JP2976293B1 - Manufacturing method of wiring board inspection contact pin and wiring board inspection device - Google Patents
Manufacturing method of wiring board inspection contact pin and wiring board inspection deviceInfo
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- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
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Abstract
【要約】
【課題】 高導電性で光によるパターン形成可能な導電
性高分子の製法、高導電性で柔軟性に富んだコンタクト
ピンの製法、及びプリント配線基板等の電気的検査に用
いられる基板配線基板検査装置を提供すること。
【解決手段】 ピロール若しくはエチレンジオキシチオ
フェンをモノマーとし、ナフタレンスルホン酸アニオン
若しくはその誘導体の第2銅塩を酸化剤として、これら
をアルコール溶媒存在下で接触させて重合反応を行う導
電性高分子の製造方法である。また、電極パッド2を備
えた支持板3の上に感光性樹脂と酸化剤とからなる混合
物層4を形成する工程と、光化学反応によってパターン
を形成する工程と、パターンを現像する工程と、導電性
高分子のモノマーを重合する工程とを含むコンタクトピ
ン1の製造方法であって、酸化剤が波長360nmにお
けるモル吸光係数100〜2000である配線基板検査
用コンタクトピンの製造方法である。Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To produce a conductive polymer having high conductivity and capable of forming a pattern by light, to produce a highly conductive and flexible contact pin, and to be used for electrical inspection of a printed wiring board and the like. To provide a wiring board inspection device. SOLUTION: A conductive polymer which performs a polymerization reaction by using pyrrole or ethylenedioxythiophene as a monomer and a naphthalenesulfonic acid anion or a cupric salt of a derivative thereof as an oxidizing agent and bringing them into contact in the presence of an alcohol solvent. It is a manufacturing method. A step of forming a mixture layer 4 made of a photosensitive resin and an oxidizing agent on a support plate 3 having an electrode pad 2; a step of forming a pattern by a photochemical reaction; a step of developing the pattern; a method of manufacturing a contact pin 1 comprising a step of polymerizing a monomer sex polymer, the oxidizing agent is a manufacturing method of a wiring circuit board inspection contact pin is the molar extinction coefficient of 100 to 2000 at a wavelength of 360 nm.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、配線基板、特にプ
リント配線基板の電気的検査を行うために用いられる配
線基板検査装置に好適なコンタクトピンの製造方法、及
び配線基板検査装置に関する。本発明は、特に、微細な
配線パッドにも対応可能な柔軟性に富んだコンタクトピ
ンの製造方法及び配線基板検査装置に関する。The present invention relates to the wiring substrate, a method of manufacturing a suitable contact pin to particular wiring board inspection apparatus used for conducting electrical inspection of printed wiring board, and a wiring board inspecting apparatus. The present invention is, in particular, relates to a manufacturing method and a wiring board inspecting apparatus of the contact pins rich adaptable flexibility in fine wiring pads.
【0002】[0002]
【従来の技術】電子機器の小型化、高性能化に伴ってプ
リント配線基板においても配線の高密度化が進展してい
る。このため、微細な配線の断線、接続不良等の危険性
が増しており、簡便で確実なるプリント配線検査法への
要求が高まっている。このような要求に応える検査方法
としては、配線パターンの電極パッドにコンタクトピン
を直接接続して不良解析する方法が考えられるが、この
方法では、高密度プリント配線基板に用いられる間隔1
00μm以下で接続面高さの異なる電極パッドにも安定
に接続できるコンタクトピンを用いることが重要な技術
要素の一つとなっている。すなわち、微細加工が可能で
柔軟性にも富んだ導電性のコンタクトピン、およびその
簡便なる製造方法が求められている。2. Description of the Related Art With the miniaturization and high performance of electronic devices, the density of wiring has been increasing on printed wiring boards. For this reason, there is an increased risk of disconnection of fine wiring, poor connection, and the like, and a demand for a simple and reliable printed wiring inspection method is increasing. As an inspection method that meets such a demand, a method of directly connecting a contact pin to an electrode pad of a wiring pattern and performing a failure analysis can be considered.
It is one of the important technical elements to use contact pins that can be stably connected to electrode pads having a connection surface height of not more than 00 μm. That is, there is a need for a conductive contact pin that can be finely processed and has high flexibility, and a simple manufacturing method thereof.
【0003】しかしながら、導電性の金属やセラミック
等を主な材料とするコンタクトピンでは剛直で柔軟性が
乏しいために高さの異なる電極パットと安定な電気的接
続を形成することは難しい。また、この問題を解決する
ために、柔軟性を有する高分子材料に導電性の金属やセ
ラミック、カーボン等の微粉末を分散させたコンタクト
ピンでは、ピン全体に導電性の経路(導電路)を形成す
るためには微粉末の粒径にもよるが少なくとも20重量
%以上の導電性粉末が必要であり、このような場合には
柔軟性が失われてしまう。さらに、導電性粉末を含んで
十分な導電性と柔軟性を有する材料が、仮に得られたと
しても、これらの導電性粉末が通常、数十μm以上の粒
径であるので、高密度プリント配線基板に用いられる間
隔100μm以下の電極パッドに接続できる形状に加工
することは難しい。However, it is difficult to form a stable electrical connection with electrode pads having different heights because a contact pin mainly made of a conductive metal or ceramic is rigid and poor in flexibility. Also, in order to solve this problem, in a contact pin in which fine particles of conductive metal, ceramic, carbon, or the like are dispersed in a flexible polymer material, a conductive path (conductive path) is formed throughout the pin. In order to form the conductive powder, at least 20% by weight or more of the conductive powder is required, depending on the particle size of the fine powder. In such a case, flexibility is lost. Furthermore, even if a material having sufficient conductivity and flexibility including a conductive powder is obtained, these conductive powders usually have a particle size of several tens of μm or more. It is difficult to process the substrate into a shape that can be connected to an electrode pad with a spacing of 100 μm or less used for the substrate.
【0004】このため、高密度プリント配線基板の検査
は目視、あるいは画像解析等の方法が採用されている。
しかしながら、この手法では電気的な接続を間接的に観
察しているのみであるので、微細な断線や不良を確実に
検出することは難しい。このため、高密度プリント配線
基板に用いられる間隔100μm以下の電極パッド関し
ては、確実性の高い電気的検査が行われていないのが現
状であった。For this reason, inspection of a high-density printed wiring board employs a method such as visual observation or image analysis.
However, in this method, since only the electrical connection is indirectly observed, it is difficult to reliably detect a minute disconnection or a defect. For this reason, at present, highly reliable electrical inspection has not been performed on electrode pads having an interval of 100 μm or less used for high-density printed wiring boards.
【0005】一方、高分子それ自体が電気伝導性を有す
るものとしてポリピロールやポリアニリン等の導電性高
分子が開発され、電子部品の電極等に利用されている。
ポリピロール等の導電性高分子を重合する方法としては
高価数の遷移金属塩を酸化剤とする酸化的カチオン重合
が知られており、塩化第2鉄や塩化第2銅による合成が
行われている。例えば特開平3−46214号公報には
ドデシルベンゼンスルホン酸第2鉄とピロールのメタノ
ール溶液を−30℃以下で混合し、−20℃以上に昇温
して重合する導電性ポリピロールを電極とする固体電解
コンデンサの製造方法が開示されている。また、日本国
特許第2601207号公報にはアニリンやピロール等
と酸化剤を含む溶液を冷却して溶剤を凍結させ、溶剤の
融解温度以下で導電性高分子を重合させるスポンジ状の
導電性高分子成形体の製造方法が開示されている。On the other hand, conductive polymers such as polypyrrole and polyaniline have been developed as polymers themselves having electrical conductivity, and are used for electrodes and the like of electronic parts.
