JP2975392B2 - データローディングと分配処理およびパターン化処理を制御するための装置 - Google Patents
データローディングと分配処理およびパターン化処理を制御するための装置Info
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Description
【発明の詳細な説明】 この発明は、デジタル的に符号化されたパターンデー
タに従って染料や他のマーキング材を移動生地に選択的
に塗布するための制御に使用できる電子データローディ
ングと分配方式に関する。特に、この発明は、その一実
施例においては、個々にアドレス指定可能な染料噴出口
の多配列を具備し、その配列が移動生地の経路を横断し
かつそれに沿うように位置付けられている織物染色機に
使用可能である。この発明を使用することにより、大量
のデジタル的に符号化されたパターンデータを比較的高
いデータ率でしかもリアルタイムで配列それぞれをを構
成する各染料噴出口に送られるデジタル的に符号化され
た個々の命令に変えることができる。
タに従って染料や他のマーキング材を移動生地に選択的
に塗布するための制御に使用できる電子データローディ
ングと分配方式に関する。特に、この発明は、その一実
施例においては、個々にアドレス指定可能な染料噴出口
の多配列を具備し、その配列が移動生地の経路を横断し
かつそれに沿うように位置付けられている織物染色機に
使用可能である。この発明を使用することにより、大量
のデジタル的に符号化されたパターンデータを比較的高
いデータ率でしかもリアルタイムで配列それぞれをを構
成する各染料噴出口に送られるデジタル的に符号化され
た個々の命令に変えることができる。
この発明は、大量のデジタル的に符号化されたデータ
が記憶されそして多くの場所にすみやかに送られなけれ
ばならない様々な状況で使用できるものと信じられる。
このような応用の一つは、大量のデジタル的に符号化さ
れたデータが記憶され、多くの染料噴出口に送られなけ
ればならないところの染料材料を繊維材料にパターン的
に塗布することである。この後者のタイプの染色方式
は、例えば、米国特許3,894,413,3,942,343,3,969,779,
4,033,154,4,034,584,4,116,626,4,309,881,4,434,632,
4,584,854に詳細に記述されている。
が記憶されそして多くの場所にすみやかに送られなけれ
ばならない様々な状況で使用できるものと信じられる。
このような応用の一つは、大量のデジタル的に符号化さ
れたデータが記憶され、多くの染料噴出口に送られなけ
ればならないところの染料材料を繊維材料にパターン的
に塗布することである。この後者のタイプの染色方式
は、例えば、米国特許3,894,413,3,942,343,3,969,779,
4,033,154,4,034,584,4,116,626,4,309,881,4,434,632,
4,584,854に詳細に記述されている。
これらの方式では、個々に制御可能でアドレス指定可
能な染料噴出口から構成される数個の配列が移動織物生
地の経路の上方でかつ横切って離間して平行な関係で配
列されている。所望のパターンを得るために各配列は単
一の色の染料と関係付けられている。移動生地に向けら
れた染料液流は絶えず各染料噴射口から流れ出ている。
各染料液流の経路に沿って個々の染料液流と交差しこれ
を排水ますに向けることができる横方向の空気流が位置
決めされている。この様な空気流は外部から供給される
パターンデータにしたがって空気流を遮断することがで
きる弁と関連している。したがって、各空気流がパター
ンデータにより遮断されると配列の長さに沿ったいくつ
かの染料噴射口それぞれから染料が生地上に流れ始め
る。説明上の目的でここで詳細に説明するパターン化方
法と装置の文脈の中で染料液流や染料噴射口が“オン”
或いは“オフ”であるということは単に染料噴射口から
絶えず流れ出ている染料液流が生地に衝突することが許
されているか或いは衝突が阻止されているかどうかのこ
とを言う。
能な染料噴出口から構成される数個の配列が移動織物生
地の経路の上方でかつ横切って離間して平行な関係で配
列されている。所望のパターンを得るために各配列は単
一の色の染料と関係付けられている。移動生地に向けら
れた染料液流は絶えず各染料噴射口から流れ出ている。
各染料液流の経路に沿って個々の染料液流と交差しこれ
を排水ますに向けることができる横方向の空気流が位置
決めされている。この様な空気流は外部から供給される
パターンデータにしたがって空気流を遮断することがで
きる弁と関連している。したがって、各空気流がパター
ンデータにより遮断されると配列の長さに沿ったいくつ
かの染料噴射口それぞれから染料が生地上に流れ始め
る。説明上の目的でここで詳細に説明するパターン化方
法と装置の文脈の中で染料液流や染料噴射口が“オン”
或いは“オフ”であるということは単に染料噴射口から
絶えず流れ出ている染料液流が生地に衝突することが許
されているか或いは衝突が阻止されているかどうかのこ
とを言う。
上述の染色装置では、おのおのが異なる色の染料か他
のパターン化済に割り当てられた8個までの配列が所望
の色の変化と配合を有するパターンを生成するためにと
きとして必要になる。その上各配列は所望の複雑性と横
方向の解像度を有するパターンを生成するために数百若
しくは数千の個々に制御可能な染料噴射口を持つことが
ある。生地の移動方向に沿った精密なパターン解像度は
主として速度と個々の染料液流が連続して移動する生地
に衝突させ或いは衝突させないようにすることができる
精度に依存する。
のパターン化済に割り当てられた8個までの配列が所望
の色の変化と配合を有するパターンを生成するためにと
きとして必要になる。その上各配列は所望の複雑性と横
方向の解像度を有するパターンを生成するために数百若
しくは数千の個々に制御可能な染料噴射口を持つことが
ある。生地の移動方向に沿った精密なパターン解像度は
主として速度と個々の染料液流が連続して移動する生地
に衝突させ或いは衝突させないようにすることができる
精度に依存する。
このような方式に関連して、パターンデータを空気弁
作動命令に変換しこのような命令を適切な空気弁へ適切
なタイミングで分配するための電子制御システムを開発
することが必要であることがわかっている。このような
データ変換を行う主な目的はある配列から隣接する配列
へ生地が移動する時間に等しい期間だけ隣接の配列それ
ぞれへ送られる生地の局部的な領域に関するパターン化
命令を逐次遅延させることである。このような電子制御
システムは例えば米国特許3,894,413,3,969,779,4,033,
154,4,116,626に記述されている。しかしながら、この
ような制御システムはソフトウエア命令とコンピュータ
の集中計算によってパターンデータを個々にアドレス指
定される染料噴射口命令に変換するデジタルコンピュー
タのデータ処理能力に強く頼るものである。このような
変換は実際のパターン化動作に先立って少なくとも部分
的にオフラインで必ず行われている。アレイ毎に多くの
染料噴射口と多数のアレイを有する染色装置について
は、許容レベルのパターン解像度と商業的に実用的な速
度で生地をパターン化するのに必要なリアルタイムのデ
ータ処理能力には実用的でないほど高レベルのコンピュ
ータの精巧さが必要になる。
作動命令に変換しこのような命令を適切な空気弁へ適切
なタイミングで分配するための電子制御システムを開発
することが必要であることがわかっている。このような
データ変換を行う主な目的はある配列から隣接する配列
へ生地が移動する時間に等しい期間だけ隣接の配列それ
ぞれへ送られる生地の局部的な領域に関するパターン化
命令を逐次遅延させることである。このような電子制御
システムは例えば米国特許3,894,413,3,969,779,4,033,
154,4,116,626に記述されている。しかしながら、この
ような制御システムはソフトウエア命令とコンピュータ
の集中計算によってパターンデータを個々にアドレス指
定される染料噴射口命令に変換するデジタルコンピュー
タのデータ処理能力に強く頼るものである。このような
変換は実際のパターン化動作に先立って少なくとも部分
的にオフラインで必ず行われている。アレイ毎に多くの
染料噴射口と多数のアレイを有する染色装置について
は、許容レベルのパターン解像度と商業的に実用的な速
度で生地をパターン化するのに必要なリアルタイムのデ
ータ処理能力には実用的でないほど高レベルのコンピュ
ータの精巧さが必要になる。
上記の米国特許4,033,154に記載された制御システム
には、デジタルデータの流れを分離し(demultiplexin
g)おのおのが多数の染料噴射口から構成される複数の
アレイへ分配する装置が記述されている。しかしなが
ら、この制御システムは、所定のアレイの染料液流が生
地に衝突させられる期間はそのアレイの全ての染料液流
について同じでなければならないという点で限界があ
る。すなわち、この制御システムは一つの染料液流を同
じアレイの他の染料液流とは異なる期間生地に衝突させ
ることができない。したがって、所定のパターン化時間
増分の間基板に衝突するようプログラムされた所定のア
レイの全ての染料液流はアレイの長さ方向に沿って同じ
期間オンのままでなければならない。生地がアレイの下
を移動するときアレイは生地の経路の幅を横切って伸び
ているので、所定のアレイの長さ方向に沿って基板に与
えられる染料の量を変えるだけでは両辺間の陰影の変化
を作り出すことができなくなる。
には、デジタルデータの流れを分離し(demultiplexin
g)おのおのが多数の染料噴射口から構成される複数の
アレイへ分配する装置が記述されている。しかしなが
ら、この制御システムは、所定のアレイの染料液流が生
地に衝突させられる期間はそのアレイの全ての染料液流
について同じでなければならないという点で限界があ
る。すなわち、この制御システムは一つの染料液流を同
じアレイの他の染料液流とは異なる期間生地に衝突させ
ることができない。したがって、所定のパターン化時間
増分の間基板に衝突するようプログラムされた所定のア
レイの全ての染料液流はアレイの長さ方向に沿って同じ
期間オンのままでなければならない。生地がアレイの下
を移動するときアレイは生地の経路の幅を横切って伸び
ているので、所定のアレイの長さ方向に沿って基板に与
えられる染料の量を変えるだけでは両辺間の陰影の変化
を作り出すことができなくなる。
この従来の制御システムの付加的な限界は所定の短期
間内に個々の染料噴射口をオンオフさせる精度である。
これは生地の移動方向に沿って基板状に作り出すことが
可能である色シェーディングの融通性とパターンの細部
の度合を制限することになる。
間内に個々の染料噴射口をオンオフさせる精度である。
これは生地の移動方向に沿って基板状に作り出すことが
可能である色シェーディングの融通性とパターンの細部
の度合を制限することになる。
この問題には所定のアレイ或いはアレイ組で(すなわ
ち、パレットを形成する所定の色組で)プログラムされ
たパターン化されることができる色或いは陰影の最大数
に関する従来の制御システムの限界が関係している。こ
の限界は所望する最大のパターン解像度でパターン線を
構成する各パターン要素を特徴つけるのに必要なデータ
の量を発生し転送することの難しさの結果である。ここ
で使用される用語「パターン要素」は電子画像技術の分
野で使用される「画素」、すなわち個々に制御可能なパ
ターン化領域の最少部分と類似することを意味する。用
語「パターン線」はパターン化アレイに平行に生地を横
切って伸びる単一のパターン要素の連続する線を意味す
る。このようなパターン線は基板の移動方向における厚
みを有し、この厚みはアレイパターンデータが更新され
る間にパターン化アレイの下を移動する生地の最大の許
容移動量に等しい。
ち、パレットを形成する所定の色組で)プログラムされ
たパターン化されることができる色或いは陰影の最大数
に関する従来の制御システムの限界が関係している。こ
の限界は所望する最大のパターン解像度でパターン線を
構成する各パターン要素を特徴つけるのに必要なデータ
の量を発生し転送することの難しさの結果である。ここ
で使用される用語「パターン要素」は電子画像技術の分
野で使用される「画素」、すなわち個々に制御可能なパ
ターン化領域の最少部分と類似することを意味する。用
語「パターン線」はパターン化アレイに平行に生地を横
切って伸びる単一のパターン要素の連続する線を意味す
る。このようなパターン線は基板の移動方向における厚
みを有し、この厚みはアレイパターンデータが更新され
る間にパターン化アレイの下を移動する生地の最大の許
容移動量に等しい。
上述の米国特許に一般に記述された織物染色機に使用
されるようなここに記述される新規な電子制御システム
を使用することにより、色や陰影の微妙さと共に劇的に
改良された細部を持つ織物製品が製造できるようにな
る。前述したように、この電子制御システムは大量のパ
ターンデータが割り当てられた個々に制御可能な画像化
箇所に分配される様々なマーキングまたはパターン化シ
ステムに使用できるものと信じられ、ここに開示される
パターン化装置に関連した使用に限定されるものではな
い。
されるようなここに記述される新規な電子制御システム
を使用することにより、色や陰影の微妙さと共に劇的に
改良された細部を持つ織物製品が製造できるようにな
る。前述したように、この電子制御システムは大量のパ
ターンデータが割り当てられた個々に制御可能な画像化
箇所に分配される様々なマーキングまたはパターン化シ
ステムに使用できるものと信じられ、ここに開示される
パターン化装置に関連した使用に限定されるものではな
い。
本質的には、この発明の制御システムは前述した従来
の制御システムで行われているようなソフトウエア制御
の計算手順を使用することよりはむしろ集積回路での特
定の電子回路の新規な使用によりパターンデータを処理
する。好ましい実施例では、この発明の制御システムは
次のように要約できる。
の制御システムで行われているようなソフトウエア制御
の計算手順を使用することよりはむしろ集積回路での特
定の電子回路の新規な使用によりパターンデータを処理
する。好ましい実施例では、この発明の制御システムは
次のように要約できる。
パターンデータは各パターン要素或いは画素毎にその
パターン要素或いは画素に関連したパターン設計要素を
一意に識別する一連の8ビット単位の形式で受取られ
る。異なるパターン設計要素の個数は別々の色が割り当
てられたパターンの別個の領域の個数に等しい。
パターン要素或いは画素に関連したパターン設計要素を
一意に識別する一連の8ビット単位の形式で受取られ
る。異なるパターン設計要素の個数は別々の色が割り当
てられたパターンの別個の領域の個数に等しい。
隣接のアレイ間の生地移動時間に対応するために個々
のパターン線データを順序付ける処理はアレイ固有の複
数のRAMを使用することにより行われる。RAMはスタチッ
ク形のものが好ましい。特定のアレイに対する全てのパ
ターンデータはそのアレイに別々に関連した一のRAMに
