JP2974488B2 - レジスト塗布装置 - Google Patents
レジスト塗布装置Info
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- JP2974488B2 JP2974488B2 JP4047039A JP4703992A JP2974488B2 JP 2974488 B2 JP2974488 B2 JP 2974488B2 JP 4047039 A JP4047039 A JP 4047039A JP 4703992 A JP4703992 A JP 4703992A JP 2974488 B2 JP2974488 B2 JP 2974488B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路装置の
製造プロセスにおける半導体基板上にフォトレジストを
滴下する機構を備えたレジスト塗布装置に関するもので
ある。
製造プロセスにおける半導体基板上にフォトレジストを
滴下する機構を備えたレジスト塗布装置に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体集積回路装置の微細化は、
その進歩が著しく加工寸法は、ハーフミクロンからクオ
ータミクロンレベルが要求されている。このような微細
加工寸法のパターンを、フォトリソグラフィ技術によっ
て製造する場合には、幾つかの問題を克服する必要があ
る。例えば、半導体基板上にフォトレジストを滴下し、
露光、現像をおこなう工程においては、前記半導体基板
上にフォトレジストが、常に適量滴下されるよう、様々
な工夫を要す。
その進歩が著しく加工寸法は、ハーフミクロンからクオ
ータミクロンレベルが要求されている。このような微細
加工寸法のパターンを、フォトリソグラフィ技術によっ
て製造する場合には、幾つかの問題を克服する必要があ
る。例えば、半導体基板上にフォトレジストを滴下し、
露光、現像をおこなう工程においては、前記半導体基板
上にフォトレジストが、常に適量滴下されるよう、様々
な工夫を要す。
【０００３】また、微量なパーティクルでも致命的な欠
陥を誘起する半導体装置の製造工程では、作業空間の清
浄度は勿論、フォトレジスト貯蔵タンクに混入したゴ
ミ、該タンクから滴下ノズルに至る配管中のゴミおよび
フォトレジストの塊りを除去する必要にせまられる。
陥を誘起する半導体装置の製造工程では、作業空間の清
浄度は勿論、フォトレジスト貯蔵タンクに混入したゴ
ミ、該タンクから滴下ノズルに至る配管中のゴミおよび
フォトレジストの塊りを除去する必要にせまられる。
【０００４】かかる問題を解決する公知の方法に、特開
昭６３−３６８６９号公報や特開昭６４−６４２１８号
公報がある。前者は、滴下ノズル直前とフォトレジスト
貯蔵タンク直後にそれぞれフィルタを設けた例であり、
後者は、サックバック装置の付加によりフォトレジスト
のぼた落ちを防いだ例である。また、これら両者を備え
たものに、特開昭６１−２９４８２２号公報や特開昭６
２−６１６６８号公報がある。これらの例は、サックバ
ック装置とフィルタの付加によりフォトレジストのぼた
落ちを防ぎ且つ、配管中のゴミやゲル化したフォトレジ
スト塊りを除去しようとした試みである。
昭６３−３６８６９号公報や特開昭６４−６４２１８号
公報がある。前者は、滴下ノズル直前とフォトレジスト
貯蔵タンク直後にそれぞれフィルタを設けた例であり、
後者は、サックバック装置の付加によりフォトレジスト
のぼた落ちを防いだ例である。また、これら両者を備え
たものに、特開昭６１−２９４８２２号公報や特開昭６
２−６１６６８号公報がある。これらの例は、サックバ
ック装置とフィルタの付加によりフォトレジストのぼた
落ちを防ぎ且つ、配管中のゴミやゲル化したフォトレジ
スト塊りを除去しようとした試みである。
【０００５】かかる従来の装置は、図３に示すように、
フィルタ３０とサックバック機構３１間およびサックバ
ック機構３１と滴下ノズル３２間等を継手３３により結
合することが一般的である。特にフィルタ３０は、目詰
りによる定期交換を要すため図４に示した継手３３で結
合される。
フィルタ３０とサックバック機構３１間およびサックバ
ック機構３１と滴下ノズル３２間等を継手３３により結
合することが一般的である。特にフィルタ３０は、目詰
りによる定期交換を要すため図４に示した継手３３で結
合される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この継
手３３は、図４に示すように雄ネジをもつ本体３３ａに
雌ネジをもつ本体３３ｂを締付けることにより、テフロ
ンからなる配管３４を結合するものであるが、該配管３