As a method for polymerizing a conductive polymer such as polypyrrole, oxidative cationic polymerization using an expensive number of transition metal salts as an oxidizing agent is known, and synthesis using ferric chloride or cupric chloride is performed. . For example, Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 3-46214 discloses a solid having a conductive polypyrrole as an electrode, in which a ferric dodecylbenzenesulfonate solution and a methanol solution of pyrrole are mixed at a temperature of -30 ° C or lower and heated to -20 ° C or higher to polymerize. A method for manufacturing an electrolytic capacitor is disclosed. Japanese Patent No. 2601207 discloses a sponge-like conductive polymer in which a solution containing aniline, pyrrole and the like and an oxidizing agent is cooled to freeze the solvent, and the conductive polymer is polymerized at a temperature lower than the melting temperature of the solvent. A method for producing a molded article is disclosed.
【0006】さらに、日本国特許第2657956号公
報にはポリパラフェニレンビニレン、ポリアニリン、ポ
リピロール等とエネルギーへの曝露によってドーパント
を発生する前駆体とを含む導電性ポリマー組成物、およ
びこの組成物をエネルギー源に曝露してドーパント前駆
体を分解してドーパントを生成させ、曝露領域を導電性
にする導電性ポリマー構造体の形成方法、並びにこの導
電性ポリマー構造体を溶媒に曝露し、エネルギー源に曝
露された領域以外の領域を溶解させて除去する導電性ポ
リマー構造体の形成方法が開示されている。また、特開
昭61−209225号公報には複素五員環式化合物と
分子量300以下のスルホン酸塩を含む電解液を用いて
1V以下の電位で電解重合反応を行うことにより、電極
面に高導電性の導電性高分子を形成する方法が開示され
ている。これらの技術は有機高分子による導電性成形体
の形成方法であるので、高密度プリント配線基板の検査
用コンタクトピンに応用した場合でも金属やセラミック
等に比べて柔軟であり、安定な電気的接続においては一
応の効果を奏するものと考えられる。Further, Japanese Patent No. 2,657,956 discloses a conductive polymer composition containing polyparaphenylenevinylene, polyaniline, polypyrrole and the like and a precursor which generates a dopant by exposure to energy, and an energy-saving polymer composition. A method of forming a conductive polymer structure that exposes a source to decompose a dopant precursor to produce a dopant and render the exposed area conductive, and exposing the conductive polymer structure to a solvent and exposing to an energy source A method for forming a conductive polymer structure that dissolves and removes a region other than the formed region is disclosed. Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-209225 discloses that an electrolytic polymerization reaction is carried out at an electric potential of 1 V or less using an electrolytic solution containing a 5-membered heterocyclic compound and a sulfonate having a molecular weight of 300 or less, so that a high electrode surface is obtained. A method for forming a conductive polymer is disclosed. Since these technologies are methods of forming conductive moldings using organic polymers, they are more flexible than metals, ceramics, etc., even when applied to contact pins for inspection of high-density printed wiring boards, and provide stable electrical connections. Is considered to have a certain effect.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】以上述べたように、従
来、高密度プリント配線基板の検査は目視、あるいは画
像解析等の方法が採用されているが、この手法では微細
な断線や不良を確実に検出することは難しく、確実性の
高い電気的検査が行われていないのが現状であった。As described above, the inspection of a high-density printed wiring board has conventionally been carried out by visual inspection or image analysis. It is difficult to detect the electric current at a time, and at present the electric inspection with high reliability has not been performed.
【0008】有機高分子による導電性高分子の重合方法
も種々開発されているが、高導電性で光化学反応による
パターン形成可能な導電性高分子の製造方法は開発され
ていない。すなわち、高価数の遷移金属塩を酸化剤とす
る導電性高分子の反応のうち、酸化剤が第2鉄塩の場
合、500nm以下の波長領域で吸光度が大きいために
感光性樹脂と組み合わせて光化学反応でパターン形成す
ると、深さ方向で反応の度合いが異なるという問題点が
生じる。また、第2銅塩を酸化剤とする場合には塩化第
2銅やパラトルエンスルホン酸第2銅等では得られる導
電性高分子の導電率が著しく小さいという問題点が生じ
る。さらに、導電性高分子の成形体形成方法も種々開発
されているが、これらを用いて高密度プリント配線基板
の検査用コンタクトピンを形成することは難しい。すな
わち、低温で反応を抑えた溶液を、昇温して重合する方
法や、溶剤の融解温度以下で導電性高分子を重合する方
法では基板全面に導電性高分子が形成してしまい、任意
の形状で、しかも微細な電極バッドにも対応できるもの
とはならない。Although various methods for polymerizing a conductive polymer with an organic polymer have been developed, no method for producing a conductive polymer having high conductivity and capable of forming a pattern by a photochemical reaction has been developed. That is, in the reaction of a conductive polymer using an expensive transition metal salt as an oxidizing agent, when the oxidizing agent is a ferric salt, the oxidizing agent has a large absorbance in a wavelength region of 500 nm or less, so that it is combined with a photosensitive resin to perform photochemical reaction. When the pattern is formed by the reaction, there is a problem that the degree of the reaction differs in the depth direction. Further, when a cupric salt is used as an oxidizing agent, a problem arises in that the obtained conductive polymer has a remarkably small electric conductivity in cupric chloride or cupric paratoluenesulfonate. Further, various methods for forming a conductive polymer molded body have been developed, but it is difficult to form a contact pin for inspection of a high-density printed wiring board using these methods. That is, in a method in which a solution in which the reaction is suppressed at a low temperature is polymerized by raising the temperature or a method in which the conductive polymer is polymerized at a temperature lower than the melting temperature of the solvent, a conductive polymer is formed on the entire surface of the substrate, and It is not a shape and it can not cope with a fine electrode pad.
【0009】また、導電性高分子とエネルギーへの曝露
によってドーパントを発生する前駆体とを含む組成物を
エネルギー源に曝露してドーパント前駆体を分解してド
ーパントを生成させ、曝露領域を導電性にする導電性ポ
リマー構造体を形成し、溶媒に曝露してエネルギー源に
曝露された領域以外の領域を溶解させて除去する方法で
はドーパントとして利用できる化合物がオニウム塩のご
とき特殊な分子構造に限られ、溶剤で溶解する導電性高
分子の数も少ないため、導電性や柔軟性などの性能を任
意に制御したものを製造することは難しい。さらに、電
解重合法では、電極面方向への広がりを抑えて十分な高
さまで導電性高分子を成長させることは難しい。Further, a composition containing a conductive polymer and a precursor that generates a dopant by exposure to energy is exposed to an energy source to decompose the dopant precursor to generate a dopant, thereby forming an exposed region of the conductive material. In the method of forming a conductive polymer structure, and exposing it to a solvent to dissolve and remove the area other than the area exposed to the energy source, the compound that can be used as a dopant is limited to a special molecular structure such as an onium salt. In addition, since the number of conductive polymers soluble in a solvent is small, it is difficult to manufacture a polymer in which performance such as conductivity and flexibility is arbitrarily controlled. Furthermore, it is difficult to grow the conductive polymer to a sufficient height by suppressing the spread in the electrode surface direction by the electrolytic polymerization method.
【0010】加えて、導電性高分子の高密度プリント配
線基板の検査用コンタクトピンへの適応を考えると、一
般に導電性高分子は高分子の主鎖方向に拡がった共役系
を有するために剛直で、不溶不融のものが多く、単独で
用いた場合には柔軟性に乏しく高さの異なる電極パット
に密着させて安定な電気的接続を形成することは難しい
という問題を発生する。In addition, considering the application of a conductive polymer to a contact pin for inspection of a high-density printed wiring board, a conductive polymer generally has a conjugated system that extends in the main chain direction of the polymer, so that it is rigid. However, there are many insoluble and infusible materials, and when used alone, there arises a problem that it is difficult to form a stable electrical connection by being in close contact with electrode pads having poor flexibility and different heights.
【0011】本発明の主な目的は、高密度プリント配線
基板の電気的検査装置に用いられる微細な配線パッドに
も対応可能な、高導電性で柔軟性にも富んだコンタクト
ピンの製造方法及び配線基板検査装置を提供することに
ある。[0011] The main purpose of the present invention, high-density printed wiring board electrical inspection apparatus also available in fine wiring pad used in the contact <br/> rich in flexibility highly conductive and to provide a manufacturing method and a wiring substrate inspection device pin.
