JP2965979B2 - Wiring substrate, array substrate of display device, liquid crystal display device provided with array substrate, and method of manufacturing wiring substrate and array substrate - Google Patents

Wiring substrate, array substrate of display device, liquid crystal display device provided with array substrate, and method of manufacturing wiring substrate and array substrate

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JP2965979B2
JP2965979B2 JP24977198A JP24977198A JP2965979B2 JP 2965979 B2 JP2965979 B2 JP 2965979B2 JP 24977198 A JP24977198 A JP 24977198A JP 24977198 A JP24977198 A JP 24977198A JP 2965979 B2 JP2965979 B2 JP 2965979B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、絶縁基板上に複
数の配線が設けられた配線基板、フラットディスプレイ
パネル等に用いられるアレイ基板、このアレイ基板を備
えた液晶表示装置、並びに配線基板およびアレイ基板の
製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wiring substrate having a plurality of wirings provided on an insulating substrate, an array substrate used for a flat display panel and the like, a liquid crystal display device provided with the array substrate, and a wiring substrate and an array. The present invention relates to a method for manufacturing a substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、小型、軽量、低消費電力を志向し
て、液晶表示装置に代表されるフラットパネルディスプ
レイの開発が進められている。液晶表示装置は、液晶層
を挟んで対向配置されたアレイ基板および対向基板を備
えている。アレイ基板は、絶緑基板上に複数本の信号線
および走査線をマトリクス状に配線し、信号線および走
査線で囲まれる各領域に設けられた画素電極をスイッチ
ング素子を介して信号線と走査線との交点部に接続する
ことにより構成されている。また、対向基板は、絶縁基
板上に透明電極材料から成る対向電極を設けて構成され
ている。
2. Description of the Related Art In recent years, flat panel displays represented by liquid crystal display devices have been developed with a view to miniaturization, light weight, and low power consumption. The liquid crystal display device includes an array substrate and a counter substrate which are arranged to face each other with a liquid crystal layer interposed therebetween. In the array substrate, a plurality of signal lines and scanning lines are arranged in a matrix on a green substrate, and pixel electrodes provided in each area surrounded by the signal lines and scanning lines are scanned with the signal lines via switching elements. It is configured by connecting to the intersection with the line. The counter substrate is configured by providing a counter electrode made of a transparent electrode material on an insulating substrate.

【0003】アレイ基板上の信号線および走査線は、そ
れぞれ表示領域外に引き出され、アレイ基板の側縁部に
設けられた給電電極にそれぞれ接続されているととも
に、これらの給電電極を介して外部駆動回路等と電気的
に接続されている。
The signal lines and the scanning lines on the array substrate are respectively drawn out of the display area, are connected to the power supply electrodes provided on the side edges of the array substrate, and are externally connected via these power supply electrodes. It is electrically connected to a drive circuit and the like.

【0004】このような液晶表示装置においては、近
年、外形寸法に対して大きな表示領域を確保するため、
狭額縁化、即ち、有効表示領域に対して周辺の保持枠を
小さくすることが要求されている。また、一層のコスト
ダウンも求められ、製品歩留りの更なる向上が必要とな
っている。
In such a liquid crystal display device, recently, in order to secure a large display area with respect to the external dimensions,
There is a demand for a narrower frame, that is, a smaller holding frame around the effective display area. Further, further cost reduction is required, and further improvement in product yield is required.

【0005】しかしながら、液晶表示装置の狭額縁化を
すすめると、表示領域から引き出される配線の設置領域
が狭くなるため、配線幅、配線間を狭くしなければなら
ず、その結果、配線オープン、配線間ショートなどの不
良が生じ易くなる。
However, when the frame of the liquid crystal display device is narrowed, the installation area of the wiring drawn out from the display area becomes narrow, so that the wiring width and the distance between the wirings must be narrowed. Failures such as short-circuits are likely to occur.

【0006】そこで、近年、配線オープンに対する信頼
性向上を図るために、例えば、信号線の内、表示領域か
ら外側に引き出された部分を2層配線構造とした液晶表
示装置が提供されている。すなわち、信号線の引き出し
部分は、絶縁層を介して積層形成された第1配線と第2
配線とによって構成されている。そして、第1および第
2配線の表示領域側の端部同志、および給電電極側の端
部同志は、それぞれスルーホールを介して互いに導通し
ている。このような2層配線構造とした場合、第1およ
び第2配線のいずれか一方が断線した場合でも信号線の
接続状態を維持することができ、信頼性の向上を図るこ
とができる。
Therefore, in recent years, in order to improve the reliability with respect to open wiring, for example, a liquid crystal display device having a two-layer wiring structure in which a portion of a signal line extending outward from a display area is provided. That is, the lead portion of the signal line is connected to the first wiring and the second wiring, which are formed by lamination via the insulating layer.
And wiring. The end portions of the first and second wirings on the display region side and the end portions of the power supply electrode side are electrically connected to each other via through holes. With such a two-layer wiring structure, the connection state of the signal lines can be maintained even when one of the first and second wirings is broken, and reliability can be improved.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような2層配線構造とした場合、配線オープンに対する
信頼性が向上する反面、配線数が2倍になることから配
線間ショートの発生確率も2倍となってしまう。特に、
液晶表示装置の狭額縁化を進めた場合、配線引き出し部
の設置スペースが狭くなり、配線間ショートが一層起こ
り易くなる。
However, in the case of a two-layer wiring structure as described above, the reliability of open wiring is improved, but the number of wirings is doubled and the probability of occurrence of short circuit between wirings is also increased. It will be doubled. Especially,
When the frame of the liquid crystal display device is made narrower, the installation space for the wiring lead-out portion becomes narrower, and a short circuit between the wirings is more likely to occur.

【0008】また、配線間ショートが生じた場合には、
ショート位置の検出、およびショート配線の切断が困難
であり、液晶表示装置製造の自動化を妨げる要因となっ
ている。
When a short circuit occurs between wirings,
It is difficult to detect the short-circuit position and to cut the short-circuit wiring, which is a factor that hinders automation of liquid crystal display device manufacturing.

