JP2945554B2 - 脱臭方法および脱臭装置 - Google Patents
脱臭方法および脱臭装置Info
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- Treating Waste Gases (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、浄化槽等から排出され
る悪臭成分含有気体を処理して無臭化する方法、および
その為の装置に関するものである。
る悪臭成分含有気体を処理して無臭化する方法、および
その為の装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、環境問題が大きく取り上げられる
様になっており、河川の汚染に対しても更に厳しい対応
が求められつつある。河川の汚染の原因の一つとして生
活排水があり、この生活排水への対策としては浄化槽設
備による清浄化が中心となっており、該浄化槽の普及率
が益々上がる傾向が認められる。しかしながら浄化槽の
設置によって周辺に悪臭が流れ、これによる悪臭公害が
新たな問題となっている。
様になっており、河川の汚染に対しても更に厳しい対応
が求められつつある。河川の汚染の原因の一つとして生
活排水があり、この生活排水への対策としては浄化槽設
備による清浄化が中心となっており、該浄化槽の普及率
が益々上がる傾向が認められる。しかしながら浄化槽の
設置によって周辺に悪臭が流れ、これによる悪臭公害が
新たな問題となっている。
【０００３】浄化槽から発生する悪臭の対策として、こ
れまで臭突管や活性炭吸着式脱臭装置等の設置がなされ
ているが、いずれも十分な効果が得られているとは言い
難いのが実情である。即ち臭突管の設置によれば、悪臭
成分を大気中に拡散させるだけであり、根本的な解決策
とはなり得ない。一方活性炭吸着式脱臭装置では、活性
炭が早期に吸着破過し、その度毎に取り換える必要があ
って、装置を管理・維持していく上で煩わしいという欠
点がある。
れまで臭突管や活性炭吸着式脱臭装置等の設置がなされ
ているが、いずれも十分な効果が得られているとは言い
難いのが実情である。即ち臭突管の設置によれば、悪臭
成分を大気中に拡散させるだけであり、根本的な解決策
とはなり得ない。一方活性炭吸着式脱臭装置では、活性
炭が早期に吸着破過し、その度毎に取り換える必要があ
って、装置を管理・維持していく上で煩わしいという欠
点がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような事
情に着目してなされたものであって、その目的は、浄化
槽等から発生する硫化水素を含む悪臭成分含有気体を長
期に亘って効率良く除去できる様な脱臭方法、およびそ
の様な機能を発揮する脱臭装置を提供することにある。
情に着目してなされたものであって、その目的は、浄化
槽等から発生する硫化水素を含む悪臭成分含有気体を長
期に亘って効率良く除去できる様な脱臭方法、およびそ
の様な機能を発揮する脱臭装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成し得た本
発明方法とは、硫化水素を含む悪臭成分含有気体を処理
して脱臭するに当たり、ナフトキノン誘導体もしくはナ
フトハイドロキノン誘導体、および可変原子価金属化合
物を含有するアルカリ水溶液からなる液体触媒に、前記
気体を導いて処理した後、該被処理気体の相対湿度を９
０％以下とし、その後０．１〜５ｐｐｍのオゾンの存在
下で脱臭用触媒と接触させる点に要旨を有するものであ
る。
発明方法とは、硫化水素を含む悪臭成分含有気体を処理
して脱臭するに当たり、ナフトキノン誘導体もしくはナ
フトハイドロキノン誘導体、および可変原子価金属化合
物を含有するアルカリ水溶液からなる液体触媒に、前記
気体を導いて処理した後、該被処理気体の相対湿度を９
０％以下とし、その後０．１〜５ｐｐｍのオゾンの存在
下で脱臭用触媒と接触させる点に要旨を有するものであ
る。
【０００６】また上記目的を達成し得た本発明装置と