ロードされる。パターンデータは一連のバイト形式であ
り、各バイトはアレイを構成する単一の塗布器若しくは
噴射口の所望の点呼時間を指定する。ロード処理はコー
ディネートされたもので、全ての噴射口点呼時間データ
が同時刻に同じ相対順序でそれぞれのRAMへロードされ
る。すなわち、各アレイの全噴射口に対するパターンの
最初の線に相当する全点呼時間がまづ適当なるRAMにロ
ードされ、続いて第2のパターン線に相当する全データ
がロードされる。各RAMは、生地の特定の領域が生地の
経路に沿った次のアレイに送られるその特定の領域に対
する対応パターンデータに追い付くのに十分な時間デー
タの読出しを効果的に遅らせる読出しアドレスオフセッ
トを使用して読取られる。
のパターン線データを順序付ける処理はアレイ固有の複
数のRAMを使用することにより行われる。RAMはスタチッ
ク形のものが好ましい。特定のアレイに対する全てのパ
ターンデータはそのアレイに別々に関連した一のRAMに
ロードされる。パターンデータは一連のバイト形式であ
り、各バイトはアレイを構成する単一の塗布器若しくは
噴射口の所望の点呼時間を指定する。ロード処理はコー
ディネートされたもので、全ての噴射口点呼時間データ
が同時刻に同じ相対順序でそれぞれのRAMへロードされ
る。すなわち、各アレイの全噴射口に対するパターンの
最初の線に相当する全点呼時間がまづ適当なるRAMにロ
ードされ、続いて第2のパターン線に相当する全データ
がロードされる。各RAMは、生地の特定の領域が生地の
経路に沿った次のアレイに送られるその特定の領域に対
する対応パターンデータに追い付くのに十分な時間デー
タの読出しを効果的に遅らせる読出しアドレスオフセッ
トを使用して読取られる。
このとき、バイト形式で表された一連の点呼時間パタ
ーンデータは一連の2進数字(ビット)のグループに形
成される。各グループはそれの対応するそれぞれの点呼
時間の値を所定の論理値(例えば、論理“0"=“点
呼”)の2進数字の相対数によって表わす。2進数字は
順次各グループ内でスタック化される。この変換により
バイト形式で表わされた点呼時間を一連の別々の点呼命
令(すなわち、単一ビット)で表わすことができる。こ
の点呼命令は塗布器により認識できる。
ーンデータは一連の2進数字(ビット)のグループに形
成される。各グループはそれの対応するそれぞれの点呼
時間の値を所定の論理値(例えば、論理“0"=“点
呼”)の2進数字の相対数によって表わす。2進数字は
順次各グループ内でスタック化される。この変換により
バイト形式で表わされた点呼時間を一連の別々の点呼命
令(すなわち、単一ビット)で表わすことができる。こ
の点呼命令は塗布器により認識できる。
アレイ間の生地移動時間に対応するように順序付けら
れた各RAMからのデータは先入れ先出しメモリ(FIFOs)
の集団にロードされる。各アレイはFIFOsの個々の組に
対応付けられている。各FIFOsはその内容を1バイトづ
つそしてバイトが最初にロードされた順序で比較器に送
る。アレイに沿った単一の噴射口の所望の経過点呼時間
を表わすバイトの値はその間はどの噴射口も制御が要求
される最少の時間増分を表わす値を提供するよう初期化
されているクロック値と比較される。比較の結果、それ
ぞれ噴射口が“点呼”すべきか或いは点呼すべきでない
ことを示す論理“1"か論理“0"の形式の点呼命令が生成
され、好ましい実施例では検出器とともにアレイに対応
付けられたシフトレジスタに転送される。全バイト(ア
レイに沿った全噴射口の位置を表わす)が送り出されて
比較された後、シフトレジスタの内容はシフトレジスタ
に対応したラッチによってアレイに沿った空気弁アッセ
ンブリに並列に転送される。その後、カウンタの値は増
加され、FIFOsの同じ内容が新しいカウンタの値と比較
され、シフトレジスタの内容が再度並列にラッチを介し
てアレイの空気弁アッセンブリに転送される。
れた各RAMからのデータは先入れ先出しメモリ(FIFOs)
の集団にロードされる。各アレイはFIFOsの個々の組に
対応付けられている。各FIFOsはその内容を1バイトづ
つそしてバイトが最初にロードされた順序で比較器に送
る。アレイに沿った単一の噴射口の所望の経過点呼時間
を表わすバイトの値はその間はどの噴射口も制御が要求
される最少の時間増分を表わす値を提供するよう初期化
されているクロック値と比較される。比較の結果、それ
ぞれ噴射口が“点呼”すべきか或いは点呼すべきでない
ことを示す論理“1"か論理“0"の形式の点呼命令が生成
され、好ましい実施例では検出器とともにアレイに対応
付けられたシフトレジスタに転送される。全バイト(ア
レイに沿った全噴射口の位置を表わす)が送り出されて
比較された後、シフトレジスタの内容はシフトレジスタ
に対応したラッチによってアレイに沿った空気弁アッセ
ンブリに並列に転送される。その後、カウンタの値は増
加され、FIFOsの同じ内容が新しいカウンタの値と比較
され、シフトレジスタの内容が再度並列にラッチを介し
てアレイの空気弁アッセンブリに転送される。
あるカウンタの値ではFIFOsから読み出された全ての
経過点呼時間はカウンタのその値より少ないか或いは等
しい。この状態がどのアレイにも存在するときには、新
しいパターン線を表わす新しいデータがパターン線と等
化な量生地が移動したことを示す変換器パルスに応答し
てRAMから読み出される。この新しいデータはFIFOsにロ
ードされ、再度初期化されたカウンタを使用して新たに
一連の反復比較が開始される。この処理は全てのパター
ン線が処理されるまで繰返し行われる。もしパターンが
繰返されなければならない場合には、RAMは最初のパタ
ーン線を適当なるFIFOに送ることにより上述の手順を再
度開始する。
経過点呼時間はカウンタのその値より少ないか或いは等
しい。この状態がどのアレイにも存在するときには、新
しいパターン線を表わす新しいデータがパターン線と等
化な量生地が移動したことを示す変換器パルスに応答し
てRAMから読み出される。この新しいデータはFIFOsにロ
ードされ、再度初期化されたカウンタを使用して新たに
一連の反復比較が開始される。この処理は全てのパター
ン線が処理されるまで繰返し行われる。もしパターンが
繰返されなければならない場合には、RAMは最初のパタ
ーン線を適当なるFIFOに送ることにより上述の手順を再
度開始する。
以下図面を参照してこの発明を詳細に説明する。
この発明の電子制御システムをこれが特に適する前述
の調整噴射口パターン化装置とともに説明し、かつ図面
に示す。しかしながら、この発明の電子制御システムは
たぶん明白な変更を加えることにより大量のデジタル化
されたデータを多数の素子に速く分配することが必要な
他の装置に使用できることを理解されなければならな
い。
の調整噴射口パターン化装置とともに説明し、かつ図面
に示す。しかしながら、この発明の電子制御システムは
たぶん明白な変更を加えることにより大量のデジタル化
されたデータを多数の素子に速く分配することが必要な
他の装置に使用できることを理解されなければならな
い。
第1図はフレーム22内に位置付けられたセットになっ
た8個のアレイ26から構成されたパターン化機械の側面
図を示す。各アレイ26はアレイの長さ方向に沿って離れ
て1直線状に配列された複数の、多分数百個の染料噴射
口から構成されている。アレイは生地12の幅を横切って
伸びている。生地12、例えば、織物布はロール10から供
給され、フレーム22を通ってアレイ26の下ではモータ16
により駆動されるコンベア14により移送される。アレイ
26の下を移送された後、生地12は乾燥、固着等の他の染
色に関係した処理工程を受ける。
た8個のアレイ26から構成されたパターン化機械の側面
図を示す。各アレイ26はアレイの長さ方向に沿って離れ
て1直線状に配列された複数の、多分数百個の染料噴射
口から構成されている。アレイは生地12の幅を横切って
伸びている。生地12、例えば、織物布はロール10から供
給され、フレーム22を通ってアレイ26の下ではモータ16
により駆動されるコンベア14により移送される。アレイ
26の下を移送された後、生地12は乾燥、固着等の他の染
色に関係した処理工程を受ける。
第2図は第1図の機械を構成する1個のアレイ26の側
面図を概略的に示す。このようなアレイのおのおのに対
して、別個の染料貯蔵タンク30が圧力をかけられて液体
染料をポンプ32と染料供給導管34によりアレイの主染料
マニホルドアッセンブリ36へ供給する。主マニホルドア
ッセンブリ36はそれぞれの長さに沿った適切な場所の染
料副マニホルドアッセンブリ40(以下に詳細に説明する
と共に第3図乃至第5A図に詳細に示される)と連通し、
これに染料を供給する。マニホルドアッセンブリ36と副
マニホルドアッセンブリ40は共に染色される生地が移送
されるコンベア14の幅を横切って伸びている。副マニホ
ルドアッセンブリ40はコンベア14の幅方向に位置付けら
れた複数の離間し、下方に向けられた染料流路出口52
(第5A図に示す)を備え、パターン化される生地表面に
向けて複数の平行染料液流を作り出す。
面図を概略的に示す。このようなアレイのおのおのに対
して、別個の染料貯蔵タンク30が圧力をかけられて液体
染料をポンプ32と染料供給導管34によりアレイの主染料
マニホルドアッセンブリ36へ供給する。主マニホルドア
ッセンブリ36はそれぞれの長さに沿った適切な場所の染
料副マニホルドアッセンブリ40(以下に詳細に説明する
と共に第3図乃至第5A図に詳細に示される)と連通し、
これに染料を供給する。マニホルドアッセンブリ36と副
マニホルドアッセンブリ40は共に染色される生地が移送
されるコンベア14の幅を横切って伸びている。副マニホ
ルドアッセンブリ40はコンベア14の幅方向に位置付けら
れた複数の離間し、下方に向けられた染料流路出口52
(第5A図に示す)を備え、パターン化される生地表面に
向けて複数の平行染料液流を作り出す。
空気偏向管62の出口が副マニホルドアッセンブリ40の
各染料流路出口52と1直線にかつほぼ垂直に位置決めさ
れている。各管62は空気偏向導管64によってVで示して
ある個々の電空弁と連通している。電空弁はパターン制
御装置20により供給されるパターン情報にしたがって空
気管62に対する空気流を選択的に遮断する。各弁は次に
空気供給導管によりエアコンプレッサ76により加圧空気
が供給される加圧空気供給マニホルド74に接続されてい
る。例えば、電磁ソレノイド型のもので良い弁Vのおの
おのはここに述べるようなタイプの電子パターン制御シ
ステム20からの電気信号により個々に制御される。偏向
管62の出口は副マニホルド40内の下方に向けられた染料
流路から絶えず流れ出る染料液流と整列しかつこれと衝
突する空気流を管理し、このような流れを主収集室80に
そらす。収集室からは液体染料が適当な染料収集導管82
により再循環のため染料貯蔵タンク30に移される。
各染料流路出口52と1直線にかつほぼ垂直に位置決めさ
れている。各管62は空気偏向導管64によってVで示して
ある個々の電空弁と連通している。電空弁はパターン制
御装置20により供給されるパターン情報にしたがって空
気管62に対する空気流を選択的に遮断する。各弁は次に
空気供給導管によりエアコンプレッサ76により加圧空気
が供給される加圧空気供給マニホルド74に接続されてい
る。例えば、電磁ソレノイド型のもので良い弁Vのおの
おのはここに述べるようなタイプの電子パターン制御シ
ステム20からの電気信号により個々に制御される。偏向
管62の出口は副マニホルド40内の下方に向けられた染料
流路から絶えず流れ出る染料液流と整列しかつこれと衝
突する空気流を管理し、このような流れを主収集室80に
そらす。収集室からは液体染料が適当な染料収集導管82
により再循環のため染料貯蔵タンク30に移される。
ソレノイド弁Vを動作させるパターン制御システム20
はパターン情報記憶機能を有するコンピュータのような
パターン制御手段から構成することができる。制御シス
テム20からの所望のパターン情報は生地がアレイの下を
コンベア14により移動することに応答して適当なタイミ
ングに各アレイのソレノイド弁に伝送される。生地の移
動はコンベア14と動作的に結合し、制御システム20に接
続された適当な回転運動検出器や変換器手段18により検
出される。この発明のパターン制御システム20は第8図
乃至第12図を参照した後で詳細に記述する。
はパターン情報記憶機能を有するコンピュータのような
パターン制御手段から構成することができる。制御シス
テム20からの所望のパターン情報は生地がアレイの下を
コンベア14により移動することに応答して適当なタイミ
ングに各アレイのソレノイド弁に伝送される。生地の移
動はコンベア14と動作的に結合し、制御システム20に接
続された適当な回転運動検出器や変換器手段18により検
出される。この発明のパターン制御システム20は第8図
乃至第12図を参照した後で詳細に記述する。
第3図乃至第5A図は第1図及び第2図のアレイ26の端
面図を一部或いは全部を断面で示している。各アレイ26
に対する個々の支持はり102はコンベア14を横切ってお
り各端部で斜フレーム部材24に取り付けられている。支
持はり102に沿った離間した場所に垂直に板状の取り付
けブラケット104が固定されて主染料マニホルドアッセ
ンブリ36と関連装置、主染料収集室80と関連装置、およ
びこの発明に関連した装置を支えている。好ましい実施
例では、はり102に支持された弁箱100は各アレイに関連
した空気マニホルド74(第2図)とともに複数の弁Vを
収納するのに用いることができる。
面図を一部或いは全部を断面で示している。各アレイ26
に対する個々の支持はり102はコンベア14を横切ってお
り各端部で斜フレーム部材24に取り付けられている。支
持はり102に沿った離間した場所に垂直に板状の取り付
けブラケット104が固定されて主染料マニホルドアッセ
ンブリ36と関連装置、主染料収集室80と関連装置、およ
びこの発明に関連した装置を支えている。好ましい実施
例では、はり102に支持された弁箱100は各アレイに関連
した空気マニホルド74(第2図)とともに複数の弁Vを
収納するのに用いることができる。
第4図乃至第5A図に最も明瞭に示すように、主染料マ
ニホルドアッセンブリ36は平坦な合せ面を有するパイプ
から構成され、この合せ面は副マニホルドアッセンブリ
40の対応する合せ面を受け入れる。副マニホルドアッセ
ンブリ40は副マニホルドモジュールセクション42、溝付
き染料排出モジュール50および副マニホルドセクション
42の細長い合せチャンネルと排出モジュール50とで協同
して形成される細長い副マニホルド46から構成される。
副マニホルドモジュール42は、マニホルドアッセンブリ
36の合せ面のあけられた排出導管が副マニホルドモジュ
ールセクション42の合せ面の対応するあけられた流路44
と整列するように主染料マニホルドアッセンブリ36にボ
ルト(図示せず)か他の適当な手段により取付けられ、
これにより加圧された液体染料がマニホルドアッセンブ
リ36の内部から細長い副マニホルド46に流れ出るように
なる。
ニホルドアッセンブリ36は平坦な合せ面を有するパイプ
