JP2990188B1 - Pattern for repairing printed wiring board and pattern repair method - Google Patents
Pattern for repairing printed wiring board and pattern repair methodInfo
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Abstract
【要約】
【目的】 プリント配線板の配線が断線した際の修復を
簡便に行う。
【構成】 プリント配線板の基材1上の断線したパター
ン2の修復箇所を含む基材表面に感光性樹脂と多価の遷
移金属塩からなる酸化剤を含む混合物層を形成し、フォ
トマスク4を使用する光化学反応の方法によって前記混
合物層の一部に選択的に耐食性画像5に変換し、更にこ
の画像に導電性高分子を重合させて前記修復箇所を修正
する。プリント配線板表面の修正が必要な箇所のみに導
電性高分子を重合させることができるため、高集積度の
回路の断線にも適切に対応できる。Abstract: [Object] To easily repair a broken wiring of a printed wiring board. A mixture layer containing an oxidizing agent comprising a photosensitive resin and a polyvalent transition metal salt is formed on a surface of a substrate including a repaired portion of a disconnected pattern on a substrate of a printed wiring board, and a photomask is formed. A part of the mixture layer is selectively converted into a corrosion-resistant image 5 by a photochemical reaction method using a polymer, and the repaired portion is corrected by polymerizing a conductive polymer on the image. Since the conductive polymer can be polymerized only in the portion of the printed wiring board surface where correction is necessary, it is possible to appropriately cope with disconnection of a highly integrated circuit.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、断線したプリント
配線板の修正用パターン及びパターン修正方法に関し、
より詳細には感光性樹脂と導電性高分子を併用してプリ
ント配線板の断線部分を修正するためのパターン及びパ
ターン修正方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pattern for repairing a broken printed wiring board and a method for repairing the pattern.
More specifically, the present invention relates to a pattern for correcting a broken portion of a printed wiring board using a photosensitive resin and a conductive polymer in combination, and a pattern correction method.
【0002】[0002]
【従来の技術】電子機器の小型化、高性能化に伴ってプ
リント配線板においても配線の高密度化が進展してい
る。高密度化に伴う配線の微細化において、配線の断線
が増しており、簡便で確実なる配線の修正方法の要求が
高まっている。従来の配線の修正方法は、断線箇所に対
し、配線幅と同じ幅の線材を溶接する事により配線の修
正を行ってきた。しかしながら、この方法では、線材の
微細化および作業面から、近年の微細化の進んだビルド
アップ基板に対して、対応しきれなくなってきている。
加えて、修正箇所に段差ができるため層間厚の薄くなっ
たビルドアップ基板の修正には使用できないという問題
も発生している。また、導電性ペーストを用いたパター
ン修正方法も近年幾つか報告されているが、現実問題と
してこれらの方法では微細化対応に限界があった。2. Description of the Related Art With the miniaturization and high performance of electronic equipment, the density of wiring has been increasing in printed wiring boards. With the miniaturization of wiring accompanying the increase in density, disconnection of wiring is increasing, and the demand for a simple and reliable wiring correction method is increasing. The conventional wiring correction method has been to correct the wiring by welding a wire having the same width as the wiring width to the broken portion. However, in this method, it is becoming impossible to cope with a recently miniaturized build-up substrate due to the miniaturization of the wire and the work surface.
In addition, there is also a problem that a stepped portion can be formed at a repaired portion, so that it cannot be used for repairing a build-up substrate having a thin interlayer. In recent years, some pattern correction methods using a conductive paste have been reported, but as a practical problem, these methods have a limit in miniaturization.
【0003】一方、高分子それ自体が電気伝導性を有す
るものとしてポリピロールやポリアニリン等の導電性高
分子が開発され、電子部品の電極等に利用されている。
例えば特開平3−46214号公報にはドデシルベンゼ
ンスルホン酸とピロールのメタノール溶液を−30℃以
下で混合し、−20℃以上に昇温して重合する導電性ポ
リピロールを電極とする固体電解コンデンサの製造方法
が開示されている。また、日本国特許第2601207
号公報にはアニリンやピロール等と酸化剤を含む溶液を
冷却して溶剤を凍結させ、溶剤の融解温度以下で導電性
高分子を重合させるスポンジ状の導電性高分子成形体の
製造方法が開示されている。さらに、日本国特許第26
57956号公報にはポリパラフェニレンビニレン、ポ
リアニリン、ポリピロール等とエネルギーへの曝露によ
ってドーパントを発生する前駆体とを含む導電性ポリマ
ー組成物、およびこの組成物をエネルギー源に曝露して
ドーパント前駆体を分解してドーパントを生成させ、曝
露領域を導電性にする導電性ポリマー構造体の形成方
法、並びにこの導電性ポリマー構造体を溶媒に曝露し、
エネルギー源に曝露された領域以外の領域を溶解させて
除去する導電性ポリマー構造体の形成方法が開示されて
いる。また、特開昭61−209225号公報には複素
五員環式化合物と分子量300以下のスルホン酸塩を含
む電解液を用いて1V以下の電位で電解重合反応を行う
ことにより、電極面に高導電性の導電性高分子を形成す
る方法が開示されている。On the other hand, conductive polymers such as polypyrrole and polyaniline have been developed as polymers having electrical conductivity themselves, and are used for electrodes of electronic parts.