４の終端３４ａが直角でカットされていない場合、結合
部に僅かな隙間３５が生じ、この隙間３５でレジストの
滞留が発生し、レジストの塊りができる。また、ネジの
締付け過ぎにより配管３４と継手３３間の隙間３６を介
して外部から大気やゴミの侵入を許し、レジストのゲル
化や汚染を促進させるという問題に遭遇する。
手３３は、図４に示すように雄ネジをもつ本体３３ａに
雌ネジをもつ本体３３ｂを締付けることにより、テフロ
ンからなる配管３４を結合するものであるが、該配管３
４の終端３４ａが直角でカットされていない場合、結合
部に僅かな隙間３５が生じ、この隙間３５でレジストの
滞留が発生し、レジストの塊りができる。また、ネジの
締付け過ぎにより配管３４と継手３３間の隙間３６を介
して外部から大気やゴミの侵入を許し、レジストのゲル
化や汚染を促進させるという問題に遭遇する。
【０００７】本発明は、以上述べた問題点を解決しレジ
ストの滞留によるゲル化や外部から大気やゴミの侵入を
防止したレジスト塗布装置を提供することを目的とす
る。
ストの滞留によるゲル化や外部から大気やゴミの侵入を
防止したレジスト塗布装置を提供することを目的とす
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、レジスト貯蔵タンクからフィルタ、サッ
クバック機構、滴下ノズルまでのレジスト供給経路をフ
ィルタ、サックバック機構、滴下ノズルの順で配管し、
前記フィルタを内蔵するカバー、前記サックバック機構
のベローズおよび前記滴下ノズルをテフロンで一体成形
したレジスト塗布装置である。
成するために、レジスト貯蔵タンクからフィルタ、サッ
クバック機構、滴下ノズルまでのレジスト供給経路をフ
ィルタ、サックバック機構、滴下ノズルの順で配管し、
前記フィルタを内蔵するカバー、前記サックバック機構
のベローズおよび前記滴下ノズルをテフロンで一体成形
したレジスト塗布装置である。
【０００９】
【作用】本発明によれば、フィルタから滴下ノズルまで
の間にレジストが滞留する箇所がなく且つ、結合部もな
いので大気の侵入もない。従って、ゲル化やこのゲル化
を助長し、促進させる要素もない。更に、サックバック
機構は、フィルタがサックバック機構より後方にあるの
で、フィルタの目詰まりによる負荷や、負荷の変動要素
を考慮する必要もないので、滴下ノズルの先端部からレ
ジストを安定して後退させることができる為、後退不足
によるノズル先端部でのレジストのぼた落ちも防ぐこと
ができる。
の間にレジストが滞留する箇所がなく且つ、結合部もな
いので大気の侵入もない。従って、ゲル化やこのゲル化
を助長し、促進させる要素もない。更に、サックバック
機構は、フィルタがサックバック機構より後方にあるの
で、フィルタの目詰まりによる負荷や、負荷の変動要素
を考慮する必要もないので、滴下ノズルの先端部からレ
ジストを安定して後退させることができる為、後退不足
によるノズル先端部でのレジストのぼた落ちも防ぐこと
ができる。
【００１０】
【実施例】本発明の好ましい一実施例のレジスト塗布装
置を、図面に従って以下に詳述する。図１は、本発明の
好ましい一実施例のレジスト塗布装置の概念図で、レジ
スト貯蔵タンク１の加圧と同期して、エアーシリンダ２
は、数回のストロークでベローズ３を伸縮させ、レジス
ト貯蔵タンク１からレジスト溶液を吸い上げて配管４内
をレジストで満たす。その後、前記レジスト貯蔵タンク
１の加圧は解かれ、前記エアーシリンダ２のストローク
で、レジスト滴下量が制御される。ベローズ３を経由す
る配管４にはバルブ５ａ、５ｂが設けられ、これらバル
ブ５ａ、５ｂには、逆流防止弁６ａ、６ｂが設けられ、
該逆流防止弁６ａ、６ｂを通過したレジスト溶液の逆流
を防止する。
置を、図面に従って以下に詳述する。図１は、本発明の
好ましい一実施例のレジスト塗布装置の概念図で、レジ
スト貯蔵タンク１の加圧と同期して、エアーシリンダ２
は、数回のストロークでベローズ３を伸縮させ、レジス
ト貯蔵タンク１からレジスト溶液を吸い上げて配管４内
をレジストで満たす。その後、前記レジスト貯蔵タンク
１の加圧は解かれ、前記エアーシリンダ２のストローク
で、レジスト滴下量が制御される。ベローズ３を経由す
る配管４にはバルブ５ａ、５ｂが設けられ、これらバル
ブ５ａ、５ｂには、逆流防止弁６ａ、６ｂが設けられ、
該逆流防止弁６ａ、６ｂを通過したレジスト溶液の逆流
を防止する。
【００１１】フィルタ７を内蔵するフィルタカバー８、
サックバック機構の一部をなすサックバック・ベローズ
９および滴下ノズル１０とこれらを連結するテフロンの
ユニット１１は、図２に拡大断面を示した。このテフロ
ンのユニット１１の詳細は後述する。フィルタ７は、言