は、硫化水素を含む悪臭成分含有気体を処理して脱臭す
る為の装置であって、ナフトキノン誘導体もしくはナフ
トハイドロキノン誘導体、および可変原子価金属化合物
を含有するアルカリ水溶液からなる液体触媒によって前
記気体を処理する機構、前記液体触媒によって処理され
た被処理気体の相対湿度を９０％以下とする機構、およ
び相対湿度を９０％以下にした被処理気体を０．１〜５
ｐｐｍのオゾンの存在下で脱臭用触媒と接触させる機構
を備えてなる点に要旨を有するものである。
は、硫化水素を含む悪臭成分含有気体を処理して脱臭す
る為の装置であって、ナフトキノン誘導体もしくはナフ
トハイドロキノン誘導体、および可変原子価金属化合物
を含有するアルカリ水溶液からなる液体触媒によって前
記気体を処理する機構、前記液体触媒によって処理され
た被処理気体の相対湿度を９０％以下とする機構、およ
び相対湿度を９０％以下にした被処理気体を０．１〜５
ｐｐｍのオゾンの存在下で脱臭用触媒と接触させる機構
を備えてなる点に要旨を有するものである。
【０００７】
【作用】本発明者らは、かねてより触媒を利用した脱臭
方法について様々な角度から研究を進めてきた。そして
研究の一環として、オゾンの存在下に触媒（以下、オゾ
ン脱臭触媒と呼ぶことがある）で悪臭成分を分解処理お
よび殺菌する技術について開発している。本発明者ら
は、有用なオゾン脱臭触媒として、これまで例えば特開
昭６３−１８２０３２号や同６３−２６７４４０号等に
開示したものを提案しており、トイレの脱臭等において
その効果を発揮している。
方法について様々な角度から研究を進めてきた。そして
研究の一環として、オゾンの存在下に触媒（以下、オゾ
ン脱臭触媒と呼ぶことがある）で悪臭成分を分解処理お
よび殺菌する技術について開発している。本発明者ら
は、有用なオゾン脱臭触媒として、これまで例えば特開
昭６３−１８２０３２号や同６３−２６７４４０号等に
開示したものを提案しており、トイレの脱臭等において
その効果を発揮している。
【０００８】本発明者らは、浄化槽から発生する悪臭成
分についても、上記の様なオゾン脱臭触媒によって処理
しようと考え、実験を繰り返してきた。しかしながら浄
化槽から発生する気体は、悪臭成分が含硫化合物、特に
硫化水素を含むものであり、これがオゾン脱臭触媒に対
する触媒毒として作用し、前記オゾン脱臭触媒の機能が
低下もしくは停止してしまうという欠点があった。即
ち、浄化槽から発生する悪臭成分は、硫化水素、メチル
メルカプタレ、硫化メチル等の含硫化合物、トリメチル
アミン等の窒素系化合物およびその他の化合物よりなっ
ており、また悪臭成分の濃度は浄化槽毎に異なり且つ同
浄化槽においても経時変化によって一定ではないが、一
般的に含硫化合物が他の悪臭成分と比べて高濃度であ
り、それがオゾン脱臭触媒に対する触媒毒として作用す
るのである。
分についても、上記の様なオゾン脱臭触媒によって処理
しようと考え、実験を繰り返してきた。しかしながら浄
化槽から発生する気体は、悪臭成分が含硫化合物、特に
硫化水素を含むものであり、これがオゾン脱臭触媒に対
する触媒毒として作用し、前記オゾン脱臭触媒の機能が
低下もしくは停止してしまうという欠点があった。即
ち、浄化槽から発生する悪臭成分は、硫化水素、メチル
メルカプタレ、硫化メチル等の含硫化合物、トリメチル
アミン等の窒素系化合物およびその他の化合物よりなっ
ており、また悪臭成分の濃度は浄化槽毎に異なり且つ同
浄化槽においても経時変化によって一定ではないが、一
般的に含硫化合物が他の悪臭成分と比べて高濃度であ
り、それがオゾン脱臭触媒に対する触媒毒として作用す
るのである。
【０００９】ところで本発明者らは、含硫化合物を主体
とする悪臭成分を接触酸化して無臭化する触媒として、
ナフトキノン誘導体もしくはナフトハイドロキノン誘導
体、および可変原子価金属化合物を含有するアルカリ水
溶液からなる液体触媒についても提案している（特公昭
５４−２２７９０号）。しかしながら液体触媒による方
法は、スクラバーの気−液接触効率の問題、あるいは触