【0009】この発明は、以上の点に鑑みなされたもの
で、その目的は、高品質、高歩留り、低コスト化を実現
可能な配線基板、表示装置のアレイ基板、アレイ基板を
備えた液晶表示装置、並びに配線基板およびアレイ基板
の製造方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above points, and has as its object to provide a wiring substrate, an array substrate of a display device, and a liquid crystal display having an array substrate which can realize high quality, high yield, and low cost. It is an object of the present invention to provide an apparatus and a method for manufacturing a wiring substrate and an array substrate.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明に係る配線基板は、絶縁基板と、上記絶縁
基板上に設けられた複数の配線と、を備え、上記配線の
各々は、絶縁膜を介して積層された第1配線および第2
配線で形成されているとともに、少なくとも2カ所で上
記第1配線と第2配線とを互いに電気的に導通した少な
くとも2つの導通部と、上記導通部間に設けられ、上記
第1配線と第2配線とが上記絶縁基板の面方向にずれて
位置した少なくとも2つのリペア領域と、を備えている
ことを特徴としている。
In order to achieve the above object, a wiring board according to the present invention comprises an insulating substrate and a plurality of wirings provided on the insulating substrate, each of the wirings being: A first wiring and a second wiring stacked via an insulating film;
At least two conductive portions electrically connected between the first wiring and the second wiring at at least two places, and provided between the conductive portions; and the first wiring and the second And a wiring having at least two repair regions which are shifted from each other in a surface direction of the insulating substrate.

【0011】また、この発明に係る表示装置のアレイ基
板は、絶縁基板と、上記絶縁基板上に設けられた複数の
配線と、上記絶縁基板上に設けられ表示領域を形成して
いるとともに、それぞれスイッチング素子を介して上記
配線に電気的に接続された複数の画素電極と、を備え、
上記配線は、上記表示領域の外方に延出した引き出し配
線部をそれぞれ有し、上記各引き出し配線部は、絶縁膜
を介して積層された第1配線および第2配線を有する2
層構造に形成されているとともに、少なくとも2カ所で
上記第1配線と第2配線とを互いに電気的に導通した少
なくとも2つの導通部と、上記導通部間に設けられ、上
記第1配線と第2配線とが上記絶縁基板の面方向にずれ
て位置した少なくとも2つの非重複部と、を備えている
ことを特徴としている。
An array substrate of a display device according to the present invention includes an insulating substrate, a plurality of wirings provided on the insulating substrate, and a display region provided on the insulating substrate. A plurality of pixel electrodes electrically connected to the wiring via a switching element,
Each of the wirings has a lead wiring portion extending outside the display area, and each of the lead wiring portions has a first wiring and a second wiring stacked via an insulating film.
At least two conductive portions that are formed in a layered structure and electrically connect the first wiring and the second wiring to each other at at least two places, and are provided between the conductive portions; The two wirings are provided with at least two non-overlapping portions that are shifted in the surface direction of the insulating substrate.

【0012】この発明に係る液晶表示装置は、第1絶縁
基板と、上記第1絶縁基板上に設けられた複数の配線
と、上記第1絶縁基板上に設けられ表示領域を形成して
いるとともに、それぞれスイッチング素子を介して上記
配線に電気的に接続された複数の画素電極と、を有する
アレイ基板と、上記アレイ基板に対向配置された第2絶
縁基板と、上記第2絶縁基板上に設けられ上記画素電極
と対向した対向電極と、を有する対向基板と、上記アレ
イ基板と対向基板との間に設けられた液晶組成物と、を
備え、上記アレイ基板の配線は、上記表示領域の外方に
延出した引き出し配線部をそれぞれ有し、上記各引き出
し配線部は、絶縁膜を介して積層された第1配線および
第2配線を有する2層構造に形成されているとともに、
少なくとも2カ所で上記第1配線と第2配線とを互いに
電気的に導通した少なくとも2つの導通部と、上記導通
部間に設けられ、上記第1配線と第2配線とが上記絶縁
基板の面方向にずれて位置した少なくとも2つの非重複
部と、を備えていることを特徴としている。
A liquid crystal display device according to the present invention has a first insulating substrate, a plurality of wirings provided on the first insulating substrate, and a display region provided on the first insulating substrate. An array substrate having a plurality of pixel electrodes each electrically connected to the wiring via a switching element, a second insulating substrate opposed to the array substrate, and provided on the second insulating substrate. A counter electrode having a counter electrode facing the pixel electrode, and a liquid crystal composition provided between the array substrate and the counter substrate. The wiring of the array substrate is provided outside the display region. And each of the lead-out wiring portions is formed in a two-layer structure having a first wiring and a second wiring stacked via an insulating film.
At least two conductive portions that electrically connect the first wiring and the second wiring to each other at at least two places, and are provided between the conductive portions, and the first wiring and the second wiring are provided on a surface of the insulating substrate. And at least two non-overlapping portions that are shifted in the direction.

【0013】上記構成の配線基板、アレイ基板および液
晶表示装置によれば、配線あるいは引き出し配線部を2
層構造とすることにより、第1および第2配線の一方が
断線した場合でも接続状態を維持することができ、断線
に対する信頼性が向上する。また、各配線にリペア領
域、あるいは、各引き出し配線部に非重複部を設けるこ
とにより、配線間でショート不良が発生した際、このリ
ペア領域あるいは非重複部で第1あるいは第2配線を容
易に切断することが可能となる。
According to the wiring substrate, the array substrate, and the liquid crystal display device having the above-described structures, the wiring or the lead-out wiring portion is provided with two
With the layered structure, the connection state can be maintained even when one of the first and second wirings is disconnected, and the reliability for the disconnection is improved. Also, by providing a repair region in each wiring or a non-overlapping portion in each lead-out wiring portion, when a short-circuit failure occurs between the wirings, the first or second wiring can be easily formed in the repair region or the non-overlapping portion. It becomes possible to cut.

【0014】更に、この発明に係る表示装置のアレイ基
板を製造する方法は、上記引き出し配線部間のショート
不良を検出し、ショート不良が検出された際、上記ショ
ート不良が検出された引き出し配線部の上記非重複部
で、第1配線および第2配線のいずれか一方を切断する
工程を備えたことを特徴としている。
Further, according to a method of manufacturing an array substrate of a display device according to the present invention, a short-circuit defect between the lead-out wiring portions is detected, and when the short-circuit defect is detected, the draw-out wiring portion in which the short-circuit defect is detected. A step of cutting either one of the first wiring and the second wiring at the non-overlapping portion.