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-46214 discloses a solid electrolytic capacitor having a conductive polypyrrole electrode formed by mixing a methanol solution of dodecylbenzenesulfonic acid and pyrrole at -30 ° C or lower and heating to -20 ° C or higher to polymerize. A manufacturing method is disclosed. Also, Japanese Patent No. 2601207
Japanese Patent Application Publication No. JP-A-2005-17764 discloses a method for producing a sponge-like conductive polymer molded body in which a solution containing aniline, pyrrole, or the like and an oxidizing agent is cooled to freeze the solvent, and the conductive polymer is polymerized below the melting temperature of the solvent. Have been. Further, Japanese Patent No. 26
No. 57956 discloses a conductive polymer composition comprising polyparaphenylenevinylene, polyaniline, polypyrrole and the like and a precursor which generates a dopant by exposure to energy, and a method of exposing this composition to an energy source to form a dopant precursor. A method of forming a conductive polymer structure that decomposes to generate a dopant and renders the exposed area conductive, and exposing the conductive polymer structure to a solvent,
A method is disclosed for forming a conductive polymer structure that dissolves and removes regions other than those exposed to an energy source. Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-209225 discloses that an electrolytic polymerization reaction is carried out at an electric potential of 1 V or less using an electrolytic solution containing a 5-membered heterocyclic compound and a sulfonate having a molecular weight of 300 or less, so that a high electrode surface is obtained. A method for forming a conductive polymer is disclosed.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】上記技術は有機高分子
による導電性成形体の形成方法であるので、これらはそ
のまま高密度プリント配線基板のパターン修正に応用で
きない。すなわち、低温で反応を抑えた溶液を、昇温し
て重合する方法や、溶剤の融解温度以下で導電性高分子
を重合する方法では基板全面に導電性高分子が形成して
しまい、任意の形状で、しかも微細な配線にも対応でき
るものとはならない。また、導電性高分子とエネルギー
への曝露によってドーパントを発生する前駆体とを含む
組成物をエネルギー源に曝露してドーパント前駆体を分
解してドーパントを生成させ、曝露領域を導電性にする
導電性ポリマー構造体を形成し、溶媒に曝露してエネル
ギー源に曝露された領域以外の領域を溶解させて除去す
る方法ではドーパントとして利用できる化合物がオニウ
ム塩のごとき特殊な分子構造に限られ、溶剤で溶解する
導電性高分子の数も少ないため、導電性の性能を任意に
制御したものを製造することは難しい。さらに、電解重
合法では、電極面方向への広がりを抑えて必要な配線幅
のみの導電性高分子を成長させることは難しい。Since the above-mentioned techniques are methods for forming a conductive molded body made of an organic polymer, they cannot be directly applied to pattern correction of a high-density printed wiring board. That is, in a method in which a solution in which the reaction is suppressed at a low temperature is polymerized by raising the temperature or a method in which the conductive polymer is polymerized at a temperature lower than the melting temperature of the solvent, a conductive polymer is formed on the entire surface of the substrate, and It is not a shape that can handle fine wiring. In addition, a composition containing a conductive polymer and a precursor that generates a dopant by exposure to energy is exposed to an energy source to decompose the dopant precursor to generate a dopant, and to make the exposed region conductive. In the method of forming a functional polymer structure and dissolving and removing the region other than the region exposed to the energy source by exposing to a solvent, the compound that can be used as a dopant is limited to a special molecular structure such as an onium salt, Since the number of conductive polymers that dissolve in the polymer is small, it is difficult to manufacture a polymer in which conductivity is arbitrarily controlled. Furthermore, in the electrolytic polymerization method, it is difficult to suppress the spread in the electrode surface direction and grow a conductive polymer having only a necessary wiring width.
【0005】また、特開平1−123228には、光重
合によって導電性高分子からなるパターンを形成する方
法が記載されているが、この方法では、形成部以外にも
膜が形成され、クロストークや絶縁性の問題が発生す
る。特開平5−67405には、基板上に感光性導電性
ペーストを用いて導体パターンを形成する導体パターン
を形成する方法が記載されているが、この方法ではペー
スト内に導電性を有する金属成分粒子の粒径がネックと
なり50μm以下の微細な回路の形成ができない。これ
らの従来技術は多数の素子が集積されたプリント配線板
を対象とするものではなく、プリント配線板の断線に対
応できるものではない。Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-123228 discloses a method of forming a pattern made of a conductive polymer by photopolymerization. In this method, a film is formed in a portion other than a portion where the conductive polymer is formed. And insulation problems occur. JP-A-5-67405 describes a method of forming a conductive pattern on a substrate using a photosensitive conductive paste. In this method, conductive metal component particles are contained in the paste. And the formation of a fine circuit of 50 μm or less cannot be achieved. These prior arts are not directed to a printed wiring board on which a large number of elements are integrated, and cannot deal with disconnection of the printed wiring board.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明の主な目的の一つ
は高密度プリント配線板のパターン修正に用いられる微
細配線にも対応可能な、高導電性の修正配線およびその
製造方法を提供することにある。本発明に係るプリント
配線板の修正用パターンは、感光性樹脂及び/又は感光
性樹脂の反応生成物と導電性高分子の混合組成物からな
り、プリント配線板の修正方法は、例えばパターン修正
を行うプリント配線板に感光性樹脂と多価の遷移金属塩
からなる酸化剤を含む混合物層を形成する工程と、光化
学反応の方法によって前記混合物層の一部に選択的に耐
食性画像をパターン形成する工程、耐食性画像を現像す
る工程、および導電性高分子のモノマーを重合して前記
感光性樹脂との混合組成物とする工程とを含む操作によ
り実施できる。SUMMARY OF THE INVENTION One of the main objects of the present invention is to provide a highly conductive modified wiring which can cope with fine wiring used for pattern modification of a high-density printed wiring board and a method of manufacturing the same. Is to do. The pattern for repairing a printed wiring board according to the present invention is composed of a photosensitive resin and / or a mixed composition of a reaction product of the photosensitive resin and a conductive polymer. Forming a mixture layer containing an oxidizing agent comprising a photosensitive resin and a polyvalent transition metal salt on a printed wiring board, and selectively forming a corrosion-resistant image on a part of the mixture layer by a photochemical reaction method. It can be performed by an operation including a step of developing a corrosion-resistant image, and a step of polymerizing a monomer of a conductive polymer to form a mixed composition with the photosensitive resin.
