JP2979268B2 - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は洗浄装置に関するもの
で、例えば半導体ウエハ等の被処理体を純水あるいは薬
液を収容する処理槽に浸漬して洗浄処理する洗浄装置に
関するものである。
で、例えば半導体ウエハ等の被処理体を純水あるいは薬
液を収容する処理槽に浸漬して洗浄処理する洗浄装置に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種の洗浄装置として、処理槽
内に収容される洗浄用処理液中に半導体ウエハを浸漬
し、そして、処理槽の下部より処理液中に気体を噴射し
て、バブリングにより被処理体の洗浄を行うものが知ら
れている（特公昭６２−８７７９号公報、実開昭６０−
９６８３３号公報、実開昭６１−９０２４０号公報、実
開昭６３−１６２５２６号公報参照）。
内に収容される洗浄用処理液中に半導体ウエハを浸漬
し、そして、処理槽の下部より処理液中に気体を噴射し
て、バブリングにより被処理体の洗浄を行うものが知ら
れている（特公昭６２−８７７９号公報、実開昭６０−
９６８３３号公報、実開昭６１−９０２４０号公報、実
開昭６３−１６２５２６号公報参照）。
【０００３】この種の洗浄装置は、半導体ウエハをカセ
ットや治具内に複数枚立設した状態で、処理液中に浸漬
し、処理槽の底部に配設されたバブル発散器から窒素ガ
ス等の不活性ガスを噴射させて、バブリングにより半導
体ウエハの洗浄を行うものである。
ットや治具内に複数枚立設した状態で、処理液中に浸漬
し、処理槽の底部に配設されたバブル発散器から窒素ガ
ス等の不活性ガスを噴射させて、バブリングにより半導
体ウエハの洗浄を行うものである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
この種の洗浄装置はいずれもカセットや治具内にウエハ
を収納した状態で、ウエハの洗浄を行うため、ウエハと
カセット等との接触面積が多くなり、満遍なくウエハ全
面を均一に洗浄することができないという問題があっ
た。そこで、この問題を解決する手段として、カセット
を使用せずにウエハを立設させ下部を支持した状態で処
理液に浸漬させて洗浄する洗浄方法が考えられている。
この種の洗浄装置はいずれもカセットや治具内にウエハ
を収納した状態で、ウエハの洗浄を行うため、ウエハと
カセット等との接触面積が多くなり、満遍なくウエハ全
面を均一に洗浄することができないという問題があっ
た。そこで、この問題を解決する手段として、カセット
を使用せずにウエハを立設させ下部を支持した状態で処
理液に浸漬させて洗浄する洗浄方法が考えられている。
【０００５】しかし、ウエハを立設させて処理液に浸漬
させる方法においては、バブリングが強すぎると、ウエ
ハが浮き上がったり、移動することがあるため、安定し
た洗浄を行うために、ウエハを安定した状態に維持する
手段を設ける必要がある。
させる方法においては、バブリングが強すぎると、ウエ
ハが浮き上がったり、移動することがあるため、安定し
た洗浄を行うために、ウエハを安定した状態に維持する
手段を設ける必要がある。
【０００６】また、この種の洗浄装置は、一般にクリー
ンな雰囲気内で行われる関係上、ウエハの浮上防止等の
安全維持手段により塵埃等が侵入するのを防止する必要
がある。更には、処理液によって安全維持手段等が腐食
しないように考慮する必要がある。
ンな雰囲気内で行われる関係上、ウエハの浮上防止等の
安全維持手段により塵埃等が侵入するのを防止する必要
がある。更には、処理液によって安全維持手段等が腐食
しないように考慮する必要がある。
【０００７】この発明は上記事情に鑑みなされたもの
で、クリーンな雰囲気下で被処理体を安定した状態で処
理液中に浸漬すると共に、被処理体に満遍なく処理液を
接触させて洗浄を行えるようにした洗浄装置を提供する
ことを目的とするものである。
で、クリーンな雰囲気下で被処理体を安定した状態で処
理液中に浸漬すると共に、被処理体に満遍なく処理液を
接触させて洗浄を行えるようにした洗浄装置を提供する
ことを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１記載の発明は、処理槽内に収容される洗浄
用処理液中に被処理体の下部を載置した状態で浸漬し
て、上記被処理体の洗浄を行うようにした洗浄装置にお
いて、区画壁によって区画される処理室内に上記処理槽
を配置すると共に、処理室外に上記駆動源を配置し、上
記駆動源に連結される可動体を、上記区画壁を貫通して
上記処理室内に進入させると共に、洗浄中の上記被処理
体に向って進退移動可能に形成し、上記可動体に、上記
被処理体の移動を防止する移動防止体を取付け、かつ、