【0015】上記切断工程において、ショート不良が検
出された隣合う2本の引き出し配線部の一方は、上記非
重複部の位置で第1配線を切断し、他方の引き出し配線
部は、上記非重複部の位置で第2配線を切断する。ま
た、上記切断工程においては、レーザ照射によって切断
を行う。
In the cutting step, one of the two adjacent lead-out wiring portions where a short-circuit defect is detected cuts the first wiring at the position of the non-overlapping portion, and the other lead-out wiring portion is connected to the non-overlapping portion. The second wiring is cut at the position of the part. In the cutting step, cutting is performed by laser irradiation.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら、この
発明の実施の形態に係るアクティブマトリクス型の液晶
表示装置について詳細に説明する。図1に示すように、
液晶表示装置は、液晶パネル10、液晶パネルを駆動す
るための信号線駆動回路基板12、走査線駆動回路基板
14、各駆動回路基板と液晶パネルとを電気的に接続し
た複数のテープキャリアパッケージ(TCPと称する)
16を備えている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an active matrix type liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. As shown in FIG.
The liquid crystal display device includes a liquid crystal panel 10, a signal line driving circuit board 12 for driving the liquid crystal panel, a scanning line driving circuit board 14, and a plurality of tape carrier packages (electrically connecting each driving circuit board and the liquid crystal panel). (Referred to as TCP)
16 is provided.

【0017】図1および図2に示すように、液晶パネル
10はアレイ基板18および対向基板20を備え、これ
ら基板は、周縁部を後述するシール剤によって貼り合わ
せることにより、所定のギャップをおいて対向配置され
ている。そして、アレイ基板18と対向基板20との間
には、それぞれ配向膜23、24を介して、液晶組成物
26が封入されている。この発明における配線基板とし
て機能するアレイ基板18および対向基板20の外表面
には、それぞれ偏光板28、30が配置されている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the liquid crystal panel 10 includes an array substrate 18 and a counter substrate 20, and these substrates are attached at a predetermined gap by bonding their peripheral portions with a sealant described later. They are arranged facing each other. A liquid crystal composition 26 is sealed between the array substrate 18 and the counter substrate 20 via the alignment films 23 and 24, respectively. Polarizing plates 28 and 30 are disposed on the outer surfaces of the array substrate 18 and the opposing substrate 20 functioning as a wiring substrate in the present invention, respectively.

【0018】図2および図3に示すように、アレイ基板
18は第1絶縁基板として機能する0.7mm厚のガラ
ス基板31を有し、このガラス基板上には、配線として
800×3本の信号線32と600本の走査線34とが
互いに直交してマトリクス状に設けられている。信号線
32と走査線34とで囲まれる領域には、それぞれIT
Oからなる画素電極36が設けられ、各画素電極は、ス
イッチング素子としての薄膜トランジスタ(以下TFT
と称する)38を介して、信号線32と走査線34との
交差部に接続されている。
As shown in FIGS. 2 and 3, the array substrate 18 has a 0.7 mm-thick glass substrate 31 functioning as a first insulating substrate, and 800 × 3 lines are formed on this glass substrate as wiring. The signal lines 32 and the 600 scanning lines 34 are provided in a matrix at right angles to each other. The area surrounded by the signal line 32 and the scanning line 34 has an IT
A pixel electrode 36 made of O is provided, and each pixel electrode is a thin film transistor (hereinafter referred to as a TFT) as a switching element.
) Is connected to the intersection of the signal line 32 and the scanning line 34.

【0019】そして、多数の画素電極36によりほぼ矩
形状の表示領域40が規定されている。また、ガラス基
板31上には、例えば、紫外線硬化樹脂等からなるシー
ル剤を塗布する矩形枠状のシール剤塗布領域42が表示
領域40を囲むように設けられている。
A substantially rectangular display area 40 is defined by a number of pixel electrodes 36. On the glass substrate 31, for example, a rectangular frame-shaped sealant application region 42 for applying a sealant made of an ultraviolet curable resin or the like is provided so as to surround the display region 40.

【0020】各走査線34は、例えば、モリブデン−タ
ングステン(Mo−W)合金等の低抵抗金属材料により
形成されている。そして、各走査線34は、ガラス基板
31の対向する2つの短辺31a、31b間に延在して
いる。走査線34の一方の端部は、シール剤塗布領域4
2を越えて一方の短辺31bまで引き出され、ガラス基
板31上の走査線接続パッド47に導通した引き出し配
線部48を構成している。そして、走査線接続パッド4
7は、TCP16を介して走査線駆動回路基板14に接
続されている。
Each scanning line 34 is formed of a low-resistance metal material such as a molybdenum-tungsten (Mo-W) alloy, for example. Each scanning line 34 extends between two opposing short sides 31 a and 31 b of the glass substrate 31. One end of the scanning line 34 is in the sealant application region 4
2 and is drawn out to one short side 31b to form a lead-out wiring portion 48 that is electrically connected to the scanning line connection pad 47 on the glass substrate 31. And the scanning line connection pad 4
7 is connected to the scanning line driving circuit board 14 via the TCP 16.

【0021】また、信号線32は、窒化膜からなるゲー
ト絶縁膜43を介して、走査線34上に走査線と略直交
して配置されている。この信号線32は、例えば、アル
ミニウム(Al)合金等の低抵抗金属により形成されて
いる。各信号線32は、ガラス基板31の対向する2つ
の長辺31c、31d間に延在している。
The signal lines 32 are arranged on the scanning lines 34 via a gate insulating film 43 made of a nitride film so as to be substantially orthogonal to the scanning lines. The signal line 32 is formed of, for example, a low-resistance metal such as an aluminum (Al) alloy. Each signal line 32 extends between two opposing long sides 31 c and 31 d of the glass substrate 31.

【0022】そして、各信号線32の一方の端部は、シ
ール剤塗布領域42を越えて一方の長辺31dまで引き
出され、ガラス基板31上の信号線接続パッド44に導
通した引き出し配線部46を構成している。そして、信
号線接続パッド44は、TCP16を介して信号線駆動
回路基板12に接続されている。
Then, one end of each signal line 32 is drawn out to one long side 31 d beyond the sealant application area 42, and is connected to a lead-out wiring section 46 which is electrically connected to the signal line connection pad 44 on the glass substrate 31. Is composed. The signal line connection pad 44 is connected to the signal line drive circuit board 12 via the TCP 16.