【0012】[0012]
【0013】本発明によるプリント配線基板検査用コン
タクトピンの製造方法は、電極パッドを備えた支持板の
上に感光性樹脂と酸化剤からなる混合物層を形成する工
程と、光化学反応の方法によって耐食性画像をパターン
形成する工程と、耐食性画像を現像する工程と、導電性
高分子のモノマーを重合する工程とを含む方法におい
て、酸化剤が360nmにおけるモル分子吸光係数10
0以上2000以下のものであることを特徴としてい
る。この製造方法によれば、光化学反応を用いたリソグ
ラフィー手法が適用できるので、高密度プリント配線板
に用いられる間隔100μm以下の電極パッドも作製可
能であり、従って、高密度プリント配線基板の電気的検
査を確実に行うことができる。The method for manufacturing a contact pin for inspecting a printed wiring board according to the present invention comprises the steps of forming a mixture layer comprising a photosensitive resin and an oxidizing agent on a support plate provided with electrode pads; An oxidizing agent comprising a step of patterning an image, a step of developing a corrosion-resistant image, and a step of polymerizing a monomer of a conductive polymer, wherein the oxidizing agent has a molar absorption coefficient of 10 nm at 360 nm.
It is characterized by being 0 or more and 2000 or less. According to this manufacturing method, a lithography method using a photochemical reaction can be applied, so that electrode pads having an interval of 100 μm or less used for a high-density printed wiring board can also be manufactured. Can be performed reliably.
【0014】[0014]
【発明の実施の形態】本発明において、導電性高分子の
モノマーは、ピロール、もしくはエチレンジオキシチオ
フェンはピロール、もしくはエチレンジオキシチオフェ
ンを主な成分とするものであるが、ピロール環、もしく
はチオフェン環の2,5位以外に置換基を有する誘導体
でも実質的に同じ効果があるため、これらも含まれる。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION In the present onset Ming, the conductive polymer
The monomer is pyrrole or ethylenedioxythiophene having pyrrole or ethylenedioxythiophene as a main component, but a derivative having a substituent other than the 2,5-position of the pyrrole ring or thiophene ring is substantially used. Are included because they have the same effect.
【0015】ナフタレンスルホン酸アニオンもしくはそ
の誘導体とは、α−ナフタレンスルホン酸、β−ナフタ
レンスルホン酸、ブチルナフタレンスルホン酸、β−ナ
フタレンスルホン酸のホルムアルデヒド高縮合物、ポリ
ビニルナフタレンスルホン酸等のアニオンであるが、高
導電性の導電性高分子を合成する観点から、特にブチル
ナフタレンスルホン酸等のアルキルナフタレンスルホン
酸、もしくはナフタレンスルホン酸のホルムアルデヒド
高縮合物のアニオンが好ましい。The naphthalene sulfonic acid anion or a derivative thereof is an anion such as α-naphthalene sulfonic acid, β-naphthalene sulfonic acid, butyl naphthalene sulfonic acid, highly condensed formaldehyde of β-naphthalene sulfonic acid, and polyvinyl naphthalene sulfonic acid. However, from the viewpoint of synthesizing a conductive polymer having high conductivity, an anion of an alkylnaphthalenesulfonic acid such as butylnaphthalenesulfonic acid or a formaldehyde highly condensed product of naphthalenesulfonic acid is particularly preferable.
【0016】本発明の配線基板検査用コンタクトピン
(以下、単にコンタクトピンということがある。)の製
造方法において、酸化剤が波長360nmにおけるモル
吸光係数100以上2000以下のものであるとは、酸
化剤を適当な溶媒で希釈して360nmにおける吸光度
を測定した場合にモル吸光係数が100以上2000以
下となるようなものであり、代表的なものとしては各種
アニオンの第2銅塩等が挙げられる。本発明者らの検討
によれば360nmにおけるモル吸光係数が2000を
超える酸化剤、例えばドデシルベンゼンスルホン酸第2
鉄等では感光性樹脂と組み合わせても光化学反応を均一
に行うことができない。また、モル吸光係数が100以
下の酸化剤、例えば過酸化水素等では高導電性の導電性
高分子が得られない。本発明において酸化剤はモル吸光
係数が100以上2000以下であれば特に限定されな
いが、得られる導電性高分子の均一性および高導電性の
面から第2銅カチオンとアニオンからなる塩が好まし
く、中でも第2銅カチオンとナフタレンスルホン酸アニ
オンもしくはその誘導体からなる塩が特に好ましい。In the method for manufacturing a contact pin for inspecting a wiring board (hereinafter, may be simply referred to as a contact pin) according to the present invention, the oxidizing agent having a molar extinction coefficient of not less than 100 and not more than 2,000 at a wavelength of 360 nm is defined as an oxidizing agent. When the agent is diluted with an appropriate solvent and the absorbance at 360 nm is measured, the molar extinction coefficient is 100 or more and 2000 or less, and typical examples thereof include cupric salts of various anions. . According to the study of the present inventors, an oxidizing agent having a molar extinction coefficient at 360 nm of more than 2000, such as dodecylbenzenesulfonic acid secondary
Even if iron is used in combination with a photosensitive resin, the photochemical reaction cannot be performed uniformly. An oxidizing agent having a molar extinction coefficient of 100 or less, such as hydrogen peroxide, cannot provide a highly conductive conductive polymer. In the present invention, the oxidizing agent is not particularly limited as long as the molar extinction coefficient is 100 or more and 2,000 or less, but a salt composed of a cupric cation and an anion is preferable from the viewpoint of uniformity and high conductivity of the obtained conductive polymer, Among them, a salt composed of a cupric cation and a naphthalenesulfonic acid anion or a derivative thereof is particularly preferable.
【0017】本発明のコンタクトピンの製造方法におい
て、感光性樹脂とは、通常の光化学反応の方法によって
耐食性画像が形成できるもの、および光化学反応の方法
で得られる樹脂であり、各種のネガ型フォトレジスト、
ポジ型フォトレジストやドライフィルムレジスト、多層
レジストが用いられるが、その製造の容易さからアクリ
ル化合物を主な成分とする感光性樹脂が好ましく、特
に、得られる樹脂の柔軟性の観点からウレタン結合を有
するアクリル化合物が好ましく、中でも炭素数4以上2
2以下の直鎖アルキレン基とウレタン結合を有するアク
リル化合物が好ましい。直鎖アルキレン基の炭素数が4
以下では生成するアクリル化合物が剛直となって柔軟性
に乏しくなり、また、炭素数が22以上では逆に柔らか
過ぎてコンタクトピンとして必要な弾性が得られない。In the method for producing a contact pin of the present invention, the photosensitive resin is a resin capable of forming a corrosion-resistant image by a usual photochemical reaction method, and a resin obtained by a photochemical reaction method. Resist,
Positive photoresists, dry film resists, and multilayer resists are used, but a photosensitive resin containing an acrylic compound as a main component is preferable from the viewpoint of ease of production, and particularly, a urethane bond is formed from the viewpoint of flexibility of the obtained resin. Acrylic compounds having at least 4 carbon atoms and 2
Acrylic compounds having two or less linear alkylene groups and urethane bonds are preferred. A straight-chain alkylene group having 4 carbon atoms
Below, the produced acrylic compound becomes rigid and poor in flexibility, and when the carbon number is 22 or more, on the contrary, it is too soft to obtain elasticity required as a contact pin.
【0018】本発明のコンタクトピンの製造方法では、
分子構造の一部に架橋構造が導入する目的で、多官能性
のアクリレートモノマーまたはオリゴマーを少なくとも
含むこともできる。このような多官能アクリレート化合
物としては、例えばエチレングリコールジアクリレート
等の二官能アクリレート及びそれらのメタクリレート化
合物、トリメチロールプロパントリアクリレートなどの
多官能アクリレート及びそれらのメタクリレート化合物
が挙げられる。In the method for manufacturing a contact pin according to the present invention,
At least a polyfunctional acrylate monomer or oligomer may be included for the purpose of introducing a crosslinked structure into a part of the molecular structure. Such polyfunctional acrylate compounds include, for example, bifunctional acrylates such as ethylene glycol diacrylate and their methacrylate compounds, polyfunctional acrylates such as trimethylolpropane triacrylate and their methacrylate compounds.