上記可動体の区画壁貫通部における処理室側に可動体を
移動可能に囲繞する耐蝕性カバーを取付けてなることを
特徴とする。
に、請求項１記載の発明は、処理槽内に収容される洗浄
用処理液中に被処理体の下部を載置した状態で浸漬し
て、上記被処理体の洗浄を行うようにした洗浄装置にお
いて、区画壁によって区画される処理室内に上記処理槽
を配置すると共に、処理室外に上記駆動源を配置し、上
記駆動源に連結される可動体を、上記区画壁を貫通して
上記処理室内に進入させると共に、洗浄中の上記被処理
体に向って進退移動可能に形成し、上記可動体に、上記
被処理体の移動を防止する移動防止体を取付け、かつ、
上記可動体の区画壁貫通部における処理室側に可動体を
移動可能に囲繞する耐蝕性カバーを取付けてなることを
特徴とする。
【０００９】また、請求項２記載の発明は、処理槽内に
収容される洗浄用処理液中に被処理体の下部を載置した
状態で浸漬して、上記被処理体の洗浄を行うようにした
洗浄装置において、上記処理槽の外部に配設される駆動
源と、上記駆動源に連結され て洗浄中の上記被処理体に
向って進退移動する可動体と、上記可動体に設けられ上
記被処理体の移動を防止する移動防止体とを具備し、上
記移動防止体の被処理体への接触状態を検知する圧力検
出手段の検出信号に基づいて上記移動防止体の被処理体
への接触圧力を制御することを特徴とする。
収容される洗浄用処理液中に被処理体の下部を載置した
状態で浸漬して、上記被処理体の洗浄を行うようにした
洗浄装置において、上記処理槽の外部に配設される駆動
源と、上記駆動源に連結され て洗浄中の上記被処理体に
向って進退移動する可動体と、上記可動体に設けられ上
記被処理体の移動を防止する移動防止体とを具備し、上
記移動防止体の被処理体への接触状態を検知する圧力検
出手段の検出信号に基づいて上記移動防止体の被処理体
への接触圧力を制御することを特徴とする。
【００１０】この発明において、上記移動防止体は耐蝕
性を有する材質で、被処理体の上端に接触して被処理体
の浮上や移動を防止するものであれば、その形態は任意
のものでよいが、好ましくは被処理体との接触を可及的
に少なくし、かつ安定した状態で被処理体に接触するも
のである方がよく、例えば移動防止体を移動防止体基部
の下面にフィン状に突出する可撓性を有する押え片にて
形成することができる。この場合、移動防止体は被処理
体の浮上・移動時に接触して被処理体の浮上や移動を防
止するものであれば、平常時には非接触であっても差支
えないが、好ましくは常時被処理体の上端に適正な圧力
で接触している方がよい。移動防止体を常時適正な圧力
で被処理体に接触される手段として任意のものが考えら
れるが、例えば移動防止体の押圧状態を検知する圧力検
知手段からの信号をフィードバックして移動防止体の被
処理体に対する押圧力を制御する手段が考えられる。
性を有する材質で、被処理体の上端に接触して被処理体
の浮上や移動を防止するものであれば、その形態は任意
のものでよいが、好ましくは被処理体との接触を可及的
に少なくし、かつ安定した状態で被処理体に接触するも
のである方がよく、例えば移動防止体を移動防止体基部
の下面にフィン状に突出する可撓性を有する押え片にて
形成することができる。この場合、移動防止体は被処理
体の浮上・移動時に接触して被処理体の浮上や移動を防
止するものであれば、平常時には非接触であっても差支
えないが、好ましくは常時被処理体の上端に適正な圧力
で接触している方がよい。移動防止体を常時適正な圧力
で被処理体に接触される手段として任意のものが考えら
れるが、例えば移動防止体の押圧状態を検知する圧力検
知手段からの信号をフィードバックして移動防止体の被
処理体に対する押圧力を制御する手段が考えられる。
【００１１】また、上記カバーは耐蝕性を有するもので
あれば、その材質は任意のものでよく、例えば塩化ビニ
ルやフッ素樹脂等を使用することができる。
あれば、その材質は任意のものでよく、例えば塩化ビニ
ルやフッ素樹脂等を使用することができる。
【００１２】また、この発明において、上記処理室を外
気と遮断し、上記カバー及び区画壁と可動体との間にシ
ール部材を介在させて密閉空間を形成し、上記密閉空間
内に加圧気体供給源を接続する方が好ましい（請求項
３）。この場合、上記加圧気体供給源から密閉空間内に
供給される加圧媒体は空気等の気体であっても差支えな
いが、好ましくは塵埃等の不純物を含まないクリーンな
気体である方がよく、更に好ましくは窒素ガス等の不活
性ガスである方がよい。
気と遮断し、上記カバー及び区画壁と可動体との間にシ
ール部材を介在させて密閉空間を形成し、上記密閉空間
内に加圧気体供給源を接続する方が好ましい（請求項
３）。この場合、上記加圧気体供給源から密閉空間内に