うまでもなく配管４内のレジスト溶液に混入したゴミや
ゲル化したレジストを捕獲する。従って一定期間経過
後、継手１２を緩めることにより、前記テフロンのユニ
ット１１は、レジスト貯蔵タンク１に連なる経路から切
り放される。
サックバック機構の一部をなすサックバック・ベローズ
９および滴下ノズル１０とこれらを連結するテフロンの
ユニット１１は、図２に拡大断面を示した。このテフロ
ンのユニット１１の詳細は後述する。フィルタ７は、言
うまでもなく配管４内のレジスト溶液に混入したゴミや
ゲル化したレジストを捕獲する。従って一定期間経過
後、継手１２を緩めることにより、前記テフロンのユニ
ット１１は、レジスト貯蔵タンク１に連なる経路から切
り放される。
【００１２】サックバック機構１３は、前記サックバッ
ク・ベローズ９の他にエアーシリンダ１４と、ストッパ
１５ａ、１５ｂと、シリンダ１４のストロークに同期し
て収縮した前記ベローズ９を伸ばす伸長体１６とから構
成される。前記エアーシリンダ１４が矢印の方向に作動
すると、前記サックバック・ベローズ９が僅か伸長して
滴下ノズル１０の先端のレジスト溶液は後退し、滴下ノ
ズル１０からのレジスト溶液のぼた落ちを防ぐ。
ク・ベローズ９の他にエアーシリンダ１４と、ストッパ
１５ａ、１５ｂと、シリンダ１４のストロークに同期し
て収縮した前記ベローズ９を伸ばす伸長体１６とから構
成される。前記エアーシリンダ１４が矢印の方向に作動
すると、前記サックバック・ベローズ９が僅か伸長して
滴下ノズル１０の先端のレジスト溶液は後退し、滴下ノ
ズル１０からのレジスト溶液のぼた落ちを防ぐ。
【００１３】図２は、図１で示したテフロンのユニット
１１の拡大断面図である。１ｍｍ乃至１．５ｍｍの肉厚
のテフロン材からなるこのユニット１１は、フィルタカ
バー８、サックバック・ベローズ９、滴下ノズル１０、
及びチューブ１７ａ、１７ｂが一体形成されている。前
記ユニット１１は、次の様な２つのやり方で作成した。
１つ目の作り方は、全体を真半分にして、前記フィルタ
カバー８内にフィルタ７を収納した後、両者を溶着し
た。
１１の拡大断面図である。１ｍｍ乃至１．５ｍｍの肉厚
のテフロン材からなるこのユニット１１は、フィルタカ
バー８、サックバック・ベローズ９、滴下ノズル１０、
及びチューブ１７ａ、１７ｂが一体形成されている。前
記ユニット１１は、次の様な２つのやり方で作成した。
１つ目の作り方は、全体を真半分にして、前記フィルタ
カバー８内にフィルタ７を収納した後、両者を溶着し
た。
【００１４】もう１つの作り方は、前記フィルタカバー
８と前記サックバック・ベローズ９を割型で作成し、前
記滴下ノズル１０側のチューブ１７ａと、前記フィルタ
カバー８及び前記サックバック・ベローズ９側のチュー
ブ１７ｂとを別々に作成し、前記フィルタカバー８内に
フィルタ７を収納した後、チューブ１７ａ、１７ｂをそ
れぞれ溶着した。テフロン材で一体成形した前記ユニッ
ト１１は、サックバック機構に以下の様にして取り付け
る。エアーシリンダ１４の伸長体１６には、チューブ１
７ａ、１７ｂの外径寸法よりやや大きい鍵型の取り付け
穴が設けられ、サックバック・ベローズ９と共にチュー
ブ１７ａ、１７ｂを前記鍵穴に取り付ける。
８と前記サックバック・ベローズ９を割型で作成し、前
記滴下ノズル１０側のチューブ１７ａと、前記フィルタ
カバー８及び前記サックバック・ベローズ９側のチュー
ブ１７ｂとを別々に作成し、前記フィルタカバー８内に
フィルタ７を収納した後、チューブ１７ａ、１７ｂをそ
れぞれ溶着した。テフロン材で一体成形した前記ユニッ
ト１１は、サックバック機構に以下の様にして取り付け
る。エアーシリンダ１４の伸長体１６には、チューブ１
７ａ、１７ｂの外径寸法よりやや大きい鍵型の取り付け
穴が設けられ、サックバック・ベローズ９と共にチュー
ブ１７ａ、１７ｂを前記鍵穴に取り付ける。
【００１５】そして、ストッパ１５ａ、１５ｂを前記伸
長体１６をサックバック・ベローズ９とで挟むようにし
て、チューブ１７ａ、１７ｂに固定する。また、前記フ
ィルタカバー８のレジスト貯蔵タンク１側の雄ネジ部１
８は、継手１２で、レジスト貯蔵タンク１側の配管４と
接続される。
長体１６をサックバック・ベローズ９とで挟むようにし
て、チューブ１７ａ、１７ｂに固定する。また、前記フ
ィルタカバー８のレジスト貯蔵タンク１側の雄ネジ部１
８は、継手１２で、レジスト貯蔵タンク１側の配管４と
接続される。
【００１６】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように本発明によ
れば、フィルタから滴下ノズルまでの間にレジストが滞
