JP2980123B2 - 半導体装置 - Google Patents
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- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Dram (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
Description
り、特に不良メモリセルを予備のメモリセルで置換する
ことによって修復する技術に関する。
進んでおり、メガビット級のものも量産されるようにな
っている。しかし、高集積化に伴う素子の微細化やチッ
プ面積の増大によって、歩留りが低下することが問題に
なってきた。この対策としては、不良メモリセルをあら
かじめチップ上に設けておいた予備のメモリセルで置換
することにより修復する、いわゆる欠陥救済技術があ
る。この技術は、たとえばアイ・イー・イー・イー、ジ
ャーナル・オブ・ソリッド・ステート・サーキッツ、第
16巻第5号、第479頁から第487頁、1981年
10月(IEEE,Journal of Solid-State Circu
its, vol.SC−16,No.5,pp.479−487,Oc
t, 1981)において論じられているように、半導体
メモリの歩留り向上には非常に有効な手法である。
の構成の一例を示す。図中、10はメモリセルをマトリ
ックス状に配置したメモリアレーであり、正規のメモリ
セルが配置されている領域11と、予備メモリセルが配
置されている領域12から成る。領域11には、NW本
のワード線W〔i〕(i=0〜NW−1)とNB本のビッ
ト線B〔j〕(j=0〜NB−1)との交点に、NW×N
B個のメモリセルが配置されている。領域12には、L
本(ここではL=4)の予備ワード線SW〔k〕(k=
0〜L)とNB本のビット線との交点に、L×NB個のメ
モリセルが配置されている。なお、ビット線は、いわゆ
る折り返し線ビット方式の場合は2本の配線から成る
が、簡単のためここでは1本の線で表されている。20
はメモリセルから読出された信号を増幅するためのセン
スアンプおよびデータを転送するための入出力線、30
はロウアドレス信号AX〔i〕(i=0〜nW−1、nW
=log2(NW)、(但し、log2( )は2を底とする対数関
数を表す))を受けてNW本のワード線のうちの1本を
選択するためのXデコーダ、40はカラムアドレス信号
AY〔j〕(j=0〜nB−1、nB=log2(NB))を受け
てNB本のビット線のうちの1本を選択するためのYデ
コーダ、50は欠陥救済回路、60は欠陥救済回路の出
力を受けて予備ワード線を選択するための予備ワード線
選択回路、701はデータ入力バッファ、702はデー
タ出力バッファである。
けられているので、正規のワード線が不良である場合、
それを予備ワード線のうちの1本で置換することによ
り、修復することができる。欠陥救済回路50と予備ワ
ード線選択回路60がこれを司る。L本の予備ワード線
に対応して各1個、計L個のアドレス比較回路AC
〔k〕(k=0〜L−1)がある。各アドレス比較回路
は不良のある予備ワード線のロウアドレスを記憶してお
り、アクセス要求されたアドレスと一致するかどうか比
較する。アドレス比較回路AC〔k〕の出力XR〔k〕
は、比較結果が「一致」の場合、高レベルになる。予備
ワード線選択回路60は、図26に示すように、L個の
予備ワードドライバ650から成る。予備ワードドライ
バはXR〔k〕が高レベルのとき活性化され、ワード線
駆動信号φxによって予備ワード線SW〔k〕が選択さ
れる。一方、NORゲート501の出力は低レベルにな
り、これによりXデコーダ30がディスエーブルされ、
本来選択されるはずの正規のワード線は選択されなくな
る。すなわち、正規のワード線が予備ワード線SW
〔k〕によって置換される。
の構成の他の例を示す。図中、10はメモリセルをマト
リックス状に配置したメモリアレーであり、正規のメモ
リセルが配置されている領域14と、予備メモリセルが
配置されている領域15から成る。領域14には、NW
本のワード線W〔i〕(i=0〜NW−1)とNB本のビ
ット線B〔j〕(j=0〜NB−1)との交点に、NW×
NB個のメモリセルが配置されている。領域15には、
L本(ここではL=4)の予備ビット線SB〔k〕(k
=0〜L)とNW本のワード線との交点に、NW×L個の
メモリセルが配置されている。20はメモリセルから読
出された信号を増幅するためのセンスアンプおよびデー
タを転送するための入出力線、30はロウアドレス信号
AX〔i〕(i=0〜nW−1、nW=log2(NW))を受け
てNW本のワード線のうちの1本を選択するためのXデ
コーダ、40はカラムアドレス信号AY〔j〕(j=0
〜nB−1、nB=log2(NB))を受けてNB本のビット線
のうちの1本を選択するためのYデコーダ、50は欠陥
救済回路、63は欠陥救済回路の出力を受けて予備ビッ
ト線を選択するための予備ビット線選択回路である。
けられているので、正規のビット線が不良である場合、
それを予備ビット線のうちの1本で置換することによ
り、修復することができる。欠陥救済回路50と予備ビ
ット線選択回路63がこれを司る。L本の予備ビット線
に対応して各1個、計L個のアドレス比較回路AC
〔k〕(k=0〜L−1)がある。各アドレス比較回路
は不良のある予備ビット線のカラムアドレスを記憶して
おり、アクセス要求されたアドレスと一致するかどうか
比較する。アドレス比較回路AC〔k〕の出力YR
〔k〕は、比較結果が「一致」の場合、高レベルにな
る。予備ビット線選択回路63は、図33に示すよう
に、L個のドライバ680から成る。ドライバはYR
〔k〕が高レベルのとき活性化され、ビット線選択信号
φYによって、予備ビット線SB〔k〕がMOSトラン
ジスタ690、691を介して入出力線I/Oに接続さ
れる。一方、NORゲート501の出力は低レベルにな
り、これによりYデコーダ40がディスエーブルされ、
本来選択されるはずの正規のビット線は選択されなくな
る。すなわち、正規のビット線が予備ビット線SB
〔k〕によって置換される。
術では、メモリの高集積化に伴って次のような問題が発
生する。まず、欠陥救済によって同時に置換されるメモ
リセル数が多くなるので、予備メモリセル自体に不良の
ある確率が大きくなる。これは1本のワード線、ビット
線上のメモリセル数が多くなるからである。たとえば、
256Kビットメモリ(NW=NB=512)の場合は、
同時に置換されるメモリセルは512個であるが、16
Mビットメモリ(NW=NB=4096)の場合は409
6個にもなる。正規のメモリセルと置換された予備メモ
リセルに不良があると、そのチップは不良品になる。欠
陥救済技術は、予備メモリセルには不良がないことを前
提にしているからである。したがって、従来技術では、
メモリの高集積化に伴って歩留り向上効果が上がらなく
なる。
モリアレーを分割する必要が生じたとき、さらに深刻に
なる。一般に、メモリの規模が大きくなると、1本のワ
ード線、1本のビット線に接続されるメモリセル数が多
くなるので、配線長が長くなり、配線の寄生抵抗、寄生
容量の増大による信号伝播時間の増加や信号/雑音比の
低下が問題になる。そのために、メモリアレーを複数個
のメモリマットに分割して、1本のワード線、ビット線
の配線長を短くすることが広く行われている。しかし、
マット分割された半導体メモリに従来の欠陥救済技術を
適用すると、次のような問題が生ずる。
て、メモリアレーを4個のメモリマットに分割した(ワ
ード線を2分割、ビット線を2分割)場合の構成の一例
である。図中、100〜103はメモリマット、200
〜203はセンスアンプおよび入出力線、300、30
1はXデコーダ、400はYデコーダ、610、611
は予備ワード線選択回路、700はマルチプレクサ、7
01はデータ入力バッファ、702はデータ出力バッフ
ァである。各メモリマットは、正規のメモリセルが配置
されている領域110〜113と、予備メモリセルが配
置されている領域120〜123から成る。領域11
0、111、112、113(それぞれ図25の11
A、11B、11C、11Dに相当)にはそれぞれ、N
W/2本のワード線とNB/2本のビット線との交点に、
NW×NB/4個のメモリセルが配置されている。領域1
20〜123にはそれぞれ、L本(ここではL=4)の
予備ワード線とNB/2本のビット線との交点に、L×
NB/2個の予備メモリセルが配置されている。たとえ
ば、前記の文献に記載されている例では、NW/2=6
4、NB/2=128、L=4である。
方法について説明する。この例では、ワード線は2マッ
トずつ選択される。たとえば、メモリマット110のあ
るワード線W〔i,0〕が選択されるときは、メモリマ