媒液の濃度調整が煩雑であるという問題等があり、長期
に亘って効率良く行うことが困難であるので、改良の余
地が大いに残されていた。そこで本発明者らは、上記の
様な液体触媒を前段に、前記オゾン脱臭触媒を後段に配
置してシステム化し、まず液体触媒によって含硫化合物
を主に酸化除去した後、未処理の臭気成分をオゾン脱臭
触媒によって処理すれば良いとの着想が得られた。
とする悪臭成分を接触酸化して無臭化する触媒として、
ナフトキノン誘導体もしくはナフトハイドロキノン誘導
体、および可変原子価金属化合物を含有するアルカリ水
溶液からなる液体触媒についても提案している（特公昭
５４−２２７９０号）。しかしながら液体触媒による方
法は、スクラバーの気−液接触効率の問題、あるいは触
媒液の濃度調整が煩雑であるという問題等があり、長期
に亘って効率良く行うことが困難であるので、改良の余
地が大いに残されていた。そこで本発明者らは、上記の
様な液体触媒を前段に、前記オゾン脱臭触媒を後段に配
置してシステム化し、まず液体触媒によって含硫化合物
を主に酸化除去した後、未処理の臭気成分をオゾン脱臭
触媒によって処理すれば良いとの着想が得られた。
【００１０】しかしながら、液体触媒によって処理した
悪臭成分含有気体（被処理気体）をそのままオゾン脱臭
触媒に導いたのでは、被処理気体は湿気を多量に含んで
いるものであるので、触媒の活性が早期に低下するとい
う不都合が生じた。そこで本発明者らはこの様な不都合
を解消する為更に検討を重ねた結果、前記前段と後段の
間で、被処理気体の相対湿度を９０％以下にする様にす
れば、上記の様な不都合が回避でき、浄化槽等から発生
する悪臭成分を長期に亘り効率良く脱臭できることを見
出し本発明を完成した。本発明で用いる液体触媒は、ナ
フトキノン誘導体もしくはナフトハイドロキノン誘導体
を含有するものであるが、それらの一般式を下記に示
す。
悪臭成分含有気体（被処理気体）をそのままオゾン脱臭
触媒に導いたのでは、被処理気体は湿気を多量に含んで
いるものであるので、触媒の活性が早期に低下するとい
う不都合が生じた。そこで本発明者らはこの様な不都合
を解消する為更に検討を重ねた結果、前記前段と後段の
間で、被処理気体の相対湿度を９０％以下にする様にす
れば、上記の様な不都合が回避でき、浄化槽等から発生
する悪臭成分を長期に亘り効率良く脱臭できることを見
出し本発明を完成した。本発明で用いる液体触媒は、ナ
フトキノン誘導体もしくはナフトハイドロキノン誘導体
を含有するものであるが、それらの一般式を下記に示
す。
【００１１】
【化１】
【００１２】
【化２】
【００１３】（上記（Ａ）および（Ｂ）において、Ｘお
よびＹは水素原子以外の置換基として、（イ）スルホン
酸基（−ＳＯ3 Ｈ）、（ロ）カルボン酸基（−ＣＯＯ
Ｈ）、（ハ）上記（イ）または（ロ）の塩、（ニ）アミ
ノ基（−ＮＨ2 ）、（ホ）水酸基（−ＯＨ）、（ヘ）ハ
ロゲン原子、（ト）トリグリコール酸基（−Ｓ−ＣＨ2
−ＣＯＯＨ）、（チ）メチル基（−ＣＨ3 ）のいずれか
を表わし、ｍおよびｎは夫々０，１，２の値をとる数値
を表わす）。
よびＹは水素原子以外の置換基として、（イ）スルホン
酸基（−ＳＯ3 Ｈ）、（ロ）カルボン酸基（−ＣＯＯ
Ｈ）、（ハ）上記（イ）または（ロ）の塩、（ニ）アミ
ノ基（−ＮＨ2 ）、（ホ）水酸基（−ＯＨ）、（ヘ）ハ
ロゲン原子、（ト）トリグリコール酸基（−Ｓ−ＣＨ2
−ＣＯＯＨ）、（チ）メチル基（−ＣＨ3 ）のいずれか
を表わし、ｍおよびｎは夫々０，１，２の値をとる数値
を表わす）。
【００１４】上記ナフトキノン誘導体もしくはナフトハ
イドロキノン誘導体は、水に易溶性の化合物であり、こ
れらはアルカリ性の水溶液中でも安定であり、長期保存
にも変質することなく、その脱臭効果を長期間維持でき
るという長所を有する。
イドロキノン誘導体は、水に易溶性の化合物であり、こ
れらはアルカリ性の水溶液中でも安定であり、長期保存
にも変質することなく、その脱臭効果を長期間維持でき
るという長所を有する。