から構成され、この合せ面は副マニホルドアッセンブリ
40の対応する合せ面を受け入れる。副マニホルドアッセ
ンブリ40は副マニホルドモジュールセクション42、溝付
き染料排出モジュール50および副マニホルドセクション
42の細長い合せチャンネルと排出モジュール50とで協同
して形成される細長い副マニホルド46から構成される。
副マニホルドモジュール42は、マニホルドアッセンブリ
36の合せ面のあけられた排出導管が副マニホルドモジュ
ールセクション42の合せ面の対応するあけられた流路44
と整列するように主染料マニホルドアッセンブリ36にボ
ルト(図示せず)か他の適当な手段により取付けられ、
これにより加圧された液体染料がマニホルドアッセンブ
リ36の内部から細長い副マニホルド46に流れ出るように
なる。
染料排出モジュール50の合せ面には複数の溝或いはチ
ャンネル51(第5A図)が関係しており、これらは、染料
排出モジュール50がボルトなどにより副マニホルドモジ
ュール42と合せられると、染料流路出口52を形成し、こ
れらを通して副マニホルド46からの一様な量の液体染料
が整列した平行な流れとなって生地上に放出される。染
料チャンネル51の主染料収集板84と収集板支持部材86に
対する相対位置若しくは位置合せは取付けブラケット10
4に関連したジャッキスクリュー106を適切に回転させる
ことにより調整することができる。
ャンネル51(第5A図)が関係しており、これらは、染料
排出モジュール50がボルトなどにより副マニホルドモジ
ュール42と合せられると、染料流路出口52を形成し、こ
れらを通して副マニホルド46からの一様な量の液体染料
が整列した平行な流れとなって生地上に放出される。染
料チャンネル51の主染料収集板84と収集板支持部材86に
対する相対位置若しくは位置合せは取付けブラケット10
4に関連したジャッキスクリュー106を適切に回転させる
ことにより調整することができる。
染料排出マニホルド50には染料バイパスマニホルド56
とバイパスマニホルド54とが関連しており、これらは第
4図と第5図に最も明瞭に示されており、圧力バラスト
として作用し、副マニホルド46内に一様に加圧された染
料を供給する。
とバイパスマニホルド54とが関連しており、これらは第
4図と第5図に最も明瞭に示されており、圧力バラスト
として作用し、副マニホルド46内に一様に加圧された染
料を供給する。
第4図と第5図に示すように、主染料収集室80は空気
偏向管62のアレイと向い合うよう位置付けられている。
これは管62からの横方向の空気流により染料液流から向
きを変えさせられた液体染料を収集する目的のためであ
る。主染料収集室80はまた洗浄水マニホルド94に関連し
た千鳥配列の洗浄水ノズル96からアレイを洗浄するとき
にはいつでも、例えば、別の色の染料を使用するときに
吹付けられる水はもちろんマニホルドアッセンブリ36か
ら高圧で吹付けられ部分的に向きを変えられた水も集水
する。主染料収集室80は取付けブラケット104と刃形収
集板支持部材86に従来の手段により取付けられる。支持
部材86は図示のように室80の床を受入れるようにラベッ
トされており、染料や洗浄水が収集できアレイの内部か
ら主染料収集導管82を介して取り除かれる空洞を形成す
る。アレイの長さ方向に伸びる霧遮蔽物90の弁箱100の
底部にボルト等により取付けられている。弁箱100から
マニホルドアッセンブリ36に延びた遮蔽物90は液滴か空
中霧の形での洗浄水あるいは染料がマニホルドアッセン
ブリ36と弁箱100との間を移動すること、生地に滴り落
ちて汚すことを防止する。弁箱100に取付けられた外部
霧遮蔽物92はばね力を使用して染料収集室80に取付けら
れた弾性シール93を圧縮する。遮蔽物92とシール93は主
として空中霧の形の洗浄水が染料収集室80の上部から出
て下の生地に降りることを防止する。遮蔽物90、92と染
料収集室80は空気偏向管62からの加圧された空気を不当
に拘束せずに逃がせるように両端が解放されているのが
好ましい。
偏向管62のアレイと向い合うよう位置付けられている。
これは管62からの横方向の空気流により染料液流から向
きを変えさせられた液体染料を収集する目的のためであ
る。主染料収集室80はまた洗浄水マニホルド94に関連し
た千鳥配列の洗浄水ノズル96からアレイを洗浄するとき
にはいつでも、例えば、別の色の染料を使用するときに
吹付けられる水はもちろんマニホルドアッセンブリ36か
ら高圧で吹付けられ部分的に向きを変えられた水も集水
する。主染料収集室80は取付けブラケット104と刃形収
集板支持部材86に従来の手段により取付けられる。支持
部材86は図示のように室80の床を受入れるようにラベッ
トされており、染料や洗浄水が収集できアレイの内部か
ら主染料収集導管82を介して取り除かれる空洞を形成す
る。アレイの長さ方向に伸びる霧遮蔽物90の弁箱100の
底部にボルト等により取付けられている。弁箱100から
マニホルドアッセンブリ36に延びた遮蔽物90は液滴か空
中霧の形での洗浄水あるいは染料がマニホルドアッセン
ブリ36と弁箱100との間を移動すること、生地に滴り落
ちて汚すことを防止する。弁箱100に取付けられた外部
霧遮蔽物92はばね力を使用して染料収集室80に取付けら
れた弾性シール93を圧縮する。遮蔽物92とシール93は主
として空中霧の形の洗浄水が染料収集室80の上部から出
て下の生地に降りることを防止する。遮蔽物90、92と染
料収集室80は空気偏向管62からの加圧された空気を不当
に拘束せずに逃がせるように両端が解放されているのが
好ましい。
また染料排出モジュール50には偏向空気噴射口アッセ
ンブリ60(第5A図に最も明瞭に図示されている)が関連
しており、これにより空気管62からの空気流が弁箱100
の弁アレイと接続供給導管64を介して排出口52から出る
染料液流の通路を横切って選択的に導かれる。アッセン
ブリ100は空気供給管支持板66と空気管クランプ68から
構成されており、染料排出口52(第5A図)のすぐ外側で
空気偏向管62を整列させると共にしっかり固定する。空
気管固定ねじ67を回転させることによりクランプ68によ
り空気管62に加えられる圧力が調整できる。エアフォイ
ル72が空気管62に対向して位置付けられており、管62か
ら出る横空気流の作用によりアレイの領域内に生じる乱
流の程度を低減させる。図示されていないが、管62が空
気管クランプ68により押しやられる染料排出モジュール
50の突出部は管62を染料排出口52と整列しやすくするた
め管62を部分的に嵌め込める一連の等間隔に置かれたV
字形の切欠きが形成されるのが好ましい。同様な位置合
せ装置の詳細が米国特許4,309,881に見られる。
ンブリ60(第5A図に最も明瞭に図示されている)が関連
しており、これにより空気管62からの空気流が弁箱100
の弁アレイと接続供給導管64を介して排出口52から出る
染料液流の通路を横切って選択的に導かれる。アッセン
ブリ100は空気供給管支持板66と空気管クランプ68から
構成されており、染料排出口52(第5A図)のすぐ外側で
空気偏向管62を整列させると共にしっかり固定する。空
気管固定ねじ67を回転させることによりクランプ68によ
り空気管62に加えられる圧力が調整できる。エアフォイ
ル72が空気管62に対向して位置付けられており、管62か
ら出る横空気流の作用によりアレイの領域内に生じる乱
流の程度を低減させる。図示されていないが、管62が空
気管クランプ68により押しやられる染料排出モジュール
50の突出部は管62を染料排出口52と整列しやすくするた
め管62を部分的に嵌め込める一連の等間隔に置かれたV
字形の切欠きが形成されるのが好ましい。同様な位置合
せ装置の詳細が米国特許4,309,881に見られる。
液体染料流が偏向されると、排出口52から出た液体染
料は主染料収集室80に向けられる。収集室80はステイン
レス鋼のような適当なシート材で形成され、アレイの長
さ方向に延びている。収集室80には主染料収集板84が関
連しており、これは染料排出口52と平行にかつ近接して
置かれた柔軟な翼のような部材から構成されている。主
収集板84はその長さ方向ち沿った離間した場所でボルト
とスペーサ85により楔形の細長い収集板支持部材86に調
整可能に取り付けられている。支持部材86は収集室80の
床の延長部を形成し、染料放出チャンネル51の出口52に
最も近い縁でとがらされておりそしてアレイの長さ方向
に延長している。薄い翼状の収集板84を長さ方向に張力
を持たせて取り付けることができ染料排出モジュール溝
51の軸に位置合せできるどのような調整手段も利用でき
る。このような手段の例が米国特許4,202,189に開示さ
れている。
料は主染料収集室80に向けられる。収集室80はステイン
レス鋼のような適当なシート材で形成され、アレイの長
さ方向に延びている。収集室80には主染料収集板84が関
連しており、これは染料排出口52と平行にかつ近接して
置かれた柔軟な翼のような部材から構成されている。主
収集板84はその長さ方向ち沿った離間した場所でボルト
とスペーサ85により楔形の細長い収集板支持部材86に調
整可能に取り付けられている。支持部材86は収集室80の
床の延長部を形成し、染料放出チャンネル51の出口52に
最も近い縁でとがらされておりそしてアレイの長さ方向
に延長している。薄い翼状の収集板84を長さ方向に張力
を持たせて取り付けることができ染料排出モジュール溝
51の軸に位置合せできるどのような調整手段も利用でき
る。このような手段の例が米国特許4,202,189に開示さ
れている。
このような装置を利用する代表的な染色動作では、パ
ターン情報が制御装置20により染料排出口52に関連した
空気弁Vに供給されない限り、弁は開いたままであり、
加圧された空気を空気マニホルド74から空気供給導管64
を通して通過させて、アレイ排出口52から絶えず流れ出
ている染料液流の全てを絶えず主収集室80にそらして再
循環に供する。生地12が最初個々のアレイ26の染料排出
口52の下を通過するとき、パターン制御システム20は適
当な方法で、例えば、オペレータの手動により作動され
る。その後、変換器18からの信号がパターン情報を処理
しパターン制御システム20から送り出すことを指示す
る。パターン情報の要求にしたがって、パターン制御シ
ステム20は制御信号を発生して適当な空気弁を選択的に
閉じ、その結果、所望のパターンにしたがってアレイに
沿った指定された染料排出口52での偏向空気流が遮断さ
れ、対応する染料液流は偏向されずその代りに通常の放
出経路を進行して生地12に衝突することになる。このよ
うに、各アレイの空気弁を所望のパターン順序で作動さ
せることにより、染料のパターンがアレイの下を通過す
る間に生地に形成される。
ターン情報が制御装置20により染料排出口52に関連した
空気弁Vに供給されない限り、弁は開いたままであり、
加圧された空気を空気マニホルド74から空気供給導管64
を通して通過させて、アレイ排出口52から絶えず流れ出
ている染料液流の全てを絶えず主収集室80にそらして再
循環に供する。生地12が最初個々のアレイ26の染料排出
口52の下を通過するとき、パターン制御システム20は適
当な方法で、例えば、オペレータの手動により作動され
る。その後、変換器18からの信号がパターン情報を処理
しパターン制御システム20から送り出すことを指示す
る。パターン情報の要求にしたがって、パターン制御シ
ステム20は制御信号を発生して適当な空気弁を選択的に
閉じ、その結果、所望のパターンにしたがってアレイに
沿った指定された染料排出口52での偏向空気流が遮断さ
れ、対応する染料液流は偏向されずその代りに通常の放
出経路を進行して生地12に衝突することになる。このよ
うに、各アレイの空気弁を所望のパターン順序で作動さ
せることにより、染料のパターンがアレイの下を通過す
る間に生地に形成される。
説明上、次の仮定、規則および定義がここでは使用さ
れる。用語“染料噴射口”または“噴射口”はいくつか
のアレイで各染料液流を形成する塗布器装置のことを言
う。生地に印刷されるパターンはアレイの下の経路に沿
って測定した10分の1インチの解像度或いはプリントゲ
ージを有する。言換えると、アレイは生地がその経路に
沿って10分の1インチ移動する毎に与えられる命令にし
たがって生地上に染料を放出(或いは染料の流れを遮
断)する。これは、前に定義したように、パターン線
(すなわち、生地を横切って延びる別々のパターン要素
が連なった列)が10分の1インチの幅若しくは厚みをも
つことを意味する。コンベアに沿った生地の速度は毎秒
1リニアインチすなわち毎分5リニアフィートであると
仮定する。これは、以下パターンサイクルと呼ばれる生
地が10分の1インチ移動する各期間(すなわち10分の1
秒)の間にアレイの個々の染料噴射口を制御する弁のど
れもが(a)弁が染料噴射口と交差する偏向空気の流れ
を遮断すべきかどうか、そしてもしそうなら(b)遮断
時間を指定する電子的にエンコードされた命令を受取る
ということを意味する。染料の流れが偏向されず生地に
衝突するこの時間を“点弧時間”若しくは染料噴射口が
“点弧する”或いは作動される時間と呼ぶ。点弧時間と
染料衝突時間とは同義である。アレイの順序番号、すな
わち第1、第2等は生地が各アレイの下を通過する順番
のことを言う。同様に、“上流”および“下流”とはそ
れぞれコンベアの方向とその反対方向のことを言う。合
計8個のアレイを使用するものとし、おのおのが480個
の染料噴射口をもつ。ただし、この発明はこのような個
数に決して限定されるものではなく、アレイ当り数千の
染料噴射口及び或いはもっと多くのアレイを持つように
容易に変更できる。生地の移動方向に沿ったアレイの間
隔は一様で10インチすなわち100のパターン線の幅であ
ると仮定する。なお、100のパターン線は100パターンサ
イクルに対するパターンデータの処理を意味する。
れる。用語“染料噴射口”または“噴射口”はいくつか
のアレイで各染料液流を形成する塗布器装置のことを言
う。生地に印刷されるパターンはアレイの下の経路に沿
って測定した10分の1インチの解像度或いはプリントゲ
ージを有する。言換えると、アレイは生地がその経路に
沿って10分の1インチ移動する毎に与えられる命令にし
たがって生地上に染料を放出(或いは染料の流れを遮
断)する。これは、前に定義したように、パターン線
(すなわち、生地を横切って延びる別々のパターン要素
が連なった列)が10分の1インチの幅若しくは厚みをも
つことを意味する。コンベアに沿った生地の速度は毎秒
1リニアインチすなわち毎分5リニアフィートであると
仮定する。これは、以下パターンサイクルと呼ばれる生
地が10分の1インチ移動する各期間(すなわち10分の1
秒)の間にアレイの個々の染料噴射口を制御する弁のど
れもが(a)弁が染料噴射口と交差する偏向空気の流れ
を遮断すべきかどうか、そしてもしそうなら(b)遮断
時間を指定する電子的にエンコードされた命令を受取る
ということを意味する。染料の流れが偏向されず生地に
衝突するこの時間を“点弧時間”若しくは染料噴射口が
“点弧する”或いは作動される時間と呼ぶ。点弧時間と