供給される加圧媒体は空気等の気体であっても差支えな
いが、好ましくは塵埃等の不純物を含まないクリーンな
気体である方がよく、更に好ましくは窒素ガス等の不活
性ガスである方がよい。
【００１３】また、この発明において、上記被処理体は
処理槽内に収容される洗浄用処理液中に被処理体の下部
を載置した状態で浸漬されて洗浄されるものであれば洗
浄形態は任意のものでよく、例えば処理槽の下部より処
理液中に気体を噴射して、被処理体の洗浄するものが好
適である（請求項４）。また、上記可動体は駆動源に連
結されて洗浄中の被処理体に向って進退移動するもので
あれば、その移動形態は任意のものでよく、回転移動あ
るいは直線移動のいずれであっても差し支えない。この
場合、上記可動体を被処理体の上部に向って進退移動さ
せる方が好ましい（請求項５）。
処理槽内に収容される洗浄用処理液中に被処理体の下部
を載置した状態で浸漬されて洗浄されるものであれば洗
浄形態は任意のものでよく、例えば処理槽の下部より処
理液中に気体を噴射して、被処理体の洗浄するものが好
適である（請求項４）。また、上記可動体は駆動源に連
結されて洗浄中の被処理体に向って進退移動するもので
あれば、その移動形態は任意のものでよく、回転移動あ
るいは直線移動のいずれであっても差し支えない。この
場合、上記可動体を被処理体の上部に向って進退移動さ
せる方が好ましい（請求項５）。
【００１４】
【作用】上記のように構成されるこの発明の洗浄装置に
よれば、区画壁によって区画される処理室内に配置され
た処理槽内の処理液中に被処理体が浸漬された状態で、
処理室外に配置された駆動源により駆動される可動体が
移動して、移動防止体が被処理体に接触することによ
り、被処理体の浮上や移動が防止される（請求項１，
４）。したがって、洗浄のためのバブリングを強めて効
率のよい洗浄を行うことができる。
よれば、区画壁によって区画される処理室内に配置され
た処理槽内の処理液中に被処理体が浸漬された状態で、
処理室外に配置された駆動源により駆動される可動体が
移動して、移動防止体が被処理体に接触することによ
り、被処理体の浮上や移動が防止される（請求項１，
４）。したがって、洗浄のためのバブリングを強めて効
率のよい洗浄を行うことができる。
【００１５】また、移動防止体を被処理体の上端に接触
させることにより、均一に洗浄を行うことができ、しか
も、ウエハ相互間の接触等による被処理体の損傷を防止
することができる（請求項５）。また、移動防止体の被
処理体への接触状態を検知する圧力検出手段の検出信号
に基づいて移動防止体の被処理体への接触圧力を制御す
ることにより、移動防止体の被処理体への適正な接触状
態を維持することができる（請求項２）。
させることにより、均一に洗浄を行うことができ、しか
も、ウエハ相互間の接触等による被処理体の損傷を防止
することができる（請求項５）。また、移動防止体の被
処理体への接触状態を検知する圧力検出手段の検出信号
に基づいて移動防止体の被処理体への接触圧力を制御す
ることにより、移動防止体の被処理体への適正な接触状
態を維持することができる（請求項２）。
【００１６】また、可動体の区画壁貫通部における処理
室側に耐蝕性カバーを囲繞すると共に、カバー及び区画
壁と可動体との間にシール材を介在させて密閉空間を形
成することにより、処理室側から駆動源側に処理液が流
出して駆動部側の装置を腐食させるのを防止することが
できる（請求項１）。加えて、上記密閉空間内に加圧気
体を供給することにより、更に、駆動部側から処理室側
への塵埃等の侵入を防止して処理室内をクリーンに維持
することができる（請求項５）。
室側に耐蝕性カバーを囲繞すると共に、カバー及び区画
壁と可動体との間にシール材を介在させて密閉空間を形
成することにより、処理室側から駆動源側に処理液が流
出して駆動部側の装置を腐食させるのを防止することが
できる（請求項１）。加えて、上記密閉空間内に加圧気
体を供給することにより、更に、駆動部側から処理室側
への塵埃等の侵入を防止して処理室内をクリーンに維持
することができる（請求項５）。
【００１７】
【実施例】以下にこの発明の実施例を図面に基いて詳細
に説明する。
に説明する。
【００１８】◎第一実施例 図１はこの発明の洗浄装置の第一実施例の要部斜視図、
図２はこの発明における可動体の処理室側と大気側との
シール機構の断面図、図３は洗浄状態の概略断面図が示
されている。
図２はこの発明における可動体の処理室側と大気側との
シール機構の断面図、図３は洗浄状態の概略断面図が示
されている。
【００１９】この発明の洗浄装置は、区画壁１にて外気
と遮断される処理室２と、処理室２内に配設される処理
槽３と、処理槽３内に収容される洗浄用処理液４中に被
処理体である複数枚の半導体ウエハ５（以下にウエハと
