止される。
The sintering of the resistor 8 is usually performed in air for 10 minutes.
About 100 ° C or less, especially about 800 to 1000 ° C,
It is preferable to carry out for about an hour, and to maintain the maximum temperature for about 5 to 20 minutes. By this firing, the resistor 8
The glass frit inside is crystallized, and the bleed-out phenomenon is effectively prevented.

【0063】その後、所定の表面実装部品7を外部導体
3に半田付けし、必要に応じ、絶縁被覆層を形成して図
1に示す多層配線基板1が得られる。
Thereafter, a predetermined surface mount component 7 is soldered to the external conductor 3 and, if necessary, an insulating coating layer is formed to obtain the multilayer wiring board 1 shown in FIG.

【0064】以上では、本発明を多層配線基板に適用し
た場合の例を説明したが、本発明は、これに限らず、例
えば、アルミナ基板、AlN基板等の単層の基板等にも
適用することができる。
In the above, an example in which the present invention is applied to a multilayer wiring board has been described. However, the present invention is not limited to this, and may be applied to a single-layer board such as an alumina board or an AlN board. be able to.

【0065】[0065]

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明
をさらに詳細に説明する。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples of the present invention.

【0066】導電粒子として平均粒径0.05μm のR
uO2 粒子:15重量部、平均粒径2μm のガラスフリ
ット:70重量部およびビヒクル:15重量部を3本ロ
ールで混練してペースト化し、抵抗体ペーストNo.1
〜No.4を得た。ビヒクルには、バインダとしてエチ
ルセルロース、溶剤としてテルピネオールを用いた。な
お、TCR調製剤は使用しなかった。また、ガラスフリ
ットのガラス組成、40〜290℃における平均熱膨張
係数α、および軟化点は下記のとおりである。
R having an average particle diameter of 0.05 μm as conductive particles
15 parts by weight of uO 2 particles, 70 parts by weight of a glass frit having an average particle size of 2 μm, and 15 parts by weight of a vehicle were kneaded with three rolls to form a paste. 1
-No. 4 was obtained. For the vehicle, ethyl cellulose was used as a binder and terpineol was used as a solvent. Note that no TCR preparation was used. The glass composition of the glass frit, the average coefficient of thermal expansion α at 40 to 290 ° C., and the softening point are as follows.

【0067】抵抗体ペーストNo.1(本発明) ガラス組成 ZnO2 : 60重量% B23 : 20重量% SiO2 : 10重量% MnO2 : 10重量% α: 3.8×10-6deg-1 軟化点: 580℃ 抵抗体ペーストNo.2(本発明) ガラス組成 ZnO2 : 50重量% B23 : 25重量% SiO2 : 15重量% MnO2 : 10重量% α: 4.5×10-6deg-1 軟化点: 600℃ 抵抗体ペーストNo.3(比較) ガラス組成 PbO: 54重量% B23 : 13重量% SiO2 : 30重量% Al23 : 3重量% α: 6.2×10-6deg-1 軟化点: 580℃ 抵抗体ペーストNo.4(比較) ガラス組成 ZnO2 : 40重量% B23 : 40重量% SiO2 : 3重量% MnO2 : 17重量% α: 5.0×10-6deg-1 軟化点: 520℃Resistor paste No. 1 (Invention) Glass composition ZnO 2 : 60 wt% B 2 O 3 : 20 wt% SiO 2 : 10 wt% MnO 2 : 10 wt% α: 3.8 × 10 −6 deg −1 Softening point: 580 ° C. Resistor paste No. 2 (Invention) Glass Composition ZnO 2 : 50 wt% B 2 O 3 : 25 wt% SiO 2 : 15 wt% MnO 2 : 10 wt% α: 4.5 × 10 −6 deg −1 Softening point: 600 ° C. Resistor paste No. 3 (Comparison) Glass composition PbO: 54 wt% B 2 O 3: 13 wt% SiO 2: 30 wt% Al 2 O 3: 3 wt% α: 6.2 × 10 -6 deg -1 softening point: 580 ° C. Resistor paste No. 4 (Comparative) Glass composition ZnO 2 : 40 wt% B 2 O 3 : 40 wt% SiO 2 : 3 wt% MnO 2 : 17 wt% α: 5.0 × 10 −6 deg −1 Softening point: 520 ° C.