【0019】また、本発明では必要に応じて光硬化性樹
脂に重合開始剤を添加することもできる。重合開始剤の
例としては、例えばジエトキシアセトフェノン等のアセ
トフェノン系化合物、ベンゾインメチルエーテル、ベン
ゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物やベン
ゾフェノン系化合物、チオキサンソン系化合物等が挙げ
られる。In the present invention, a polymerization initiator can be added to the photocurable resin as required. Examples of the polymerization initiator include, for example, acetophenone compounds such as diethoxyacetophenone, benzoin compounds such as benzoin methyl ether and benzoin isobutyl ether, benzophenone compounds, and thioxanthone compounds.
【0020】本発明のコンタクトピンの製造方法におい
て、導電性高分子とは、高分子それ自体が導電性の高分
子化合物であり、ドーパントを含むポリアセチレンやポ
リパラフェニレン等のπ電子共役系高分子が挙げられる
が、感光性樹脂との複合体の形成し易さや導電性状態の
安定性の観点からポリピロール、もしくはポリエチレン
ジオキシチオフェンが好ましい。In the method for producing a contact pin according to the present invention, the conductive polymer is a polymer itself which is a conductive polymer compound and a π-electron conjugated polymer such as polyacetylene or polyparaphenylene containing a dopant. However, polypyrrole or polyethylenedioxythiophene is preferred from the viewpoint of easy formation of a complex with the photosensitive resin and stability of the conductive state.
【0021】電極パッドとは、検査用コンタクトピンの
引き出し電極として用いるもので、その形状、材質は特
に限定されず、検査対象である配線基板に応じた形状で
ある。電極パッドは銅、金、チタン、インジウム等や各
種合金等の導電性材料用いて作製できる。The electrode pad is used as a lead electrode of a contact pin for inspection, and its shape and material are not particularly limited, and have a shape corresponding to a wiring board to be inspected. The electrode pad can be manufactured using a conductive material such as copper, gold, titanium, indium and various alloys.
【0022】また、支持板とは電極パッドを支持するも
ので、ガラス−エポキシ複合フィルム基板やポリイミド
基板等やセラミック基板等の配線基板として従来公知の
電気絶縁材料を用いて作製でき、必要に応じて外部端子
から電極パッドまでの配線を設けて使用される。The support plate supports the electrode pads, and can be manufactured by using a conventionally known electric insulating material as a wiring substrate such as a glass-epoxy composite film substrate, a polyimide substrate, or a ceramic substrate. It is used by providing a wiring from an external terminal to an electrode pad.
【0023】感光性樹脂と酸化剤を含む混合物層を形成
する方法としては、これらを混合後、ディップコータ
ー、スピンコーター、バーコーター、ロールコーター等
の通常の塗膜形成方法が挙げられる。As a method for forming a mixture layer containing a photosensitive resin and an oxidizing agent, there can be mentioned a usual coating film forming method such as a dip coater, a spin coater, a bar coater and a roll coater after mixing these.
【0024】感光性樹脂と酸化剤からなる混合物層に光
化学反応の方法によって耐食性画像をパターン形成する
方法は通常の光化学反応によるものであれば特に制限は
なく、メタルマスク、フォトマスク等を用いて、可視
光、紫外光や、アルゴンレーザーやKr−Fレーザー等
を照射して行われる。The method of forming a pattern of a corrosion-resistant image on a mixture layer comprising a photosensitive resin and an oxidizing agent by a photochemical reaction is not particularly limited as long as it is based on a usual photochemical reaction. , Visible light, ultraviolet light, argon laser, Kr-F laser, or the like.
【0025】また、本発明の製造方法では光照射後、感
光性樹脂層に応じた各種現像液で現像を行い、所定のパ
ターンを形成する。本発明の製造方法ではこの現像後に
導電性高分子のモノマーと接触させて導電性高分子を重
合したり、あるいは光化学反応の方法によって耐食性の
パターンを形成した後、導電性高分子のモノマーを含む
有機溶剤を用いて感光性樹脂の現像と導電性高分子の重
合を同時に行うこともできる。後者の場合、有機溶剤は
特に限定されないが、重合反応のし易さからエチルアル
コールやブチルアルコール、イソプロピルアルコール等
のアルコール系溶剤が好ましい。Further, in the manufacturing method of the present invention, after irradiation with light, development is performed with various developing solutions according to the photosensitive resin layer to form a predetermined pattern. In the manufacturing method of the present invention, after the development, the conductive polymer is polymerized by contact with the conductive polymer monomer, or after forming a corrosion-resistant pattern by a photochemical reaction method, the conductive polymer monomer is included. The development of the photosensitive resin and the polymerization of the conductive polymer can be simultaneously performed using an organic solvent. In the latter case, the organic solvent is not particularly limited, but alcohol solvents such as ethyl alcohol, butyl alcohol, and isopropyl alcohol are preferable because of the ease of polymerization reaction.
【0026】本発明のコンタクトピンの製造方法では、
導電性高分子を形成した後、ドーピングを行って導電率
を増大させたり、耐熱性等の新たな機能を付与すること
ができる。このようなドーピング方法としては導電性高
分子を含む成形体をヨウ素等のガスに接触させたり、各
種のスルホン酸やカルボン酸、リン酸等の溶液に浸漬し
たり、塩化第二鉄等の酸化剤溶液に浸漬する方法等が挙
げられる。この際、ドーピングの温度、時間等は特に限
定されず、使用する材料によって適宜選択される。In the method for manufacturing a contact pin according to the present invention,
After the formation of the conductive polymer, doping can be performed to increase conductivity, or a new function such as heat resistance can be provided. As such a doping method, a molded body containing a conductive polymer is brought into contact with a gas such as iodine, immersed in a solution of various sulfonic acids, carboxylic acids, phosphoric acids, or the like, or oxidized with ferric chloride or the like. For example, a method of immersing the composition in an agent solution. At this time, the doping temperature, time, and the like are not particularly limited, and are appropriately selected depending on the material to be used.
【0027】本発明の上記および他の目的、特徴および
利点を明確にすべく、添付した図面を参照しながら、実
施形態を以下に更に詳述する。図1は、この発明の製造
方法によるコンタクトピンを備えた配線基板検査装置の
例およびその使用法を示す斜視図である。図1に示す配
線基板検査装置10は、配線12を施された支持板3の
上に電極パッド2が形成され、この電極パッド2の上に
且つ電気的に接続されて配線基板検査用コンタクトピン
1が設けられたものである。このコンタクトピン1が本
発明の製造方法によって製造される。そして、このコン
タクトピン1を、検査対象である配線基板14、例えば
プリント配線基板に押し付けて配線基板14の検査を行
う。In order to clarify the above and other objects, features and advantages of the present invention, embodiments will be described in more detail below with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 shows the production of the present invention.
Is a perspective view showing an example and a use of the wiring substrate inspection device provided with a contact pin according to the method. In a wiring board inspection apparatus 10 shown in FIG. 1, an electrode pad 2 is formed on a support plate 3 provided with a wiring 12, and is electrically connected to and electrically connected to the electrode pad 2 for wiring board inspection. 1 is provided. This contact pin 1 is manufactured by the manufacturing method of the present invention. Then, the contact pins 1 are pressed against a wiring board 14 to be inspected, for example, a printed wiring board, and the wiring board 14 is inspected.