いう）の下部を載置して立設した状態で浸漬する昇降可
能なウエハ保持アーム６と、洗浄用ガス供給源９（Ｎ2
ガスタンク）に接続されて処理槽３の下部より処理液４
中に窒素（Ｎ2 ）ガスを噴射する散気管７と、洗浄時に
ウエハ５の浮上や移動を防止する移動防止手段１０とで
主要部が構成されている。なお、処理槽３の上部の対角
線位置には発光素子８ａと受光素子８ｂとからなるフォ
トセンサ８が配設されて、ウエハ５の有無を検知し得る
ようになっている。
と遮断される処理室２と、処理室２内に配設される処理
槽３と、処理槽３内に収容される洗浄用処理液４中に被
処理体である複数枚の半導体ウエハ５（以下にウエハと
いう）の下部を載置して立設した状態で浸漬する昇降可
能なウエハ保持アーム６と、洗浄用ガス供給源９（Ｎ2
ガスタンク）に接続されて処理槽３の下部より処理液４
中に窒素（Ｎ2 ）ガスを噴射する散気管７と、洗浄時に
ウエハ５の浮上や移動を防止する移動防止手段１０とで
主要部が構成されている。なお、処理槽３の上部の対角
線位置には発光素子８ａと受光素子８ｂとからなるフォ
トセンサ８が配設されて、ウエハ５の有無を検知し得る
ようになっている。
【００２０】移動防止手段１０は、処理室２の外部に配
設される駆動源であるロータリーアクチュエータ１１
と、このロータリーアクチュエータ１１の駆動軸１１ａ
に連結されて洗浄中のウエハ５の上部に向って進退移動
すなわち揺動する可動体１２と、この可動体１２の自由
端部に設けられてウエハ５の上端側のオリフラ５ａに接
触する移動防止体１５とで構成されている。このように
構成される移動防止手段１０は、ロータリーアクチュエ
ータ１１の駆動によって可動体１２が揺動することによ
り、移動防止体１５がウエハ５の上端の浮上・移動防止
位置と、この浮上・移動防止位置より斜め上方に約９０
度回転移動した待機位置とに切り換わるようになってい
る。この待機位置において、ウエハ５が図示しない搬送
アームによって処理室２内への搬入及び処理後の処理室
２からの搬出が行われるようになっている（図３参
照）。
設される駆動源であるロータリーアクチュエータ１１
と、このロータリーアクチュエータ１１の駆動軸１１ａ
に連結されて洗浄中のウエハ５の上部に向って進退移動
すなわち揺動する可動体１２と、この可動体１２の自由
端部に設けられてウエハ５の上端側のオリフラ５ａに接
触する移動防止体１５とで構成されている。このように
構成される移動防止手段１０は、ロータリーアクチュエ
ータ１１の駆動によって可動体１２が揺動することによ
り、移動防止体１５がウエハ５の上端の浮上・移動防止
位置と、この浮上・移動防止位置より斜め上方に約９０
度回転移動した待機位置とに切り換わるようになってい
る。この待機位置において、ウエハ５が図示しない搬送
アームによって処理室２内への搬入及び処理後の処理室
２からの搬出が行われるようになっている（図３参
照）。
【００２１】可動体１２は、処理室２の外部に配置され
たロータリーアクチュエータ１１の駆動軸１１ａに同軸
状に連結されると共に、区画壁１に設けられた貫通穴１
ａを貫通して処理室２内に進入する耐蝕性を有する耐熱
硬質の塩化ビニル製可動軸１３と、この可動軸１３の処
理室２側端面に固定ねじ１６をもって固定される塩化ビ
ニル製の可動アーム１４とで構成されている。この場
合、可動軸１３は、区画壁貫通部の処理室２側におい
て、可動軸１３と同質の耐蝕性を有する塩化ビニル製押
えカバー１７にて回転可能に囲繞され、また、処理室２
の外側はアルミニウム製ハウジング１８にて囲繞されて
いる。そして、これら押えカバー１７とハウジング１８
との間において、押えカバー１７及び区画壁１と可動軸
１３との間には適宜間隔をおいて対峙する一対の合成ゴ
ム製のシール部材１９，１９が介在されて密閉空間２０
が形成されている。そして、この密閉空間２０内に加圧
気体供給源であるＮ2 ガスタンク２１が接続され、Ｎ2
ガスタンク２１より密閉空間２０内にＮ2 ガスが充填さ
れて、処理室２側からロータリーアクチュエータ１１側
に処理液４が流出するのを防止することができ、更に、
ロータリーアクチュエータ１１側から処理室２側へ塵埃
等が侵入するのを防止している。なお、図２において、
符号２２はＮ2 ガスの供給通路、２３は外部カバー、２
３ａはベアリングである。
たロータリーアクチュエータ１１の駆動軸１１ａに同軸
状に連結されると共に、区画壁１に設けられた貫通穴１
ａを貫通して処理室２内に進入する耐蝕性を有する耐熱
硬質の塩化ビニル製可動軸１３と、この可動軸１３の処
理室２側端面に固定ねじ１６をもって固定される塩化ビ
ニル製の可動アーム１４とで構成されている。この場
合、可動軸１３は、区画壁貫通部の処理室２側におい
て、可動軸１３と同質の耐蝕性を有する塩化ビニル製押