【0068】次いで、平均粒径10μm のAg粒子:8
5重量部、平均粒径1μm のPd粒子:15重量部、平
均粒径2μm のガラスフリット:3重量部、平均粒径2
μmのBi23 粒子:1重量部およびビヒクル:4重
量部を3本ロールで混練してペースト化し、外部導体ペ
ーストとした。ガラスフリットのガラス組成は、Pb
O:50重量部、B23 :25重量部、Al23
15重量部、SiO2 :10重量部、40〜290℃の
αは6.5×10-6deg-1 、軟化点は540℃であっ
た。
Next, Ag particles having an average particle size of 10 μm: 8
5 parts by weight, Pd particles having an average particle size of 1 μm: 15 parts by weight, glass frit having an average particle size of 2 μm: 3 parts by weight, average particle size of 2
The 1 μm Bi 2 O 3 particles and 4 parts by weight of vehicle were kneaded with three rolls to form a paste, which was used as an external conductor paste. The glass composition of the glass frit is Pb
O: 50 parts by weight, B 2 O 3 : 25 parts by weight, Al 2 O 3 :
15 parts by weight, SiO 2 : 10 parts by weight, α at 40 to 290 ° C. was 6.5 × 10 −6 deg −1 , and softening point was 540 ° C.

【0069】次に、下記の基板材料を混合し、これに前
記ビヒクルを加えて基板ペーストとした。
Next, the following substrate materials were mixed, and the above-mentioned vehicle was added thereto to obtain a substrate paste.

【0070】基板構成材料 ガラス(平均径1.9μm ) 60重量部 SiO2 : 52.2重量% Al23 : 11.4重量% B23 : 3.9重量% SrO : 27.6重量% CaO : 3.1重量% MgO : 1.8重量% Al23 (平均粒径3.5μm )40重量部 Substrate constituent glass 60 parts by weight (average diameter 1.9 μm) SiO 2 : 52.2% by weight Al 2 O 3 : 11.4% by weight B 2 O 3 : 3.9% by weight SrO: 27.6% % By weight CaO: 3.1% by weight MgO: 1.8% by weight 40 parts by weight of Al 2 O 3 (average particle size 3.5 μm)

【0071】この基板ペーストを用い、ドクターブレー
ド法により厚さ0.2mmの基板グリーンシートを作製し
た。
Using this substrate paste, a substrate green sheet having a thickness of 0.2 mm was prepared by a doctor blade method.

【0072】次いで、この基板グリーンシートにAg内
部導体ペースト印刷後、熱プレスにより積層してグリー
ンシート積層体を得た。そして、この積層体を脱脂後、
空気中で温度900℃で同時焼成した多層配線基板を得
た。
Next, after the Ag internal conductor paste was printed on the substrate green sheets, they were laminated by hot pressing to obtain a green sheet laminate. And after degreasing this laminate,
A multilayer wiring board which was simultaneously fired in air at 900 ° C. was obtained.

【0073】この多層配線基板にスクリーン印刷によ
り、外部導体ペーストを印刷し、空気中で850℃で焼
成し、細線パターンの外部導体を形成した。なお、同様
の方法で別に基板を作製したところ得られた基板の40
〜290℃における平均熱膨張係数αは6.4×10-6
deg であった。
An external conductor paste was printed on the multilayer wiring board by screen printing, and baked at 850 ° C. in air to form an external conductor having a fine line pattern. In addition, when a substrate was separately manufactured in the same manner, 40
The average coefficient of thermal expansion α at 290 ° C. is 6.4 × 10 -6
deg.