【００１５】前記液体触媒中に含まれる可変原子価金属
化合物は、前記化合物による触媒活性作用を良好に保持
する為の触媒としても機能を有する。この様な可変原子
価金属化合物としては、特に限定するものではなく、ア
ルカリ性水溶液中において不溶性の沈殿物を形成しない
化合物であれば良いが、例えば鉄、クロム、マンガン、
バナジウム、銅、コバルト、ニッケル等の塩、錯塩もし
くはキレート化合物等が挙げられる。また液体触媒は、
悪臭成分を構成する含硫化合物を吸収保持するという観
点から、ＰＨ：８．０〜１４．０程度（より好ましくは
ＰＨ：９．０〜１３．０）のアルカリ性水溶液である必
要がある。特にメルカプタン類を吸収保持する為には、
この様な高いＰＨを必要とし、ＰＨが低くなると放散し
易くなって脱臭効果が低減する。尚液体触媒のＰＨ調整
剤としては、一般的なアルカリ性物質を用いれば良く、
例えば水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウム等が挙げられ
る。また悪臭成分含有気体と液体触媒を接触させる手段
についても特に限定するものではなく、例えば（１）前
記悪臭成分含有気体が導かれた空間に前記液体触媒を散
布する（シャワーリング）、（２）前記液体触媒中を悪
臭成分含有気体を通過させる（パブリング）等が挙げら
れる。
化合物は、前記化合物による触媒活性作用を良好に保持
する為の触媒としても機能を有する。この様な可変原子
価金属化合物としては、特に限定するものではなく、ア
ルカリ性水溶液中において不溶性の沈殿物を形成しない
化合物であれば良いが、例えば鉄、クロム、マンガン、
バナジウム、銅、コバルト、ニッケル等の塩、錯塩もし
くはキレート化合物等が挙げられる。また液体触媒は、
悪臭成分を構成する含硫化合物を吸収保持するという観
点から、ＰＨ：８．０〜１４．０程度（より好ましくは
ＰＨ：９．０〜１３．０）のアルカリ性水溶液である必
要がある。特にメルカプタン類を吸収保持する為には、
この様な高いＰＨを必要とし、ＰＨが低くなると放散し
易くなって脱臭効果が低減する。尚液体触媒のＰＨ調整
剤としては、一般的なアルカリ性物質を用いれば良く、
例えば水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウム等が挙げられ
る。また悪臭成分含有気体と液体触媒を接触させる手段
についても特に限定するものではなく、例えば（１）前
記悪臭成分含有気体が導かれた空間に前記液体触媒を散
布する（シャワーリング）、（２）前記液体触媒中を悪
臭成分含有気体を通過させる（パブリング）等が挙げら
れる。
【００１６】上記の様な液体触媒によって処理され、含
硫化合物がほとんど除去された被処理気体は、その後相
対湿度が９０％以下とされる。相対湿度を９０％以下と
するのは前述した様に後段のオゾン脱臭触媒の触媒活性
低下を防止する為であるが、この様な作用を考慮すると
相対湿度は８０％以下がより好ましい。また被処理気体
の相対湿度を９０％以下にする為の手段については、特
に限定するものではなく、加熱によって露点を上昇させ
る方法や乾燥空気を導入する方法等が挙げられる。尚、
液体触媒との気液接触によりミストを生じて処理ガスの
相対湿度が１００以上となっている可能性があるため、
上記手段を講じる前にデミスター（ミストセパレータ
ー）等を設置して処理することが好ましい。
硫化合物がほとんど除去された被処理気体は、その後相
対湿度が９０％以下とされる。相対湿度を９０％以下と
するのは前述した様に後段のオゾン脱臭触媒の触媒活性
低下を防止する為であるが、この様な作用を考慮すると
相対湿度は８０％以下がより好ましい。また被処理気体
の相対湿度を９０％以下にする為の手段については、特
に限定するものではなく、加熱によって露点を上昇させ
る方法や乾燥空気を導入する方法等が挙げられる。尚、
液体触媒との気液接触によりミストを生じて処理ガスの
相対湿度が１００以上となっている可能性があるため、
上記手段を講じる前にデミスター（ミストセパレータ
ー）等を設置して処理することが好ましい。