【0028】コンタクトピンは、図2乃至図5に示す方
法によって製造される。即ち、本発明のコンタクトピン
の製造方法は、図2に示すように電極パッド2を備え配
線12を施された支持板3の上に感光性樹脂と酸化剤か
らなる混合物層4を形成する工程と、図3に示すように
混合物層4をフォトマスク6によりマスクした後混合物
層4を光照射して光化学反応により耐食性画像をパター
ン形成する工程と、有機溶剤等の現像液を用いて耐食性
画像を現像して図4に示すように感光性樹脂層7からな
る耐食性画像を有する基板を得る工程と、図5に示すよ
うに導電性高分子のモノマー液8に耐食性画像を浸漬し
て導電性高分子のモノマーを重合する工程とを含む。こ
の製造方法によって得られたコンタクトピン1は、図6
に示すように、棒状の感光性樹脂層7の上に導電性高分
子層9が表面層として形成された構造を有する突起であ
る。導電性高分子層9が表面層として存在し且つ連続し
て導電路を形成しているので、コンタクトピン1は高導
電性である。また、コンタクトピン1は、感光性樹脂の
硬化物等の樹脂を芯として有するので、柔軟性に優れ
る。The co Ntakutopin is produced by a method shown in FIGS. 2-5. That is, in the method of manufacturing a contact pin according to the present invention, as shown in FIG. 2, a step of forming a mixture layer 4 made of a photosensitive resin and an oxidant on a support plate 3 provided with an electrode pad 2 and provided with a wiring 12. And masking the mixture layer 4 with a photomask 6 as shown in FIG. 3 and then irradiating the mixture layer 4 with light to form a pattern of a corrosion-resistant image by a photochemical reaction, and a step of forming a corrosion-resistant image using a developing solution such as an organic solvent. Developing a substrate having a corrosion-resistant image composed of a photosensitive resin layer 7 as shown in FIG. 4; and immersing the corrosion-resistant image in a monomer solution 8 of a conductive polymer as shown in FIG. Polymerizing a high molecular monomer. The contact pin 1 obtained by this manufacturing method is shown in FIG.
As shown in the figure, the protrusions have a structure in which a conductive polymer layer 9 is formed as a surface layer on a rod-shaped photosensitive resin layer 7. Since the conductive polymer layer 9 exists as a surface layer and continuously forms a conductive path, the contact pin 1 is highly conductive. Further, since the contact pin 1 has a resin such as a cured photosensitive resin as a core, the contact pin 1 is excellent in flexibility.
【0029】本発明による製造方法では、感光性樹脂を
含む混合物層4を光化学反応によってパターン形成する
工程を採用しているので、フォトマスク6によって任意
形状のコンタクトピン1を数μm程度の間隔で高密度に
形成することができる。また、本発明では酸化剤が波長
360nmにおけるモル吸光係数100以上2000以
下であるので感光性樹脂の光化学反応を均一に行うこと
ができる。さらに、コンタクトピン1の導電性材料とし
てカーボンや金属粉末のような粒子状材料ではなく、分
子それ自体が導電性の高分子を用いるので、コンタクト
ピン1の形成間隔は実質的に感光性樹脂のパターン形成
精度まで小さくすることが可能である。また、コンタク
トピン1の高さは感光性樹脂層7の高さによって制御で
きる。従って、複数の光化学反応を組み合わせて異なる
高さのコンタクトピンを形成できるという利点も得られ
る。In the manufacturing method according to the present invention, a step of patterning the mixture layer 4 containing the photosensitive resin by a photochemical reaction is adopted. Therefore, the contact pins 1 having an arbitrary shape are spaced by a photomask 6 at intervals of about several μm. It can be formed with high density. Further, in the present invention, since the oxidizing agent has a molar extinction coefficient of 100 or more and 2000 or less at a wavelength of 360 nm, the photochemical reaction of the photosensitive resin can be uniformly performed. Furthermore, since the molecule itself is not a particulate material such as carbon or metal powder but a conductive polymer as the conductive material of the contact pin 1, the formation interval of the contact pin 1 is substantially the same as that of the photosensitive resin. It is possible to reduce the pattern forming accuracy. Further, the height of the contact pins 1 can be controlled by the height of the photosensitive resin layer 7. Therefore, there is an advantage that contact pins having different heights can be formed by combining a plurality of photochemical reactions.
【0030】本発明の配線基板検査装置の例は、図1に
示すように、配線12を施された電気絶縁性の支持板3
の上に複数の導電性の電極パッド2が設けられ、この複
数の電極パッド2のそれぞれの上に、配線基板14と電
気的に接触させられる棒状のコンタクトピン1が設けら
れて配線基板14の電気的検査を行うための検査装置1
0であって、前記棒状のコンタクトピン1が、図6に示
すように、有機高分子の棒状の樹脂層7を芯としてその
上に導電性高分子層9が表面層として被覆された構造を
有する検査装置である。該検査装置10及びコンタクト
ピン1は、例えば前記の製造方法によって製造できる。
棒状の樹脂層7は、前記の感光性樹脂によって構成され
ることが好ましい。この配線基板検査装置を用いれば、
高密度プリント配線基板の検査が容易である。As shown in FIG. 1, an example of a wiring board inspection apparatus according to the present invention is an electrically insulating support plate 3 provided with wiring 12.
A plurality of conductive electrode pads 2 are provided on the wiring board 14, and on each of the plurality of electrode pads 2, a bar-shaped contact pin 1 electrically contacted with the wiring board 14 is provided. Inspection device 1 for conducting electrical inspection
As shown in FIG. 6, the rod-shaped contact pin 1 has a structure in which an organic polymer rod-shaped resin layer 7 is used as a core and a conductive polymer layer 9 is coated thereon as a surface layer. It is an inspection device having. The inspection device 10 and the contact pins 1 can be manufactured by, for example, the above-described manufacturing method.
The rod-shaped resin layer 7 is preferably made of the above-mentioned photosensitive resin. With this wiring board inspection device,
Inspection of high-density printed wiring boards is easy.
【0031】配線基板の検査法の例は、図1に示すよう
に配線基板検査装置10を配線基板14に押し付けてコ
ンタクトピン1を配線基板14に形成された回路に接触
させ、配線12、該配線12に接続された電極パッド
2、該電極パッド2に接続されたコンタクトピン1を介
して前記回路に検査用電気信号を与え、前記回路を通っ
た電気信号を他のコンタクトピン1を介して出力信号と
して取り出し解析する方法である。As an example of a method of inspecting a wiring board, as shown in FIG. 1, a wiring board inspection apparatus 10 is pressed against a wiring board 14 so that the contact pins 1 are brought into contact with a circuit formed on the wiring board 14, and the wiring 12, An electric signal for inspection is given to the circuit through the electrode pad 2 connected to the wiring 12 and the contact pin 1 connected to the electrode pad 2, and the electric signal passing through the circuit is transmitted through another contact pin 1. This is a method of extracting and analyzing as an output signal.
【0032】[0032]
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
く、本発明の技術思想の範囲内において、各実施例は適
宜変更され得るものである。参考例 1 それぞれブチルナフタレンスルホン酸第2銅、ナフタレ
ンスルホン酸ホルムアルデヒド高縮合物の第2銅塩、お
よびα−ナフタレンスルホン酸第2銅を溶解したメタノ
ール溶液(濃度、各10重量%)に各塩のスルホン酸基
のモル数と同じモル数のピロールを滴下し、室温で2時
間撹拌したところ導電性のポリピロールが得られた。洗
浄及び乾燥後、圧縮成型して得られた試料の導電率はそ
れぞれ23S/cm、8S/cm、および6S/cmで
あり、電子部品の導電材料として使用可能なものであっ
た。また、ピロール滴下前の塩溶液の360nmにおけ
るスルホン酸基を基準としたモル吸光係数を測定したと
ころ、それぞれ710、500、および410であり、
10重量%においても光化学反応可能なものであった。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples, and each Example may be appropriately modified within the scope of the technical idea of the present invention. Can be done. Reference Example 1 Cupric butylnaphthalenesulfonate, cupric salt of a high-condensate of naphthalenesulfonic acid formaldehyde, and each salt in a methanol solution (concentration, 10% by weight each) in which cupric α-naphthalenesulfonic acid was dissolved. Was added dropwise and stirred at room temperature for 2 hours to obtain conductive polypyrrole. After washing and drying, the samples obtained by compression molding had a conductivity of 23 S / cm, 8 S / cm and 6 S / cm, respectively, and were usable as conductive materials for electronic components. When the molar extinction coefficient was measured based on the sulfonic acid group at 360 nm of the salt solution before the addition of pyrrole, they were 710, 500, and 410, respectively.