【0023】図2から良く分かるように、各TFT38
は、走査線34自体をゲート電極50とし、ゲート電極
上にゲート絶縁膜43を介してa−Si:H膜からなる
半導体層52が形成されている。また、半導体層52上
には、走査線34に自己整合されて成るチャネル保護膜
53として窒化シリコンが配置されている。
As can be clearly understood from FIG.
The semiconductor layer 52 made of an a-Si: H film is formed on the gate electrode using the scanning line 34 itself as a gate electrode 50 with a gate insulating film 43 interposed therebetween. On the semiconductor layer 52, silicon nitride is disposed as a channel protective film 53 which is self-aligned with the scanning line.

【0024】そして、半導体層52は、ソース電極54
を介して画素電極36に電気的に接続されているととも
に、ドレイン電極55を介して信号線32に電気的に接
続されている。なお、半導体層52としては、ポリシリ
コン(p−Si)や化合物半導体等を用いることもでき
る。
The semiconductor layer 52 has a source electrode 54
And is electrically connected to the signal line 32 via the drain electrode 55. Note that the semiconductor layer 52 may be made of polysilicon (p-Si), a compound semiconductor, or the like.

【0025】本実施の形態に係る液晶表示装置のアレイ
基板18によれば、各信号線32の引き出し配線部4
6、および各走査線34の引き出し配線部48は、2層
配線構造に形成されている。図5(a)、(b)、
(c)は、図4図の線A−A、B−B、C−Cにそれぞ
れ沿った断面図を示している。
According to the array substrate 18 of the liquid crystal display device according to the present embodiment, the lead wiring portion 4 of each signal line 32 is provided.
6 and the lead-out wiring portion 48 of each scanning line 34 are formed in a two-layer wiring structure. 5 (a), (b),
(C) is a cross-sectional view taken along lines AA, BB, and CC in FIG. 4.

【0026】すなわち、信号線32の引き出し配線部4
6について説明すると、図4および図5に示すように、
引き出し配線部46は、ガラス基板31上に形成された
Mo−W合金からなる第1配線46aと、ゲート絶縁層
43を介して第1配線46a上に重ねて形成されたAl
合金からなる第2配線46bと、で構成されている。
That is, the lead wiring portion 4 of the signal line 32
6 will be described. As shown in FIGS. 4 and 5,
The lead-out wiring part 46 is composed of a first wiring 46 a made of a Mo—W alloy formed on the glass substrate 31 and an Al formed on the first wiring 46 a with the gate insulating layer 43 interposed therebetween.
And a second wiring 46b made of an alloy.

【0027】第1および第2配線46a、46bは、シ
ール剤塗布領域42を間に挟んで表示領域40側と信号
線接続パッド44側との2箇所で、導通部としてのコン
タクトスルーホール64を介して互いに導通している。
The first and second wirings 46a and 46b have contact through holes 64 as conduction parts at two places on the display area 40 side and the signal line connection pad 44 side with the sealant application area 42 interposed therebetween. Through each other.

【0028】また、引き出し配線部46は、シール剤塗
布領域42を間に挟んで表示領域40側と信号線接続パ
ッド44側との2箇所で、かつ、2つのコンタクトスル
ーホール64間に位置した非重複部66を備えて構成さ
れている。リペア領域として機能する各非重複部66に
おいて、第1および第2配線46a、46bの一方、例
えば、第2配線46bは、第1配線46aに対して、ガ
ラス基板31の面方向にずれて位置した迂回経路部46
cを有している。
Further, the lead-out wiring portion 46 is located at two positions on the display region 40 side and the signal line connection pad 44 side with the sealant application region 42 interposed therebetween, and between the two contact through holes 64. It has a non-overlapping portion 66. In each non-overlapping portion 66 functioning as a repair region, one of the first and second wirings 46a and 46b, for example, the second wiring 46b is shifted from the first wiring 46a in the surface direction of the glass substrate 31. Detour route section 46
c.

【0029】上記構成のアレイ基板18のように、信号
線32の引き出し配線部46を2層配線構造とすること
により、製造工程中に付着したゴミ等によって第1配線
46aあるいは第2配線46bのいずれかが断線した場
合でも、他方の配線が接続状態に維持されているため、
断線不良となることはない。そのため、配線オープンに
対する信頼性の向上を図ることができる。
As in the case of the array substrate 18 having the above-described structure, the lead-out wiring portion 46 of the signal line 32 has a two-layer wiring structure, so that the first wiring 46a or the second wiring 46b may be Even if one of them breaks, the other wiring is maintained in a connected state,
There is no disconnection failure. Therefore, it is possible to improve the reliability with respect to the open wiring.

【0030】また、引き出し配線部46の配線間スペー
スは最小部で10〜20μm程度であり、表示領域40
内での配線間スペース50〜100μmと比較して非常
に狭くなっている。そのため、引き出し配線部46間で
ショートが生じる可能性も高くなる。
The space between the lead wiring portions 46 is about 10 to 20 μm at the minimum portion.
It is very narrow as compared with the inter-wiring space of 50 to 100 μm. Therefore, there is a high possibility that a short circuit occurs between the lead wiring portions 46.

【0031】そこで、図6(a)に示すように、例え
ば、信号線32の隣合う2本の引き出し配線部46で第
1配線46a同志のショートが生じた場合、いずれか一
方の引き出し配線部46の両非重複部66において、第
1配線46aのX、X’部分を、例えば、レーザ照射に
よって切断する。これにより、第1配線46a同志のシ
ョートを回避することができる。
Therefore, as shown in FIG. 6A, for example, when a short circuit occurs between the first wirings 46a in two adjacent lead-out wiring portions 46 of the signal line 32, one of the lead-out wiring portions 46 In the two non-overlapping portions 66, the X and X 'portions of the first wiring 46a are cut by, for example, laser irradiation. Thus, short circuit between the first wirings 46a can be avoided.

【0032】また、図6(b)に示すように、隣合う2
本の引き出し配線部46で第2配線46b同志のショー
トが生じた場合、いずれか一方の引き出し配線部46の
両非重複部66において、第2配線46bのY、Y’部
分を、例えば、レーザ照射によって切断する。これによ
り、第2配線46b同志のショートを回避することがで
きる。
Further, as shown in FIG.
When a short circuit occurs between the second wirings 46b in one of the lead wiring portions 46, the Y and Y 'portions of the second wiring 46b are connected to the non-overlapping portions 66 of one of the lead wiring portions 46 by, for example, a laser. Cut by irradiation. Thus, short circuit between the second wirings 46b can be avoided.