ット112の対応するワード線W〔i,2〕も同時に選
択される。このときメモリマット111と113のワー
ド線は選択されない。逆に、メモリマット111と11
3のワード線が選択されるときは、メモリマット110
と112のワード線は選択されない。これは、ワード線
W〔i,0〕とW〔i,2〕は本来1本のワード線を2
分割したものであり、物理的には2本のワード線である
が、論理的には1本のワード線とみなすことができるか
らである。メモリマット110と112を選択するか、
111と113を選択するかは、ロウアドレス信号のう
ちの1つ(ここでは最上位のAX〔nW−1〕)で決定す
る。なお、最終的なメモリセルの選択はカラムアドレス
信号AY〔j〕(j=0〜nB−1)によって行う。この
とき、メモリマット110あるいは111内のメモリセ
ルを選択するか、112あるいは113内のメモリセル
を選択するかは、マルチプレクサ700がカラムアドレ
ス信号のうちの1つ(ここでは最上位のAY〔nB−
1〕)を用いて決定する。
アドレス信号のうち最上位のAX〔nW−1〕を除いたも
のを比較する。アドレス比較回路AC〔k〕の出力XR
〔k〕は、各予備ワード線選択回路に共通に供給され
る。予備ワード線選択回路は、図28に示すように、X
R〔k〕とロウアドレス信号AX〔nW−1〕(またはそ
の補信号)との論理積をとることにより、選択されたメ
モリマットの予備ワード線だけが駆動されるようにして
いる。
との置換が、全メモリマット同時に行われる。これを図
29を用いて説明する。この図はワード線の置換方法の
一例を示したものである。ここでは、欠陥のあるワード
線W〔0,0〕、W〔2,0〕W〔1,1〕、W〔3,
3〕が、それぞれ予備ワード線SW〔0,0〕,SW
〔1,0〕,SW〔2,1〕、SW〔3,3〕によって
置換されている。しかし、同時に他のワード線も置換さ
れる。たとえば、W〔0,0〕をSW〔0,0〕で置換
すると、他のメモリマットの対応するワード線W〔0,
1〕、W〔0,2〕、W〔0,3〕も同時にそれぞれS
W〔0,1〕、SW〔0,2〕、SW〔0,3〕によっ
て置換される。
ある。第1の問題点は、図25と図27を比較してみれ
ば明らかなように、マット分割をすることによって予備
ワード線用の面積が増加することである。分割された各
マットごとにL本ずつの予備ワード線を置いているから
である。図25の領域12Aが図27の120および1
21に、12Bが122および123にそれぞれ相当す
るので、予備ワード線用の面積は2倍になる。一般に、
ワード線をMW分割、ビット線をMB分割した場合、予備
ワード線用の面積はMB倍に、予備ビット線(図25,
図27には記載されていない)用の面積はMW倍にな
る。このことは、チップ面積の増大をもたらす。
って同時に置換されるメモリセル数が増えることであ
る。これは、前述のように正規の線と予備線との置換
が、全メモリマット同時に行われるからである。一般
に、ワード線をMW分割、ビット線をMB分割した場
合、ワード線の欠陥救済によって同時に置換されるメモ
リセル数はMB倍に、ビット線の欠陥救済によって同時
に置換されるメモリセル数はMW倍になる。これは前述
のように、同時に置換されるメモリセル数の増加による
歩留り低下を招く。これらの問題は、特に、MW、MBの
大きい高集積メモリでは、非常に深刻になる。
する方法としては、図30に示した方法も考えられる。
ここでは、すべてのメモリマットのすべての予備線に対
応して、それぞれアドレス比較回路が設けられている。
したがってアドレス比較回路数は4L(ここでは8個)
である。各アドレス比較回路は、ロウアドレス信号AX
最上位のAY〔nB−1〕をも比較する。
線の置換方法の一例を示した図である。これを図29と
比較してみれば明らかなように、図30に示した方法
は、図27に示した方法に比較して、次の点ですぐれて
いる。第1点は、予備線の使用効率が良く、メモリマッ
ト当りの予備線数Lが少なくても同じ個数の欠陥を修復
できることである。これは、多数の欠陥が1つのメモリ
マットに集中する確率は小さいからである。第2点は、
同時に置換されるメモリセル数が少ないことである。
しかし、図30に示した方法には、アドレス比較回路に
個数が増大するという問題点がある。一般に、ワード線
をMW分割、ビット線をMB分割した場合、アドレス比較
回路数はMW・MB・Lである。これはチップ面積の増大
を招く。特に、MW、MBの大きい高集積メモリでは、非
常に深刻になる。
案されている方法もある。これは、メモリマット間で相
互に正規の線と予備線との置換を行うことができるよう
にするというものである。しかしこの方法には、特にマ
ット分割数の大きい場合は、メモリマット選択の制御が
複雑になるという問題点がある。アクセス要求されたア
ドレスが不良であるか否かによって、選択するメモリマ
ットを変更しなければならないからである。特に、DR
AMの場合は、選択するメモリマットを変更すること
は、動作させるセンスアンプの変更を伴うので、アクセ
ス時間の増大をもたらす。
し、小面積で歩留り改善効果の大きい欠陥救済方式を提
供することにある。
め、本発明では、メモリアレーをM個(M≧2)のメモ
リマットに分割したとき、欠陥救済によって同時に置換
されるワード線もしくはビット線数mをMよりも小さい
Mの約数とする。
だけでなく、ドントケア値“X”をも記憶できるように
する。ドントケア値とは、比較の相手(入力アドレス)
が“0”でも“1”でも比較結果が「一致」となる値で
ある。図13に比較結果の一覧を示す。
陥救済によって同時に置換されるメモリセル数が少なく
なる。これにより、予備線自体に不良のある確率が小さ
くなるので、高集積メモリでも歩留り改善効果の大きい
欠陥救済回路を作ることができる。
記憶できるようにすることによって、アドレスの各ビッ
トを比較するかしないかを選択できる。図13に示すよ
うに、アドレス比較回路に“0”または“1”が記憶さ
れているときは、入力されたアドレスに従って、比較結
果が「一致」または「不一致」となる。すなわち、入力
アドレスの当該ビットは記憶されているアドレスと比較
される。一方、アドレス比較回路に“X”が記憶されて
いるときは、入力アドレスの如何にかかわらず、比較結
果は「一致」となる。すなわち、入力アドレスの当該ビ
ットは比較されない。これにより、たとえば次のような
欠陥救済が可能になる。
ムアドレスも含めて)ビットを比較するようにすれば、
1ビット単位で正規のメモリセルと予備メモリセルとの
置換が行われる。カラムアドレスのみを比較するように
すれば、ビット線単位の置換が行われる。また、カラム
アドレスの最下位のビットのみ比較しないようにすれ
ば、2ビット単位での置換が行われる。このようにビッ
ト不良、ビット線不良、対ビット不良などの半導体メモ
リの各種不良にきめ細かく対処できるようになるので、
従来技術に比べて、歩留り改善効果の向上が期待でき
る。
の実施例を説明する。なお、以下の説明では、DRAM
(ダイナミックランダムアクセスメモリ)、特に1トラ
ンジスタ・1キャパシタ形メモリセルを用いたDRAM
に欠陥救済を導入した場合について述べるが、本発明は
SRAM(スタティックランダムアクセスメモリ)、E
PROM(書替可能読出し専用メモリ)、EEPROM
(電気的書替可能読出し専用メモリ)等の他の半導体メ
モリにも適用可能である。また、主としてCMOS技術
を用いた半導体メモリについて述べるが、本発明は他の
技術、たとえば単一極性のMOSトランジスタ、バイポ
ーラトランジスタ、あるいはそれらの組合せを用いた半
導体メモリにも適用可能である。
す。図中、100〜103はメモリマット、200〜2
03はセンスアンプおよび入出力線、300、301は
Xデコーダ、400はYデコーダ、500は欠陥救済回
路、600は予備ワード線選択回路(構成は図26と同
様)、700はマルチプレクサ、701はデータ入力バ
ッファ、702はデータ出力バッファである。各メモリ
マットは、正規のメモリセルが配置されている領域11
0〜113と、予備メモリセルが配置されている領域1
20〜123から成る。領域110〜113にはそれぞ
れ、NW/2本のワード線W〔i,n〕(i=0〜NW/
2−1,n=0〜3)とNB/2−1,n=0〜3)と
の交点に、NW×NB/4個のメモリセルが配置されてい
る。領域120〜123にはそれぞれ、L本(ここでは
L=2)の予備ワード線SW〔k,n〕(k=0〜L−
1,n=0〜3)とNB/2本のビット線との交点に、
L×NB/2個の予備メモリセルが配置されている。な
お、本実施例のアレー方式は折り返しビット線方式であ
るが、本発明はオープンビット線方式のメモリにも同様
に適用できる。折り返しビット線方式の場合は、ビット
線は2本の配線から成るが、簡単のためここでは1本の
線で表されている。折り返しビット線方式およびオープ