えカバー１７にて回転可能に囲繞され、また、処理室２
の外側はアルミニウム製ハウジング１８にて囲繞されて
いる。そして、これら押えカバー１７とハウジング１８
との間において、押えカバー１７及び区画壁１と可動軸
１３との間には適宜間隔をおいて対峙する一対の合成ゴ
ム製のシール部材１９，１９が介在されて密閉空間２０
が形成されている。そして、この密閉空間２０内に加圧
気体供給源であるＮ2 ガスタンク２１が接続され、Ｎ2
ガスタンク２１より密閉空間２０内にＮ2 ガスが充填さ
れて、処理室２側からロータリーアクチュエータ１１側
に処理液４が流出するのを防止することができ、更に、
ロータリーアクチュエータ１１側から処理室２側へ塵埃
等が侵入するのを防止している。なお、図２において、
符号２２はＮ2 ガスの供給通路、２３は外部カバー、２
３ａはベアリングである。
【００２２】一方、移動防止体１５は、例えばポリエー
テルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）製の耐蝕性を有する棒
状部材にて形成されており、ウエハ５がウエハ保持アー
ム６に載置されて処理液４中に浸漬された際に、ウエハ
５の上端よりわずかな隙間（具体的には約１mm）をおい
て位置し、ウエハ５が散気管７から処理液４中に噴射さ
れるＮ2 ガスによるバブリングによって洗浄される際に
浮上したり移動した際に、ウエハ５と接触して、ウエハ
５の大幅な浮上・移動を防止するようになっている。
テルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）製の耐蝕性を有する棒
状部材にて形成されており、ウエハ５がウエハ保持アー
ム６に載置されて処理液４中に浸漬された際に、ウエハ
５の上端よりわずかな隙間（具体的には約１mm）をおい
て位置し、ウエハ５が散気管７から処理液４中に噴射さ
れるＮ2 ガスによるバブリングによって洗浄される際に
浮上したり移動した際に、ウエハ５と接触して、ウエハ
５の大幅な浮上・移動を防止するようになっている。
【００２３】なお、上記説明では移動防止体１５をウエ
ハ５の上端より若干隙間を設けて位置させた場合につい
て説明したが、隙間を設けずに移動防止体１５を洗浄中
のウエハ５の上端に常時接触させてもよい。その場合に
は、例えば移動防止手段１０の可動軸１３の中心をウエ
ハ５の中心を通る垂直線より若干ずらして位置させれ
ば、ロータリーアクチュエータ１１の駆動により回転さ
れる可動アーム１４が下死点に達する前に移動防止体１
５をウエハ５の上端に接触させることができる。なおこ
の場合、移動防止体１５の接触状態を適正圧力に制御す
る手段として、例えば移動防止体１５のウエハ５への押
圧力を圧力検出手段例えば圧力センサー（図示せず）に
て検知し、その検出信号をロータリーアクチュエータ１
１の制御部にフィードバックさせればよい。
ハ５の上端より若干隙間を設けて位置させた場合につい
て説明したが、隙間を設けずに移動防止体１５を洗浄中
のウエハ５の上端に常時接触させてもよい。その場合に
は、例えば移動防止手段１０の可動軸１３の中心をウエ
ハ５の中心を通る垂直線より若干ずらして位置させれ
ば、ロータリーアクチュエータ１１の駆動により回転さ
れる可動アーム１４が下死点に達する前に移動防止体１
５をウエハ５の上端に接触させることができる。なおこ
の場合、移動防止体１５の接触状態を適正圧力に制御す
る手段として、例えば移動防止体１５のウエハ５への押
圧力を圧力検出手段例えば圧力センサー（図示せず）に
て検知し、その検出信号をロータリーアクチュエータ１
１の制御部にフィードバックさせればよい。
【００２４】また、上記実施例では移動防止体１５を棒
状部材にて形成した場合について説明したが、移動防止
体１５は必ずしも棒状部材にて形成する必要はなく、例
えば図４に示すように、多数の小孔１５ａ，１５ａ…を
有する板状の移動防止体基部１５ｂと、この移動防止体
基部１５ｂの下面の長手方向に設けられた取付溝１５ｃ
内に嵌合されて突出する可撓性を有する耐蝕性のフィン
状押え片１５ｄ，１５ｄ，１５ｄとで構成することがで
きる。なおこの場合、押え片１５ｄはフッ素系ゴムにて
形成される。更に、移動防止体１５を設けたことにより
ウエハ５の浮上・移動が抑制されるため、ウエハ保持ア
ーム６で保持するウエハ５の間隔を狭くできる。したが
って、同時により多くの枚数のウエハ５を洗浄すること
ができる。また、ウエハ保持アーム６のウエハ保持部分
の嵌合幅をより狭く構成できるので、洗浄効果をより上
げることもできる。
状部材にて形成した場合について説明したが、移動防止
体１５は必ずしも棒状部材にて形成する必要はなく、例
えば図４に示すように、多数の小孔１５ａ，１５ａ…を
有する板状の移動防止体基部１５ｂと、この移動防止体