【0033】ここで、2層配線構造の場合、切断部分に
おいて一方の配線のみを切断することは困難であるが、
上記構成の引き出し配線部46によれば、第1および第
2配線46a、46bがガラス基板の面方向にずれて設
けられてた非重複部66を備えているため、この非重複
部にて、一方の配線のみを容易に切断することができ
る。
Here, in the case of the two-layer wiring structure, it is difficult to cut only one of the wirings at the cut portion.
According to the lead-out wiring portion 46 having the above configuration, since the first and second wirings 46a and 46b have the non-overlapping portions 66 which are provided so as to be shifted in the surface direction of the glass substrate, the non-overlapping portions are Only one wiring can be easily cut.

【0034】配線間ショートの検出は、アレイ基板製造
工程の最終段階において、信号線接続パッド44、およ
び走査線接続パッド47上に検査用プローブを接触さ
せ、電気的特性を測定することによって行う。この場
合、どの引き出し配線部間でショート不良が生じている
かは特定できるが、第1配線間のショート不良である
か、あるいは、第2配線間のショート不良であるかを判
別することは困難である。
The detection of the short circuit between the wirings is performed by bringing an inspection probe into contact with the signal line connection pad 44 and the scanning line connection pad 47 in the final stage of the array substrate manufacturing process, and measuring the electrical characteristics. In this case, it is possible to specify which of the lead-out wiring portions has a short-circuit failure, but it is difficult to determine whether the short-circuit failure is between the first wiring or the second wiring. is there.

【0035】しかしながら、引き出し配線部46間ショ
ートが検出された場合、上述した切断位置X、X′、お
よびY、Y′を同時に切断すれば、ショート不良が第1
配線46a同志の場合でも、第2配線46b同志の場合
でも引き出し配線部間のショートをリペアすることがで
き、かつ配線オープンなどの他の不良は生じない。そこ
で、本実施の形態によれば、検査工程でショート不良が
生じた引き出し配線部が特定された場合、図4に示すよ
うに、無条件で両引き出し配線部を切断位置X、X′、
およびY、Y′で切断する構成としている。
However, if a short circuit between the lead-out wiring portions 46 is detected, if the cutting positions X, X 'and Y, Y' described above are cut at the same time, the first short-circuit defect occurs.
In both the case of the wirings 46a and the case of the second wirings 46b, the short circuit between the lead-out wiring portions can be repaired, and other defects such as the opening of the wiring do not occur. Therefore, according to the present embodiment, when the lead-out wiring portion in which the short-circuit defect has occurred is specified in the inspection process, as shown in FIG. 4, both the lead-out wiring portions are unconditionally cut at the cutting positions X, X ',
And Y, Y '.

【0036】また、図4に示すように、切断工程におい
て、各配線の切断位置は、切断位置XとY、および切断
位置YとY′がそれぞれ隣接して位置するように、つま
り、間に他の配線が存在しないように、選択することが
望ましい。切断位置をこのように定めた場合、切断位置
XおよびX’を1回のレーザ照射によって連続的に切断
することができ、同様に、切断位置YおよびY’を1回
のレーザ照射によって連続的に切断することができる。
As shown in FIG. 4, in the cutting step, the cutting positions of the respective wirings are set such that the cutting positions X and Y and the cutting positions Y and Y 'are adjacent to each other. It is desirable to select such that no other wiring exists. When the cutting positions are determined in this manner, the cutting positions X and X ′ can be continuously cut by one laser irradiation, and similarly, the cutting positions Y and Y ′ can be continuously cut by one laser irradiation. Can be cut into

【0037】なお、走査線34の引き出し配線部48も
信号線32の引き出し配線部46と同様に構成され、引
き出し配線部48間でショートが生じた場合も、上記と
同様の工程でリペアされる。
Note that the lead-out wiring portion 48 of the scanning line 34 is also configured in the same manner as the lead-out wiring portion 46 of the signal line 32, and even if a short circuit occurs between the lead-out wiring portions 48, repair is performed in the same process as described above. .

【0038】一方、図2に示すように、対向基板20は
第2絶縁基板として機能する透明なガラス基板56を備
え、このガラス基板上には、クロム(Cr)の酸化膜か
らなる遮光層58が形成されている。遮光層58は、ア
レイ基板18上のTFT38、信号線32と画素電極3
6との間隙、および走査線34と画素電極36との間隙
をそれぞれを遮光するように、マトリクス状に形成され
ている。
On the other hand, as shown in FIG. 2, the counter substrate 20 includes a transparent glass substrate 56 functioning as a second insulating substrate, and a light shielding layer 58 made of a chromium (Cr) oxide film is provided on the glass substrate. Are formed. The light-shielding layer 58 includes the TFT 38 on the array substrate 18, the signal line 32 and the pixel electrode 3.
6 and the gap between the scanning line 34 and the pixel electrode 36 are formed in a matrix so as to shield the gap from each other.

【0039】また、ガラス基板56上において、アレイ
基板18側の画素電極36と対向する位置には、赤、
緑、青のカラーフィルタ層60が形成されている。そし
て、これら遮光層58、カラーフィルタ層60に重ね
て、ITOからなる透明な対向電極61、配向層24が
順に設けられている。
On the glass substrate 56, a red color is placed at a position facing the pixel electrode 36 on the array substrate 18 side.
Green and blue color filter layers 60 are formed. A transparent counter electrode 61 made of ITO and an alignment layer 24 are sequentially provided on the light-shielding layer 58 and the color filter layer 60.

【0040】そして、アレイ基板18の検査およびリペ
ア終了後、アレイ基板18のシール剤塗布領域42にシ
ール剤を塗布し、アレイ基板18および対向基板20の
周縁部同志を貼り合わせた後、これら基板間に液晶組成
物26を封入することにより液晶パネル10が製造され
る。
After the inspection and repair of the array substrate 18 are completed, a sealant is applied to the sealant application region 42 of the array substrate 18 and the peripheral portions of the array substrate 18 and the counter substrate 20 are bonded together. The liquid crystal panel 10 is manufactured by enclosing the liquid crystal composition 26 therebetween.