ンビット線方式の詳細については、たとえばアイ・イー
・イー、プロシーディング、第130巻第1部第3号、
第127頁から第135頁、1983年6月(IEEP
ROC.,Vol.130,Pt.I,No.3,pp.127−
135,June 1983)に記述されている。
済について説明する。まず、ワード線の選択方法につい
て述べる。本実施例では、ワード線は2マットずつ選択
される。たとえば、メモリマット110のあるワード線
W〔i,0〕が選択されるときは、メモリマット112
の対応するワード線W〔i,2〕も同時に選択される。
このときメモリマット111と113のワード線は選択
されない。逆に、メモリマット111と113のワード
線が選択されるときは、メモリマット110と112の
ワード線は選択されない。これは、ワード線W〔i,
0〕とW〔i,2〕は本来1本のワード線を2分割した
ものであり、物理的には2本のワード線であるが、論理
的には1本のワード線とみなすことができるからであ
る。メモリマット110と112を選択するか、111
と113を選択するかは、ロウアドレス信号のうちの1
つ(ここでは最上位のAX〔nW−1〕)で決定する。な
お、最終的なメモリセルの選択はカラムアドレス信号A
Y〔j〕(j=0〜nB−1)によって行う。このとき、
メモリマット 110あるいは111内のメモリセルを
選択するか、112あるいは113内のメモリセルを選
択するかは、マルチプレクサ700がカラムアドレス信
号のうちの1つ(ここでは最上位のAY〔nB−1〕)を
用いて決定する。
する方法について説明する。図27の従来例では、図2
9に示したように、4個のメモリマットで同時に正規の
ワード線と予備ワード線との置換を行う。たとえば、メ
モリマット110のワード線W〔0,0〕が不良の場
合、W〔0,0〕だけでなく、他のメモリマットの対応
するワード線W〔0,1〕、W〔0,2〕,W〔0,
3〕をも同時に予備ワード線で置換する。しかし、本実
施例では同時に選択される2個のメモリマットで同時に
置換を行う。図2は、本実施例におけるワード線の置換
方法の一例である。たとえば、メモリマット110のワ
ード線W〔0,0〕が不良の場合、W〔0,0〕とW
〔0,2〕とを同時に予備ワード線で置換する。しか
し、メモリマット111および113のワード線は置換
しない。
ドレス比較回路で最上位のロウアドレスAX〔nW−1〕
を比較するようにする。ロウアドレスAX〔nW−1〕
は、前述のように、選択されるメモリマットを決定する
アドレスである。図27の従来例では、全マット同時に
予備ワード線による置換を行うので、アドレス比較回路
ではロウアドレスAX〔nW−1〕は比較されない。それ
に対して本実施例では、ロウアドレスAX〔nW−1〕を
比較するようにすることにより、上記のような置換方法
を実現している。
方法によって、同時に置換されるメモリセル数が少なく
なることがある。図27の従来例では、同時に置換され
るのは、NB/2×4=2NB個であるが、図1の実施例
ではNB/2×2=NB個と半減する。これにより、正規
のメモリセルを置換した予備メモリセルに不良がある確
率が従来よりも小さくなり、歩留りが向上する。本実施
例ではメモリアレーの分割数が比較的少ないので、効果
はさほど顕著でないが、分割数の多い高集積メモリでは
効果は非常に大きい。予備メモリセルがすべて不良でな
い確率は、メモリセル数の指数関数に逆比例するからで
ある。一般に、ワード線をMW分割、ビット線をMB分割
したメモリにおいて、mマット(mはMW・MBの約数)
の正規のワード線を同時に予備ワード線で置換する場
合、同時に置換されるメモリセル数は、従来方式(全マ
ット同時置換)ではMBNB個、本発明による方式ではm
NB/MW個であり、従来のm/(MW・MB)倍になる(図
1の例では、MW=2、MB=2、m=2)。たとえば、
16MビットメモリでNW=NB=4096、MW=4、
MB=16、m=8の場合、同時に置換されるメモリセ
ル数は、従来方式では65536個、本発明による方式
では8192個と1/8になり、予備メモリセルに不良
がある確率が従来よりも格段に小さくなる。
備メモリセルの利用効率が高まることである。たとえ
ば、メモリマット110のワード線W〔i1,0〕とメ
モリマット111のワード線W〔i2,1〕(i1≠i
2)が不良である場合を考える。図27の従来方式で
は、このような不良を修復するには、メモリマット当り
2本、計8本の予備ワード線が必要である。たとえば、
W〔i1,0〕〜W〔i1,3〕をSW〔0,0〕〜SW
〔0,3〕で、W〔i2,2〕〜W〔i2,3〕をSW
〔1,0〕〜SW〔1,3〕でそれぞれ置換すればよ
い。それに対して本実施例の場合は、メモリマット当り
1本、計4本の予備ワード線で修復できる。たとえば、
W〔i1,0〕とW〔i1,2〕をSW〔0,0〕とSW
〔0,2〕で、W〔i2,1〕とW〔i2,3〕をSW
〔0,1〕とSW〔0,3〕でそれぞれ置換すればよ
い。したがって、予備ワード線SW〔1,0〕〜SW
〔1,3〕を他の不良の修復に充てることができるの
で、歩留りの向上が期待できる。
当りの予備ワード線数Lとアドレス比較回路数Rとの選
択の自由度が大きいことである。従来方式では、全マッ
ト同時に正規のワード線を予備ワード線で置換するの
で、必ずL=Rでなければならない。たとえば図27で
はL=R=4である。それに対して本発明による方式で
は、L、Rを比較的自由に選ぶことができるので、小面
積で効率のよい欠陥救済回路を作ることが可能である。
LとRの関係を次に説明する。
線で置換する場合、 L≦R≦(L・MW・MB)/m …(1) が成り立つ。左側の不等号は、各メモリマットにアドレ
ス比較回路数よりも多い予備線数を設けても無意味であ
ることを示している。右側の不等号は次のような意味で
ある。各メモリマットにはL本の予備線があり、マット
数はMW・MBであるから、物理的には全体でL・MW・
MB本の予備線がある。しかし、このうちm本ずつ同時
に置換されるので、論理的な予備線数は(L・MW・MB)
/m本である。(1)式の右側の不等号は、アドレス比
較回路数を論理的な予備線数よりも多くしても無意味で
あることを示している。従来方式では、m=MW・MBで
あるから、L=Rでなければならない。それに対して本
発明による方式では、L、Rは(1)式を満たす範囲で
自由に選ぶことができる。
を増やす方が望ましい。アドレス比較回路を1個設ける
ことによる面積増加は、普通、全メモリマットに予備線
を1本ずつ設けることによる面積増加よりも小さいから
である。従来方式では、L=Rという関係に束縛されて
Rだけを増やすことはできないが、本発明によればそれ
が可能である。したがって、Lを比較的小さく、Rを比
較的大きくすることにより、小面積で効率のよい欠陥救
済回路を作ることができる。すなわち、本発明の特徴は
(1)式から左側の等号を除いた関係、 L<R≦(L・MW・MB)/m …(2) とできることにある。たとえば、図1の実施例では、M
W=MB=2、m=2であるから、(2)式はL<R≦2
Lとなる(実際にはL=2、R=4)。
て、不良線数がR以下であるにもかかわらず修復できな
い場合が生ずる。たとえば、1つのメモリマットに不良
線が集中しており、その数がL本よりも多くR本以下で
ある場合である。この場合は、アドレス比較回路数は十
分であるが、不良のあるメモリマットの物理的な予備線
数が不足するために、修復は不可能である。しかし、1
つのメモリマットに多数の不良が集中する確率は小さい
ので、Lをたとえば2以上にしておけば、上のような問
題はほとんど生じない。
のメモリにも、アドレスマルチプレクス方式でないメモ
リにも適用可能である。
に、欠陥救済によって同時に置換されるワード線数mは
小さいほど望ましい。図3はm=1とした実施例であ
る。図1の実施例との相違点は、ワード線の選択方法と
不良ワード線の置換方法にある。図1の場合は、ワード
線は2マットずつ同時に選択され、予備ワード線との置
換も2マット同時に行っていた。本実施例では、ワード
線の選択も予備ワード線との置換も1マットずつ行う。
信号AY〔nB−1〕を用いる。AY〔nB−1〕は、前述
のように、メモリマット110と112、111と11
3を区別するアドレスである。まず、Xデコーダに、ロ
ウアドレスだけでなくAY〔nB−1〕を入力して、4個
のメモリマットのうち1個しか選択されないようにす
る。次に、アドレス比較回路で、ロウアドレスだけでな
くAY〔nB−1〕を比較するようにして、正規のワード
線と予備ワード線との置換が1マットずつ行われるよう
にする。なお、これに伴って予備ワード線選択回路61
0〜613を図8(a)のように変更する。ここでは、
XR〔k〕とカラムアドレス信号AY〔nB−1〕(また
はその補信号)との論理積をとることにより、選択され