基部１５ｂの下面の長手方向に設けられた取付溝１５ｃ
内に嵌合されて突出する可撓性を有する耐蝕性のフィン
状押え片１５ｄ，１５ｄ，１５ｄとで構成することがで
きる。なおこの場合、押え片１５ｄはフッ素系ゴムにて
形成される。更に、移動防止体１５を設けたことにより
ウエハ５の浮上・移動が抑制されるため、ウエハ保持ア
ーム６で保持するウエハ５の間隔を狭くできる。したが
って、同時により多くの枚数のウエハ５を洗浄すること
ができる。また、ウエハ保持アーム６のウエハ保持部分
の嵌合幅をより狭く構成できるので、洗浄効果をより上
げることもできる。
【００２５】◎第二実施例 図５はこの発明の洗浄装置の第二実施例の洗浄状態を説
明する概略断面図が示されている。
明する概略断面図が示されている。
【００２６】第二実施例は可動体及び移動防止体を直線
移動させて被処理体の浮上・移動防止位置と待機位置と
に切り換え可能とした場合である。すなわち、駆動源を
処理室２の外方に配置されるガイドレール２４に摺動可
能に装着されるロッドレスシリンダ２５にて形成し、可
動体をロッドレスシリンダ２５に固定されるクランク状
の連結部材２６を介してガイドレール２４と平行に配設
されて処理室２内に進入する可動棒２７にて形成し、そ
して、可動棒２７の先端に移動防止体１５を装着して可
動棒２７及び移動防止体１５を直線移動させるようにし
た場合である。
移動させて被処理体の浮上・移動防止位置と待機位置と
に切り換え可能とした場合である。すなわち、駆動源を
処理室２の外方に配置されるガイドレール２４に摺動可
能に装着されるロッドレスシリンダ２５にて形成し、可
動体をロッドレスシリンダ２５に固定されるクランク状
の連結部材２６を介してガイドレール２４と平行に配設
されて処理室２内に進入する可動棒２７にて形成し、そ
して、可動棒２７の先端に移動防止体１５を装着して可
動棒２７及び移動防止体１５を直線移動させるようにし
た場合である。
【００２７】上記のように構成される移動防止手段１０
の可動棒２７の区画壁貫通部には、図６に示すように、
耐蝕性を有する塩化ビニル製カバー２８が配設され、こ
のカバー２８と可動棒２７との間に、上記第一実施例と
同様に、一対の合成ゴム製シール部材１９，１９が介在
されて密閉空間２０が形成され、この密閉空間２０内に
Ｎ2 ガスが充填されるようになっている。
の可動棒２７の区画壁貫通部には、図６に示すように、
耐蝕性を有する塩化ビニル製カバー２８が配設され、こ
のカバー２８と可動棒２７との間に、上記第一実施例と
同様に、一対の合成ゴム製シール部材１９，１９が介在
されて密閉空間２０が形成され、この密閉空間２０内に
Ｎ2 ガスが充填されるようになっている。
【００２８】なお、Ｎ2 ガスの供給は加圧気体供給専用
のＮ2 ガスタンク２１から供給してもよく、あるいは、
洗浄用のＮ2 ガスタンク９から散気管７へ供給されるＮ
2 ガスの一部を分岐させて使用することもできる（図５
参照）。また、図５に示すように、ロッドレスシリンダ
２５に圧力素子２９を取付け、移動防止体１５がウエハ
接触位置に達した際にこの圧力素子２９を圧力検出手段
例えば圧力検出素子３０に係合させ、そして、圧力検出
素子３０からの信号を制御部３１に伝達して、ロッドレ
スシリンダ２５の移動制御すなわち移動防止体１５のウ
エハ５への適正な接触圧力制御を行うことができる。
のＮ2 ガスタンク２１から供給してもよく、あるいは、
洗浄用のＮ2 ガスタンク９から散気管７へ供給されるＮ
2 ガスの一部を分岐させて使用することもできる（図５
参照）。また、図５に示すように、ロッドレスシリンダ
２５に圧力素子２９を取付け、移動防止体１５がウエハ
接触位置に達した際にこの圧力素子２９を圧力検出手段
例えば圧力検出素子３０に係合させ、そして、圧力検出
素子３０からの信号を制御部３１に伝達して、ロッドレ
スシリンダ２５の移動制御すなわち移動防止体１５のウ
エハ５への適正な接触圧力制御を行うことができる。
【００２９】上記説明では可動棒２７及び移動防止体１
５がウエハ５の垂直方向の上方に進退移動し得る場合に
ついて述べたが、斜め上方に進退移動させてもよい。
５がウエハ５の垂直方向の上方に進退移動し得る場合に
ついて述べたが、斜め上方に進退移動させてもよい。
【００３０】なお、第二実施例において、その他の部分
は上記第一実施例と同じであるので、同一部分には同一
符号を付して、その説明は省略する。
は上記第一実施例と同じであるので、同一部分には同一
符号を付して、その説明は省略する。
【００３１】
【発明の効果】以上に説明したように、この発明の洗浄
装置によれば上記のように構成されているので、以下の
ような効果が得られる。
装置によれば上記のように構成されているので、以下の
ような効果が得られる。