【0041】以上のように構成された液晶表示装置によ
れば、信号線32および走査線34の引き出し配線部4
6、48を2層配線構造とすることにより、断線不良の
発生率を低減し、配線オープンの信頼性を向上させるこ
とができる。また、各引き出し配線部は非重複領域66
を備えていることから、引き出し配線間でショートが生
じた場合でも容易にショート不良をリペアすることが可
能となる。
According to the liquid crystal display device configured as described above, the extraction wiring section 4 for the signal lines 32 and the scanning lines 34 is provided.
By forming the wirings 6 and 48 with a two-layer wiring structure, the rate of occurrence of disconnection failure can be reduced, and the reliability of wiring open can be improved. Further, each lead-out wiring portion is provided in the non-overlapping area 66.
Is provided, it is possible to easily repair a short-circuit failure even when a short-circuit occurs between the lead wirings.

【0042】更に、各引き出し配線部の非重複部66
は、シール剤塗布領域40の両側に位置し、シール剤塗
布領域上では2層配線構造となっている。そのため、シ
ール剤塗布領域40に例えば紫外線硬化型のシール剤を
塗布し、ガラス基板31側から引き出し配線部46、4
8を通して紫外線を照射する場合、引き出し配線部に基
因するシール剤の紫外線未照射領域の発生を低減し、シ
ール強度の低下、およびアレイ基板、対向基板の位置ず
れを回避することができる。
Further, the non-overlapping portion 66 of each lead-out wiring portion
Are located on both sides of the sealant application region 40 and have a two-layer wiring structure on the sealant application region. Therefore, for example, an ultraviolet-curing type sealing agent is applied to the sealing agent application region 40, and the lead wiring portions 46, 4.
In the case of irradiating ultraviolet rays through 8, the generation of the unirradiated area of the sealant due to the lead-out wiring portion can be reduced, and the reduction of the sealing strength and the displacement of the array substrate and the counter substrate can be avoided.

【0043】なお、この発明は上述した実施の形態に限
定されることなく、この発明の範囲内で種々変形可能で
ある。例えば、この発明に係る配線基板は、上述した液
晶表示装置のアレイ基板に限らず、絶縁基板上に多数の
配線が設けられたものであればよく、電子機器に使用さ
れるプリント配線基板等にも適用することができる。こ
の場合においても、絶縁基板上に設けられた配線を2層
構造とし、少なくとも2つの導通部と、少なくとも2つ
のリペア領域とを設けることにより、前述した実施の形
態と同様の作用効果を得ることができる。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, but can be variously modified within the scope of the present invention. For example, the wiring substrate according to the present invention is not limited to the array substrate of the liquid crystal display device described above, but may be any substrate provided with a large number of wirings on an insulating substrate, such as a printed wiring board used in electronic equipment. Can also be applied. Also in this case, by providing the wiring provided on the insulating substrate in a two-layer structure and providing at least two conductive portions and at least two repair regions, the same operation and effect as in the above-described embodiment can be obtained. Can be.

【0044】[0044]

【発明の効果】以上詳述したように、この発明によれ
ば、断線不良の発生を低減し、かつ、配線間のショート
不良を容易にリペアできる構造とすることにより、高品
質な配線基板、高品質な液晶表示装置を低コストおよび
高歩留りで製造可能なアレイ基板、アレイ基板を備えた
液晶表示装置、並びに、配線基板およびアレイ基板の製
造方法を提供することができる。
As described in detail above, according to the present invention, the occurrence of disconnection failure is reduced, and a short-circuit failure between wirings is easily repaired. An array substrate capable of manufacturing a high-quality liquid crystal display device at low cost and high yield, a liquid crystal display device including the array substrate, and a method of manufacturing a wiring substrate and an array substrate can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の実施の形態に係るアクティブマトリ
クス型の液晶表示装置を示す斜視図。
FIG. 1 is a perspective view showing an active matrix type liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

【図2】上記液晶表示装置における液晶パネルの断面
図。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a liquid crystal panel in the liquid crystal display device.

【図3】上記液晶パネルのアレイ基板を概略的に示す斜
視図。
FIG. 3 is a perspective view schematically showing an array substrate of the liquid crystal panel.

【図4】上記アレイ基板の引き出し配線部を模式的に示
す平面図。
FIG. 4 is a plan view schematically showing a lead wiring section of the array substrate.

【図5】図4における線A−A、B−B、C−Cにそれ
ぞれ沿った断面図。
FIG. 5 is a sectional view taken along lines AA, BB, and CC in FIG. 4;

【図6】引き出し配線間ショートが生じた切断位置を模
式的に示す引き出し配線部の平面。
FIG. 6 is a plan view of a lead-out wiring section schematically showing a cutting position where a short-circuit between lead-out wirings has occurred.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…液晶パネル 18…アレイ基板 20…対向基板 31…ガラス基板 32…信号線 34…走査線 36…画素電極 38…TFT 40…表示領域 42…シール剤塗布領域 44…信号線接続パッド 46、48…引き出し配線 47…走査線接続パッド 46a…第1配線 46b…第2配線 46c…迂回経路部 64…コンタクトスルーホール 66…非重複部 X、X’、Y、Y’…切断位置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Liquid crystal panel 18 ... Array substrate 20 ... Opposite substrate 31 ... Glass substrate 32 ... Signal line 34 ... Scanning line 36 ... Pixel electrode 38 ... TFT 40 ... Display area 42 ... Sealant application area 44 ... Signal line connection pads 46 and 48 ... Lead-out wiring 47... Scanning line connection pad 46a... First wiring 46b... Second wiring 46c .. detour path part 64... Contact through hole 66...