【００１７】後段で用いるオゾン脱臭触媒は、前段の液
体触媒で未処理の悪臭成分を接触分解する為のものであ
るが、この様な触媒としては、例えば前記特開昭６３−
１８２０３２号や同６３−２６７４４０号に挙げられた
ものがそのまま適用できる。また後段におけるオゾン脱
臭の条件は、オゾン濃度を０．１〜５ｐｐｍとする以外
は特に限定されるものではないが、例えば空間速度：５
０００〜１０００００ｈｒ-1，使用触媒形状：セル数が
１００〜６００個／ｉｎ2 程度のハニカム状等であるこ
とが好ましい。尚後段においては、オゾンの存在下で脱
臭を行なうものであるので、オゾンの作用によって殺菌
も行なわれる。
体触媒で未処理の悪臭成分を接触分解する為のものであ
るが、この様な触媒としては、例えば前記特開昭６３−
１８２０３２号や同６３−２６７４４０号に挙げられた
ものがそのまま適用できる。また後段におけるオゾン脱
臭の条件は、オゾン濃度を０．１〜５ｐｐｍとする以外
は特に限定されるものではないが、例えば空間速度：５
０００〜１０００００ｈｒ-1，使用触媒形状：セル数が
１００〜６００個／ｉｎ2 程度のハニカム状等であるこ
とが好ましい。尚後段においては、オゾンの存在下で脱
臭を行なうものであるので、オゾンの作用によって殺菌
も行なわれる。
【００１８】本発明は、浄化槽等から発生する硫化水素
を含む悪臭成分含有気体の処理を想定してなされたもの
であり、従ってこの様な気体を対象としたときにその効
果が最大限に発揮されるが、その発生源については浄化
槽に限らず他の悪臭成分発生源にも適用できることは言
う迄もない。
を含む悪臭成分含有気体の処理を想定してなされたもの
であり、従ってこの様な気体を対象としたときにその効
果が最大限に発揮されるが、その発生源については浄化
槽に限らず他の悪臭成分発生源にも適用できることは言
う迄もない。
【００１９】以下、図面を参照しながら本発明を更に詳
しく説明する。図１は本発明に係る脱臭装置の一構成例
を示す概略説明図であり、図中１は排気口、２は液体触
媒貯留用タンク、３は排気ファン、４は循環ポンプ、５
は充填材、６はデミスター、７は加熱ヒーター、８はオ
ゾン発生器、９はオゾン脱臭触媒、１０は換気扇を夫々
示す。
しく説明する。図１は本発明に係る脱臭装置の一構成例
を示す概略説明図であり、図中１は排気口、２は液体触
媒貯留用タンク、３は排気ファン、４は循環ポンプ、５
は充填材、６はデミスター、７は加熱ヒーター、８はオ
ゾン発生器、９はオゾン脱臭触媒、１０は換気扇を夫々
示す。
【００２０】前記排気口１には浄化槽等からの悪臭成分
含有気体Ｇが排気ファン３によって導かれ、該気体Ｇは
充填材５を通過する様に構成される。この充填材５に
は、循環ポンプ４によって液体触媒貯留用タンク２から
液体触媒が上方から散布され、充填材５が常時濡れてい
る状態となっている。従って、充填材５を通過した前記
気体Ｇは、充填材５中で液体触媒と接触し、該気体Ｇ中
に含まれる含硫化合物は酸化除去される。その後気体Ｇ
は、デミスター６および加熱ヒータ７によって相対湿度
を９０％以下とされた後、オゾン発生器８からのオゾン
の存在下にオゾン脱臭触媒９と接触し、残余の悪臭成分
が分解除去（および殺菌）された後、換気扇１０を通っ
て排出される。
含有気体Ｇが排気ファン３によって導かれ、該気体Ｇは
充填材５を通過する様に構成される。この充填材５に
は、循環ポンプ４によって液体触媒貯留用タンク２から
液体触媒が上方から散布され、充填材５が常時濡れてい
る状態となっている。従って、充填材５を通過した前記
気体Ｇは、充填材５中で液体触媒と接触し、該気体Ｇ中
に含まれる含硫化合物は酸化除去される。その後気体Ｇ
は、デミスター６および加熱ヒータ７によって相対湿度
を９０％以下とされた後、オゾン発生器８からのオゾン
の存在下にオゾン脱臭触媒９と接触し、残余の悪臭成分
が分解除去（および殺菌）された後、換気扇１０を通っ
て排出される。
【００２１】
実施例１ 本発明者らは、図１に示した脱臭装置を用い、浄化槽で
発生した悪臭成分含有気体に対して脱臭を行なった。こ