【0074】次いで、外部導体上の先端部に、外部導体
より広巾に抵抗体ペーストを厚さ20μm に印刷した
後、空気中にて、850℃で60分間焼成し、2μm ×
2μm、厚さ10μm の抵抗体を形成した。このように
して、抵抗体ペーストNo.1〜4を用い、多層配線基
板サンプルNo.1〜4を得た。
Then, a resistor paste is printed on the tip of the outer conductor to a thickness of 20 μm wider than the outer conductor, and then baked at 850 ° C. for 60 minutes in the air to obtain 2 μm ×
A resistor having a thickness of 2 μm and a thickness of 10 μm was formed. Thus, the resistor paste No. No. 1 to No. 4, the multilayer wiring board sample No. 1-4 were obtained.

【0075】得られた多層配線基板サンプルNo.1〜
4に形成された抵抗体の抵抗値の40〜290℃におけ
る平均熱膨張係数αおよび抵抗値は表1に示されるとお
りであった。
The obtained multilayer wiring board sample No. 1 to
The average thermal expansion coefficient α at 40 to 290 ° C. and the resistance of the resistor formed in No. 4 were as shown in Table 1.

【0076】次に各サンプルに対し、下記の評価を行な
った。 (1)低抗体の抵抗値の温度係数(TCR) TCRは、−50〜25℃におけるTCR(cold
TCR)と、25〜125℃におけるTCR(hot
TCR)とを測定した。
Next, the following evaluation was performed on each sample. (1) Temperature coefficient of resistance (TCR) of low antibody The TCR is the TCR (cold) at −50 to 25 ° C.
TCR) and TCR at 25 to 125 ° C. (hot
TCR).

【0077】(2)耐クラック性 焼成後および冷熱衝撃試験(125℃で30分間保持、
−40℃で30分間保持、23サイクル)後、抵抗体を
光学顕微鏡にて観察し、下記◎、○、△、×の4段階で
評価した。 評価基準 ◎ :焼成後および冷熱衝撃試験後クラックなし ○ :焼成後クラックなし、冷熱衝撃試験後クラックあ
り △ :焼成後一部クラックあり、冷熱衝撃試験後クラッ
クあり × :焼成後クラックあり、冷熱衝撃試験後クラックあ
(2) Crack resistance After firing and thermal shock test (held at 125 ° C. for 30 minutes,
After holding at −40 ° C. for 30 minutes and 23 cycles), the resistor was observed with an optical microscope, and evaluated by the following four grades of ◎, △, Δ, and ×. Evaluation criteria ◎: No crack after firing and thermal shock test ○: No crack after firing, crack after thermal shock test △: Some crack after firing, crack after thermal shock test ×: Crack after firing, thermal shock Crack after test

【0078】(3)ブリードアウト現象の発生の有無 光学顕微鏡により、抵抗体近傍の細線外部導体パターン
端部を観察し、下記◎、△、×、××の4段階で評価し
た。 評価基準 ◎ :ブリードアウト全くなし △ :10μm 以下の距離にブリードアウト観察 × :50μm 以下の距離にブリードアウト観察 ××:50μm を超える距離にブリードアウト観察 これらの結果は表1に示されるとおりである。
(3) Presence or Absence of Bleed-Out Phenomenon The end portion of the thin wire outer conductor pattern near the resistor was observed with an optical microscope, and evaluated by the following four grades of ◎, Δ, ×, XX. Evaluation criteria ◎: No bleed-out at all △: Bleed-out observation at a distance of 10 μm or less ×: Bleed-out observation at a distance of 50 μm or less XX: Bleed-out observation at a distance exceeding 50 μm These results are as shown in Table 1. is there.

【0079】[0079]

【表1】 [Table 1]

【0080】表1に示される結果から本発明の効果が明
らかである。
From the results shown in Table 1, the effect of the present invention is clear.

【0081】なお、導電粒子をPb2 Ru27 、Bi
2 Ru27 に替えて前記と同様の評価を行なったとこ
ろ同等の結果が得られた。
The conductive particles were made of Pb 2 Ru 2 O 7 , Bi
When the same evaluation as above was performed in place of 2 Ru 2 O 7 , equivalent results were obtained.