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】絶縁基板と、 上記絶縁基板上に設けられた複数の配線と、を備え、 上記配線の各々は、絶縁膜を介して積層された第1配線
および第2配線で形成されているとともに、 少なくとも2カ所で上記第1配線と第2配線とを互いに
電気的に導通した少なくとも2つの導通部と、 上記導通部間に設けられ、上記第1配線と第2配線とが
上記絶縁基板の面方向にずれて位置した少なくとも2つ
のリペア領域と、を備えていることを特徴とする配線基
板。
An insulating substrate, and a plurality of wirings provided on the insulating substrate, wherein each of the wirings is formed by a first wiring and a second wiring stacked via an insulating film. And at least two conductive portions that electrically connect the first wiring and the second wiring to each other at at least two places, and are provided between the conductive portions, and the first wiring and the second wiring are insulated from each other. A wiring board, comprising: at least two repair regions that are shifted from each other in a plane direction of the board.
【請求項2】絶縁基板と、上記絶縁基板上に設けられた
複数の配線と、を備え、 上記配線の各々は、絶縁膜を介して積層された第1配線
および第2配線で形成されているとともに、少なくとも
2カ所で上記第1配線と第2配線とを互いに電気的に導
通した少なくとも2つの導通部と、上記導通部間に設け
られ、上記第1配線と第2配線とが上記絶縁基板の面方
向にずれて位置した少なくとも2つのリペア領域と、を
備えた配線基板を製造する方法において、 上記配線間のショート不良を検出し、 ショート不良が検出された際、上記ショート不良が検出
された配線の上記リペア領域で、第1配線および第2配
線のいずれか一方を切断する工程を備えたことを特徴と
する配線基板の製造方法。
2. An insulating substrate, comprising: a plurality of wirings provided on the insulating substrate, wherein each of the wirings is formed by a first wiring and a second wiring stacked via an insulating film. And at least two conductive portions that electrically connect the first wiring and the second wiring to each other at at least two places, and are provided between the conductive portions, and the first wiring and the second wiring are insulated from each other. In a method of manufacturing a wiring board having at least two repair regions that are displaced in a plane direction of a substrate, a short circuit between the wirings is detected, and when the short circuit is detected, the short circuit is detected. A method of cutting either one of the first wiring and the second wiring in the repair region of the formed wiring.
【請求項3】上記切断工程において、ショート不良が検
出された隣合う2本の配線の一方は、上記リペア領域の
位置で第1配線を切断し、他方の配線は、上記リペア領
域の位置で第2配線を切断することを特徴とする請求項
2に記載の配線基板の製造方法。
3. In the cutting step, one of two adjacent wirings for which a short-circuit defect has been detected cuts a first wiring at a position of the repair region, and the other wiring is cut at a position of the repair region. The method according to claim 2, wherein the second wiring is cut.
【請求項4】絶縁基板と、 上記絶縁基板上に設けられた複数の配線と、 上記絶縁基板上に設けられ表示領域を形成しているとと
もに、それぞれスイッチング素子を介して上記配線に電
気的に接続された複数の画素電極と、を備え、 上記配線は、上記表示領域の外方に延出した引き出し配
線部をそれぞれ有し、 上記各引き出し配線部は、絶縁膜を介して積層された第
1配線および第2配線を有する2層構造に形成されてい
るとともに、 少なくとも2カ所で上記第1配線と第2配線とを互いに
電気的に導通した少なくとも2つの導通部と、 上記導通部間に設けられ、上記第1配線と第2配線とが
上記絶縁基板の面方向にずれて位置した少なくとも2つ
の非重複部と、を備えていることを特徴とする表示装置
のアレイ基板。
4. An insulating substrate, a plurality of wirings provided on the insulating substrate, and a display area provided on the insulating substrate, each of which is electrically connected to the wiring via a switching element. A plurality of pixel electrodes connected to each other, wherein the wiring has a lead wiring portion extending outside the display region, and the lead wiring portions are stacked via an insulating film. At least two conductive portions, which are formed in a two-layer structure having one wiring and a second wiring, and electrically connect the first wiring and the second wiring to each other at at least two places; An array substrate for a display device, comprising: at least two non-overlapping portions provided so that the first wiring and the second wiring are shifted from each other in a surface direction of the insulating substrate.
【請求項5】上記絶縁基板は、上記表示領域を囲むよう
に設けられたシール剤塗布領域を有し、 上記各引き出し配線部の上記少なくとも2つの導通部
は、上記シール剤塗布領域を間に挟んでシール剤塗布領
域の両側に位置し、 上記少なくとも2つの非重複部は、上記シール剤塗布領
域を間に挟んでシール剤塗布領域の両側に設けられてい
ることを特徴とする請求項4に記載の表示装置のアレイ
基板。
5. The insulating substrate has a sealant application region provided so as to surround the display region, and the at least two conductive portions of each of the lead-out wiring portions have the sealant application region therebetween. The at least two non-overlapping portions are located on both sides of the sealant application region with the sealant application region interposed therebetween. An array substrate of the display device according to 1.
【請求項6】絶縁基板と、上記絶縁基板上に設けられた
複数の配線と、上記絶縁基板上に設けられ表示領域を形
成しているとともに、それぞれスイッチング素子を介し
て上記配線に電気的に接続された複数の画素電極と、を
備え、上記配線は、上記表示領域の外方に延出した引き
出し配線部をそれぞれ有し、上記各引き出し配線部は、
絶縁膜を介して積層された第1配線および第2配線を有
する2層構造に形成されているとともに、少なくとも2
カ所で上記第1配線と第2配線とを互いに電気的に導通
した少なくとも2つの導通部と、上記導通部間に設けら
れ、上記第1配線と第2配線とが上記絶縁基板の面方向
にずれて位置した少なくとも2つの非重複部と、を備え
ている表示装置のアレイ基板を製造する方法において、 上記引き出し配線部間のショート不良を検出し、 ショート不良が検出された際、上記ショート不良が検出
された引き出し配線部の上記非重複部で、第1配線およ
び第2配線のいずれか一方を切断する工程を備えたこと
を特徴とする表示装置のアレイ基板製造方法。
6. An insulating substrate, a plurality of wirings provided on the insulating substrate, and a display area provided on the insulating substrate, and each of the wirings is electrically connected to the wiring via a switching element. A plurality of connected pixel electrodes, wherein the wiring has a lead-out wiring portion extending outside the display area, and each of the lead-out wiring portions,
It is formed in a two-layer structure having a first wiring and a second wiring stacked via an insulating film, and has at least two layers.
At least two conductive portions electrically connecting the first wiring and the second wiring to each other at two places, and provided between the conductive portions, wherein the first wiring and the second wiring are arranged in a plane direction of the insulating substrate; In a method for manufacturing an array substrate of a display device having at least two non-overlapping portions shifted from each other, a short-circuit defect between the lead-out wiring portions is detected, and when the short-circuit defect is detected, the short-circuit defect is detected. A method of cutting either one of the first wiring and the second wiring at the non-overlapping part of the lead-out wiring part in which is detected.