Even at 10% by weight, a photochemical reaction was possible.
【0033】参考例2参考例 1のピロールに代えてエチレンジオキシチオフェ
ンを使う以外は参考例1と同様の方法で3種類の導電性
ポリエチレンジオキシチオフェンを得た。洗浄及び乾燥
後、圧縮成型して得られた試料の導電率はそれぞれ8S
/cm、2.5S/cm、および4.8S/cmであ
り、電子部品の導電材料として使用可能なものであっ
た。[0033] Except to use ethylenedioxythiophene instead pyrrole Reference Example 2 Reference Example 1 was obtained in the same manner as three in the method of the conductive polyethylene dioxythiophene as in Reference Example 1. After washing and drying, the conductivity of the sample obtained by compression molding is 8S each.
/ Cm, 2.5 S / cm, and 4.8 S / cm, and could be used as a conductive material for electronic components.
【0034】比較例1参考例 1のブチルナフタレンスルホン酸第2銅、ナフタ
レンスルホン酸ホルムアルデヒド高縮合物の第2銅塩、
およびα−ナフタレンスルホン酸第2銅に代えてそれぞ
れ、パラトルエンスルホン酸第2銅、ドデシルベンゼン
スルホン酸第2銅、ブチルナフタレンスルホン酸第2鉄
を使う以外は参考例1と同様の方法で3種類の導電性ポ
リピロールを得た。洗浄及び乾燥後、圧縮成型して得ら
れた試料の導電率はそれぞれ10-5S/cm、5×10
-6S/cm、および5.8S/cmであり、ブチルナフ
タレンスルホン酸第2鉄を使ったもの以外は電子部品の
導電材料として使用できないものであった。また、ピロ
ール滴下前の塩溶液の360nmにおけるスルホン酸基
を基準としたモル吸光係数を測定したところ、それぞれ
490、550,および3800であり、パラトルエン
スルホン酸第2銅、ドデシルベンゼンスルホン酸第2銅
をつかったものは10重量%においても光化学反応可能
なものであったが、ブチルナフタレンスルホン酸第2鉄
を使ったものは光化学反応できないものであった。Comparative Example 1 Cupric butyl naphthalenesulfonate and cupric salt of a high condensate of naphthalenesulfonic acid formaldehyde of Reference Example 1,
In the same manner as in Reference Example 1, except that cupric paratoluenesulfonate, cupric dodecylbenzenesulfonate, and ferric butylnaphthalenesulfonate were used instead of and cupric α-naphthalenesulfonate, respectively. Various kinds of conductive polypyrrole were obtained. After washing and drying, the conductivity of the sample obtained by compression molding was 10 −5 S / cm, 5 × 10 5
-6 S / cm and 5.8 S / cm, and could not be used as a conductive material for electronic components except for those using ferric butylnaphthalenesulfonate. The molar extinction coefficients of the salt solution before the addition of pyrrole were measured at 490, 550, and 3800, respectively, based on the sulfonic acid group at 360 nm of the salt solution, and were found to be cupric paratoluenesulfonate and copper dodecylbenzenesulfonate. Those using copper were capable of photochemical reaction even at 10% by weight, while those using ferric butylnaphthalenesulfonate were not capable of photochemical reaction.
【0035】以下の実施例1〜5は、図2〜5に示す工
程によって図1、6に示すコンタクトピン1を有する配
線基板検査装置10を製造した例である。The following first to fifth embodiments are examples in which the wiring board inspection apparatus 10 having the contact pins 1 shown in FIGS. 1 and 6 is manufactured by the steps shown in FIGS.
【0036】実施例1 ガラスエポキシ基板上に銅箔を張り付けて配線パターン
12を形成し、電極パッド部2を黒化処理した。この支
持板3に、ブチルナフタレンスルホン酸第二銅を溶解し
たエタノール溶液(濃度30重量%)を30重量%含む
ウレタンアクリレート系感光性樹脂(日本化薬株式会社
製、KAYARAD UX−3204、ヘキサメチレン
ジイソシアネート)を60℃に加熱して滴下し、バーコ
ーターを用いて100μmの混合物層4を形成して室温
で24時間減圧乾燥した。次に、間隔100μmで直径
50μmの円形開口部を有するメタルマスク6を密着さ
せ、紫外光を5mW/cm2の照射強度で5秒間照射し
て耐食性画像を形成した。その後、得られた基板をブチ
ルアルコールに浸漬して耐食性画像の現像を行った。次
に、得られた基板を5重量%のピロールを含むメチルア
ルコールに浸漬し、室温で2時間反応させて、導電性ポ
リピロールが形成されたウレタンアクリレート系感光性
樹脂成形体をコンタクトピン1として有する配線基板検
査装置10を得た。この成形体は直径50μm、高さ1
00μmの円柱であり、プリント配線基板検査用コンタ
クトピンに適した形状であった。得られたコンタクトピ
ン1はその高さの15%までの弾性変形が可能であるた
め、異なる高さの配線パッドにも密着させることができ
た。また、電気抵抗は15Ωであるため、プリント配線
基板14のオープン・ショート検査のみならず動作試験
も可能なものであった。Example 1 A copper foil was adhered on a glass epoxy substrate to form a wiring pattern 12, and the electrode pad portion 2 was blackened. A urethane acrylate photosensitive resin containing 30% by weight of an ethanol solution (concentration of 30% by weight) in which cupric butylnaphthalenesulfonate is dissolved (KAYARAD UX-3204, hexamethylene (Diisocyanate) was heated and dropped at 60 ° C., and a 100 μm mixture layer 4 was formed using a bar coater, and dried under reduced pressure at room temperature for 24 hours. Next, a metal mask 6 having a circular opening having a diameter of 50 μm and having an interval of 100 μm was closely adhered thereto, and irradiated with ultraviolet light at an irradiation intensity of 5 mW / cm 2 for 5 seconds to form a corrosion-resistant image. Thereafter, the obtained substrate was immersed in butyl alcohol to develop a corrosion-resistant image. Next, the obtained substrate is immersed in methyl alcohol containing 5% by weight of pyrrole and reacted at room temperature for 2 hours to have a urethane acrylate-based photosensitive resin molded body on which conductive polypyrrole is formed as a contact pin 1. The wiring board inspection device 10 was obtained. This molded product has a diameter of 50 μm and a height of 1.
It was a cylinder having a diameter of 00 μm, and had a shape suitable for a contact pin for inspecting a printed wiring board. Since the obtained contact pin 1 can be elastically deformed up to 15% of its height, it can be brought into close contact with wiring pads of different heights. Further, since the electric resistance is 15Ω, not only the open / short inspection of the printed wiring board 14 but also the operation test can be performed.