【0007】[0007]
【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。
本発明のプリント配線板の修正パターンは感光性樹脂と
導電性高分子の混合組成物、もしくは感光性樹脂の反応
生成物と導電性高分子の混合組成物からなることを特徴
とし、感光性樹脂で欠損部分の空間的な修復を、導電性
高分子により電気的接続の回復を行うことができ、導電
性高分子の量を調節することにより、本発明のプリント
配線板の修正パターンは、高導電性なものとすることが
できる。このように修正後の断線修復部の組成物は感光
性樹脂(及び/又はその反応生成物)と導電性高分子を
含んでいるが、本発明方法を実施するためには前記両素
材の他に、多価の遷移金属塩からなる酸化剤を使用す
る。つまり本発明によるプリント配線板パターン修正方
法は、パターン修正箇所に感光性樹脂と多価の遷移金属
塩からなる酸化剤を含む混合物層を形成し、光化学反応
の方法によって耐食性画像をパターン形成する工程、耐
食性画像を現像する工程、および導電性高分子のモノマ
ーを重合して前記感光性樹脂との混合組成物とする工程
とを含むことを特徴としている。本発明のパターン修正
方法によれば、光化学反応を用いたリソグラフィー手法
が適用できるので、高密度プリント配線板に用いられる
回路幅50μm以下のパターン修正も可能である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail.
The correction pattern of the printed wiring board of the present invention is characterized in that the modified pattern is composed of a mixed composition of a photosensitive resin and a conductive polymer, or a mixed composition of a reaction product of the photosensitive resin and a conductive polymer. The spatial repair of the defective portion can be performed, and the electrical connection can be restored by the conductive polymer. By adjusting the amount of the conductive polymer, the repair pattern of the printed wiring board of the present invention can be improved. It can be conductive. As described above, the composition of the repaired wire breakage repairing portion contains a photosensitive resin (and / or a reaction product thereof) and a conductive polymer. In addition, an oxidizing agent comprising a polyvalent transition metal salt is used. In other words, the printed wiring board pattern correcting method according to the present invention is a method of forming a mixture layer containing an oxidizing agent composed of a photosensitive resin and a polyvalent transition metal salt at a pattern correcting portion, and patterning a corrosion-resistant image by a photochemical reaction method. Developing a corrosion-resistant image; and polymerizing a monomer of a conductive polymer to form a mixed composition with the photosensitive resin. According to the pattern correction method of the present invention, a lithography method using a photochemical reaction can be applied, so that a pattern with a circuit width of 50 μm or less used for a high-density printed wiring board can be corrected.
【0008】このように、本発明を実施することによっ
て高導電性な修正パターンを50μm以下の高精度で製
造することができ、高密度プリント配線板のパターン修
正を確実に行うことができる。本発明において感光性樹
脂とは、通常の光化学反応の方法によって耐食性画像が
形成できるもの、および光化学反応の方法で得られる樹
脂であり、各種のネガ型フォトレジスト、ポジ型フォト
レジストやドライフィルムレジストが用いられるが、そ
の製造の容易さからアクリル化合物を主な成分とする感
光性樹脂が好ましく、特に、ウレタン結合を有するアク
リル化合物が好ましく、中でも炭素数4以上22以下の
直鎖アルキレン基とウレタン結合を有するアクリル化合
物が好ましい。本発明の感光性樹脂では、分子構造の一
部に架橋構造を導入する目的で、多官能性のアクリレー
トモノマー又はオリゴマーを少なくとも含むこともでき
る。As described above, by implementing the present invention, a highly conductive correction pattern can be manufactured with high precision of 50 μm or less, and the pattern correction of a high-density printed wiring board can be reliably performed. In the present invention, the photosensitive resin is a resin capable of forming a corrosion-resistant image by a normal photochemical reaction method, and a resin obtained by a photochemical reaction method, and includes various negative photoresists, positive photoresists and dry film resists. However, a photosensitive resin containing an acrylic compound as a main component is preferable from the viewpoint of ease of production, and an acrylic compound having a urethane bond is particularly preferable. Among them, a linear alkylene group having 4 to 22 carbon atoms and a urethane are preferable. Acrylic compounds having a bond are preferred. The photosensitive resin of the present invention may contain at least a polyfunctional acrylate monomer or oligomer for the purpose of introducing a crosslinked structure into a part of the molecular structure.
【0009】このような多官能アクリレート化合物とし
ては、例えばエチレングリコールジアクリレート等の二
官能アクリレート及びそれらのメタクリレート化合物、
トリメチロールプロパントリアクリレートなどの多官能
アクリレート及びそれらのメタクリレート化合物が挙げ
られる。また、本発明では必要に応じて、感光性樹脂の
代わりに、光硬化性樹脂に重合開始剤を添加したものを
使用できる。重合開始剤の例としては、例えばジエトキ
シアセトフェノン等のアセトフェノン系化合物、ベンゾ
インメチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等
のベンゾイン化合物やベンゾフェノン系化合物、チオキ
サンソン系化合物等が挙げられる。Examples of such polyfunctional acrylate compounds include bifunctional acrylates such as ethylene glycol diacrylate and methacrylate compounds thereof.
Examples include polyfunctional acrylates such as trimethylolpropane triacrylate and their methacrylate compounds. In the present invention, if necessary, a material obtained by adding a polymerization initiator to a photocurable resin can be used instead of the photosensitive resin. Examples of the polymerization initiator include, for example, acetophenone compounds such as diethoxyacetophenone, benzoin compounds such as benzoin methyl ether and benzoin isobutyl ether, benzophenone compounds, and thioxanthone compounds.