染料衝突時間とは同義である。アレイの順序番号、すな
わち第1、第2等は生地が各アレイの下を通過する順番
のことを言う。同様に、“上流”および“下流”とはそ
れぞれコンベアの方向とその反対方向のことを言う。合
計8個のアレイを使用するものとし、おのおのが480個
の染料噴射口をもつ。ただし、この発明はこのような個
数に決して限定されるものではなく、アレイ当り数千の
染料噴射口及び或いはもっと多くのアレイを持つように
容易に変更できる。生地の移動方向に沿ったアレイの間
隔は一様で10インチすなわち100のパターン線の幅であ
ると仮定する。なお、100のパターン線は100パターンサ
イクルに対するパターンデータの処理を意味する。
比較のために従来技術の制御システムが第6図に開示
されており、以下に詳細に説明する。この従来の制御シ
ステムに対するパターン化データ或いはパターン化命令
のフォーマットが第7図に概略的に図示されている。図
示するように、パターン要素データ(データフォーマッ
トA1の)が“生の”パターンデータをコンピュータが生
成した参照用テーブルから先に生成された点弧命令デー
タと電子的に対応付けることによりまず“オン/オフ”
点弧命令(個々の染料液流に関連した偏向空気の不作動
或いは作動のことを言う)に変換される。この点弧命令
データは各噴射口に対する単一の論理ビットを使用して
所定のアレイのどの噴射口を点弧するかを単に指定する
だけであり、第7図のデータフォーマットA2に示されて
いる。
されており、以下に詳細に説明する。この従来の制御シ
ステムに対するパターン化データ或いはパターン化命令
のフォーマットが第7図に概略的に図示されている。図
示するように、パターン要素データ(データフォーマッ
トA1の)が“生の”パターンデータをコンピュータが生
成した参照用テーブルから先に生成された点弧命令デー
タと電子的に対応付けることによりまず“オン/オフ”
点弧命令(個々の染料液流に関連した偏向空気の不作動
或いは作動のことを言う)に変換される。この点弧命令
データは各噴射口に対する単一の論理ビットを使用して
所定のアレイのどの噴射口を点弧するかを単に指定する
だけであり、第7図のデータフォーマットA2に示されて
いる。
この動作に続いて、“オン/オフ”点弧命令の順序を
並び変えてアレイ間の物理的な間隔に対応させる。これ
はパターン化される生地の所定の領域に対応する適切な
点弧命令データがその所定の生地の領域が適切なアレイ
の下を通過する正しい時間に最初のアレイを各下流のア
レイに到達することを保障するために必要である。これ
はアレイデータをインタリーブし、パターンの初めでの
下流アレイとパターンの終わりでの上流アレイに対する
合成“オフ”データを挿入することにより達成され、生
地が下流アレイの下の位置に移動してしまうまで下流ア
レイへのパターンデータの到着を効果的に順序付けると
ともに遅らせる。このインタリーブ動作を終えたデータ
は、第7図のデータフォーマットA3に示すように、特定
のパターンサイクルに対して、各アレイの各噴射口に対
する噴射口当り1ビット(この噴射口が点弧すべきかど
うかを示す)から成る直列のビットの流れで表される。
この直列のデータの流れは、位置決め制御システムから
受信した各“開始パターンサイクル”パルス(新しいパ
ターン線を開始すべきことを示す)につき、所定のアレ
イの噴射口の個数に相当するビットの適当な数をインタ
リーブ動作から受信した順序でただ計数するだけのデー
タ分配器に供給される。そのアレイ全体に対する点弧命
令を構成するに必要な適切な数のビットを計数し終える
と、後で説明するようにそのビットの組は直列に適切な
アレイに送られてさらに処理を受け、そして計数手順は
再度パターン化動作に関係した次のアレイについて開始
される。各アレイは回転順序で所定のパターン線につい
て同様な方法でデータが送られ、生地のパターン化が完
了するまで処理が各“開始パターンサイクル”パルス毎
に繰返される。
並び変えてアレイ間の物理的な間隔に対応させる。これ
はパターン化される生地の所定の領域に対応する適切な
点弧命令データがその所定の生地の領域が適切なアレイ
の下を通過する正しい時間に最初のアレイを各下流のア
レイに到達することを保障するために必要である。これ
はアレイデータをインタリーブし、パターンの初めでの
下流アレイとパターンの終わりでの上流アレイに対する
合成“オフ”データを挿入することにより達成され、生
地が下流アレイの下の位置に移動してしまうまで下流ア
レイへのパターンデータの到着を効果的に順序付けると
ともに遅らせる。このインタリーブ動作を終えたデータ
は、第7図のデータフォーマットA3に示すように、特定
のパターンサイクルに対して、各アレイの各噴射口に対
する噴射口当り1ビット(この噴射口が点弧すべきかど
うかを示す)から成る直列のビットの流れで表される。
この直列のデータの流れは、位置決め制御システムから
受信した各“開始パターンサイクル”パルス(新しいパ
ターン線を開始すべきことを示す)につき、所定のアレ
イの噴射口の個数に相当するビットの適当な数をインタ
リーブ動作から受信した順序でただ計数するだけのデー
タ分配器に供給される。そのアレイ全体に対する点弧命
令を構成するに必要な適切な数のビットを計数し終える
と、後で説明するようにそのビットの組は直列に適切な
アレイに送られてさらに処理を受け、そして計数手順は
再度パターン化動作に関係した次のアレイについて開始
される。各アレイは回転順序で所定のパターン線につい
て同様な方法でデータが送られ、生地のパターン化が完
了するまで処理が各“開始パターンサイクル”パルス毎
に繰返される。
各アレイには所定のアレイに関連した全てのパターン
サイクルに対してそのアレイにより使用される実際の点
弧時間についての電子エンコード値が対応づけられてい
る。この持続時間値はアレイ毎に異なってもよいが、所
定のアレイについては一定でなければならず、噴射口毎
パターンサイクル毎に異なってはならないことに注意す
ることが大切である。したがって、所定のアレイのいず
れの噴射口も所定パターンサイクル中点弧しなければな
らい場合には、同じ期間点弧しなければならない。この
持続時間値はパターンデータ分配動作から受取られた
“点弧する/点弧せず”の単一ビットデータに重畳さ
れ、各アレイに対応した少くとも1個のシフトレジスタ
に一時的に記憶される。シフトレジスタが一杯になる時
間を見込んだ所定の遅れの後データはアレイに沿った各
染料噴射口位置での偏向空気流に対応したそれぞれの弁
に同時に送られる。
サイクルに対してそのアレイにより使用される実際の点
弧時間についての電子エンコード値が対応づけられてい
る。この持続時間値はアレイ毎に異なってもよいが、所
定のアレイについては一定でなければならず、噴射口毎
パターンサイクル毎に異なってはならないことに注意す
ることが大切である。したがって、所定のアレイのいず
れの噴射口も所定パターンサイクル中点弧しなければな
らい場合には、同じ期間点弧しなければならない。この
持続時間値はパターンデータ分配動作から受取られた
“点弧する/点弧せず”の単一ビットデータに重畳さ
れ、各アレイに対応した少くとも1個のシフトレジスタ
に一時的に記憶される。シフトレジスタが一杯になる時
間を見込んだ所定の遅れの後データはアレイに沿った各
染料噴射口位置での偏向空気流に対応したそれぞれの弁
に同時に送られる。
第8図乃至第11図に示すようにこの発明の制御システ
ムは逐次的に動作する3個の別個のデータ蓄積および配
分システム(メモリ、スタガメモリとゲートリング(ga
tling)メモリを含む点弧時間変換器)から本質的に構
成されると考えることにより最も容易に説明できる。こ
れらのシステムは概略的に第8図に示されている。第8
図は前述したパターン化装置に使用されるこの発明の制
御システムの総括図を示している。第11図は第8図に示
された処理段階での代表的なデータフォーマットを示し
ている。各アレイは直列に配列された点弧時間変換器、
スタガメモリとゲートリングメモリが組合わせられてい
る。これらの主要な素子について順に説明する。
ムは逐次的に動作する3個の別個のデータ蓄積および配
分システム(メモリ、スタガメモリとゲートリング(ga
tling)メモリを含む点弧時間変換器)から本質的に構
成されると考えることにより最も容易に説明できる。こ
れらのシステムは概略的に第8図に示されている。第8
図は前述したパターン化装置に使用されるこの発明の制
御システムの総括図を示している。第11図は第8図に示
された処理段階での代表的なデータフォーマットを示し
ている。各アレイは直列に配列された点弧時間変換器、
スタガメモリとゲートリングメモリが組合わせられてい
る。これらの主要な素子について順に説明する。
第8図に示すように、生のパターンデータは生地移動
検出器から受信した開始パターンサイクルパルスの指示
にしたがって送られる。この検出器は生地のコンベアが
生地をパターン化アレイの下の経路を所定の直線距離
(例えば、1/10インチ)移動させるたびにパルスを発生
するだけである。(尚、従来のシステムでは、開始パタ
ーンサイクルパターンは位置決め制御システムから受信
したが、この発明のシステムでは別個の位置決め制御シ
ステムは不要である。)後述する理由により同じ開始パ
ターンサイクルパルスは各アレイに同時に送られる。
検出器から受信した開始パターンサイクルパルスの指示
にしたがって送られる。この検出器は生地のコンベアが
生地をパターン化アレイの下の経路を所定の直線距離
(例えば、1/10インチ)移動させるたびにパルスを発生
するだけである。(尚、従来のシステムでは、開始パタ
ーンサイクルパターンは位置決め制御システムから受信
したが、この発明のシステムでは別個の位置決め制御シ
ステムは不要である。)後述する理由により同じ開始パ
ターンサイクルパルスは各アレイに同時に送られる。
生のパターンデータは一連の画素コードで表わされ、
1のコードは各パターン線につき、めいめいおよびどの
アレイでの所定の染料噴射口位置に対する染料噴射口応
答を指定する。すなわち、各画素コードは単一のパター
ン線につき8個の染料噴射口(アレイ当り1個)の応答
を制御する。上述したように、画素コードは異なる色が
割当てられるパターンの別個の領域を定義するだけであ
る。データは厳密な順序で配列されるのが好ましく、第
11図のデータフォーマットB1に示すように、最初のパタ
ーン線に対する塗布器1−480向けのデータが一番目
で、2番目のパターン線に対する塗布器1−480向けの
データが続く。このような画素コードの全部の直列スト
リームが同じ形態でアレイ毎に配分することなく各アレ
イに対応する点弧時間変換器/メモリに送られて点弧時
間に変換される。この画素コードのストリームは全体パ
ターンの各パターン線毎に生地を横切る各染料噴射口位
置に対して個々のコードを与えるほど十分な数のコード
を有する。おのおのが480個の塗布器を有する8個のア
レイ、生地の経路に沿って0.1インチ幅のパターン線と
生地の経路に沿って60インチ長の全体パターンを仮定す
ると、288、000個のコードから成る生のパターンデータ
ストリームが必要とされよう。
1のコードは各パターン線につき、めいめいおよびどの
アレイでの所定の染料噴射口位置に対する染料噴射口応
答を指定する。すなわち、各画素コードは単一のパター
ン線につき8個の染料噴射口(アレイ当り1個)の応答
を制御する。上述したように、画素コードは異なる色が
割当てられるパターンの別個の領域を定義するだけであ
る。データは厳密な順序で配列されるのが好ましく、第
11図のデータフォーマットB1に示すように、最初のパタ
ーン線に対する塗布器1−480向けのデータが一番目
で、2番目のパターン線に対する塗布器1−480向けの
データが続く。このような画素コードの全部の直列スト
リームが同じ形態でアレイ毎に配分することなく各アレ
イに対応する点弧時間変換器/メモリに送られて点弧時
間に変換される。この画素コードのストリームは全体パ
ターンの各パターン線毎に生地を横切る各染料噴射口位
置に対して個々のコードを与えるほど十分な数のコード
を有する。おのおのが480個の塗布器を有する8個のア
レイ、生地の経路に沿って0.1インチ幅のパターン線と
生地の経路に沿って60インチ長の全体パターンを仮定す
ると、288、000個のコードから成る生のパターンデータ
ストリームが必要とされよう。
各点弧時間変換器はパターンデータの直列ストリーム
を形成する各アドレスコードが固有のアドレスを割当て
られるように十分な数のアドレスを有する参照用テーブ
ルを具備する。参照用テーブル内の各アドレスには相対
的な点弧時間すなわち染料接触時間を表わすバイトがあ
る。8ビットアドレスコードが生のパターンデータを形
成するために使用されるものとすると、バイトは零か当
の染料噴射口がオンのままでいなければならない時間量
に相当する255個の離散時間値の1つをとる。(より正
確に述べると、このパターン化装置においては、これら
の時間値は偏向空気噴射口に対応する弁が閉じたままに
され、これにより偏向空気流を遮断し、染料液流が生地
に衝突することが許される相対的な時間量を表わす。)
したがって、8ビットバイトの画素データにより256の
異なる点弧時間の1つが各アレイのどの噴射口位置につ
いても定められる。噴射口自体はパターンデータ直列ス
トリーム内のアドレスコードの相対位置と参照用テーブ
ルに前もってロードされた情報により決められる。この
情報はどのアレイの噴射口がどの時間長点弧するかを指
定する。(もし望ましければ、例えば、65、536個の点
弧時間或いは他のパターン化パラメータレベルの1つを
指定する2つ以上のバイトから構成されるデータをハー
ドウエアを適切に変更してここでの教えにしたがって使
用することができる。)結果はデータフォーマットB2
(第11図を参照)でアレイに対応したスタガメモリに送
られる。この時点ではアレイ間の物理的な間隔を補償し
たり、データをグループ化し保持して各染料噴射口に対
応した実際の空気弁に送ることはなされていない。
を形成する各アドレスコードが固有のアドレスを割当て
られるように十分な数のアドレスを有する参照用テーブ
ルを具備する。参照用テーブル内の各アドレスには相対
的な点弧時間すなわち染料接触時間を表わすバイトがあ
る。8ビットアドレスコードが生のパターンデータを形
成するために使用されるものとすると、バイトは零か当
の染料噴射口がオンのままでいなければならない時間量
に相当する255個の離散時間値の1つをとる。(より正
確に述べると、このパターン化装置においては、これら
の時間値は偏向空気噴射口に対応する弁が閉じたままに
され、これにより偏向空気流を遮断し、染料液流が生地
に衝突することが許される相対的な時間量を表わす。)
したがって、8ビットバイトの画素データにより256の
異なる点弧時間の1つが各アレイのどの噴射口位置につ
いても定められる。噴射口自体はパターンデータ直列ス
トリーム内のアドレスコードの相対位置と参照用テーブ
ルに前もってロードされた情報により決められる。この
情報はどのアレイの噴射口がどの時間長点弧するかを指
定する。(もし望ましければ、例えば、65、536個の点