【0082】[0082]

【発明の効果】本発明の抵抗体ペーストを用いて形成さ
れた厚膜抵抗体は、抵抗値の温度係数(TCR)が低
い。また、基板の熱膨張係数αと抵抗体のαとの違い等
に起因する抵抗体へのクラックの発生を防止できる。し
かも、ブリードアウト現象の発生を防止でき、配線間の
ショートや電気特性の劣化を防止することができる。
The thick film resistor formed by using the resistor paste of the present invention has a low temperature coefficient of resistance (TCR). In addition, it is possible to prevent the occurrence of cracks in the resistor due to a difference between the coefficient of thermal expansion α of the substrate and α of the resistor. Moreover, the occurrence of the bleed-out phenomenon can be prevented, and the short circuit between the wirings and the deterioration of the electric characteristics can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の抵抗体ペーストを用いて作製した多層
配線基板の部分断面図である。
FIG. 1 is a partial cross-sectional view of a multilayer wiring board manufactured using a resistor paste of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 多層配線基板 2 内部導体 3 外部導体 4 基板 5 スルーホール 6 半田 7 表面実装部品 8 抵抗体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Multilayer wiring board 2 Inner conductor 3 Outer conductor 4 Substrate 5 Through hole 6 Solder 7 Surface mount component 8 Resistor

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮内 泰治 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 テ ィーディーケイ株式会社内 (56)参考文献 特開 平2−312201(JP,A) 特開 平3−167801(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01C 7/00 C03C 8/04 C03C 8/24 H05K 1/16 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Inventor Taiji Miyauchi 1-1-13 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo Inside TDK Corporation (56) References JP-A-2-321201 (JP, A) JP-A-3 -167801 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) H01C 7/00 C03C 8/04 C03C 8/24 H05K 1/16

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 抵抗体ペーストのバインダガラスであっ
て、 ZnO2 を40〜70重量%、B2 3 を10〜30重
量%、SiO2 を5〜15重量%およびMnO2 を5〜
15重量%(但し5wt%を含まない)含有することを特
徴とするガラスフリット。
1. A binder glass of the resistor paste, the ZnO 2 40 to 70 wt%, the B 2 O 3 10 to 30 wt%, a SiO 2 5 to 15 wt% and MnO 2. 5 to
A glass frit characterized by containing 15% by weight (but not including 5% by weight).
【請求項2】 40〜290℃での平均熱膨張係数αが
3〜5×10-6deg- 1 である請求項1に記載のガラスフ
リット。
2. The glass frit according to claim 1 , wherein the average thermal expansion coefficient α at 40 to 290 ° C. is 3 to 5 × 10 −6 deg - 1 .
【請求項3】 請求項1または2に記載のガラスフリッ
トと、導電粒子とを含有することを特徴とする抵抗体ペ
ースト。
3. A resistor paste comprising the glass frit according to claim 1 and conductive particles.
【請求項4】 前記導電粒子が二酸化ルテニウム、ルテ
ニウム酸鉛およびルテニウム酸ビスマスの1種以上を主
成分とする請求項3に記載の抵抗体ペースト。
4. The resistor paste according to claim 3, wherein the conductive particles contain at least one of ruthenium dioxide, lead ruthenate and bismuth ruthenate as a main component.
【請求項5】 前記ガラスフリットおよび前記導電粒子
全体に対する前記ガラスフリットの含有量が、60〜9
0重量%である請求項3または4に記載の抵抗体ペース
ト。
5. The content of the glass frit in the glass frit and the whole of the conductive particles is 60 to 9%.
5. The resistor paste according to claim 3, which is 0% by weight.
【請求項6】 請求項3ないし5のいずれかに記載の抵
抗体ペーストを用いて厚膜抵抗体を形成したことを特徴
とする配線基板。
6. A wiring board, wherein a thick film resistor is formed using the resistor paste according to claim 3. Description:
【請求項7】 前記厚膜抵抗体がガラスと酸化物骨材と
を含有する基板上に形成されている請求項6に記載の配
線基板。
7. The wiring board according to claim 6, wherein the thick-film resistor is formed on a substrate containing glass and an oxide aggregate.
【請求項8】 前記厚膜抵抗体と接して外部導体が形成
されている請求項6または7に記載の配線基板。
8. The wiring board according to claim 6, wherein an external conductor is formed in contact with said thick film resistor.
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