【0010】本発明において、導電性高分子とは高分子
それ自体が導電性の高分子化合物であり、ドーパントを
含むポリアセチレンやポリパラフェニレン等のπ電子共
役系高分子が挙げられるが、感光性樹脂との複合体の形
成し易さや導電性状態の安定性の観点からポリピロー
ル、ポリエチレンジオキシチオフェン、およびポリアニ
リンの少なくとも1種を含んだものが好ましい。本発明
の修正方法において、多価の遷移金属塩とはFe2+、C
u2+、Cr6+、Mn7+やSn4+等をカチオンとする塩で
あり、感光性樹脂と多価の遷移金属塩からなる酸化剤を
含む混合物層を形成する方法としては、ディップコータ
ー、スピンコーター、バーコーター、ロールコーター等
の通常の塗膜形成方法を用いることができる。In the present invention, the conductive polymer is a polymer itself which is a conductive polymer, and includes π-electron conjugated polymers such as polyacetylene and polyparaphenylene containing a dopant. From the viewpoints of easy formation of a complex with a resin and stability of a conductive state, those containing at least one of polypyrrole, polyethylenedioxythiophene, and polyaniline are preferable. In the correction method of the present invention, the polyvalent transition metal salt is Fe 2+ , C
U 2+ , Cr 6+ , Mn 7+ and Sn 4+ are salts having a cation as a cation. A method for forming a mixture layer containing an oxidizing agent composed of a photosensitive resin and a polyvalent transition metal salt includes dip coating. Conventional coating film forming methods such as a coater, a spin coater, a bar coater, and a roll coater can be used.
【0011】本発明の修正方法において、感光性樹脂と
多価の遷移金属塩からなる酸化剤を含む混合物層に光化
学反応の方法によって耐食性画像をパターン形成する方
法は通常の光化学反応によるものであれば特に制限はな
く、メタルマスク、フォトマスク等を用いて、可視光、
紫外光や、アルゴンレーザーやKr−Fレーザー等を照
射して行われる。また、本発明の修正方法では光照射
後、感光性樹脂層に応じた各種現像液で現像を行い、所
定のパターンを形成する。本発明の修正方法ではこの現
像後に導電性高分子のモノマーと接触させて導電性高分
子を重合したり、あるいは光化学反応の方法によって耐
食性のパターンを形成した後、導電性高分子のモノマー
を含む有機溶剤を用いて感光性樹脂の現像と導電性高分
子の重合を同時に行うこともできる。後者の場合、有機
溶剤は特に限定されないが、重合反応のし易さからエチ
ルアルコールやブチルアルコール、イソプロピルアルコ
ール等のアルコール系溶剤が好ましい。In the correction method of the present invention, the method of patterning a corrosion-resistant image by a photochemical reaction method on a mixture layer containing an oxidizing agent comprising a photosensitive resin and a polyvalent transition metal salt may be based on a normal photochemical reaction. If there is no particular limitation, visible light,
Irradiation with ultraviolet light, argon laser, Kr-F laser, or the like is performed. Further, in the correction method of the present invention, after irradiation with light, development is performed with various developing solutions corresponding to the photosensitive resin layer to form a predetermined pattern. In the correction method of the present invention, after the development, the conductive polymer is polymerized by contacting with the conductive polymer monomer, or after forming a corrosion-resistant pattern by a photochemical reaction method, the conductive polymer monomer is included. The development of the photosensitive resin and the polymerization of the conductive polymer can be simultaneously performed using an organic solvent. In the latter case, the organic solvent is not particularly limited, but alcohol solvents such as ethyl alcohol, butyl alcohol, and isopropyl alcohol are preferable because of the ease of polymerization reaction.
【0012】本発明の修正方法では導電性高分子を形成
した後、ドーピングを行って導電率を増大させたり、耐
熱性等の新たな機能を付与することができる。このよう
なドーピング方法としては導電性高分子を含む成形体を
ヨウ素等のガスに接触させたり、各種のスルホン酸やカ
ルボン酸、リン酸等の溶液に浸漬したり、塩化第一鉄等
の酸化剤溶液に浸漬する方法等が挙げられる。この際、
ドーピングの温度、時間等は特に限定されず、使用する
材料によって適宜選択される。In the correction method of the present invention, after the conductive polymer is formed, doping is performed to increase the conductivity, and a new function such as heat resistance can be provided. As such a doping method, a molded body containing a conductive polymer is brought into contact with a gas such as iodine, immersed in a solution of various sulfonic acids, carboxylic acids, phosphoric acids, or the like, or oxidized with ferrous chloride or the like. For example, a method of immersing the composition in an agent solution. On this occasion,
The doping temperature, time, and the like are not particularly limited, and are appropriately selected depending on the material used.
【0013】本発明の上記および他の目的、特徴および
利点を明確にすべく、添付した図面を参照しながら、本
発明の実施形態例に基づいて、本発明を更に詳細に説明
する。図1は修正の第1段階を示すもので図1(a) はそ
の縦断正面図、図1(b) はその平面図で、図2は修正の
第2段階を示すもので図2(a) はその縦断正面図、図2
(b) はその平面図で、図3は修正されたパターンを示す
もので図3(a) はその縦断正面図、図3(b) はその平面
図である。本発明のプリント配線板のパターン修正方法
は、図1から図3に示す方法によって実施される。即
ち、図1に示すような基材1上にパターン修正を必要と
する断線パターン2を含んだプリント配線板に対し、感
光性樹脂と多価の遷移金属塩からなる酸化剤を含む混合
物層(感光性樹脂層)3を形成し、図2に示すようにフ
ォトマスク4を使用して光化学反応の方法、例えば可視
光や紫外線の照射によってパターン形成して耐食性画像
5をパターン形成する。次に、図3に示すように耐食性
画像5を現像し、導電性高分子のモノマーを重合して感
光性樹脂と導電性高分子の混合組成物の成形体からなる
修正パターン6を形成し、プリント配線板のパターン修
正を行う。In order to clarify the above and other objects, features and advantages of the present invention, the present invention will be described in further detail based on exemplary embodiments of the present invention with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 shows the first stage of the correction. FIG. 1 (a) is a longitudinal sectional front view, FIG. 1 (b) is a plan view thereof, and FIG. 2 shows the second stage of the correction. ) Is its longitudinal front view, FIG.