弧時間或いは他のパターン化パラメータレベルの1つを
指定する2つ以上のバイトから構成されるデータをハー
ドウエアを適切に変更してここでの教えにしたがって使
用することができる。)結果はデータフォーマットB2
(第11図を参照)でアレイに対応したスタガメモリに送
られる。この時点ではアレイ間の物理的な間隔を補償し
たり、データをグループ化し保持して各染料噴射口に対
応した実際の空気弁に送ることはなされていない。
アレイ間の物理的な間隔の補償はいくつかのアレイに
対するスタガメモリを機能的に詳細に描いている第9A図
および第9B図を参照することにより最も良く説明でき
る。
対するスタガメモリを機能的に詳細に描いている第9A図
および第9B図を参照することにより最も良く説明でき
る。
スタガメモリは参照用テーブルにより作られた点弧時
間データに操作を加え次の2つの主要な機能を行う。す
なわち、(1)参照用テーブルからの点弧時間を表わす
直列のデータの流れをグループ化し、パターン化機械の
適切なアレイに割当て、そして(2)非操作データをが
各アレイに対するパターンデータに加算してパターンデ
ータでパターン化されるべき生地の特定の部分がアレイ
からアレイへ移動する間の経過時間を補償するために起
動時アレイに固有な特定時間の間パターンデータの読出
しを禁止する。
間データに操作を加え次の2つの主要な機能を行う。す
なわち、(1)参照用テーブルからの点弧時間を表わす
直列のデータの流れをグループ化し、パターン化機械の
適切なアレイに割当て、そして(2)非操作データをが
各アレイに対するパターンデータに加算してパターンデ
ータでパターン化されるべき生地の特定の部分がアレイ
からアレイへ移動する間の経過時間を補償するために起
動時アレイに固有な特定時間の間パターンデータの読出
しを禁止する。
スタガメモリは次のように動作する。点弧時間データ
は8個のアレイのおのおのに対応するランダムアクセス
メモリ(RAM)に送られる。スタチックおよびダイナミ
ックRAMのいずれも使用できるが、スタチックRAMの方が
速度が速いために望ましい。各アレイではデータは参照
用テーブルから送られた順にRAMに書込まれれ、これに
より点弧時間の噴射口とアレイの同一性を保持する。各
RAMは各アレイの各噴射口につき第1番目から第8番目
のアレイに及ぶパターン線(700本と仮定している)の
総数に対する点弧時間情報を保持するのに十分な容量を
持つことが望ましい。以下の説明では、700本のパター
ン線をおのおのが100本のパターン線から成る7つのグ
ループに配列されている(仮定したアレイ間の間隔に対
応して)として考えるのが便利である。
は8個のアレイのおのおのに対応するランダムアクセス
メモリ(RAM)に送られる。スタチックおよびダイナミ
ックRAMのいずれも使用できるが、スタチックRAMの方が
速度が速いために望ましい。各アレイではデータは参照
用テーブルから送られた順にRAMに書込まれれ、これに
より点弧時間の噴射口とアレイの同一性を保持する。各
RAMは各アレイの各噴射口につき第1番目から第8番目
のアレイに及ぶパターン線(700本と仮定している)の
総数に対する点弧時間情報を保持するのに十分な容量を
持つことが望ましい。以下の説明では、700本のパター
ン線をおのおのが100本のパターン線から成る7つのグ
ループに配列されている(仮定したアレイ間の間隔に対
応して)として考えるのが便利である。
RAMは単向反復サイクルにおいて全アレイに対する全R
AMのアドレスが同時に読取られるように全ての読取ポイ
ンタが初期化され、ロックステップ(lock−stepped)
されて書込まれたり読出されたりする。各RAMにはデー
タをメモリアドレスに書込むために使用される書込みポ
インタとデータをRAMアドレスから読出すために使用さ
れる読取りポインタを分ける順次メモリアドレスの数を
表わす所定のオフセット値が対応付けられており、所定
のメモリアドレスに対する読出し動作と書込み動作を時
間的にずらしている。
AMのアドレスが同時に読取られるように全ての読取ポイ
ンタが初期化され、ロックステップ(lock−stepped)
されて書込まれたり読出されたりする。各RAMにはデー
タをメモリアドレスに書込むために使用される書込みポ
インタとデータをRAMアドレスから読出すために使用さ
れる読取りポインタを分ける順次メモリアドレスの数を
表わす所定のオフセット値が対応付けられており、所定
のメモリアドレスに対する読出し動作と書込み動作を時
間的にずらしている。
第9A図の左側に示すように、最初のアレイに対するオ
フセット値は0である。すなわち、読出しパターンデー
タの操作はオフセットなしに書込みパターンデータの操
作と同じメモリアドレスで開始される。しかしながら、
第2のアレイに対するオフセット値は100として示され
ており、この数はパターン線の単位で生地の経路に沿っ
て測定した第1のアレイを第2のアレイから隔てる距離
を測るのに必要なパターン線或いはパターンサイクルの
数(読出し或いは書込みサイクルの対応する数)に等し
い。図示のように、最初のメモリアドレスで初期化され
る読取りパターンポインタは書込みポインタより100の
アドレスだけ早く見られる。したがって、読出し動作を
書込み動作を100の連続する場所だけ遅らせるメモリア
ドレスの場所で始めると書込みデータの読出しが第1お
よび第2のアレイ間の間隔に一致しかつこれを補償する
100のパターンサイクルだけ効果的に遅れることにな
る。読出しポインタが書込みポインタにより書込まれた
最初のアドレスに追付くまで読出し動作にダミーデータ
を使用することを回避するために読出し禁止手順を使用
することができる。かかる手順はパターンの始めと終わ
りで必要となるだけであろう。或いは、読出し動作が噴
射口をディスエーブルするデータを読出すように0の点
弧時間を表わすデータをRAMの適当なアドレスにロード
することもできる。
フセット値は0である。すなわち、読出しパターンデー
タの操作はオフセットなしに書込みパターンデータの操
作と同じメモリアドレスで開始される。しかしながら、
第2のアレイに対するオフセット値は100として示され
ており、この数はパターン線の単位で生地の経路に沿っ
て測定した第1のアレイを第2のアレイから隔てる距離
を測るのに必要なパターン線或いはパターンサイクルの
数(読出し或いは書込みサイクルの対応する数)に等し
い。図示のように、最初のメモリアドレスで初期化され
る読取りパターンポインタは書込みポインタより100の
アドレスだけ早く見られる。したがって、読出し動作を
書込み動作を100の連続する場所だけ遅らせるメモリア
ドレスの場所で始めると書込みデータの読出しが第1お
よび第2のアレイ間の間隔に一致しかつこれを補償する
100のパターンサイクルだけ効果的に遅れることにな
る。読出しポインタが書込みポインタにより書込まれた
最初のアドレスに追付くまで読出し動作にダミーデータ
を使用することを回避するために読出し禁止手順を使用
することができる。かかる手順はパターンの始めと終わ
りで必要となるだけであろう。或いは、読出し動作が噴
射口をディスエーブルするデータを読出すように0の点
弧時間を表わすデータをRAMの適当なアドレスにロード
することもできる。
第9A図の右側には8番目のアレイに対するスタガメモ
リが示されている。他のアレイと同様に、読出しポイン
タはRAMの最初のアドレスに初期化されている。その初
期化されたメモリアドレスに示された書込みポインタは
700本のパターン線に等価なアドレス差だけ読出しポイ
ンタに先行する(7個のアレイが介在し、一様なアレイ
間の間隔が100本のパターン線と仮定して)。
リが示されている。他のアレイと同様に、読出しポイン
タはRAMの最初のアドレスに初期化されている。その初
期化されたメモリアドレスに示された書込みポインタは
700本のパターン線に等価なアドレス差だけ読出しポイ
ンタに先行する(7個のアレイが介在し、一様なアレイ
間の間隔が100本のパターン線と仮定して)。
第9B図は正確に100のパターンサイクル後、すなわ
ち、100本パターン線に対するデータが読出された後の
第9A図のスタガメモリを示している。アレイ1に関連し
た読出しおよび書込みポインタは依然として一緒ではあ
るが100のメモリアドレス下方に移動してRAMの100のパ
ターン線の第2のグループの最初の線に関連した点弧時
間データを読出し書込んでいる。
ち、100本パターン線に対するデータが読出された後の
第9A図のスタガメモリを示している。アレイ1に関連し
た読出しおよび書込みポインタは依然として一緒ではあ
るが100のメモリアドレス下方に移動してRAMの100のパ
ターン線の第2のグループの最初の線に関連した点弧時
間データを読出し書込んでいる。
アレイ2に関連した読出しおよび書込みポインタは依
然としてパターン線の単位で測定したアレイ1とアレイ
2の物理的間隔に相当するオフセットだけ隔てられてい
る。アレイ8のポインタを見ると、読出しポインタは10
0本のパターン線の第2のグループからの点弧時間デー
タの最初の線を読出す位置に置かれている。一方、書込
みポインタはRAMの700本のパターン線が読出された後だ
け読出されるRAMアドレスに新しい点弧時間データを書
込む位置に置かれている。したがって読出しポインタは
700のパターンサイクル前に書込まれた点弧時間データ
を指定していること明らかである。
然としてパターン線の単位で測定したアレイ1とアレイ
2の物理的間隔に相当するオフセットだけ隔てられてい
る。アレイ8のポインタを見ると、読出しポインタは10
0本のパターン線の第2のグループからの点弧時間デー
タの最初の線を読出す位置に置かれている。一方、書込
みポインタはRAMの700本のパターン線が読出された後だ
け読出されるRAMアドレスに新しい点弧時間データを書
込む位置に置かれている。したがって読出しポインタは
700のパターンサイクル前に書込まれた点弧時間データ
を指定していること明らかである。
各アレイのスタガメモリに関連した蓄積レジストは生
地が1パターン線の幅に等しい距離移動したことを示す
生地変換器からのパルスにより指示されるまでパターン
サイクルにおいて各アレイにより染色されるパターン線
に対する点弧時間データを蓄積する。パルスにより指示
されると、データフォーマットB3(第11図参照)の点弧
時間データは下記に示すような処理を受けるためにゲー
トリングメモリに送られ、次のパターン線に対する点弧
時間データは上述の処理を受けるためスタガメモリに送
られる。
地が1パターン線の幅に等しい距離移動したことを示す
生地変換器からのパルスにより指示されるまでパターン
サイクルにおいて各アレイにより染色されるパターン線
に対する点弧時間データを蓄積する。パルスにより指示
されると、データフォーマットB3(第11図参照)の点弧
時間データは下記に示すような処理を受けるためにゲー
トリングメモリに送られ、次のパターン線に対する点弧
時間データは上述の処理を受けるためスタガメモリに送
られる。
第10図は1つのアレイに対するゲートリングメモリモ
ジュールを示す。第1図のパターン化装置については第
10図に示したものが8個、すなわち各アレイにつき1個
が必要となろう。好ましい実施例では全てが共通のクロ
ックとカウンタにより駆動されよう。ゲートリングメモ
リは2つの主要な機能を行う。すなわち、(1)エンコ
ードされた点弧時間の直列の流れが論理的(すなわちオ
ンあるいはオフ)点弧指令の列に変換される。各オン列
の長さは対応するエンコード点弧時間の値を反映してい
る。(2)これら指令は迅速効率的に適切な塗布器に割
当てられる。
ジュールを示す。第1図のパターン化装置については第
10図に示したものが8個、すなわち各アレイにつき1個
が必要となろう。好ましい実施例では全てが共通のクロ
ックとカウンタにより駆動されよう。ゲートリングメモ
リは2つの主要な機能を行う。すなわち、(1)エンコ
ードされた点弧時間の直列の流れが論理的(すなわちオ
ンあるいはオフ)点弧指令の列に変換される。各オン列
の長さは対応するエンコード点弧時間の値を反映してい
る。(2)これら指令は迅速効率的に適切な塗布器に割
当てられる。
第10図に示すように、各アレイには1組の専用の先入
れ先出しメモリモジュール(以下FIFOという)が対応付
けられている。FIFOの本質的な特徴はFIFOにデータが書
込まれたのと同じ順序でデータがFIFOから読出されると
いうことである。ここで述べる例示的な実施例ではアレ
イの480個の偏向空気弁のおのおのにつき1バイト(す
なわち、元のパターンデータを構成するアドレスコード
の大きさに等しい8ビット)のデータを記憶するのに十
分な容量を持たなければならない。説明の都合上2個の
FIFOのおのおのが240バイトのデータを受入れることが
できるものとしよう。
れ先出しメモリモジュール(以下FIFOという)が対応付
けられている。FIFOの本質的な特徴はFIFOにデータが書
込まれたのと同じ順序でデータがFIFOから読出されると
いうことである。ここで述べる例示的な実施例ではアレ
イの480個の偏向空気弁のおのおのにつき1バイト(す
なわち、元のパターンデータを構成するアドレスコード
の大きさに等しい8ビット)のデータを記憶するのに十
分な容量を持たなければならない。説明の都合上2個の
FIFOのおのおのが240バイトのデータを受入れることが
できるものとしよう。
各FIFOは入力が順次ローダに接続されるとともに出力
がそれぞれの比較器に接続される。カウンタはゲートリ
ングクロックからのパターンに応答して各比較器へ8ビ
ットの増加カウントを送る。ゲートリングクロックはま
た各FIFOに接続され、このため両FIFOおよび各FIFOに対
応した比較器それぞれの動作の開始を同期化することが
できる。点弧時間が基礎を置いている時間の最少の増分
がアレイ毎に異なっていなければならない場合には、独
立したクロックとカウンタが各アレイに対応付けること
ができる。下で詳細に説明するように、各比較器の出力
をそれぞれのシフトレジスタとラッチの組合せに接続し
て比較器の出力データをアレイに送る前に一時的に記憶
させるのが望ましい。各比較器の出力はまたその機能を
後で説明する共通の検出器に送られる。第10図に示し後
述するように、検出器からのリセットパルスは各パター
ンサイクルの終りにゲートリングクロックとカウンタに
送られる。
がそれぞれの比較器に接続される。カウンタはゲートリ
ングクロックからのパターンに応答して各比較器へ8ビ
ットの増加カウントを送る。ゲートリングクロックはま
た各FIFOに接続され、このため両FIFOおよび各FIFOに対
応した比較器それぞれの動作の開始を同期化することが
できる。点弧時間が基礎を置いている時間の最少の増分
がアレイ毎に異なっていなければならない場合には、独
立したクロックとカウンタが各アレイに対応付けること
ができる。下で詳細に説明するように、各比較器の出力
をそれぞれのシフトレジスタとラッチの組合せに接続し
て比較器の出力データをアレイに送る前に一時的に記憶
させるのが望ましい。各比較器の出力はまたその機能を
後で説明する共通の検出器に送られる。第10図に示し後