留する箇所がなく且つ、結合部もないので大気の侵入も
ない。従って、ゲル化やこのゲル化を助長し、促進させ
る要素もない。更に、サックバック機構は、フィルタが
サックバック機構より後方にあるので、フィルタの目詰
まりによる負荷や、負荷の変動要素を考慮する必要もな
いので、滴下ノズルの先端部からレジストを安定して後
退させることができる為、後退不足によるノズル先端部
でのレジストのぼた落ちも防ぐことができる。
れば、フィルタから滴下ノズルまでの間にレジストが滞
留する箇所がなく且つ、結合部もないので大気の侵入も
ない。従って、ゲル化やこのゲル化を助長し、促進させ
る要素もない。更に、サックバック機構は、フィルタが
サックバック機構より後方にあるので、フィルタの目詰
まりによる負荷や、負荷の変動要素を考慮する必要もな
いので、滴下ノズルの先端部からレジストを安定して後
退させることができる為、後退不足によるノズル先端部
でのレジストのぼた落ちも防ぐことができる。
【図１】本発明の好ましい一実施例のレジスト塗布装置
の概念図。
の概念図。
【図２】図１におけるテフロンのユニットの拡大断面
図。
図。
【図３】従来のレジスト塗布装置の概念図。
【図４】一般的な継手の拡大断面図。
１ レジスト貯蔵タンク ２，１４ エアーシリンダ ３ ベローズ ４ 配管 ５ａ，５ｂ バルブ ６ａ，６ｂ 逆流防止弁 ７ フィルタ ８ フィルタカバー ９ サックバック・ベローズ １０ 滴下ノズル １１ テフロン・ユニット １２ 継手 １３ サックバック機構 １５ａ，１５ｂ ストッパ １６ 伸長体 １７ａ，１７ｂ チューブ １８ 雄ネジ部
Claims (1)
- 【請求項１】 レジスト貯蔵タンクからフィルタ、サッ
クバック機構、滴下ノズルまでのレジスト供給経路をフ
ィルタ、サックバック機構、滴下ノズルの順で配管し、
前記フィルタを内蔵するカバー、前記サックバック機構
のベローズおよび前記滴下ノズルをテフロンで一体成形
したことを特徴とするレジスト塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4047039A JP2974488B2 (ja) | 1992-03-04 | 1992-03-04 | レジスト塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4047039A JP2974488B2 (ja) | 1992-03-04 | 1992-03-04 | レジスト塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05251389A JPH05251389A (ja) | 1993-09-28 |
| JP2974488B2 true JP2974488B2 (ja) | 1999-11-10 |
Family
ID=12764025
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4047039A Expired - Fee Related JP2974488B2 (ja) | 1992-03-04 | 1992-03-04 | レジスト塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2974488B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0634770U (ja) * | 1992-06-10 | 1994-05-10 | 株式会社シーテック | 液体供給装置用サックバック装置 |
| JP6420604B2 (ja) * | 2014-09-22 | 2018-11-07 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 塗布装置 |
| JP6743555B2 (ja) * | 2016-07-29 | 2020-08-19 | 大日本印刷株式会社 | 塗布システム |
| JP7021913B2 (ja) * | 2017-11-16 | 2022-02-17 | 株式会社ディスコ | 液体供給ユニット |
-
1992
- 1992-03-04 JP JP4047039A patent/JP2974488B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05251389A (ja) | 1993-09-28 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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