【００３２】１）請求項１，４記載の洗浄装置によれ
ば、洗浄処理中の被処理体の浮上や移動を防止すること
ができるので、洗浄のためのバブリングを強めて効率の
よい洗浄を行うことができる。また、移動防止体を被処
理体の浮上を防止するように設けたため、均一に洗浄を
行うことができ、しかも、載置した状態の被処理体相互
の接触により損傷することを防止することができる。ま
た、可動体の区画壁貫通部における処理室側に可動体を
移動可能に囲繞する耐蝕性カバーを取付けるので、処理
室側から駆動源側に処理液が流出して駆動部側の装置を
腐食させるのを防止することができる。
ば、洗浄処理中の被処理体の浮上や移動を防止すること
ができるので、洗浄のためのバブリングを強めて効率の
よい洗浄を行うことができる。また、移動防止体を被処
理体の浮上を防止するように設けたため、均一に洗浄を
行うことができ、しかも、載置した状態の被処理体相互
の接触により損傷することを防止することができる。ま
た、可動体の区画壁貫通部における処理室側に可動体を
移動可能に囲繞する耐蝕性カバーを取付けるので、処理
室側から駆動源側に処理液が流出して駆動部側の装置を
腐食させるのを防止することができる。
【００３３】２）請求項２記載の洗浄装置によれば、移
動防止体の被処理体への接触状態を検知する圧力検出手
段の検出信号に基づいて移動防止体の被処理体への接触
圧力を制御するので、上記１）に加えて移動防止体の被
処理体への接触圧力を適正状態に維持することができ
る。
動防止体の被処理体への接触状態を検知する圧力検出手
段の検出信号に基づいて移動防止体の被処理体への接触
圧力を制御するので、上記１）に加えて移動防止体の被
処理体への接触圧力を適正状態に維持することができ
る。
【００３４】３）請求項３記載の洗浄装置によれば、可
動体の区画壁貫通部にシール部材を介在させて密閉空間
を形成し、この密閉空間内に加圧気体を供給するので、
処理室側から駆動源側に処理液が流出して駆動部側の装
置を腐食させるのを防止することができると共に、駆動
部側から処理室側への塵埃等の侵入を防止して処理室内
をクリーンに維持することができる。
動体の区画壁貫通部にシール部材を介在させて密閉空間
を形成し、この密閉空間内に加圧気体を供給するので、
処理室側から駆動源側に処理液が流出して駆動部側の装
置を腐食させるのを防止することができると共に、駆動
部側から処理室側への塵埃等の侵入を防止して処理室内
をクリーンに維持することができる。
【００３５】４）請求項５記載の洗浄装置によれば、可
動体を被処理体の上部に向って進退移動させて被処理体
の上部に接触させるので、上記１）に加えて更に均一に
洗浄を行うことができる。
動体を被処理体の上部に向って進退移動させて被処理体
の上部に接触させるので、上記１）に加えて更に均一に
洗浄を行うことができる。
【図１】この発明の洗浄装置の第一実施例の要部を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図２】第一実施例における可動体の処理室側と大気側
とのシール機構を示す断面図である。
とのシール機構を示す断面図である。
【図３】第一実施例の洗浄状態を示す概略断面図であ
る。
る。
【図４】この発明における移動防止体の別の形態を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図５】この発明の第二実施例の洗浄状態を示す概略断
面図である。
面図である。
【図６】第二実施例における可動体の処理室と大気側と
のシール機構を示す断面図である。
のシール機構を示す断面図である。
１ 区画壁 ２ 処理室 ３ 処理槽 ４ 処理液 ５ 半導体ウエハ（被処理体） ７ 散気管 ９ 洗浄用ガス供給源 １１ ロータリーアクチュエータ（駆動源） １２ 可動体 １５ 移動防止体 １７ 押えカバー １９ シール部材 ２０ 密閉空間 ２１ Ｎ2 ガスタンク（加圧気体供給源） ２５ ロッドレスシリンダ（駆動源） ２７ 可動棒（可動体） ２８ カバー ２９ 圧力素子 ３０ 圧力検出素子（圧力検出手段） ３１ 制御部
Claims (5)
- 【請求項１】 処理槽内に収容される洗浄用処理液中に
被処理体の下部を載置した状態で浸漬して、上記被処理
体の洗浄を行うようにした洗浄装置において、区画壁によって区画される処理室内に上記処理槽を配置
すると共に、処理室外に上記駆動源を配置し、 上記駆動源に連結される可動体を、上記区画壁を貫通し
て上記処理室内に進入させると共に、洗浄中の上記被処
理体に向って進退移動可能に形成し、 上記可動体に、上記被処理体の移動を防止する移動防止
体を取付け、 かつ、上記可動体の区画壁貫通部における処理室側に可
動体を移動可能に囲繞する耐蝕性カバーを取付けてなる