3 (b) is a plan view thereof, FIG. 3 shows a corrected pattern, FIG. 3 (a) is a longitudinal front view thereof, and FIG. 3 (b) is a plan view thereof. The method for correcting a pattern of a printed wiring board according to the present invention is implemented by the method shown in FIGS. That is, a mixed layer containing an oxidizing agent comprising a photosensitive resin and a polyvalent transition metal salt is applied to a printed wiring board including a disconnection pattern 2 requiring pattern correction on a substrate 1 as shown in FIG. A photosensitive resin layer 3 is formed, and as shown in FIG. 2, a pattern is formed by a photochemical reaction method using a photomask 4, for example, irradiation with visible light or ultraviolet light to form a corrosion-resistant image 5. Next, as shown in FIG. 3, the corrosion-resistant image 5 is developed, a monomer of a conductive polymer is polymerized to form a correction pattern 6 formed of a molded product of a mixed composition of a photosensitive resin and a conductive polymer, Correct the pattern of the printed wiring board.
【0014】本発明による修正方法では、感光性樹脂層
を光化学反応の方法によってパターン形成する工程を採
用しているので、フォトマスクによって任意の形状の修
正パターンを数μm程度まで高密度に形成することがで
きる。また、本発明では修正パターンの導電性材料とし
てカーボンや金属粉末のような粒子状材料ではなく、分
子それ自体が導電性の高分子を用いるので、形成精度は
実質的に感光性樹脂のパターン形成精度まで小さくする
ことが可能である。また、修正パターンの厚さは感光性
樹脂層の厚さであり、制御可能である。なお、ここまで
の説明において本発明は、パターン修正方法としてきた
が、本発明は酸化剤の種類および濃度を変える事によ
り、パターン抵抗値の変化が可能なため本発明の技術
は、抵抗パターンとして使用することにより、抵抗内蔵
基板が作成できる。このように本発明は、上記実施例の
パターン修正技術に限定されず、本発明の技術思想の範
囲内において、各実施例は適宣変更され得る。In the correction method according to the present invention, since a step of forming a pattern on the photosensitive resin layer by a photochemical reaction method is employed, a correction pattern of an arbitrary shape is formed with a photomask at a high density of about several μm. be able to. Further, in the present invention, since the molecule itself is not a particulate material such as carbon or metal powder but a conductive polymer itself as the conductive material of the correction pattern, the formation precision is substantially the same as the pattern formation of the photosensitive resin. It is possible to reduce to the accuracy. The thickness of the correction pattern is the thickness of the photosensitive resin layer and can be controlled. In the above description, the present invention has been described as a pattern correction method. However, the present invention can change a pattern resistance value by changing the type and concentration of an oxidizing agent. By using this, a substrate with a built-in resistor can be created. As described above, the present invention is not limited to the pattern correction technology of the above-described embodiments, and each embodiment can be appropriately changed within the scope of the technical idea of the present invention.
【0015】[0015]
【実施例】以下、本発明の詳細について実施例により具
体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定され
るものではない。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
【0016】実施例1 パターン修正を必要とするプリント配線板に、ドデシル
ベンゼンスルホン酸第一鉄を溶解したエタノール溶液
(濃度80重量%)を50重量%含むウレタンアクリレ
ート系感光性樹脂(日本化薬株式会社製、KAYARA
D UX−3204、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト)を60℃に加熱して滴下し、バーコーターを用いて
25μmの樹脂層を形成して室温で24時間減圧乾燥し
た。次に、断線形状と同じ配線幅50μmで、断線箇所
をカバーする長さ100μmの開口部を有するフォトマ
スクを密着させ、紫外光を5mW/cm2の照射強度で
5秒間照射して耐食性画像を形成した。その後、得られ
た基材をブチルアルコールに浸漬して耐食性画像の現像
を行った。次に、得られた基材を5重量%のピロールを
含むメタノールに浸漬し、室温で6時間反応させて、導
電性ポリピロールが形成されたウレタンアクリレート系
感光性樹脂成形体を得た。この成形体は幅50μm、長
さ100μmあり、プリント配線板の断線箇所の修正に
適した形状であった。 Example 1 A urethane acrylate photosensitive resin (Nippon Kayaku) containing 50% by weight of an ethanol solution (concentration 80% by weight) in which ferrous dodecylbenzenesulfonate was dissolved on a printed wiring board requiring pattern correction. KAYARA, manufactured by Co., Ltd.
DUX-3204, hexamethylene diisocyanate) was added dropwise by heating to 60 ° C., a 25 μm resin layer was formed using a bar coater, and dried under reduced pressure at room temperature for 24 hours. Next, a photomask having a wiring width of 50 μm, which is the same as the disconnection shape, and having a 100 μm-long opening covering the disconnection portion is brought into close contact, and ultraviolet light is irradiated at an irradiation intensity of 5 mW / cm2 for 5 seconds to form a corrosion-resistant image. did. Then, the obtained base material was immersed in butyl alcohol to develop a corrosion-resistant image. Next, the obtained base material was immersed in methanol containing 5% by weight of pyrrole and reacted at room temperature for 6 hours to obtain a urethane acrylate-based photosensitive resin molded product on which conductive polypyrrole was formed. This molded product had a width of 50 μm and a length of 100 μm, and had a shape suitable for correcting a broken portion of a printed wiring board.