【0037】実施例2 実施例1のガラスエポキシ基板上に銅箔を張り付けて配
線パターン12を形成し、電極パッド部2を黒化処理し
た後、実施例1の方法でブチルナフタレンスルホン酸第
二銅を含むウレタンアクリレート系感光性樹脂層を形成
して耐食性画像を形成した基板を得た。この基板を5重
量%のピロールを含むブチルアルコールに浸漬し、室温
で30分間保持して耐食性画像の現像とポリピロールの
重合を同時に行い、導電性ポリピロールが形成されたウ
レタンアクリレート系感光性樹脂成形体を得た。この成
形体は直径50μm、高さ90μmの円柱であり、プリ
ント配線基板検査用コンタクトピンに適した形状であっ
た。得られたコンタクトピン1はその高さの15%まで
の弾性変形が可能であるため、異なる高さの配線パッド
にも密着させることができ、また、電気抵抗は10Ωで
あるため、プリント配線基板14のオープン・ショート
検査のみならず動作試験も可能なものであった。[0037] Example 2 sticking a copper foil on a glass epoxy substrate of Example 1 to form a wiring pattern 12, after the electrode pad portion 2 was blackened, butyl naphthalene sulfonate second by the method of Example 1 A substrate on which a corrosion-resistant image was formed by forming a urethane acrylate-based photosensitive resin layer containing copper was obtained. The substrate is immersed in butyl alcohol containing 5% by weight of pyrrole, and held at room temperature for 30 minutes to simultaneously develop a corrosion-resistant image and polymerize polypyrrole, thereby forming a urethane acrylate-based photosensitive resin molded article on which conductive polypyrrole is formed. I got This molded product was a column having a diameter of 50 μm and a height of 90 μm, and had a shape suitable for a contact pin for inspecting a printed wiring board. The obtained contact pin 1 can be elastically deformed up to 15% of its height, so that it can be in close contact with wiring pads of different heights, and since the electrical resistance is 10Ω, the printed wiring board The operation test as well as the 14 open / short inspections were possible.
【0038】実施例3 実施例1のガラスエポキシ基板上に銅箔を張り付けて配
線パターン12を形成し、電極パッド部2を黒化処理し
た後、実施例3のブチルナフタレンスルホン酸第二銅に
代えてβ−ナフタレンスルホン酸第二銅のホルムアルデ
ヒド高縮合物を使う以外は実施例1と同様の方法でウレ
タンアクリレート系の感光性の混合物層4を形成して耐
食性画像を形成した基板を得た。この基板を5重量%の
ピロールを含むイソプロピルアルコールに浸漬し、室温
で15分間保持して耐食性画像の現像とポリピロールの
重合を同時に行い、導電性ポリピロールが形成されたウ
レタンアクリレート系感光性樹脂成形体を得た。この成
形体は直径50μm、高さ100μmの円柱であり、プ
リント配線基板検査用コンタクトピンに適した形状であ
った。得られたコンタクトピン1はその高さの20%ま
での弾性変形が可能であるため、異なる高さの配線パッ
ドにも密着させることができ、また、電気抵抗は6Ωで
あるため、プリント配線基板14のオープン・ショート
検査のみならず動作試験も可能なものであった。Example 3 A copper foil was adhered on the glass epoxy substrate of Example 1 to form a wiring pattern 12, and the electrode pad portion 2 was subjected to blackening treatment. A urethane acrylate-based photosensitive mixture layer 4 was formed in the same manner as in Example 1 except that a high formaldehyde condensate of cupric β-naphthalenesulfonic acid was used instead to obtain a substrate on which a corrosion-resistant image was formed. . The substrate was immersed in isopropyl alcohol containing 5% by weight of pyrrole, and held at room temperature for 15 minutes to simultaneously develop a corrosion-resistant image and polymerize polypyrrole, thereby forming a urethane acrylate-based photosensitive resin molded article having conductive polypyrrole formed thereon. I got This molded product was a column having a diameter of 50 μm and a height of 100 μm, and had a shape suitable for a contact pin for inspecting a printed wiring board. The obtained contact pin 1 can be elastically deformed up to 20% of its height, so that it can be in close contact with wiring pads of different heights, and since the electrical resistance is 6Ω, the printed wiring board The operation test as well as the 14 open / short inspections were possible.
【0039】実施例4 実施例1のガラスエポキシ基板上に銅箔を張り付けて配
線パターン12を形成し、電極パッド部2を黒化処理し
た後、ウレタンアクリレート系樹脂として実施例1のK
AYARAD UX−3204に代えて東亜合成株式会
社製アロニックスM−5700を用いる以外は実施例1
の方法で混合物層4を形成した。次に、間隔100μm
で直径50μmの円形開口部を有するメタルマスク6を
密着させ、紫外光を5mW/cm2の照射強度で5秒間
照射して耐食性画像を形成した基板を得た。この基板を
5重量%のピロールを含むブチルアルコールに浸漬し、
室温で30分間保持して耐食性画像の現像とポリピロー
ルの重合を同時に行い、導電性ポリピロールが形成され
たウレタンアクリレート系感光性樹脂成形体を得た。こ
の成形体は直径50μm、高さ90μmの円柱であり、
プリント配線基板検査用コンタクトピンに適した形状で
あった。得られたコンタクトピン1はその高さの15%
までの弾性変形が可能であるため、異なる高さの配線パ
ッドにも密着させることができ、また、電気抵抗は12
Ωであるため、プリント配線基板14のオープン・ショ
ート検査のみならず動作試験も可能なものであった。Example 4 A copper foil was adhered on the glass epoxy substrate of Example 1 to form a wiring pattern 12, and the electrode pad portion 2 was subjected to blackening treatment.
Example 1 Example 1 was repeated except that Aronix M-5700 manufactured by Toagosei Co., Ltd. was used instead of AYARAD UX-3204.
The mixture layer 4 was formed by the method described above. Next, an interval of 100 μm
Then, a metal mask 6 having a circular opening having a diameter of 50 μm was adhered to the substrate and irradiated with ultraviolet light at an irradiation intensity of 5 mW / cm 2 for 5 seconds to obtain a substrate on which a corrosion-resistant image was formed. This substrate is immersed in butyl alcohol containing 5% by weight of pyrrole,
The development of the corrosion-resistant image and the polymerization of polypyrrole were carried out simultaneously at a room temperature for 30 minutes to obtain a urethane acrylate-based photosensitive resin molded product on which conductive polypyrrole was formed. This molded body is a cylinder having a diameter of 50 μm and a height of 90 μm,
The shape was suitable for a contact pin for printed wiring board inspection. The resulting contact pin 1 is 15% of its height
Since it can be elastically deformed up to a maximum, it can be in close contact with wiring pads of different heights, and has an electric resistance of 12
Since it is Ω, not only the open / short inspection of the printed wiring board 14 but also the operation test can be performed.
【0040】実施例5 実施例1のガラスエポキシ基板上に銅箔を張り付けて配
線パターン12を形成し、電極パッド部2を黒化処理し
た後、実施例1と同様の方法でブチルナフタレンスルホ
ン酸第2銅を含むウレタンアクリレート系の感光性混合
物層4を形成して耐食性画像を形成した基板を得た。こ
の基板を5重量%のエチレンジオキシチオフェンを含む
ブチルアルコールに浸漬し、室温で15分間保持して耐
食性画像の現像とエチレンジオキシチオフェンの重合を
同時に行い、導電性ポリエチレンジオキシチオフェンが
形成されたウレタンアクリレート系感光性樹脂成形体を
得た。この成形体は直径50μm、高さ100μmの円
柱であり、プリント配線基板検査用コンタクトピンに適
した形状であった。得られたコンタクトピン1はその高
さの20%までの弾性変形が可能であるため、異なる高
さの配線パッドにも密着させることができ、また、電気
抵抗は6Ωであるため、プリント配線基板14のオープ
ン・ショート検査のみならず動作試験も可能なものであ
った。 Fifth Embodiment A copper foil is adhered on the glass epoxy substrate of the first embodiment to form a wiring pattern 12, and the electrode pad portion 2 is blackened. Then, butylnaphthalenesulfonic acid is produced in the same manner as in the first embodiment. A urethane acrylate-based photosensitive mixture layer 4 containing cupric was formed to obtain a substrate on which a corrosion-resistant image was formed. This substrate was immersed in butyl alcohol containing 5% by weight of ethylenedioxythiophene, and kept at room temperature for 15 minutes to simultaneously develop a corrosion-resistant image and polymerize ethylenedioxythiophene, thereby forming conductive polyethylenedioxythiophene. A urethane acrylate-based photosensitive resin molded product was obtained. This molded product was a column having a diameter of 50 μm and a height of 100 μm, and had a shape suitable for a contact pin for inspecting a printed wiring board. The obtained contact pin 1 can be elastically deformed up to 20% of its height, so that it can be in close contact with wiring pads of different heights, and since the electrical resistance is 6Ω, the printed wiring board The operation test as well as the 14 open / short inspections were possible.