述するように、検出器からのリセットパルスは各パター
ンサイクルの終りにゲートリングクロックとカウンタに
送られる。
第10図に示すように、変換器パルスに応答して各アレ
イに対するスタガメモリそれぞれが順次読まれ、データ
はアレイに固有な順次ローダに供給される。順次ローダ
は受取った240バイトのデータの最初のグループを第1
のFIFOに送り、240バイトのデータの第2のグループを
第2のFIFOに送る。同様な動作が他のアレイに関連する
他の順次ローダでも同時に行われる。各バイトはアレイ
の個々の噴射口に対する相対的な点弧時間或いは染料接
触時間(より正確に言うと偏向空気流の経過遮断時間)
を表す。各アレイに対するFIFOのおのおのがロードされ
た後FIFOはゲートリングクロックから同時に一連のパル
スが供給され、各パルスは各FIFOに対して8ビットの1
バイトのデータを順次ローダにより送られた順序でそれ
のそれぞれの比較器に送るように指示する。このFIFO点
弧時間データバイトは比較器が受ける2つの別の入力の
1つであり、第2の入力は全てのアレイに関連した全て
のFIFOに共通の単一のカウンタから送られるバイトであ
る。この共通のカウンタのバイトはFIFOデータを指示し
た同じゲートリングクロックパルスに応答して送られ、
このパターンサイクルの間染料流が生地に当り初めてか
らの経過時間を計測するためのクロックとして使用され
る。ゲートリングクロックからのパルス毎に新しいバイ
トデータが各FIFOから対応する比較器に送られる。
イに対するスタガメモリそれぞれが順次読まれ、データ
はアレイに固有な順次ローダに供給される。順次ローダ
は受取った240バイトのデータの最初のグループを第1
のFIFOに送り、240バイトのデータの第2のグループを
第2のFIFOに送る。同様な動作が他のアレイに関連する
他の順次ローダでも同時に行われる。各バイトはアレイ
の個々の噴射口に対する相対的な点弧時間或いは染料接
触時間(より正確に言うと偏向空気流の経過遮断時間)
を表す。各アレイに対するFIFOのおのおのがロードされ
た後FIFOはゲートリングクロックから同時に一連のパル
スが供給され、各パルスは各FIFOに対して8ビットの1
バイトのデータを順次ローダにより送られた順序でそれ
のそれぞれの比較器に送るように指示する。このFIFO点
弧時間データバイトは比較器が受ける2つの別の入力の
1つであり、第2の入力は全てのアレイに関連した全て
のFIFOに共通の単一のカウンタから送られるバイトであ
る。この共通のカウンタのバイトはFIFOデータを指示し
た同じゲートリングクロックパルスに応答して送られ、
このパターンサイクルの間染料流が生地に当り初めてか
らの経過時間を計測するためのクロックとして使用され
る。ゲートリングクロックからのパルス毎に新しいバイ
トデータが各FIFOから対応する比較器に送られる。
比較器において、8ビットの経過時間を示すカウンタ
の値がFIFOにより送られる8ビットの点弧時間バイトの
値と比較される。この比較の結果は検出器とともにシフ
トレジスタに送られる単一の“点弧/点弧せず指令”ビ
ットである。FIFOの値がカウンタの値より大きく、パタ
ーンデータで指定される所望の点弧時間がカウンタによ
り指定される経過点弧時間より大きい場合には、比較器
の出力ビットは論理“1"(アレイ塗布器により“点弧”
指令と解釈される)である。そうでなければ、比較器の
出力ビットは論理“0"(アレイ塗布器により“非点弧”
若しくは“点弧中止”指令と解釈される)である。次の
ゲートリングクロックパルスでは、各FIFOの点弧時間デ
ータの次のバイト(アレイに沿った次の噴射口に対応)
がそれぞれの比較器に送られて同じカウンタの値と比較
される。各比較器は対応するFIFOにより送られた点弧時
間データの値をカウンタの値と比較し、シフトレジスタ
と検出器に送るのに適した論理1或いは論理0の形式の
“点弧/非点弧”指令を生成する。
の値がFIFOにより送られる8ビットの点弧時間バイトの
値と比較される。この比較の結果は検出器とともにシフ
トレジスタに送られる単一の“点弧/点弧せず指令”ビ
ットである。FIFOの値がカウンタの値より大きく、パタ
ーンデータで指定される所望の点弧時間がカウンタによ
り指定される経過点弧時間より大きい場合には、比較器
の出力ビットは論理“1"(アレイ塗布器により“点弧”
指令と解釈される)である。そうでなければ、比較器の
出力ビットは論理“0"(アレイ塗布器により“非点弧”
若しくは“点弧中止”指令と解釈される)である。次の
ゲートリングクロックパルスでは、各FIFOの点弧時間デ
ータの次のバイト(アレイに沿った次の噴射口に対応)
がそれぞれの比較器に送られて同じカウンタの値と比較
される。各比較器は対応するFIFOにより送られた点弧時
間データの値をカウンタの値と比較し、シフトレジスタ
と検出器に送るのに適した論理1或いは論理0の形式の
“点弧/非点弧”指令を生成する。
この処理は240の点弧時間バイトが全てFIFOから読出
されカウンタにより示される経過点弧時間値と比較され
てしまうまで繰返される。このとき個々の点弧指令に対
応する240の論理“1"と“0"の直列な列が入っているシ
フトレジスタがこれら点弧指令を並列にラッチに送る。
シフトレジスタが続いてラッチに送るために新しい240
の点弧指令の組を受けると同時にラッチはシフトレジス
タからの点弧指令を並列にアレイの染料塗布器に関連し
た個々の空気弁に転送する。シフトレジスタがその内容
をラッチに送る(クロックパルスに応答して)たびにカ
ウンタの値が増加される。この転送に続いてカウンタの
値は1時間単位だけ増加され、処理が繰返されてカウン
タにより供給された経過時間の新しい増加値を使用して
比較器により各FIFOの240バイトの点弧時間データが順
次全て再検査され240の単一ビットの“点弧/非点弧”
指令に順次変換される。好ましい実施例では直列点弧指
令はシフトレジスタ/ラッチの組合わせにより並列形式
で変換され記憶されるが、直列の点弧指令を適切な塗布
器に導くため多分指令を真の並列形式に変化することな
しに様々な別の技術を使用することができよう。
されカウンタにより示される経過点弧時間値と比較され
てしまうまで繰返される。このとき個々の点弧指令に対
応する240の論理“1"と“0"の直列な列が入っているシ
フトレジスタがこれら点弧指令を並列にラッチに送る。
シフトレジスタが続いてラッチに送るために新しい240
の点弧指令の組を受けると同時にラッチはシフトレジス
タからの点弧指令を並列にアレイの染料塗布器に関連し
た個々の空気弁に転送する。シフトレジスタがその内容
をラッチに送る(クロックパルスに応答して)たびにカ
ウンタの値が増加される。この転送に続いてカウンタの
値は1時間単位だけ増加され、処理が繰返されてカウン
タにより供給された経過時間の新しい増加値を使用して
比較器により各FIFOの240バイトの点弧時間データが順
次全て再検査され240の単一ビットの“点弧/非点弧”
指令に順次変換される。好ましい実施例では直列点弧指
令はシフトレジスタ/ラッチの組合わせにより並列形式
で変換され記憶されるが、直列の点弧指令を適切な塗布
器に導くため多分指令を真の並列形式に変化することな
しに様々な別の技術を使用することができよう。
各FIFOに蓄積された点弧時間データの全てをカウンタ
により生成される各増加経過時間値と逐次比較すること
を伴う上述の処理は検出器がそのアレイに対応する比較
器の出力全てが論理“0"であると判定するまで繰返され
る。これは、そのアレイの全ての噴射口について、その
アレイのどの噴射口に対する所望点弧時間(FIFO値によ
り表される)もそのときカウンタにより示される経過時
間を超過していないことを示している。この状態が比較
器により検知されるときには、それはそのパターン線と
そのアレイにつき全ての必要なパターン化が終わったこ
とを示している。したがって、検出器はカウンタとゲー
トリングクロックとに対してリセットパターンを送る。
ゲートリングモジュールはそれから次の生地変換器パル
スを待って順次ローダによって次のパターン線に対する
点弧時間データの伝送とローディングを指示し、反復読
出し/比較処理が上述したように繰返される。
により生成される各増加経過時間値と逐次比較すること
を伴う上述の処理は検出器がそのアレイに対応する比較
器の出力全てが論理“0"であると判定するまで繰返され
る。これは、そのアレイの全ての噴射口について、その
アレイのどの噴射口に対する所望点弧時間(FIFO値によ
り表される)もそのときカウンタにより示される経過時
間を超過していないことを示している。この状態が比較
器により検知されるときには、それはそのパターン線と
そのアレイにつき全ての必要なパターン化が終わったこ
とを示している。したがって、検出器はカウンタとゲー
トリングクロックとに対してリセットパターンを送る。
ゲートリングモジュールはそれから次の生地変換器パル
スを待って順次ローダによって次のパターン線に対する
点弧時間データの伝送とローディングを指示し、反復読
出し/比較処理が上述したように繰返される。
好ましい実施例では、各アレイに対するゲートリング
メモリは実際には交互にアレイ弁に接続される2個の別
々で同じFIFOで構成することができる。このように、1
つのゲートリングメモリでデータが読出され比較されて
いる間に次のパターン線に対するデータを他のゲートリ
ングメモリに関連したFIFOにロードさせることができ、
これによりアレイ毎にたった1個のゲートリングメモリ
を使用した場合に存在するかもしれぬデータロード遅延
を除去することができる。FIFOの個数はアレイの染料噴
射口の数に応じて適切に変更できることは明らかであろ
う。
メモリは実際には交互にアレイ弁に接続される2個の別
々で同じFIFOで構成することができる。このように、1
つのゲートリングメモリでデータが読出され比較されて
いる間に次のパターン線に対するデータを他のゲートリ
ングメモリに関連したFIFOにロードさせることができ、
これによりアレイ毎にたった1個のゲートリングメモリ
を使用した場合に存在するかもしれぬデータロード遅延
を除去することができる。FIFOの個数はアレイの染料噴
射口の数に応じて適切に変更できることは明らかであろ
う。
第12図は各アレイに対応し最大のパターン解像度が望
ましいときに使用することができるオプションのメモリ
を示す。このメモリはスタチックRAMで良く個々の塗布
器の応答時間や染料の流動率の小さなばらつきを補償す
るための調整容量として働く。これは、所定のアレイの
各塗布器毎にそしてもしも望ましければ、このような各
塗布器に関連した起り得る各点弧時間毎に、パターンデ
ータによって要求された点弧時間を同じパターンデータ
点弧命令に応答して所定のアレイの全ての塗布器をして
実質的に同じ量の染料を生地上に排出させるのに必要な
量だけ増加させたり減少させたりする単一の要素に関係
するRAMに包含された参照テーブルにより達成される。
ましいときに使用することができるオプションのメモリ
を示す。このメモリはスタチックRAMで良く個々の塗布
器の応答時間や染料の流動率の小さなばらつきを補償す
るための調整容量として働く。これは、所定のアレイの
各塗布器毎にそしてもしも望ましければ、このような各
塗布器に関連した起り得る各点弧時間毎に、パターンデ
ータによって要求された点弧時間を同じパターンデータ
点弧命令に応答して所定のアレイの全ての塗布器をして
実質的に同じ量の染料を生地上に排出させるのに必要な
量だけ増加させたり減少させたりする単一の要素に関係
するRAMに包含された参照テーブルにより達成される。
第1図はこの発明が特に適した規制噴射口染色装置の概
略的側立面図であり、第2図は第1図の装置の概略的側
立面図であり、単一の染料噴射口、それの液体染料供給
システムと装置に関連した電子サブシステムを示す図で
あり、第3図は第1図に示した2個のアレイの側面図
で、左側のアレイは液体染料流が生地に塗布されている
ところを示し、右側のアレイは液体染料流が収集室に偏
向されているところを示しており、第4図は第3図の左
側のアレイ内部の詳細図で、液体染料流が移動生地に当
っているところを示しており、第5図は第4図と類似し
てはいるが第3図の右側のアレイで液体染料流が偏向さ
れているところを示しており、第5A図は第5図に示した
装置の一部の拡大図であり、第6図は従来技術の電子制
御システムの総括的ブロック図であり、第7図は第6図
の公知のデータ処理ステージでのデータフォーマットを
示し、第8図はここに開示した新規な電子制御システム
の総括的ブロック図であり、第9A図と第9B図は第8図の
スタガメモリの概略図で、第9A図は時間T1でのメモリ状
態を、第9B図は100パターン線後の時間T2でのメモリ状
態を示し、第10図は第8図に示したゲートリングメモリ
のブロック図であり、第11図は第8図乃至第10図に示し
たこの発明のいくつかのデータ処理ステージでのパター
ンデータのフォーマットを示し、そして第12図は各アレ
イに関連つけられるオプションの噴射口調整機能を示す
図である。 10……ロール、12……生地、14……コンベア、16……モ
ータ、22……フレーム、26……アレイ、30……染料貯蔵
タンク、36……主染料マニホルドアッセンブリ、40……
染料副マニホルドアッセンブリ
略的側立面図であり、第2図は第1図の装置の概略的側
立面図であり、単一の染料噴射口、それの液体染料供給
システムと装置に関連した電子サブシステムを示す図で
あり、第3図は第1図に示した2個のアレイの側面図
で、左側のアレイは液体染料流が生地に塗布されている
ところを示し、右側のアレイは液体染料流が収集室に偏
向されているところを示しており、第4図は第3図の左
側のアレイ内部の詳細図で、液体染料流が移動生地に当
っているところを示しており、第5図は第4図と類似し
てはいるが第3図の右側のアレイで液体染料流が偏向さ
れているところを示しており、第5A図は第5図に示した
装置の一部の拡大図であり、第6図は従来技術の電子制
御システムの総括的ブロック図であり、第7図は第6図
の公知のデータ処理ステージでのデータフォーマットを
示し、第8図はここに開示した新規な電子制御システム
の総括的ブロック図であり、第9A図と第9B図は第8図の
スタガメモリの概略図で、第9A図は時間T1でのメモリ状
態を、第9B図は100パターン線後の時間T2でのメモリ状
態を示し、第10図は第8図に示したゲートリングメモリ
のブロック図であり、第11図は第8図乃至第10図に示し
たこの発明のいくつかのデータ処理ステージでのパター
ンデータのフォーマットを示し、そして第12図は各アレ
イに関連つけられるオプションの噴射口調整機能を示す
図である。 10……ロール、12……生地、14……コンベア、16……モ
ータ、22……フレーム、26……アレイ、30……染料貯蔵
タンク、36……主染料マニホルドアッセンブリ、40……
染料副マニホルドアッセンブリ
Claims (14)
- 【請求項1】パターン化される生地がそれに沿って生地
の表面が第1の上流アレイと少なくとも1つの引き続く
下流アレイの作動領域に入る経路上を移動し、上流アレ