たメモリマットの予備ワード線だけが駆動されるように
している。
アドレスを用いることが、本実施例の特徴である。従来
の欠陥救済技術では、ワード線の欠陥救済にはロウアド
レスのみ、ビット線の欠陥救済にはカラムアドレスのみ
を用いていた。しかし、マット分割されたメモリにおい
ては、本実施例のようにワード線の欠陥救済にカラムア
ドレスを用いたり、逆にビット線の欠陥救済にロウアド
レスを用いたりすることによって、以下のような効果が
得られる。
例を図4に示す。同時に置換されるワード線数m=1で
あるから、同時に置換されるメモリセル数が、図1の実
施例の1/2と少ない。そのため、予備メモリセルに不
良がある確率がさらに小さくなり、歩留り向上効果がさ
らに大きくなる。
くなることにより、予備メモリセルの利用効率が図1の
実施例よりもさらに高くなる。たとえば、ワード線W
〔i1,0〕とW〔i2,1〕(i1≠i2)が不良である
場合、図1の実施例では、修復に4本の予備ワード線が
必要であった。それに対して本実施例では、2本の予備
ワード線で修復可能である。
数mが図1の場合よりも小さいため、式(1)からわか
るように、アドレス比較回路数Rの選択の自由度が、図
1の場合よりもさらに大きい。したがって、欠陥の発生
状況に応じた、より効率的な欠陥救済回路を作ることが
できる。これは、本実施例と図30の従来例とを比較し
てみれば明らかである。図30の場合は、すべてのメモ
リマットのすべての予備ワード線に対応してアドレス比
較回路を設けているため、R=LMWLB、すなわち式
(1)の右側の等号が成り立つ。しかし、本発明では式
(1)の右側の等号は必ずしも成り立たなくてよい。こ
れは、欠陥の個数があまり多くない場合は、Rを図30
の場合よりも減らせることを意味する。したがって、ア
ドレス比較回路によるチップ面積の増加を抑えることが
できる。本実施例の場合、m=1、L=2であるから、 L=2≦R≦8=(L・MW・MB)/m であり、実際にはR=4である。
を示す。本実施例では、アドレス比較回路と予備ワード
線選択回路とを直接接続せずに、スイッチ回路510と
ORゲート505、506を介して接続している。ただ
し、これに伴って予備ワード線選択回路620〜623
を図8(b)のように変更する。ここでは、XL〔k〕
とメモリマットを選択するアドレス信号AX〔nW−
1〕、AY〔nB−1〕(またはその補信号)との論理積
をとることにより、選択されたメモリマットの予備ワー
ド線だけが駆動されるようにしている。本実施例の特徴
は次のとおりである。
備ワード線選択回路620〜623への配線数が少なく
なることである。配線数は、図3の実施例ではR本、本
実施例ではL本である。前述のように本発明では一般に
L<Rであるから、本実施例の方が配線数は少ない。
との対応関係を柔軟に変えられるため、アドレス比較回
路の仕様の融通性が大きいことである。従来例はもちろ
ん、これまでの実施例においても、アドレス比較回路と
予備線との対応関係は固定であった。たとえば、図27
の従来例では、AC〔k〕はSW〔k,0〕〜SW
〔k,3〕専用である(k=0〜3)。図30の従来例
では、AC〔k,l〕はSW〔k,l〕専用である(k
=0,1,l=0〜3)。また、図3の実施例では、A
C〔2k〕はSW〔k,0〕、SW〔k,2〕専用、A
C〔2k+1〕はSW〔k,1〕、SW〔k,3〕専用
である(k=0,1)。しかし、本実施例ではそのよう
な制約はなく、アドレス比較回路内に記憶させるアドレ
ス、およびスイッチ回路510の切替によって、1つの
アドレス比較回路はどの予備ワード線にも対応させるこ
とができる。アドレス比較回路に記憶させるアドレスの
うち、AX〔nW−1〕とAY〔nB−1〕の2ビットによ
り1つのメモリマットが決定され、スイッチ510によ
ってそのメモリマット内の1本の予備ワード線が決定さ
れる。これにより、欠陥救済が成功する確率が大きくな
る。たとえば、メモリマット110と112にそれぞれ
2本ずつ不良ワード線がある場合を考える。このような
不良は、図3の実施例では修復不可能であるが、本実施
例ならば修復可能である。
回路と予備線との対応関係を柔軟に変えられるため、ア
ドレス比較回路の故障に強いことである。たとえば、予
備ワード線SW〔0,0〕を使用するためにアドレス比
較回路AC
いたとする。この場合、たとえばAC〔1〕を使えばよ
い。
例の特徴は、本実施例にもそのままあてはまる。
例を図6に示す。図中、511はレーザで切断されるヒ
ューズ、512、518、520はNチャネルMOSト
ランジスタ、517、519はPチャネルMOSトラン
ジスタ、513はインバータ、514、515はNAN
Dゲートである。ヒューズが切断されていないときはノ
ード532が低レベル、533が高レベルであり、端子
xとzとが導通する。ヒューズを切断すると、ノード5
32が高レベル、533が低レベルになり、端子yとz
とが導通する。
であるが、図1の実施例に対しても、同様な改良は可能
である。
を示す。本実施例では、4個(一般にはR個)のアドレ
ス比較回路の出力XR
線せずに、2個ずつ(一般にはR/L個ずつ)論理和を
とった2個(一般にはL個)の信号XL
〔1〕を配線している。ただし、これに伴って予備ワー
ド線選択回路620〜623を図8(b)のように変更
する。ここでは、XL〔k〕とメモリマットを選択する
アドレス信号AX〔nW−1〕、AY〔nB−1〕(または
その補信号)との論理積をとることにより、選択された
メモリマットの予備ワード線だけが駆動されるようにし
ている。本実施例の特徴は次のとおりである。
そのまま本実施例にもあてはまる。すなわち、第1に欠
陥救済回路から予備ワード線選択回路への配線数が少な
い。第2にアドレス比較回路と予備線との対応関係を柔
軟に変えられるため、アドレス比較回路の使用の融通性
が大きい。第3に、アドレス比較回路の故障に強い。そ
れに加えて、本実施例には次のような特徴がある。ま
ず、図5の実施例に比較して回路構成が簡単である。次
に、スイッチ回路のヒューズを切断しなくても、単にア
ドレス比較回路内に記憶させるアドレスを変えるだけ
で、アドレス比較回路と予備線との対応関係を変えるこ
とができる。アドレス比較回路に記憶させるアドレスの
うち、AX〔nW−1〕とAY〔nB−1〕の2ビットによ
り、1つのメモリマットが決定される。
に、RはLの倍数であることが望ましい。
であるが、図1の実施例に対しても、同様な改良は可能
である。
前述のように、m=1である点で図1の方式(m=2)
よりもすぐれているが、これらの方式は、通常のアドレ
スマルチプレクス方式DRAMのワード線の欠陥救済に
はそのままでは適用できない。その第1の理由は、DR
AMではメモリセルのリフレッシュが必要なため、同時
に選択されるワード線数を任意に設定することができな
いからである。同時にリフレッシュされるメモリセル数
は、図1の場合NB個であるのに対し、図3、図5、図
7の場合は、NB/2個である。
用するには、リフレッシュサイクル数の仕様の変更が必
要になる。第2の理由は、アドレスマルチプレクス方式
のため、ワード線選択の時点では、カラムアドレス信号
はまだ入力されていないので使用できないからである。
しかし、上のような問題がない場合、たとえばSRAM
の場合や、アドレスマルチプレクス方式でないDRAM
でリフレッシュサイクル数の制約がない場合は、これら
の方式が適用できる。通常のDRAMでもビット線の欠
陥救済には、これらの方式が適用できる。同時に選択さ
れるビット線数はリフレッシュサイクル数に影響しない
し、ビット線選択の時点ではロウアドレス信号は既に入
力されているからである。
のワード線の欠陥救済の場合は、図1の実施例のよう
に、同時にリフレッシュされるメモリセルを同時に置換
することが望ましい。しかし、DRAMのワード線の欠
陥救済の場合でも図9のような場合は、m=1とするこ
とができる。これは、メモリアレーを4分割するのに、
ワード線は分割せずに、ビット線を4分割したものであ
る。欠陥救済の方式は図7の実施例と同様である。この
場合は、同時にリフレッシュされるメモリセル数は図1
と同じくNB個であるし、選択されるメモリマットを決
定するアドレス信号は両方ともロウアドレス信号だから
である。
だけ設けられ、その出力YS〔j〕は図中に一点鎖線で
示す配線によって、各メモリマットに供給されている。
これは、多分割ビット線と呼ばれる手法であり、Yデコ
ーダを複数のメモリマットで共用することにより面積の
低減を図るものである。また、センスアンプ及び入出力
線を2個のメモリマットで共用している。すなわち、2
40を130と131で、241を132と133でそ
れぞれ共用している。これはシェアドセンスと呼ばれる
手法であり、センスアンプの面積を低減するのに有効で
ある。多分割ビット線およびシェアドセンスについて