【0017】実施例2 実施例1の方法でドデシルベンゼンスルホン酸第一鉄を
含むウレタンアクリレート系感光性樹脂層を形成して耐
食性画像を形成した基材を得た。この基材を5重量%の
ピロールを含むブチルアルコールに浸漬し、室温で30
分間保持して耐食性画像の現像とポリピロールの重合を
同時に行い、導電性ポリピロールが形成されたウレタン
アクリレート系感光性樹脂成形体を得た。この成形体は
幅50μm、長さ100μmあり、プリント配線板の断
線箇所にの修正に適した形状であった。 Example 2 A urethane acrylate photosensitive resin layer containing ferrous dodecylbenzenesulfonate was formed by the method of Example 1 to obtain a substrate on which a corrosion-resistant image was formed. This substrate was immersed in butyl alcohol containing 5% by weight of pyrrole,
The development of the corrosion-resistant image and the polymerization of polypyrrole were simultaneously carried out by holding for a period of one minute to obtain a urethane acrylate-based photosensitive resin molded product on which conductive polypyrrole was formed. This molded body had a width of 50 μm and a length of 100 μm, and had a shape suitable for correction of a broken portion of a printed wiring board.
【0018】実施例3 実施例1の方法でドデシルベンゼンスルホン酸第一鉄に
代えてパラトルエンスルホン酸第一鉄を使う以外は実施
例1と同様の方法でウレタンアクリレート系感光性樹脂
層を形成して耐食性画像を形成した基材を得た。この基
材を5重量%のピロールを含むイソプロピルアルコール
に浸漬し、室温で15分間保持して耐食性画像の現像と
ポリピロールの重合を同時に行い、導電性ポリピロール
が形成されたウレタンアクリレート系感光性樹脂成形体
を得た。この成形体は直径50μm、長さ100μmで
あり、プリント配線板の断線箇所にの修正に適した形状
であった。 Example 3 A urethane acrylate photosensitive resin layer was formed in the same manner as in Example 1 except that ferrous paratoluenesulfonate was used in place of ferrous dodecylbenzenesulfonate in the method of Example 1. Thus, a substrate on which a corrosion-resistant image was formed was obtained. This base material is immersed in isopropyl alcohol containing 5% by weight of pyrrole, and kept at room temperature for 15 minutes to simultaneously develop a corrosion-resistant image and polymerize polypyrrole to form a urethane acrylate-based photosensitive resin on which conductive polypyrrole is formed. I got a body. This molded product had a diameter of 50 μm and a length of 100 μm, and had a shape suitable for correcting a broken portion of a printed wiring board.
【0019】実施例4 実施例1の方法で、ブチルナフタレンスルホン酸第一銅
を溶解したエタノール溶液(濃度60重量%)を50重
量%含むウレタンアクリレート系感光性樹脂(日本化薬
株式会社製、KAYARAD UX−3204)を60
℃に加熱して滴下し、バーコーターを用いて25μmの
樹脂層を形成した。次に、幅100μmで長さ100μ
mの開口部を有するフォトマスクを密着させ、紫外光を
5mW/cm2の照射強度で5秒間照射して耐食性画像
を形成した基材を得た。この基材を5重量%のピロール
を含むブチルアルコールに浸漬し、室温で30分間保持
して耐食性画像の現像とポリピロールの重合を同時に行
い、導電性ポリピロールが形成されたアクリレート系感
光性樹脂成形体を得た。この成形体は幅50μm、長さ
100μmであり、プリント配線板の修正パターンに適
した形状であった。 Example 4 According to the method of Example 1, a urethane acrylate-based photosensitive resin containing 50% by weight of an ethanol solution (concentration: 60% by weight) in which cuprous butyl naphthalenesulfonate was dissolved (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) KAYARAD UX-3204) to 60
The mixture was heated and dropped at a temperature of 0 ° C. to form a 25 μm resin layer using a bar coater. Next, a width of 100 μm and a length of 100 μm
A photomask having an opening of m was adhered and irradiated with ultraviolet light at an irradiation intensity of 5 mW / cm2 for 5 seconds to obtain a substrate on which a corrosion-resistant image was formed. This base material is immersed in butyl alcohol containing 5% by weight of pyrrole, and held at room temperature for 30 minutes to simultaneously develop a corrosion-resistant image and polymerize polypyrrole, thereby forming an acrylate-based photosensitive resin molded article having conductive polypyrrole formed thereon. I got This molded product had a width of 50 μm and a length of 100 μm, and had a shape suitable for a correction pattern of a printed wiring board.
【0020】実施例5 実施例1の方法で、ウレタンアクリレート系樹脂として
実施例1のKAYARAD UX−3204に代えて東
亜合成株式会社製アロニックスM−5700を用いる以
外は実施例1の方法で樹脂層を形成した。次に、幅50
μmで長さ100μmの開口部を有するフォトマスクを
密着させ、紫外光を5mW/cm2の照射強度で5秒間
照射して耐食性画像を形成した基材を得た。この基材を
5重量%のピロールを含むブチルアルコールに浸漬し、
室温で30分間保持して耐食性画像の現像とポリピロー
ルの重合を同時に行い、導電性ポリピロールが形成され
たウレタンアクリレート系感光性樹脂成形体を得た。こ
の成形体は幅50μm、長さ100μmであり、プリン
ト配線板の修正パターンに適した形状であった。 Example 5 A resin layer was prepared in the same manner as in Example 1 except that Alonix M-5700 manufactured by Toagosei Co., Ltd. was used in place of KAYARAD UX-3204 in Example 1 as the urethane acrylate resin. Was formed. Next, width 50
A photomask having an opening of 100 μm in length and having a thickness of 100 μm was adhered thereto, and irradiated with ultraviolet light at an irradiation intensity of 5 mW / cm 2 for 5 seconds to obtain a substrate on which a corrosion-resistant image was formed. This base material is immersed in butyl alcohol containing 5% by weight of pyrrole,
The development of the corrosion-resistant image and the polymerization of polypyrrole were carried out simultaneously at a room temperature for 30 minutes to obtain a urethane acrylate-based photosensitive resin molded product on which conductive polypyrrole was formed. This molded product had a width of 50 μm and a length of 100 μm, and had a shape suitable for a correction pattern of a printed wiring board.