【0041】[0041]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
酸化剤が波長360nmにおけるモル吸光係数100以
上2000以下のものであるので、微細な配線パッドに
も対応可能な高導電性で柔軟性にも富んだコンタクトピ
ンの製造方法が提供される。また、本発明の配線基板検
査装置を用いれば、高密度プリント配線基板の検査が容
易である。As described above, according to the present invention ,
Since the acid agent is of the molar extinction coefficient 100 to 2,000 at a wavelength of 360 nm, a manufacturing method of the contact pin rich in flexibility adaptable high conductivity even fine wiring pad is provided. In addition, the use of the wiring board inspection apparatus of the present invention makes it easy to inspect a high-density printed wiring board.
【図1】 この発明の製造方法によるコンタクトピンを
備えた配線基板検査装置の例、およびその使用方法の概
略を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing an example of a wiring board inspection apparatus provided with contact pins according to a manufacturing method of the present invention, and an outline of a method of using the same.
【図2】 本発明の配線基板検査用コンタクトピンの製
造方法を示す断面図であって、酸化剤と感光性樹脂とを
含む混合物層を支持板上に形成した工程を示す。FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a contact pin for inspecting a wiring board according to the present invention, showing a step of forming a mixture layer containing an oxidizing agent and a photosensitive resin on a support plate.
【図3】 本発明の配線基板検査用コンタクトピンの製
造方法を示す断面図であって、フォトマスクを用いて光
化学反応により耐食性画像をパターン形成する工程を示
す。FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a contact pin for inspecting a wiring board according to the present invention, illustrating a step of forming a pattern of a corrosion-resistant image by a photochemical reaction using a photomask.
【図4】 本発明の配線基板検査用コンタクトピンの製
造方法を示す断面図であって、耐食性画像を現像する工
程によって得た基板を示す。FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a contact pin for inspecting a wiring board according to the present invention, showing a substrate obtained by a process of developing a corrosion-resistant image.
【図5】 本発明の配線基板検査用コンタクトピンの製
造方法を示す断面図であって、導電性高分子のモノマー
を重合する工程を示す。FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating the method of manufacturing the contact pin for inspecting a wiring board according to the present invention, showing a step of polymerizing a conductive polymer monomer.
【図6】 本発明の配線基板検査装置の例を示す断面図
である。FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating an example of a wiring board inspection apparatus according to the present invention.
1・・導電性のコンタクトピン、2・・電極パッド、3
・・支持板、4・・混合物層、6・・フォトマスク、7
・・感光性樹脂層、8・・モノマー液、9・・導電性高
分子層、10・・配線基板検査装置、12・・配線、1
4・・配線基板(プリント配線基板)1. Conductive contact pins, 2. Electrode pads, 3
..Support plate, 4..Mixed layer, 6..Photomask, 7
..Photosensitive resin layer, 8 monomer liquid, 9 conductive polymer layer, 10 wiring board inspection device, 12 wiring, 1
4. Wiring board (printed wiring board)
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平8−45790(JP,A) 特開 平4−48710(JP,A) 特開 平7−235739(JP,A) 特開 平6−300782(JP,A) 特開 平6−112472(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G01R 1/073 C08G 73/02 C08G 61/12 G01R 31/02 Continuation of front page (56) References JP-A-8-45790 (JP, A) JP-A-4-48710 (JP, A) JP-A-7-235739 (JP, A) JP-A-6-300782 (JP) , A) JP-A-6-112472 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) G01R 1/073 C08G 73/02 C08G 61/12 G01R 31/02
Claims (11)
樹脂と酸化剤からなる混合物層を形成する工程と、光化
学反応によって耐食性画像をパターン形成する工程と、
耐食性画像を現像する工程と、導電性高分子のモノマー
を重合する工程とを含む配線基板検査用コンタクトピン
の製造方法において、酸化剤が波長360nmにおける
モル吸光係数100以上2000以下であることを特徴
とする配線基板検査用コンタクトピンの製造方法。A step of forming a mixture layer comprising a photosensitive resin and an oxidizing agent on a support plate having electrode pads; and a step of patterning a corrosion-resistant image by a photochemical reaction.
A method for producing a contact pin for inspecting a wiring board, comprising a step of developing a corrosion-resistant image and a step of polymerizing a monomer of a conductive polymer, wherein the oxidizing agent has a molar extinction coefficient of 100 or more and 2000 or less at a wavelength of 360 nm. Manufacturing method of a contact pin for wiring board inspection.
な成分とすることを特徴とする請求項1記載の配線基板
検査用コンタクトピンの製造方法。Wherein said photosensitive resin, method of manufacturing a wiring circuit board inspection contact pin according to claim 1, characterized in that the acrylic compound as a main component.
するものであることを特徴とする請求項2記載の配線基
板検査用コンタクトピンの製造方法。3. The method according to claim 2, wherein the acrylic compound has a urethane bond.
22以下のアルキレン基、とウレタン結合とを有するも
のであることを特徴とする請求項2記載の配線基板検査
用コンタクトピンの製造方法。Wherein said acrylic compound, an alkylene group having 4 to 22 carbon atoms, and claim 2 method of manufacturing a wiring circuit board inspection contact pin, wherein a is one having a urethane bond.
導電性高分子のモノマーを重合する工程が、導電性高分
子のモノマーを含む有機溶剤を用いて同時に行われるこ
とを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の配
線基板検査用コンタクトピンの製造方法。5. A step of developing the corrosion image, and a step of polymerizing the monomer of the conductive polymer, according to claim characterized by being carried out simultaneously by using an organic solvent containing a monomer of the conductive polymer 1 5. The method for producing a contact pin for wiring board inspection according to any one of the above-described items.
な成分とすることを特徴とする請求項5記載の配線基板
検査用コンタクトピンの製造方法。Wherein said organic solvent is, wiring method of manufacturing a circuit board inspection contact pin according to claim 5, characterized in that the alcoholic solvent as a main component.
とからなる塩であることを特徴とする請求項1〜6のい
ずれか1項に記載の配線基板検査用コンタクトピンの製
造方法。7. A method of manufacturing a wiring circuit board inspection contact pin according to claim 1, wherein the oxidizing agent is a salt comprising a second copper cation and an anion.
ニオンもしくはその誘導体であることを特徴とする請求
項7記載の配線基板検査用コンタクトピンの製造方法。Wherein said anion is a manufacturing method of claim 7 wiring board inspection contact pin, wherein the naphthalenesulfonic acid anion or a derivative thereof.
くはその誘導体がアルキルナフタレンスルホン酸アニオ
ン、もしくはナフタレンスルホン酸のホルムアルデヒド
縮合物であることを特徴とする請求項8記載の配線基板
検査用コンタクトピンの製造方法。Wherein said naphthalenesulfonic acid anion or a derivative thereof alkylnaphthalene sulfonate anion or method of manufacturing a wiring circuit board inspection contact pin according to claim 8, wherein the formaldehyde condensate of naphthalenesulfonic acid.
液が、ピロール、エチレンジオキシチオフェン、および
アニリンの少なくとも1種を含むアルコール溶液である
ことを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の
配線基板検査用コンタクトピンの製造方法。10. A solution comprising monomers of the conductive polymer, pyrrole, claims 1-9 Neu Zureka, characterized in that an alcohol solution containing at least one ethylene dioxythiophene, and aniline 2. The method for manufacturing a contact pin for inspecting a wiring board according to claim 1.
トピンが設けられて配線基板の電気的検査を行うための
配線基板検査装置であって、前記棒状のコンタクトピン
が請求項1〜10のいずれか1項に記載の製造方法で作
られたものであることを特徴とする配線基板検査装置。11. A wiring board inspection apparatus for providing an electrical inspection of a wiring board by providing a plurality of rod-shaped contact pins on a support plate, wherein the rod-shaped contact pins are provided. Produced by the manufacturing method described in any one of
A wiring board inspection apparatus, characterized in that it has been manufactured.
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