は、たとえばアイ・エス・エス・シー・シー、ダイジェ
スト・オブ・テクニカル・ペーパーズ、第282頁から
第283頁、1984年2月(ISSCC Digest of
Technical Papers, pp.282−283,Feb.19
84)、あるいは特開昭57−198592に記載され
ている。
ワード線の欠陥救済に適用した例である。しかし、本発
明はビット線の欠陥救済にも適用可能である。
発明に用いるアドレス比較回路について説明する。図1
0は図1の半導体メモリに用いるアドレス比較回路の一
例である。図中、801はNチャネルMOSトランジス
タ、802および803はPチャネルMOSトランジス
タ、804はインバータである。810は、不良アドレ
スの1ビットを記憶し、それをアドレス信号の1ビット
と比較するビット比較回路であり、811はレーザで切
断されるヒューズ、812および821〜824はNチ
ャネルMOSトランジスタ、817〜820はPチャネ
ルMOSトランジスタ、813はインバータ、814、
815はNANDゲートである。以下、この回路の動作
を説明する。
にしてトランジスタ802を導通させ、ノード805を
高レベルに設定する。このとき、出力XRは低レベルで
ある。次に、アドレス信号AX〔i〕(i=0〜nW−
1)を印加する。各ビット比較回路810は、回路内に
記憶されている不良アドレスの1ビットとAX〔i〕と
を比較し、一致すれば出力C〔i〕を高レベル、不一致
ならば低レベルにする。すべてのビット比較回路の比較
結果が一致のとき、トランジスタ801がすべて導通状
態になる。このとき、ノード805が放電されて低レベ
ルになり、出力XRが高レベルになる。すなわち、印加
されたアドレスが不良アドレスと一致したと判定され
る。アドレスのうち、1ビットでも一致しないとノード
805は放電されず、したがって出力XRは低レベルの
ままである。なお、トランジスタ803は、伝達コンダ
クタンスの比較的小さいトランジスタであり、ノード8
05の電位をラッチするためのものである。ノード80
5が放電されないときは、出力XRは低レベルであるか
ら、トランジスタ803が導通状態になる。これによ
り、ノード805の電位が高レベルに保持される。
細に説明する。この回路は、ヒューズ811が切断され
ているか否かによって、不良アドレスの1ビットを記憶
する。ここでは、ヒューズが切断されていない状態を
“0”、ヒューズが切断されている状態を“1”に対応
させている。ヒューズが切断されていないときは、ノー
ド830が高レベル、831が低レベルになる。交差結
合された2個のNANDゲート814、815から成る
ラッチの出力は、ノード832が低レベル、833が高
レベルになる。したがって、アドレス信号AX〔i〕=
“0”のとき、すなわち真信号AX〔i〕が低レベル、
補信号/AX〔i〕が高レベルのときに、出力C〔i〕
が高レベルになる。ヒューズが切断されているときは、
各ノードの電位は上とは逆になり、アドレス信号AX
〔i〕=“1”のときに、出力C〔i〕が高レベルにな
る。
ス信号AX〔i〕、/AX〔i〕のかわりに、それぞれ電
源VCC、タイミング信号/φA(アドレス信号と同じタ
イミングで高レベルから低レベルに変化する信号)が入
力されている。これは、いわゆるエネーブル回路であ
り、欠陥救済のためにこのアドレス比較回路を使用する
か否かを決定するためのものである。使用する場合はヒ
ューズを切断する。ヒューズが切断されていないとき
は、エネーブル回路の出力Eは常に低レベルであるの
で、アドレス比較回路の出力XRは常に低レベルであ
る。
では、カラムアドレスAY〔nB−1〕をも比較する。こ
れは、ビット比較回路810とMOSトランジスタ80
1を1個ずつ追加することによって、実現できる。
は、ここで示したレーザで切断されるヒューズに限られ
ない。電気的に切断されるヒューズや、EPROM等の
不揮発性のメモリを用いてもよい。
アドレス比較回路の他の実施例を示す。本実施例は、図
7または図9の半導体メモリに適用するのに好適であ
る。前実施例との相違点は、ビット比較回路810とN
チャネルMOSトランジスタ801とを組合せた回路
が、2組(850および851)設けられていることで
ある。回路850および851内には、それぞれ不良ア
ドレスが記憶されている。以下、本実施例の動作を説明
する。
にして、ノード805を高レベルに設定する。つぎに、
アドレス信号AX〔i〕(i=0〜nW−1)を印加す
る。このとき、回路850および851において、それ
ぞれ不良アドレスとの比較が行われる。印加されたアド
レスが、回路850、851内に記憶されている不良ア
ドレスのいずれか一方と一致したとき、ノード805は
放電され、出力XLは高レベルになる。
ように、図7または図9の欠陥救済回路において、アド
レス比較回路2個にORゲート(502または503)
を付加した回路と等価である。したがって、本回路を用
いれば、図7または図9のORゲートは必要ない。しか
も、ノード805の放電時間は前実施例と同じであるか
ら、ORゲートの付加による遅延をなくすることができ
る。
メモリのビット線の欠陥救済の場合、複数のメモリマッ
トにまたがる不良が生ずることがある。Yデコーダやセ
ンスアンプを複数のメモリマットで共用しているからで
ある。しかし、この問題は、以下に述べるように、アド
レス比較回路に“0”、“1”だけでなく、ドントケア
値“X”を記憶させることによって解決できる。以下、
ドントケア値を利用した実施例を説明する。
例を示す。図中、10はメモリアレー、20はセンスア
ンプおよび入出力線、30はXデコーダ、40はYデコ
ーダ、500は欠陥救済回路、630は予備ビット線選
択回路(構成は図33と同様)、701はデータ入力バ
ッファ、702はデータ出力バッファである。メモリア
レー10は、正規のメモリセルが配置されている領域1
4と、予備メモリセルが配置されている領域15から成
る。領域14には、NW本のワード線W〔i〕(i=0
〜NW−1)とNB本のビット線B〔j〕(j=0〜NB
−1)との交点に、NW×NB個のメモリセルM〔i,
j〕が配置されている。領域15には、NW本のワード
線とL本(ここではL=2)の予備ビット線SB〔k〕
(k=0〜L−1)との交点に、NW×L個の予備メモ
リセルが配置されている。なお、本実施例のアレー方式
は折り返しビット線方式であるが、本発明はオープンビ
ット線方式のメモリにも同様に適用できる。折り返しビ
ット線方式およびオープンビット線方式の詳細について
は、たとえば、アイ・イー・イー、プロシーディング、
第130巻第1部第3号、第127頁から第135頁、
1983年6月(IEE PROC.,Vol.130,P
t.I,No.3,pp.127−135,June 1983)
に記述されている。
ついて説明する。本実施例の欠陥救済回路の特徴は、各
アドレス比較回路AC〔k〕にカラムアドレス信号だけ
でなくロウアドレス信号AX
入力されていること、およびアドレス比較回路にドント
ケア値“X”を記憶できることである。これにより、ア
ドレス比較回路において、ロウアドレスを比較すること
も比較しないようにすることもできる。図32の従来例
の場合は、アドレス比較回路ではカラムアドレスのみが
比較される。ビット線単位で正規のメモリセルと予備メ
モリセルとの置換を行うためである。本実施例でも、ロ
ウアドレスを比較しないようにすれば、従来通りのビッ
ト線単位での置換が実現できる。一方、ロウアドレスを
比較するようにすれば、1ビット単位での正規のメモリ
セルと予備メモリセルとの置換ができる。
は、本実施例の欠陥救済回路において可能な、正規のメ
モリセルと予備メモリセルとの置換方法の例を示した表
である。図中、○印はそのアドレスを比較する(“0”
または“1”を記憶させる)ことを、×印はそのアドレ
スを比較しない(“X”を記憶させる)ことを示してい
る。表の第1列のようにロウアドレスもカラムアドレス
もすべて比較するようにすれば、1ビット単位で正規の
メモリセルと予備メモリセルとの置換が行われる。第3
列のようにロウアドレスを比較しないようにすれば、従
来通りのビット線単位での置換が行われる。また、第2
列のようにロウアドレスの最下位のビットのみ比較しな
いようにすれば、2ビット単位での置換が行われる。
ドレスを用いることが本実施例のもう一つの特徴であ
る。従来の欠陥救済技術では、ワード線の欠陥救済には
ロウアドレスのみ、ビット線の欠陥救済にはカラムアド
レスのみを用いていた。しかし、本実施例のようにビッ
ト線の欠陥救済にロウアドレスを用いたり、逆にワード
線の欠陥救済にカラムアドレスを用いたりすることによ
って、上記のような各種置換方法を実現できるようにな
る。
法によって、半導体メモリの各種不良にきめ細かく対処
できることである。一般に、半導体メモリの不良には、