のとき液体触媒としては、ナフトキノンスルホン酸ナト
リウム２０００ｐｐｍ，過マンガン酸カリウム１０ｐｐ
ｍおよび炭酸ナトリウム５％を添加したものを用いた。
またオゾン脱臭触媒としては、チタン−ケイ素複合酸化
物と二酸化マンガンから構成される触媒を用い、その使
用条件は下記の通りとした。
発生した悪臭成分含有気体に対して脱臭を行なった。こ
のとき液体触媒としては、ナフトキノンスルホン酸ナト
リウム２０００ｐｐｍ，過マンガン酸カリウム１０ｐｐ
ｍおよび炭酸ナトリウム５％を添加したものを用いた。
またオゾン脱臭触媒としては、チタン−ケイ素複合酸化
物と二酸化マンガンから構成される触媒を用い、その使
用条件は下記の通りとした。
【００２２】（オゾン脱臭触媒の使用条件） 空間速度 ：１００００ｈｒ-1 温度 ：３５℃ 相対湿度 ：４８％ オゾン濃度：０．４ｐｐｍ 浄化槽の臭気を１時間当たり４０ｍ3 の量で上記脱臭装
置に吸引して脱臭試験を実施したときの結果を下記表１
に示す。また３か月間連続実施したが、脱臭効率の低下
は軽微であった。
置に吸引して脱臭試験を実施したときの結果を下記表１
に示す。また３か月間連続実施したが、脱臭効率の低下
は軽微であった。
【００２３】
【表１】
【００２４】比較例１ 図１に示した脱臭装置において、循環ポンプ４の稼動を
停止して、つまり液体触媒による前段の脱臭システムを
省略して後段のオゾン脱臭システムのみで脱臭試験を実
施した。その結果を表２に示す。
停止して、つまり液体触媒による前段の脱臭システムを
省略して後段のオゾン脱臭システムのみで脱臭試験を実
施した。その結果を表２に示す。
【００２５】
【表２】
【００２６】比較例２ 図１に示した脱臭装置において、オゾン脱臭触媒９を取
り外し、且つオゾン発生器８および加熱ヒータ７の電源
をオフにして、つまり後段の脱臭システムを省略して前
段の液体触媒による脱臭システムのみで脱臭試験を実施
した。その結果を表３に示す。
り外し、且つオゾン発生器８および加熱ヒータ７の電源
をオフにして、つまり後段の脱臭システムを省略して前
段の液体触媒による脱臭システムのみで脱臭試験を実施
した。その結果を表３に示す。
【００２７】
【表３】
【００２８】
【発明の効果】本発明は以上の様に構成されており、浄
化槽等から発生する硫化水素を含む悪臭成分含有気体の
脱臭を長期に亘って効率良く行なうことのできる技術が
確立できた。
化槽等から発生する硫化水素を含む悪臭成分含有気体の
脱臭を長期に亘って効率良く行なうことのできる技術が
確立できた。
【図１】本発明に係る脱臭装置の一構成例を示す概略説
明図である。
明図である。
２ 液体触媒貯留用タンク ６ デミスタ ８ オゾン発生器 ９ オゾン脱臭触媒
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 能勢 篤 兵庫県姫路市網干区興浜字西沖992番地 の１ 株式会社日本触媒 触媒研究所内 (72)発明者 林 武秀 大阪市中央区高麗橋４丁目１番１号 株 式会社日本触媒内 (72)発明者 久原 弦夫 大阪市中央区高麗橋４丁目１番１号 株 式会社日本触媒内 (72)発明者 園田 武三 大阪市中央区高麗橋４丁目１番１号 株 式会社日本触媒内 (56)参考文献 特公 昭63−39283（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭54−22790（ＪＰ，Ｂ２) 実公 昭55−18106（ＪＰ，Ｙ２)
Claims (4)
- 【請求項１】 硫化水素を含む悪臭成分含有気体を処理
して脱臭するに当たり、ナフトキノン誘導体もしくはナ
フトハイドロキノン誘導体、および可変原子価金属化合
物を含有するアルカリ水溶液からなる液体触媒に、前記
気体を導いて処理した後、該被処理気体の相対湿度を９
０％以下とし、その後０．１〜５ｐｐｍのオゾンの存在
下で脱臭用触媒と接触させることを特徴とする脱臭方
法。 - 【請求項２】 悪臭成分含有気体が浄化槽から発生した