イと下流アレイのおのおのは複数の塗料塗布器から構成
され、そして各アレイの染料塗布器はパターン情報にし
たがってパターン情報により決まる期間生地の所定の部
分に染料流を選択的に発射することができ、この期間は
染料接触時間のことであり、各アレイの全ての染料噴射
口は生地の前記所定部分がアレイの塗布器の作動範囲を
通過しつつあるときにはいつでもそれぞれの染料流の選
択的発射を同時に開始させることができるパターン化方
法に使用するためのデジタル的にエンコードされたパタ
ーン情報を処理するための方法であり、 (a)アレイ毎に前記パターン情報にしたがって各染料
塗布器に対する染料接触時間を生成するステップと、 (b)アレイ毎にアレイを構成する各塗布器の物理的位
置に対応する列に染料接触時間のおのおのを配列するス
テップと、 (c)各下流アレイに対する染料接触時間の各列に対し
て、生地表面の前記所定部分を下流アレイを構成する塗
布器がパターン情報にしたがって前記所定部分上に選択
的染料流の発射を開始する前に下流アレイの塗布器の作
動範囲に入らせる遅延を与えるステップと、 (d)各アレイを構成する各塗布器への同時伝送のため
にこの伝送時に塗布器の作動範囲内を通過しつつある前
記生地表面の前記所定部分に対するパターン情報により
指定される染料接触時間の列を割当てるステップとを具
備することを特徴とするデジタルエンコードパターン情
報処理方法。 - 【請求項2】前記遅延は染料接触時間列を最初の書込み
アドレス位置から初めてデジタルメモリに書込み、この
同じ列をこのメモリから前記遅延に相当する順次的なア
ドレス差だけ前記最初の書込みアドレス位置から離れた
メモリ内の最初の読出しアドレス位置から開始して読み
出すことにより与えることを特徴とする請求項1項記載
の方法。 - 【請求項3】前記接触時間生成ステップの後ではあるが
前記割当てステップの前に前記接触時間は選択的に個々
の塗布器の特性を補償するため変更されることを特徴と
する請求項1項記載の方法。 - 【請求項4】前記割当ては前記列を構成する各染料接触
時間を個々の点弧命令の列に変換することにより達成さ
れ、この列はパターン情報により指定される染料接触時
間に等しい持続時間を有することを特徴とする請求項1
項記載の方法。 - 【請求項5】染料接触時間の点弧命令の列への変換は (i)アレイの各染料噴射口に対する染料接触時間をカ
ウンタの値と連続して比較すること、 (ii)比較を行う毎に個々の点弧命令を発生し、カウン
タの所定の値に対する比較の終了後、 (iii)染料接触時間を定義するために使用される最少
の時間増分に相当する量だけ前記カウンタを増加させる
ことにより達成され、その後前記ステップ(i)と(i
i)が、繰返し毎に前記カウンタの最新の増加値を使用
して、全ての比較の結果がカウンタの値が処理されてい
るパターン情報に対して指定された最長の染料接触時間
の値を越えたことを示すまで反復的に繰返されることを
特徴とする請求項4項記載の方法。 - 【請求項6】全てのアレイの全ての塗布器に同時に伝送
するために前記点弧指令の列を記憶させるステップを更
に具備することを特徴とする請求項4項記載の方法。 - 【請求項7】パターン化される生地がそれに沿って生地
の表面が第1の上流アレイと少なくとも1つの引き続く
下流アレイの作動領域に入る経路上を移動し、上流アレ
イと下流アレイのおのおのは複数の染料塗布器から構成
され、そして各アレイの染料塗布器は生地が所定の増分
移動を完了し各アレイの作動範囲内を通過するときにパ
ターンデータにしたがってパターンデータにより決まる
期間生地の所定の部分に染料流を選択的に発射すること
ができ、この期間は染料接触時間のことであり、各アレ
イの全ての染料噴射口は生地の前記パターンデータにし
たがって染料流を受けるべき部分が前記所定の増分移動
を完了しアレイの塗布器の作動範囲を通過しつつあると
きそれぞれの染料流の選択的反射を同時に開始させるこ
とができ、前記作動範囲内の前記生地の所定の部分がこ
こではパターン線といわれ、パターン化方法に使用する
ためのデジタル的にエンコードされたパターン情報を処
理するための方法であり、 (a)第1のパターン線に対するデジタルエンコードパ
ターンデータを第1のデジタルメモリに送り、このメモ
リからこのパターンデータが染料塗布器のおのおのに対
する染料接触時間に変換されるステップと、 (b)染料接触時間を第2のデジタルメモリに書込み、
このメモリからアレイ毎の遅延を受けて読み出され、生
地経路に沿ったアレイ間の間隔を補償し、これにより染
料接触時間の再順序つけられた流れを生成するステップ
と、 (c)経過時間カウンタの値を初期化していずれかのア
レイのいずれかの染料塗布器の最短の染料接触時間増分
に対応させるステップと、 (d)前記染料接触時間の再順序つけられた流れを第3
のデジタルメモリに書込み、ここで再順序つけられた時
間が個々に前記経過時間カウンタにより供給される初期
化時間値と比較されるステップと、 (e)この比較の結果に依存して染料流を生地に接触さ
せたり或いは禁止させたりする染料流制御信号を生成す
るステップと、 (f)この染料流制御信号を第4のデジタルメモリに書
込み、ここで前記パターン線に対する全ての染料流接触
時間が前記経過時間カウンタの現在値と比較完了するま
でこの信号が記憶されるステップと、 (g)前記第4のデジタルメモリに記憶されたパターン
線に対する染料流制御信号を前記染料塗布器に伝送する
ステップと、 (h)前記経過時間カウンタを増加させるステップと、 (i)前記パターン線に対する染料接触時間を前記増加
された経過時間カウンタにより供給された新しい時間値
と再比較するステップと、 (j)増加カウンタにより供給される時間値が前記パタ
ーン線に対するパターンデータにより規定された染料流
の生地との接触が全て完了したことを示すまでステップ
(e)乃至(i)を反復的に繰返すステップとを具備す
ることを特徴とするデジタル的にエンコードされたパタ
ーンデータを処理する方法。 - 【請求項8】染料流制御信号への変換の前に個々の塗布
器の特性を補償する所定の要素にしたがって前記個々の
染料接触時間を選択的に変更するステップを更に具備す
ることを特徴とする請求項7項記載の方法。 - 【請求項9】おのおのが一定の長さの2進文字列にデジ
タル的にエンコードされた一連のパラメータ値を等しい
数のおのおのが一定の2進状態を有する一連のn個の2
進文字から構成される2進文字列に変換するための方法
であり、nの値は各列に相当する個々のパラメータ値に
より決定され、前記それぞれの2進文字列は、 (a)カウンタ値を初期化するステップと、(b)2進
文字列のおのおので表されたエンコードパラメータ値を
続けて前記カウンタ値と比較し、この比較の結果はエン
コードパラメータ値が前記カウンタ値より大きい限り一
定の2進状態を有し、そうでない場合には反対の2進状
態を有する単一の2進文字であるステップと、(c)前
記カウンタ値を増加させるステップと、前記カウンタ値
を使って、増加したカウンタ値が前記2進文字列のおの
おのでエンコードされたパラメータ値を越えるまでステ
ップ(b)と(c)を繰返すステップによりひとまとめ
で生成される方法。 - 【請求項10】パターン化される生地がそれに沿って生
地の表面が第1の上流アレイと少なくとも1つの引き続
く下流アレイの作動領域に入る経路上を移動し、上流ア
レイと下流アレイのおのおのは複数の染料塗布器から構
成され、そして各アレイの染料塗布器はパターン情報に
したがってパターン情報により決まる期間生地の所定の
部分に染料流を選択的に発射することができ、この期間
は染料接触時間のことであり、各アレイの全ての染料噴
射口は生地の前記所定部分がアレイの塗布器の作動範囲
を通過しつつあるときにはいつでもそれぞれの染料流の
選択的発射を同時に開始させることができるパターン化
装置に使用するためのデジタル的にエンコードされたパ
ターン情報を処理するための装置であり、 (a)前記パターン情報の供給源と作動的に結合し、パ
ターン情報に対応するアドレスに染料接触時間を記憶し
た第1のメモリと、 (b)第1のメモリと作動的に結合し、第1のメモリか
らのデータが初期書込みアドレスから開始して順に書込
まれ、その後前記初期書込みアドレスから連続したアレ
イ間の生地移動時間に相当する量だけ離れた初期読出し
アドレスから開始して書込み順で読み出される第2のメ
モリと、 (c)第2のメモリと作動的に結合され、第2のメモリ
から読み出されたデータを受け、このデータが反復的に
繰返し読出される第3のメモリと、 (d)第3のメモリと作動的に結合され、第3のメモリ
の出力を前記塗布器に対する点弧指令の直列の流れに変
換するデータ変換器とを具備することを特徴とする装
置。 - 【請求項11】データ変換器がカウンタと比較器とから
構成され、比較器にはカウンタの値と第3のメモリの出
力とが供給される請求項10項記載の装置。 - 【請求項12】第3のメモリと作動的に結合され、補正
データを記憶し、前記染料接触時間を受けて補正データ
にしたがって前記時間を修正し、塗布器の特性を補正す
る補正メモリを更に具備する請求項10項記載の装置。 - 【請求項13】前記データ変換器と作動的に結合され、
データ変換器から前記点弧指令の直列の流れを受け直列
の流れを並列の流れに変換する第4のメモリを更に具備
する請求項10項記載の装置。 - 【請求項14】第4のメモリと作動的に結合され、第4
のメモリから並列の流れを受け、この流れをラッチして
前記点弧指令から制御信号を生成し、制御信号を新しい
データの並列の流れが第4のメモリにより供給されるま
で維持する第5のメモリを更に具備する請求項13項記載
の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US327,843 | 1989-03-23 | ||
US07/327,843 US4984169A (en) | 1989-03-23 | 1989-03-23 | Data loading and distributing process and apparatus for control of a patterning process |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03104978A JPH03104978A (ja) | 1991-05-01 |
JP2975392B2 true JP2975392B2 (ja) | 1999-11-10 |
Family
ID=23278312
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2075335A Expired - Fee Related JP2975392B2 (ja) | 1989-03-23 | 1990-03-23 | データローディングと分配処理およびパターン化処理を制御するための装置 |
Country Status (14)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US4984169A (ja) |
EP (1) | EP0389109B1 (ja) |
JP (1) | JP2975392B2 (ja) |
KR (1) | KR920007065B1 (ja) |
AT (1) | ATE154077T1 (ja) |
AU (1) | AU632532B2 (ja) |
CA (1) | CA2010930C (ja) |
DE (1) | DE69030834T2 (ja) |
DK (1) | DK0389109T3 (ja) |
IE (1) | IE80406B1 (ja) |
MX (1) | MX171428B (ja) |
NO (1) | NO900923L (ja) |
NZ (1) | NZ232794A (ja) |
PT (1) | PT93541B (ja) |
Families Citing this family (43)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5128876A (en) * | 1990-03-02 | 1992-07-07 | Milliken Research Corporation | System for the real-time scheduling and loading of look-up tables for a patterning device |
US5142481A (en) * | 1990-03-02 | 1992-08-25 | Milliken Research Corporation | Process and apparatus allowing the real-time distribution of data for control of a patterning process |
US5195043A (en) * | 1990-03-02 | 1993-03-16 | Milliken Research Corporation | Automatic generation of look-up tables for requested patterns and colors |
US5136520A (en) * | 1990-03-02 | 1992-08-04 | Milliken Research Corporation | System for assigning discrete time periods for dye applicators in a textile dyeing apparatus |
US5179749A (en) * | 1991-05-06 | 1993-01-19 | Milliken Research Corporation | Seamless modular tile |
DE4122105C2 (de) * | 1991-07-04 | 1995-02-02 | Kotterer Grafotec | Vorrichtung zum berührungslosen Auftragen eines Flüssigkeitsstreifens auf eine laufende Materialbahn |
US5408380A (en) * | 1992-03-09 | 1995-04-18 | Milliken Research Corporation | Method and apparatus for load voltage compensation |
FR2693486B1 (fr) * | 1992-07-08 | 1994-09-02 | Superba Sa | Procédé et machine pour teindre en continu des fils textiles. |
CA2095555A1 (en) * | 1992-12-16 | 1994-06-17 | Robert L. Popp | Apparatus and methods for selectively controlling a spray of liquid to form a distinct pattern |