1ビット不良(たとえばメモリセルキャパシタのピンホ
ールによって生ずる)、対ビット不良(たとえばコンタ
クトの不良によって生ずる)、ビット線不良(たとえば
ビット線の断線によって生ずる)等がある。図32の従
来例では、1ビットの不良でも、その不良メモリセルを
含むビット線全体を予備ビット線で置換する。それに対
して本実施例では、1ビット不良の場合は不良メモリセ
ル1個のみ、対ビット不良の場合は不良メモリセル2個
のみを予備メモリセルで置換することができる。もちろ
んビット線不良の場合は、従来通りビット線単位での置
換も可能である。このように必要最小限のメモリセルの
みを予備メモリセルで置換することにより、正規のメモ
リセルを置換した予備メモリセルに不良がある確率が従
来よりも小さくなり、歩留りが向上する。予備メモリセ
ルがすべて不良でない確率は、メモリセル数の指数関数
に逆比例するからである。
リセルを用いるので、予備メモリセルの利用効率が高ま
る。たとえば、正規のメモリセルM〔i1,j1〕とM
〔i2,j2〕(i1≠i2,j1≠j2)が不良である場合
を考える。このような場合、従来方式では修復のために
2本の予備ビット線が必要である。しかし本実施例の場
合は、たとえば、アドレス比較回路AC
ドレス〔i1,j1〕を、AC〔1〕に〔i2,j2〕をそ
れぞれ記憶させることにより、1本の予備ビット線SB
ビット線SB〔1〕を他の不良の修復に充てることがで
きるので、歩留りの向上が期待できる。
明する。本実施例の欠陥救済回路は、R個(ここではR
=4)のアドレス比較回路AC〔k〕(k=0〜R−
1)、R/L個(ここではR/L=2)のORゲート5
02、503、およびNORゲート504から成る。R
個のアドレス比較回路の出力YR
R/L個ずつ論理和をとったL個の信号YL
L〔1〕が、予備ビット線選択回路630まで配線さ
れ、予備ビット線の選択に用いられる。NORゲート5
04は、YR
となったときにYデコーダ40をディスエーブルするた
めのものである。
レス比較回路数Rとの選択の自由度が大きいことであ
る。従来方式では、ビット線を単位として置換するの
で、必ずL=Rでなければならない。たとえば図32で
はL=R=4である。それに対して本発明による方式で
は、L、Rを比較的自由に選ぶことができるので、小面
積で効率のよい欠陥救済回路を作ることが可能である。
LとRの関係を次に説明する。
のメモリセルの数をbとすると、 L≦R≦LNW/b …(3) が成り立つ。左側の不等号は、アドレス比較回路数より
も多い予備線を設けても無意味であることを示してい
る。右側の不等号は、次のような意味である。予備メモ
リセルはLNW個であるが、このうちb個ずつ同時に置
換されるので、置換の自由度はLNW/bである。した
がって、これよりもアドレス比較回路数を多くしても無
意味である。従来方式(ビット線単位の置換)では、b
=NWであるから、L=Rでなければならない。それに
対して本実施例の方式では、bは1≦b≦NWの範囲で
自由に選ぶことができるから、L、Rの選択の自由度が
大きくなる。
を増やす方が望ましい。アドレス比較回路を1個設ける
ことによる面積増加は、普通、全メモリマットに予備線
を1本ずつ設けることによる面積増加よりも小さいから
である。従来方式では、L=Rという関係に束縛されて
Rだけを増やすことはできないが、本発明によればそれ
が可能である。したがって、Lを比較的小さく、Rを比
較的大きくすることにより、小面積で効率のよい欠陥救
済回路を作ることができる。すなわち、本発明の特徴は
(3)式から左側の等号を除いた関係、 L<R≦LNW/b …(4) とできることにある。たとえば、図12の実施例では、
L=2、R=4である。なお、この例から明らかなよう
に、RはLの倍数にするのが望ましい。
例を示す。前実施例との相違点は、アドレス比較回路の
出力の配線方法にある。本実施例では、YR
R〔3〕の論理和をとった信号YLを予備ビット線選択
回路640まで配線する。これに伴い、予備ビット線選
択信号640の構成を図16(a)または(b)のよう
に変更する。これは予備ビット線の多重選択を防止する
ためである。(a)ではYLビット線を選択するアドレ
ス信号AY
ることにより、(b)ではビット線選択信号φYをAY
作ることにより、予備ビット線1本だけが選択されるよ
うにしている。
した置換が可能なことである。これを図17を用いて説
明する。表の第1列、第2列、第5列は、図14と同
様、それぞれビット不良、対ビット不良、ビット線不良
の場合である。第3列は対ビット不良であるが、同一ワ
ード線上の隣接2ビットが不良の場合である(第2列は
同一ビット線上の隣接2ビット)。このような不良は、
たとえばメモリセルキャパシタ同士のショートによって
生ずる。第4列は2×2ビットが不良の場合である。こ
のような不良は、たとえばSRAMの場合、コンタクタ
不良によって生ずる。第6列は隣接する2本のビット線
が不良の場合である。このような不良は、たとえばビッ
ト線同士のショートによって生ずる。本実施例を用いれ
ば、以上のような各種不良をも容易に修復できる。
路500と予備ビット線選択回路640との間の配線数
が、少なくてすむことである。
例を示す。前2実施例との相違点は、メモリアレーがビ
ット線方向に複数(ここでは4個)のメモリマット13
0〜133に分割されていることである。各メモリマッ
トは、正規のメモリセルが配置されている領域140〜
143と、予備メモリセルが配置されている領域150
〜153から成る。領域140〜143にはそれぞれ、
NW/4本のワード線W〔i,n〕(i=0〜NW/4−
1,n=0〜3)とNB本のビット線B〔j,n〕(j
=0〜NB−1,n=0〜3)との交点にNW×NB/4
個のメモリセルが配置されている。領域150〜153
にはそれぞれ、NW/4本のワード線W〔i,n〕(i
=0〜NW/4−1,n=0〜3)とL本(ここではL
=2)の予備ビット線B〔k,n〕(k=0〜L−1,
n=0〜3)との交点にNW×L/4個の予備メモリセ
ルが配置されている。センスアンプおよび入出力線23
0〜233は、各メモリマットに対応して設けられてい
る。しかし、Yデコーダ40は端に1個だけ設けられて
いる。Yデコーダの出力YS〔j〕は、図中に一点鎖線
で示す配線によって、各メモリマットに供給されてい
る。予備ビット線選択回路630の出力SYS〔k〕に
ついても同様である。これは、ビット線分割と呼ばれる
手法であり、Yデコーダを複数のメモリマットで共用す
ることにより面積の低減を図るものである。ビット線分
割については、たとえばアイ・エス・エス・シー・シ
ー、ダイジェスト・オブ・テクニカル・ペーパーズ、第
282頁から第283頁、1984年2月(ISSC
C,Digest of Technical papers,pp.282−28
3,Feb.1984)、あるいは特開昭57−1985
92に記載されている。
リマットで回路(この場合はYデコーダおよびその出力
の配線)を共用している場合に特に有効である。なぜな
らば、共用されている回路に欠陥があると、複数のメモ
リマットにまたがる不良が生ずるが、本発明を用いれ
ば、このような不良も容易に修復できるからである。こ
れを図19を用いて説明する。表の第1列、第2列は、
図14と同様、それぞれビット不良、対ビット不良の場
合である。第3列はビット線不良の場合である。ただ
し、この場合はメモリアレーが4分割されているので、
メモリマットを選択するアドレス信号(ここではロウア
ドレスの上位2ビット、AX〔nW−1〕およびAX〔nW
−2〕)をも比較する。これにより、1個のメモリマッ
トのビット線だけが予備ビット線で置換される。表の第
4列はYデコーダ不良の場合である。この場合は、上記
のAX〔nW−1〕およびAX〔nW−2〕は比較しない。
これにより、4個のメモリマットの対応する位置のビッ
ト線が同時に予備ビット線で置換される。
例を示す。図18の実施例との相違点は、センスアンプ
および入出力線を2個のメモリマットで共用しているこ
とである。すなわち、240を130と131で、24
1を132と133でそれぞれ共用している。これはシ
ェアドセンスと呼ばれる手法であり、センスアンプの面
積を低減するのに有効である。前記の文献および公開特
許公報には、シェアドセンスについても記載されてい
る。
あるとその左右のマットの対応するビット線が同時に不
良になるが、本発明を用いれば、このような不良も容易
に修復できる。これを図21を用いて説明する。表の第
1列、第2列、第3列、第5列は、図19と同様、それ
ぞれビット不良、対ビット不良、ビット線不良、Yデコ
ーダ不良の場合である。第4列はセンスアンプ不良の場
合である。この場合は、ロウアアドレスのうち、メモリ
マット130、131を選択するか、132、133を