ことを 特徴とする洗浄装置。 - 【請求項２】 処理槽内に収容される洗浄用処理液中に
被処理体の下部を載置した状態で浸漬して、上記被処理
体の洗浄を行うようにした洗浄装置において、 上記処理槽の外部に配設される駆動源と、 上記駆動源に連結されて洗浄中の上記被処理体に向って
進退移動する可動体と、 上記可動体に設けられ上記被処理体の移動を防止する移
動防止体とを具備し、 上記移動防止体の被処理体への接
触状態を検知する圧力検出手段の検出信号に基づいて上
記移動防止体の被処理体への接触圧力を制御することを
特徴とする洗浄装置。 - 【請求項３】 上記処理室を外気と遮断し、 上記カバー及び区画壁と可動体との間にシール部材を介
在させて密閉空間を形成し、 上記密閉空間内に加圧気体供給源を接続してなることを
特徴とする請求項１記載の洗浄装置。 - 【請求項４】 上記処理槽の下部より処理液中に気体を
噴射して、被処理体の洗浄を行うようにしたことを特徴
とする請求項１ないし３のいずれかに記載の洗浄装置。 - 【請求項５】 上記可動体が被処理体の上部に向って進
退移動することを特徴とする請求項１ないし４のいずれ
かに記載の洗浄装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3135303A JP2979268B2 (ja) | 1991-05-13 | 1991-05-13 | 洗浄装置 |
| US07/880,068 US5488964A (en) | 1991-05-08 | 1992-05-07 | Washing apparatus, and washing method |
| KR1019920007937A KR0175072B1 (ko) | 1991-05-08 | 1992-05-08 | 세정장치 및 세정방법 |
| US08/560,708 US5671764A (en) | 1991-05-08 | 1995-11-20 | Washing apparatus, and washing method |
| US08/743,836 US5887604A (en) | 1991-05-08 | 1996-11-05 | Washing apparatus, and washing method |
| US08/789,537 US5782990A (en) | 1991-05-08 | 1997-01-27 | Method for washing objects |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3135303A JP2979268B2 (ja) | 1991-05-13 | 1991-05-13 | 洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04338276A JPH04338276A (ja) | 1992-11-25 |
| JP2979268B2 true JP2979268B2 (ja) | 1999-11-15 |
Family
ID=15148561
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3135303A Expired - Lifetime JP2979268B2 (ja) | 1991-05-08 | 1991-05-13 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2979268B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2541238Y2 (ja) * | 1992-12-18 | 1997-07-16 | 株式会社スガイ | 基板洗浄槽の基板浮き上がり防止装置 |
| JP3386045B2 (ja) * | 2000-08-28 | 2003-03-10 | 株式会社パーカーコーポレーション | 洗浄機 |
| JP2007050373A (ja) * | 2005-08-19 | 2007-03-01 | Nitto Kogyo Co Ltd | 洗浄装置及び洗浄方法 |
-
1991
- 1991-05-13 JP JP3135303A patent/JP2979268B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04338276A (ja) | 1992-11-25 |
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Legal Events
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