【0021】実施例6 実施例1の方法で、ドデシルベンゼンスルホン酸第一鉄
を含むウレタンアクリレート系感光性樹脂層を形成して
耐食性画像を形成した基材を得た。この基材をブチルア
ルコールに浸漬し、室温で30分間保持して耐食性画像
の現像を行った。次に、得られた基材を5重量%のアニ
リンを含むメタノールに浸漬し、室温で6時間反応させ
て、導電性ポリアニリンが形成されたウレタンアクリレ
ート系感光性樹脂成形体を得た。この成形体は幅50μ
m、長さ100μmであり、プリント配線板の修正パタ
ーンに適した形状であった。 Example 6 A substrate having a corrosion-resistant image formed by forming a urethane acrylate photosensitive resin layer containing ferrous dodecylbenzenesulfonate by the method of Example 1 was obtained. The substrate was immersed in butyl alcohol and kept at room temperature for 30 minutes to develop a corrosion-resistant image. Next, the obtained base material was immersed in methanol containing 5% by weight of aniline, and reacted at room temperature for 6 hours to obtain a urethane acrylate-based photosensitive resin molded product on which conductive polyaniline was formed. This molded product has a width of 50μ.
m, the length was 100 μm, and the shape was suitable for a correction pattern of a printed wiring board.
【0022】実施例7 実施例1の方法でドデシルベンゼンスルホン酸第一鉄に
代えてパラトルエンスルホン酸第一鉄を使う以外は実施
例1と同様の方法でウレタンアクリレート系感光性樹脂
層を形成して耐食性画像を形成した基材を得た。この基
材を5重量%のエチレンジオキシチオフェンを含むブチ
ルアルコールに浸漬し、室温で15分間保持して耐食性
画像の現像とエチレンジオキシチオフェンの重合を同時
に行い、導電性ポリエチレンジオキシチオフェンが形成
されたウレタンアクリレート系感光性樹脂成形体を得
た。この成形体は幅50μm、長さ100μmであり、
プリント配線板の修正パターンに適した形状であった。 Example 7 A urethane acrylate photosensitive resin layer was formed in the same manner as in Example 1 except that ferrous paratoluenesulfonate was used in place of ferrous dodecylbenzenesulfonate in the method of Example 1. Thus, a substrate on which a corrosion-resistant image was formed was obtained. This base material is immersed in butyl alcohol containing 5% by weight of ethylenedioxythiophene, and kept at room temperature for 15 minutes to simultaneously develop a corrosion-resistant image and polymerize ethylenedioxythiophene to form conductive polyethylenedioxythiophene. The obtained urethane acrylate-based photosensitive resin molded product was obtained. This molded body is 50 μm in width and 100 μm in length,
The shape was suitable for the correction pattern of the printed wiring board.
【0023】[0023]
【発明の効果】本発明では、感光性樹脂及び/又はその
反応生成物と導電性高分子との混合物層を断線パターン
の欠損部分を修復するようにしてあり、前記感光性樹脂
で欠損部分の空間的な修復を、導電性高分子により欠損
部分の電気的接続の回復を行うことができる。この際、
導電性高分子の形成を感光性樹脂表面の選択された一部
分としているため、従来技術のように断線部分以外に不
要な樹脂や高分子が被覆されて不都合が生ずることがな
い。特にフォトマスクを使用すると、必要な長さ及び幅
で修復ができるため、断線パターンの欠損部分のみに前
記混合物層を存在させることができ、残りの部分には樹
脂や高分子が存在せず、従って近年の高密度のプリント
配線板でもその断線が生じた際に、他の素子に悪影響を
及ぼすことなく、断線パターンの修復を行うことができ
る。また、導電性高分子の量を調節することにより、本
発明のプリント配線板の修正パターンを、高導電性なも
のとすることができる。According to the present invention, the layer of the mixture of the photosensitive resin and / or the reaction product thereof and the conductive polymer is used to repair the defective portion of the disconnection pattern. Spatial repair can be performed by using a conductive polymer to restore electrical connection at a defective portion. On this occasion,
Since the formation of the conductive polymer is a selected part of the surface of the photosensitive resin, there is no problem that unnecessary resin or polymer is coated on the portion other than the broken portion unlike the related art. In particular, if a photomask is used, the required length and width can be repaired, so that the mixture layer can be present only in the defective portion of the disconnection pattern, and the remaining portion does not contain resin or polymer, Therefore, even if a recent high-density printed wiring board is broken, the broken pattern can be repaired without adversely affecting other elements. Further, by adjusting the amount of the conductive polymer, the correction pattern of the printed wiring board of the present invention can be made highly conductive.
【図1】修正の第1段階を示すもので図1(a) はその縦
断正面図、図1(b) はその平面図。1A and 1B show a first stage of correction, and FIG. 1A is a longitudinal sectional front view thereof, and FIG. 1B is a plan view thereof.
【図2】修正の第2段階を示すもので図2(a) はその縦
断正面図、図2(b) はその平面図。2A and 2B show a second stage of the correction, and FIG. 2A is a longitudinal sectional front view thereof, and FIG. 2B is a plan view thereof.