選択するかを決定するアドレス信号(ここではAX〔nW
−1〕)のみ比較する。これにより、センスアンプの左
右のメモリマットの対応する位置のビット線が同時に予
備ビット線で置換される。
ビット線の欠陥救済に適用した例であった。しかし、ド
ントケア値を利用した欠陥救済は、ワード線の欠陥救済
にも適用可能である。
施例6〜9に用いるためのアドレス比較回路について説
明する。ここで用いるアドレス比較回路は、前述のよう
に、不良アドレスとして“0”、“1”、“X”の3値
を記憶できることが特徴である。図22はアドレス比較
回路の第3の実施例である。図中、800はANDゲー
トである。810は、ビット比較回路であり、不良アド
レスの1ビットを記憶し、それをアドレス信号の1ビッ
トと比較するものである。861〜863はレーザで切
断されるヒューズ、864、867はインバータ、86
5、866はNANDゲートである。809はエネーブ
ル回路であり、欠陥救済回路のために当該アドレス比較
回路を使用するか否かを決定するためのものである。8
11はレーザで切断されるヒューズ、812はNチャネ
ルMOSトランジスタ、813、816はインバータ、
814、815はNANDゲートである。以下、この回
路の動作を説明する。
陥救済のために当該アドレス比較回路を使用するとき
は、まずエネーブル回路内のヒューズ811を切断す
る。これによりノード830が低レベル、831が高レ
ベル、832が高レベル、833が低レベルになる。し
たがってエネーブル信号Eが高レベルになる。ヒューズ
811が切断されていないときは、各ノードの電位が上
とは逆になり、エネーブル信号Eは低レベルになる。
ット比較回路810は、ヒューズの切断状況により記憶
されている値と、アドレスAX〔i〕(またはAY
〔j〕)とを比較し、一致すれば出力CX〔i〕(また
はCY〔j〕)を高レベル、不一致ならばを低レベルに
する。ヒューズの切断方法は次のとおりである。“0”
を記憶させるときはヒューズ861および862を切断
する。これにより、アドレスが“0”のとき、すなわち
真信号AX〔i〕(またはAY〔j〕)が低レベル、補信
号/AX〔i〕(または/AY〔j〕)が高レベルのとき
に出力CX〔i〕(またはCY〔j〕)が高レベルにな
る。“1”を記憶させるときはヒューズ861および8
63を切断する。これにより、アドレスが“1”のと
き、すなわち真信号AX〔i〕(またはAY〔j〕)が高
レベル、補信号/AX〔i〕(または/AY〔j〕)が低
レベルのときに出力CX〔i〕(またはCY〔j〕)が高
レベルになる。“X”を記憶させるときはヒューズ86
2および863を切断する。このときはアドレスの如何
にかかわらず、出力CX〔i〕(またはCY〔j〕)は高
レベルである。すべてのビット比較回路の比較結果が一
致のとき、ANDゲート800の出力YRが高レベルに
なる。すなわち、印加されたアドレスが不良アドレスと
一致したと判定される。アドレスのうち、1ビットでも
一致しないとYRは低レベルになる。なお、上記はエネ
ーブル信号Eが高レベルの場合である。エネーブル信号
Eが低レベルのときは、すべてのビット比較回路の出力
CX〔i〕(またはCY〔j〕)は低レベルであり、した
がってYRも低レベルである。
たがって占有面積を小さくできることである。
イスは、ここで示したレーザで切断されるヒューズに限
られない。電気的に切断されるヒューズや、EPROM
等の不揮発性メモリを用いてもよい。
アドレス比較回路の第4の実施例を示す。前実施例との
相違点は、ビット比較回路810の構成にある。87
1、881、882はレーザで切断されるヒューズ、8
72はNチャネルMOSトランジスタ、873、887
はインバータ、874、875、885、886はNA
NDゲート、883、884はORゲートである。以
下、この回路の動作を説明する。
るときは、ヒューズ871を切断する。これにより、ノ
ード890が低レベル、891が高レベル、892が高
レベル、893が低レベルになる。したがってドントケ
ア信号Dが高レベルになるので、アドレスの如何にかか
わらず出力CX〔i〕(またはCY〔j〕)は高レベルに
なる。“0”または“1”を記憶させるときは、ヒュー
ズ871は切断しない。このとき、Dは低レベルであ
る。“0”を記憶させるときは、ヒューズ881を切断
する。これにより、アドレスが“0”のとき、すなわち
真信号AX〔i〕(またはAY〔j〕)が低レベル、補信
号/AX〔i〕(またはAY〔j〕)が高レベルのときに
出力CX〔i〕(またはCY〔j〕)が高レベルになる。
“1”を記憶させるときはヒューズ882を切断する。
これにより、アドレスが“1”のとき、すなわち真信号
AX〔i〕(またはAY〔j〕)が高レベル、補信号/A
X〔i〕(または/AY〔j〕)が低レベルのときに出力
CX〔i〕(またはCY〔j〕)が高レベルになる。
“1”、“X”いずれを記憶させるときも、切断すべき
ヒューズの数は1個でよい(前実施例では2個)ことで
ある。これにより検査の際に欠陥救済に要する時間を短
縮できる。もう一つの特徴は、図には示していないが、
ドントケア信号Dを複数のビット比較回路で共有できる
ことである。たとえば図21に示した5通りの置換方法
を実現するためには、AX〔1〕〜AX〔nW−3〕のド
ントケア信号は共通でよい。このようなときは、871
〜875から成る回路は1組だけ設ければよいので、占
有面積を小さくできる。
アドレス比較回路の第5の実施例を示す。前実施例との
相違点は、ビット比較回路810の構成にある。90
1、911はレーザで切断されるヒューズ、902、9
12はNチャネルMOSトランジスタ、903、913
はインバータ、904、905、914、915はNA
NDゲート、917、918、919、920はPチャ
ネルMOSトランジスタ921、922、923、92
4はNチャネルMOSトランジスタである。以下、この
回路の動作を説明する。
れていないときは、ノード932および942は低レベ
ルである。したがって、アドレスの如何にかかわらず、
ビット比較回路810の出力CX〔i〕(またはCY
〔j〕)は高レベルである。これは“X”が記憶されて
いる状態である。“0”を記憶させるときはヒューズ9
01を切断する。これにより、ノード932は高レベ
ル、ノード942は低レベルになる。したがって、アド
レスが“0”のとき、すなわち真信号AX〔i〕(また
はAY〔j〕)が低レベル、補信号/AX〔i〕(また
は/AY〔j〕)が高レベルのときに出力CX〔i〕
(またはCY〔j〕)が高レベルになる。“1”を記憶
させるときにはヒューズ911を切断する。これによ
り、ノード932は低レベル、ノード942は高レベル
になる。したがって、アドレスが“1”のとき、すなわ
ち真信号AX〔i〕(またはAY〔j〕)が高レベル、補
信号/AX〔i〕(または/AY〔j〕)が低レベルのと
きに出力CX〔i〕(またはCY〔j〕)が高レベルにな
る。
施例に比べて少なく、したがって占有面積を小さくでき
ることである。しかも、“X”を記憶させるときはヒュ
ーズを切断しなくてもよいので、欠陥救済に要する時間
を前実施例よりもさらに短縮することができる。
1を両方共切断することにより、当該アドレス比較回路
を無効にできることである。このときはCX〔i〕(ま
たはCY〔j〕)は常に低レベルであるから、YRも常
に低レベルである。この機能は、正規メモリセルを置換
した予備メモリセルが不良であった場合に用いることが
できる。たとえば、図12の半導体メモリにおいて、不
良ビット線を予備ビット線SB
て、アドレス比較回路AC
を上記の方法で無効にし、かわりにたとえばAC〔2〕
を用いて予備ビット線SB〔1〕によって置換すればよ
い。
〜5では、すべてのビット比較回路にドントケア値
“X”を記憶させることができる。しかし、一部のビッ
ト比較回路には“X”を記憶させる必要がないこともあ
る。たとえば図21に示した5通りの置換方法を実現す
るためには、AY
較回路には“X”を記憶させる必要がない。このような
ときはAY
として“X”を記憶できない回路、たとえば図10に示
した回路を用いて、占有面積の低減を図ることができ
る。また、たとえば図21〜の第3列〜第5列の3通り
の置換方法のみを実現する(すなわち、ビット単位、対
ビット単位での置換は行わない)場合は次のようにすれ
ばよい。AX〔nW−2〕、AX〔nW−1〕の2ビットの
み、“X”を記憶できるビット比較回路を用い、AY
ット比較回路を用いる。AX
のビット比較回路は不要である。
に置換されるメモリセル数が少なくなり、予備メモリセ
ル自体に不良のある確率が小さくなり、しかも予備メモ
リセルの利用効率が高くなる。また、各メモリマットの
予備線数とアドレス比較回路数との設定の自由度が大き
くなる。これにより、小面積で歩留り改善効果の大きい
欠陥救済回路を作ることができる。
ロック図。