【請求項7】上記切断工程において、ショート不良が検
出された隣合う2本の引き出し配線部の一方は、上記非
重複部の位置で第1配線を切断し、他方の引き出し配線
部は、上記非重複部の位置で第2配線を切断することを
特徴とする請求項6に記載の表示装置のアレイ基板製造
方法。
7. In the cutting step, one of two adjacent lead-out wiring portions where a short-circuit defect is detected cuts the first wiring at the position of the non-overlapping portion, and the other lead-out wiring portion is 7. The method according to claim 6, wherein the second wiring is cut at the position of the non-overlapping portion.
【請求項8】上記切断工程において、ショート不良が検
出された隣合う2本の引き出し配線部を上記非重複部の
位置でそれぞれ切断する際、一方の引き出し配線部の第
1配線と、この第1配線に他の配線を介することなく隣
接した他方の引き出し配線部の第2配線と、を連続的に
切断することを特徴とする請求項6に記載の表示装置の
アレイ基板製造方法。
8. In the cutting step, when each of two adjacent lead-out wiring portions where a short-circuit defect is detected is cut at the position of the non-overlapping portion, the first wiring of one of the lead-out wiring portions and 7. The method of manufacturing an array substrate for a display device according to claim 6, wherein the one wiring is continuously cut off from the second wiring of the other lead-out wiring portion adjacent to the other wiring without passing through another wiring.
【請求項9】上記切断工程において、レーザ照射によっ
て切断を行うことを特徴とする請求項6ないし8のいず
れか1項に記載の表示装置のアレイ基板製造方法。
9. The method according to claim 6, wherein the cutting is performed by laser irradiation.
【請求項10】第1絶縁基板と、上記第1絶縁基板上に
設けられた複数の配線と、上記第1絶縁基板上に設けら
れ表示領域を形成しているとともに、それぞれスイッチ
ング素子を介して上記配線に電気的に接続された複数の
画素電極と、を有するアレイ基板と、 上記アレイ基板に対向配置された第2絶縁基板と、上記
第2絶縁基板上に設けられ上記画素電極と対向した対向
電極と、を有する対向基板と、 上記アレイ基板と対向基板との間に設けられた液晶組成
物と、を備え、 上記アレイ基板の配線は、上記表示領域の外方に延出し
た引き出し配線部をそれぞれ有し、 上記各引き出し配線部は、絶縁膜を介して積層された第
1配線および第2配線を有する2層構造に形成されてい
るとともに、 少なくとも2カ所で上記第1配線と第2配線とを互いに
電気的に導通した少なくとも2つの導通部と、 上記導通部間に設けられ、上記第1配線と第2配線とが
上記絶縁基板の面方向にずれて位置した少なくとも2つ
の非重複部と、を備えていることを特徴とする液晶表示
装置。
10. A first insulating substrate, a plurality of wirings provided on the first insulating substrate, and a display area provided on the first insulating substrate, each being formed via a switching element. An array substrate having a plurality of pixel electrodes electrically connected to the wiring, a second insulating substrate disposed to face the array substrate, and facing the pixel electrode provided on the second insulating substrate; A counter substrate having a counter electrode; and a liquid crystal composition provided between the array substrate and the counter substrate. The wiring of the array substrate is a lead-out wiring extending outside the display area. Each of the lead-out wiring portions is formed in a two-layer structure having a first wiring and a second wiring stacked with an insulating film interposed therebetween, and the first wiring and the first wiring are formed in at least two places. With two wires At least two non-overlapping portions provided between the conducting portions, wherein the first wiring and the second wiring are shifted from each other in a surface direction of the insulating substrate; A liquid crystal display device comprising:
【請求項11】第1絶縁基板と、上記第1絶縁基板上に
マトリクス状に設けられた複数の信号線および走査線
と、上記第1絶縁基板上で、上記信号線および走査線に
より囲まれた領域にそれぞれ設けられているとともにス
イッチング素子を介して上記信号線および走査線に電気
的に接続され、表示領域を形成した複数の画素電極と、
を有するアレイ基板と、 上記アレイ基板に対向配置された第2絶縁基板と、上記
第2絶縁基板上に設けられ上記画素電極と対向した対向
電極と、を有する対向基板と、 上記アレイ基板と対向基板との間に設けられた液晶組成
物と、を備え、 上記アレイ基板および対向基板は、上記表示領域を囲む
ように塗布されたシール剤により互いに貼り合わされ、 上記アレイ基板の信号線および走査線は、上記シール剤
の塗布領域を通って上記表示領域の外方に延出した引き
出し配線部をそれぞれ有し、 少なくとも上記信号線の各引き出し配線部は、絶縁膜を
介して積層された第1配線および第2配線を有する2層
構造に形成されているとともに、 上記シール剤の塗布領域と重ならない少なくとも2カ所
で上記第1配線と第2配線とを互いに電気的に導通した
少なくとも2つの導通部と、 上記導通部間で、上記シール剤の塗布領域と重ならない
部位に設けられ、上記第1配線と第2配線とが上記絶縁
基板の面方向にずれて位置した少なくとも2つの非重複
部と、を備えていることを特徴とする液晶表示装置。
11. A first insulating substrate, a plurality of signal lines and scanning lines provided in a matrix on the first insulating substrate, and surrounded by the signal lines and scanning lines on the first insulating substrate. A plurality of pixel electrodes provided in the respective areas and electrically connected to the signal lines and the scanning lines via the switching elements to form a display area,
A counter substrate including: an array substrate having: a second insulating substrate disposed to face the array substrate; a counter electrode provided on the second insulating substrate and facing the pixel electrode; A liquid crystal composition provided between the substrate and the substrate, wherein the array substrate and the counter substrate are attached to each other with a sealant applied so as to surround the display region, and a signal line and a scan line of the array substrate are provided. Each has a lead-out wiring portion extending to the outside of the display region through the application region of the sealant, and at least each of the lead-out wiring portions of the signal line is provided with a first layer laminated via an insulating film. The first wiring and the second wiring are electrically connected to each other at at least two places that are not overlapped with the sealant application region and are formed in a two-layer structure having a wiring and a second wiring. At least two conductive portions that have been passed, and a portion between the conductive portions that is not overlapped with the application region of the sealant, wherein the first wiring and the second wiring are shifted from each other in a surface direction of the insulating substrate. A liquid crystal display device comprising at least two non-overlapping portions.
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