【図3】修正されたパターンを示すもので図3(a) はそ
の縦断正面図、図3(b) はその平面図。3 (a) is a longitudinal sectional front view of the corrected pattern, and FIG. 3 (b) is a plan view thereof.
1 基材 2 パターン 3 感光性樹脂層 4 フォトマスク 5 耐食性画像 6 修正パターン Reference Signs List 1 base material 2 pattern 3 photosensitive resin layer 4 photomask 5 corrosion-resistant image 6 correction pattern
Claims (13)
生成物と導電性高分子の混合組成物からなるプリント配
線板の修正用パターン。1. A correction pattern for a printed wiring board comprising a photosensitive resin and / or a mixed composition of a reaction product of the photosensitive resin and a conductive polymer.
な成分とすることを特徴とする請求項1記載のプリント
配線板の修正用パターン。2. The pattern for repairing a printed wiring board according to claim 1, wherein said photosensitive resin mainly comprises an acrylic compound.
するものであることを特徴とする請求項2記載のプリン
ト配線板の修正用パターン。3. The pattern for correcting a printed wiring board according to claim 2, wherein said acrylic compound has a urethane bond.
2以下のアルキレン基、とウレタン結合を有するもので
あることを特徴とする請求項2記載のプリント配線板の
修正用パターン。4. The method according to claim 1, wherein the acrylic compound has 4 or more carbon atoms and 2
3. The pattern for correcting a printed wiring board according to claim 2, wherein the pattern has two or less alkylene groups and a urethane bond.
リエチレンジオキシチオフェン、およびポリアニリンか
ら成る群から選択される少なくとも1種を含んだもので
あることを特徴とする請求項1〜3記載のいずれかに記
載のプリント配線板の修正用パターン。5. The conductive polymer according to claim 1, wherein the conductive polymer contains at least one selected from the group consisting of polypyrrole, polyethylenedioxythiophene, and polyaniline. The pattern for correcting a printed wiring board described in Crab.
光性樹脂と多価の遷移金属塩からなる酸化剤を含む混合
物層を形成する工程と、光化学反応の方法によって前記
混合物層の一部に選択的に耐食性画像をパターン形成す
る工程、耐食性画像を現像する工程、および導電性高分
子のモノマーを重合して前記感光性樹脂との混合組成物
とする工程とを含むことを特徴とするプリント配線板の
パターン修正方法。6. A step of forming a mixture layer containing an oxidizing agent comprising a photosensitive resin and a polyvalent transition metal salt on a printed wiring board on which pattern correction is performed, and selecting a part of the mixture layer by a photochemical reaction method. Forming a pattern of a corrosion-resistant image, a step of developing the corrosion-resistant image, and a step of polymerizing a monomer of a conductive polymer to form a mixed composition with the photosensitive resin. How to modify the board pattern.
導電性高分子のモノマーを重合する工程が、導電性高分
子のモノマーを含む有機溶剤を用いて同時に行われるこ
とを特徴とする請求項6記載のプリント配線板のパター
ン修正方法。7. The method according to claim 6, wherein the step of developing the corrosion-resistant image and the step of polymerizing the monomer of the conductive polymer are performed simultaneously using an organic solvent containing a monomer of the conductive polymer. The method for correcting the pattern of the printed wiring board described in the above.
な成分とすることを特徴とする請求項7記載のプリント
配線板のパターン修正方法。8. The method according to claim 7, wherein the organic solvent mainly comprises an alcohol-based solvent.
な成分とすることを特徴とする請求項6〜8のいずれか
に記載のプリント配線板のパターン修正方法。9. The method according to claim 6, wherein the photosensitive resin contains an acrylic compound as a main component.
有するものであることを特徴とする請求項9記載のプリ
ント配線板のパターン修正方法。10. The method according to claim 9, wherein the acrylic compound has a urethane bond.
上22以下のアルキレン基、とウレタン結合を有するも
のであることを特徴とする請求項9記載のプリント配線
板のパターン修正方法。11. The method for correcting a pattern of a printed wiring board according to claim 9, wherein said acrylic compound has an alkylene group having 4 to 22 carbon atoms and a urethane bond.
液が、ピロール、エチレンジオキシチオフェン、および
アニリンの少なくとも1種を含むアルコール溶液である
ことを特徴とする請求項6〜11のいずれかに記載のプ
リント配線板のパターン修正方法。12. The solution according to claim 6, wherein the solution containing the conductive polymer monomer is an alcohol solution containing at least one of pyrrole, ethylenedioxythiophene, and aniline. The method for correcting the pattern of the printed wiring board described in the above.
ぼ全面に形成し、その後前記混合物層をフォトマスクを
使用して断線パターン部分を残して被覆し、該断線パタ
ーン部分のみに耐食性画像をパターン形成しかつ現像
し、更に該耐食性画像中で導電性高分子のモノマーを重
合して感光性樹脂と導電性高分子の混合組成物を形成す
ることを特徴とする請求項6に記載のプリント配線板の
パターン修正方法。13. A mixture layer is formed on substantially the entire surface of a substrate of a printed wiring board, and thereafter the mixture layer is coated using a photomask while leaving a disconnection pattern portion, and a corrosion-resistant image is formed only on the disconnection pattern portion. 7. The print according to claim 6, wherein a pattern is formed and developed, and a monomer of a conductive polymer is polymerized in the corrosion resistant image to form a mixed composition of a photosensitive resin and a conductive polymer. How to correct the wiring board pattern.
Priority Applications (1)
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JP34997898A JP2990188B1 (en) | 1998-12-09 | 1998-12-09 | Pattern for repairing printed wiring board and pattern repair method |
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