ド線と予備ワード線との置換方法を示す図。
ロック図。
ド線と予備ワード線との置換方法を示す図。
ロック図。
ロック図。
図。
ロック図。
ブロック図。
ブロック図。
図。
ブロック図。
ブロック図。
図。
択回路の回路図。
図。
択回路の回路図。
と予備ワード線との置換方法を示す図。
図。
と予備ワード線との置換方法を示す図。
図。
択回路の回路図。
…メモリマット、20,200〜203,230〜23
3,240,241…センスアンプおよび入出力線、3
0,300,301,310〜313,330〜333
…Xデコーダ、40,400,410,411…Yデコ
ーダ,500…欠陥救済回路、600,610〜61
3,620〜627…予備ワード線選択回路、630,
640…予備ビット線選択回路、700…マルチプレク
サ、701…データ入力バッファ、702…データ出力
バッファ、W〔i〕,W〔i,0〕〜W〔i,3〕…正
規のワード線、SW〔k,0〕〜SW〔k,3〕…予備
ワード線、B〔j〕,B〔j,0〕〜B〔j,3〕…正
規のビット線、SB〔k〕,SB〔k,0〕〜SB
〔k,3〕…予備ビット線、YS〔j〕…Yデコーダ出
力線、AC〔k〕…アドレス比較回路。
Claims (7)
- 【請求項1】複数のワード線と複数のビット線及び予備
ビット線との交点に設けられた複数のメモリセルをそれ
ぞれに持つ複数のメモリマットと、前記ビット線と前記
予備ビット線の置換を制御するために設けられ、”
0”、”1”、ドントケア値”X”のいずれかを記憶可
能なビット比較回路を含む欠陥救済回路とを有すること
を特徴とする半導体装置。 - 【請求項2】請求項1において、前記ビット比較回路
に”0”が記憶された場合に前記ビット比較回路は入力
される信号の論理値が”0”のとき一致信号を発生し、
前記ビット比較回路に”1”が記憶された場合に、前記
ビット比較は入力される信号の論理値が”1”のとき一
致信号を発生し、前記ビット比較回路にドントケア値”
X”が記憶された場合に、前記ビット比較は入力される
信号の論理値が”0”及び”1”の両方で一致信号を発
生することを特徴とする半導体装置。 - 【請求項3】請求項1または2において、前記ビット比
較回路は、ヒューズを含むことを特徴とする半導体装
置。 - 【請求項4】複数のワード線と複数のビット線及び予備
ビット線との交点に設けられた複数のメモリセルをそれ
ぞれに持つ複数のメモリマットと、 前記複数のメモリマットに渡って設けられ、前記複数の
メモリマットの前記複数のビット線のそれぞれに対応し
て設けられる複数のビット線選択線と、 前記複数のビット線選択線の選択を制御するためのYデ
コーダと、 前記複数のメモリマットに渡って設けられ、前記複数の
メモリマットの前記予備ビット線を選択するための予備
ビット線選択線と、 前記第1予備ビット線選択線の選択を制御するために設
けられ、カラムアドレスとロウアドレスに基づくアクセ
ス情報が入力される欠陥救済回路とを備え、 前記欠陥救済回路は、前記アクセス情報をビット毎に比
較する複数のビット比較回路を有し、 前記ビット比較回路は、”0”、”1”、ドントケア
値”X”のいずれかを記憶可能とされることを特徴とす
る半導体装置。 - 【請求項5】請求項4において、前記複数のビット比較
回路は、ロウアドレスに関する情報を比較する第1領域
と、カラムアドレスに関する情報を比較する第2領域と
を有し、 前記Yデコーダ出力に欠陥がある場合には、前記第1領
域に含まれる前記ビット比較回路はドントケア値”X”
にプログログラムされることを特徴とする半導体装置。 - 【請求項6】請求項4において、前記半導体装置は、前
記複数のメモリマットのうち隣り合う2個のメモリマッ
トで共用されるセンスアンプをさらに含み、 前記欠陥救済回路は、前記センスアンプに欠陥がある場
合に、前記センスアンプを共用する2個のメモリマット
のそれぞれのビット線を対応する予備ビットで置換する
ようプログラム可能とされることを特徴とする半導体装
置。 - 【請求項7】請求項1から6のいずれかにおいて、前記
複数のメモリセルのそれぞれはダイナミック形メモリセ
ルであることを特徴とする半導体装置。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25202888 | 1988-10-07 | ||
JP63-275375 | 1988-10-31 | ||
JP63-252028 | 1988-10-31 | ||
JP27537588 | 1988-10-31 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26002189A Division JP2993684B2 (ja) | 1988-10-07 | 1989-10-06 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11219597A JPH11219597A (ja) | 1999-08-10 |
JP2980123B2 true JP2980123B2 (ja) | 1999-11-22 |
Family
ID=26540502
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26002189A Expired - Lifetime JP2993684B2 (ja) | 1988-10-07 | 1989-10-06 | 半導体装置 |
JP10332236A Expired - Lifetime JP2980123B2 (ja) | 1988-10-07 | 1998-11-24 | 半導体装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26002189A Expired - Lifetime JP2993684B2 (ja) | 1988-10-07 | 1989-10-06 | 半導体装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP2993684B2 (ja) |
KR (1) | KR930006127B1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6018482A (en) * | 1997-07-07 | 2000-01-25 | Nec Corporation | High efficiency redundancy scheme for semiconductor memory device |
JP2000298997A (ja) | 1999-04-15 | 2000-10-24 | Nec Corp | 半導体メモリ装置、データ設定方法および装置、情報記憶媒体 |
JP2001273788A (ja) | 2000-03-29 | 2001-10-05 | Hitachi Ltd | 半導体記憶装置 |
US6421284B1 (en) | 2000-05-26 | 2002-07-16 | Hitachi, Limited | Semiconductor device |
US7417908B2 (en) * | 2003-07-15 | 2008-08-26 | Elpida Memory, Inc. | Semiconductor storage device |
US7447066B2 (en) * | 2005-11-08 | 2008-11-04 | Sandisk Corporation | Memory with retargetable memory cell redundancy |
-
1989
- 1989-10-06 JP JP26002189A patent/JP2993684B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1989-10-07 KR KR1019890014432A patent/KR930006127B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1998
- 1998-11-24 JP JP10332236A patent/JP2980123B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR900006973A (ko) | 1990-05-09 |
KR930006127B1 (ko) | 1993-07-07 |
JPH02192100A (ja) | 1990-07-27 |
JP2993684B2 (ja) | 1999-12-20 |
JPH11219597A (ja) | 1999-08-10 |
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