US5425389A (en) * | 1993-07-08 | 1995-06-20 | Milliken Research Corporation | Method and apparatus for contiguous valve control |
CA2169598A1 (en) * | 1995-02-22 | 1996-08-23 | Henry Koschitzky | Method and apparatus for applying surfacing material to shingles |
JP3284037B2 (ja) * | 1995-11-29 | 2002-05-20 | ニチハ株式会社 | 建築板の塗装方法 |
US6509979B2 (en) | 1997-04-03 | 2003-01-21 | Milliken & Company | Printing method using inter-pixel blending on an absorbent substrate |
US6343493B2 (en) | 2000-03-31 | 2002-02-05 | Milliken & Company | Alignment system for patterning device |
US6907634B2 (en) * | 2001-05-01 | 2005-06-21 | Milliken & Company | Patterning system using a limited number of process colors |
US8812968B2 (en) * | 2001-05-03 | 2014-08-19 | Milliken & Company | Systems and methods for displaying and manipulating images of floor covering elements |
US6538061B2 (en) * | 2001-05-16 | 2003-03-25 | General Electric Company | Cosmetic compositions using polyether siloxane copolymer network compositions |
US6656404B2 (en) * | 2001-05-17 | 2003-12-02 | Milliken & Company | Methods of making low-shrink polypropylene fibers |
US6541554B2 (en) * | 2001-05-17 | 2003-04-01 | Milliken & Company | Low-shrink polypropylene fibers |
US20030134118A1 (en) * | 2001-12-21 | 2003-07-17 | Morin Brian G. | Low-shrink polypropylene tape fibers |
US20030134082A1 (en) * | 2001-12-21 | 2003-07-17 | Morin Brian G. | Carpet comprising a low-shrink backing of polypropylene tape fibers |
US6998081B2 (en) * | 2001-12-21 | 2006-02-14 | Milliken & Company | Method of producing low-shrink polypropylene tape fibers |
DE10260447A1 (de) | 2002-01-08 | 2003-08-21 | Mitsumi Electric Co Ltd | Abschirmkasten für einen elektronischen Apparat |
DE10260459A1 (de) | 2002-01-08 | 2003-08-14 | Mitsumi Electric Co Ltd | Abschirmummantelung für elektronische Geräte |
US7072733B2 (en) * | 2002-01-22 | 2006-07-04 | Milliken & Company | Interactive system and method for design, customization and manufacture of decorative textile substrates |
US20040259750A1 (en) * | 2002-04-22 | 2004-12-23 | The Procter & Gamble Company | Processes and apparatuses for applying a benefit composition to one or more fabric articles during a fabric enhancement operation |
US7070846B2 (en) * | 2002-05-03 | 2006-07-04 | Milliken & Company | Carpet constructions, systems, and methods |
US6793309B2 (en) * | 2002-05-03 | 2004-09-21 | Milliken & Company | Fault tolerant superpixel constructions |
US20040084802A1 (en) * | 2002-11-02 | 2004-05-06 | Morin Brian G. | Method of producing low-shrink polypropylene tape fibers comprising high amounts of nucleating agents |
US6887567B2 (en) * | 2002-11-02 | 2005-05-03 | Milliken & Company | Low-shrink polypropylene tape fibers comprising high amounts of nucleating agents |
US6863976B2 (en) | 2002-11-16 | 2005-03-08 | Milliken & Company | Polypropylene monofilament and tape fibers exhibiting certain creep-strain characteristics and corresponding crystalline configurations |
US6759124B2 (en) | 2002-11-16 | 2004-07-06 | Milliken & Company | Thermoplastic monofilament fibers exhibiting low-shrink, high tenacity, and extremely high modulus levels |
US20040096639A1 (en) * | 2002-11-16 | 2004-05-20 | Morin Brian G. | Uniform production methods for colored and non-colored polypropylene fibers |
US20040152815A1 (en) * | 2002-11-17 | 2004-08-05 | Morin Brian G. | High speed spinning procedures for the manufacture of low denier polypropylene fibers and yarns |
US7041368B2 (en) * | 2002-11-17 | 2006-05-09 | Milliken & Company | High speed spinning procedures for the manufacture of high denier polypropylene fibers and yarns |
US20040096621A1 (en) * | 2002-11-17 | 2004-05-20 | Dai Weihua Sonya | High denier textured polypropylene fibers and yarns |
DE10300478A1 (de) * | 2003-01-09 | 2004-07-22 | Viktor Achter Gmbh & Co Kg | Bedrucktes Kunstwildleder und ein Herstellungsverfahren hierfür |
CN100365194C (zh) * | 2003-01-13 | 2008-01-30 | 美利肯公司 | 化学剂在织物图案染色中的选择性应用 |
US6849330B1 (en) | 2003-08-30 | 2005-02-01 | Milliken & Company | Thermoplastic fibers exhibiting durable high color strength characteristics |
US20050048281A1 (en) * | 2003-08-30 | 2005-03-03 | Royer Joseph R. | Thermoplastic fibers exhibiting durable high color strength characteristics |
US20050046065A1 (en) * | 2003-08-30 | 2005-03-03 | Cowan Martin E. | Thermoplastic fibers exhibiting durable high color strength characteristics |
DK1789618T3 (da) * | 2004-01-30 | 2013-07-15 | Milliken & Co | Digitalt styresystem |
US9332870B1 (en) | 2008-02-01 | 2016-05-10 | Mohawk Carpet Distribution, Inc. | Double image overprint carpet components and methods of making same |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5027347B1 (ja) * | 1970-05-11 | 1975-09-06 | ||
US3836858A (en) * | 1971-06-30 | 1974-09-17 | Nippon Denso Co | Pulse width setting apparatus |
US3824378A (en) * | 1972-09-13 | 1974-07-16 | Presin Co Inc | Electronic counter |
US3894413A (en) * | 1974-01-03 | 1975-07-15 | Deering Milliken Res Corp | Dyeing and printing of materials |
US4033154A (en) * | 1974-06-07 | 1977-07-05 | Deering Milliken Research Corporation | Electronic control system for dyeing and printing materials |
US4170883A (en) * | 1976-05-17 | 1979-10-16 | Milliken Research Corporation | Printing of pattern designs with computer controlled pattern dyeing device |
US4116626A (en) * | 1976-05-17 | 1978-09-26 | Milliken Research Corporation | Printing of pattern designs with computer controlled pattern dyeing device |
US4545086A (en) * | 1976-05-17 | 1985-10-08 | Milliken Research Corporation | Pattern designs printed with computer controlled pattern dyeing device |
AU533711B2 (en) * | 1979-01-24 | 1983-12-08 | Godfrey Hirst Australia Pty. Ltd. | Synchronization of dye applications |
GB2153617A (en) * | 1983-04-19 | 1985-08-21 | Paul Fuller | Enlarging multicolour printing apparatus |
US4608706A (en) * | 1983-07-11 | 1986-08-26 | International Business Machines Corporation | High-speed programmable timing generator |
US4636967A (en) * | 1983-10-24 | 1987-01-13 | Honeywell Inc. | Monitor circuit |
US4998224A (en) * | 1984-10-01 | 1991-03-05 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | System for providing improved reverberation limited sonar performance |
US4578965A (en) * | 1985-01-18 | 1986-04-01 | Armstrong World Industries, Inc. | Automatic pattern registration with oscillating structure |
US4712224A (en) * | 1986-10-09 | 1987-12-08 | Rockwell International Corporation | Offset digitally controlled oscillator |
JPS63123218A (ja) * | 1986-11-12 | 1988-05-27 | Nec Corp | タイマ/カウンタ回路 |
-
1989
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