ものである請求項１に記載の脱臭方法。 - 【請求項３】 硫化水素を含む悪臭成分含有気体を処理
して脱臭する為の装置であって、ナフトキノン誘導体も
しくはナフトハイドロキノン誘導体、および可変原子価
金属化合物を含有するアルカリ水溶液からなる液体触媒
によって前記気体を処理する機構、前記液体触媒によっ
て処理された被処理気体の相対湿度を９０％以下とする
機構、および相対湿度を９０％以下にした被処理気体を
０．１〜５ｐｐｍのオゾンの存在下で脱臭用触媒と接触
させる機構を備えてなることを特徴とする脱臭装置。 - 【請求項４】 浄化槽から発生する悪臭成分含有気体を
処理する為のものである請求項３に記載の脱臭装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5048353A JP2945554B2 (ja) | 1993-03-09 | 1993-03-09 | 脱臭方法および脱臭装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5048353A JP2945554B2 (ja) | 1993-03-09 | 1993-03-09 | 脱臭方法および脱臭装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06254347A JPH06254347A (ja) | 1994-09-13 |
| JP2945554B2 true JP2945554B2 (ja) | 1999-09-06 |
Family
ID=12801011
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5048353A Expired - Fee Related JP2945554B2 (ja) | 1993-03-09 | 1993-03-09 | 脱臭方法および脱臭装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2945554B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
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| CN110841456A (zh) * | 2019-11-27 | 2020-02-28 | 南通汇佰川工程技术有限公司 | 新型碱洗除臭塔系统 |
| CN111495178A (zh) * | 2020-04-08 | 2020-08-07 | 天津洁创环保科技有限公司 | 一种脱硫脱硝剂及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5858826B2 (ja) * | 1977-07-21 | 1983-12-27 | 三菱電機株式会社 | 光駆動形サイリスタ装置 |
| JPS5518106A (en) * | 1978-07-25 | 1980-02-08 | Hitachi Ltd | Switch circuit |
| JP2865146B2 (ja) * | 1990-04-20 | 1999-03-08 | 株式会社日立製作所 | 情報表示方法及び装置 |
| JPH03143528A (ja) * | 1990-10-17 | 1991-06-19 | Ebara Infilco Co Ltd | オゾン処理方法 |
| JPH0618613A (ja) * | 1992-07-03 | 1994-01-28 | Nec Kyushu Ltd | ハンドラのコンタクト機構 |
-
1993
- 1993-03-09 JP JP5048353A patent/JP2945554B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06254347A (ja) | 1994-09-13 |
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