JP2944744B2 - 電気メッキ装置のシーケンス制御方法およびこの方法を実施する装置 - Google Patents

電気メッキ装置のシーケンス制御方法およびこの方法を実施する装置

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は請求項１の上位概念による方法に関する。こ
の種の水平連続搬送装置（例えば導体板の電気メッキに
用いられる）では何らかの原因で、電気メッキすべき個
々の被加工物が直接的に順次連続するのではなく、相互
に多少の間隔を伴って装置によって搬送されることがあ
り得る。しかしこのようなことは、被加工物が先行する
ものよりも比較的に大きな間隔を有する場合、搬送路の
上側と下側に通常配置されるアノードから発するフィー
ルド線が通過搬送される被加工物の相応の前面エッジに
集中することとなる。このフィールド線の集中はこの個
所で、電気メッキにより被覆すべき金属の強い析出を引
き起こす。これはいわゆる芽または円柱形状となる。こ
の種の芽または柱を有する被加工物、例えば上記の導体
板は、使用不能にならないにしても少なくともその品質
は大きく低下する。電気メッキされた被加工物からこの
ような芽得または柱を除去することはコストがかかり、
また被加工物のその他の領域に被覆された電気メッキ層
の損傷の危険と結び付いている。
本発明の課題は請求項１の上位概念に記載の方法にお
いて、電気メッキすべき被加工物が不所望の間隔で相互
に連続しても、被加工物の前面またはエッジに不所望の
大きな析出が生じるのを回避するか、または少なくとも
無害な値まで低減することである。
この課題の解決手段は、請求項１の上位概念から出発
して、請求項１の特徴部分に示されている。これにより
電気メッキすべき被加工物が電気メッキ装置の配置構成
の点で存在すべき位置から偏位したことをすべて検出で
きる。この偏位は通常、比較的大きな許容されない間隔
で順次連続する被加工物に発生する。この偏位に相応し
て電気メッキ装置のアノードが次のように入切接続され
る。すなわち、前記の偏位が存在していても、アノード
から電気メッキすべき被加工物へ達するフィールド線の
フィールド線密度がほぼ同じになるよう入切接続するの
である。これにより有害なフィールド線の集中とそれか
ら生じる沈着（芽等）の増大が回避される。
本発明はさらに、前記方法を実施するための装置を提
供することを課題とする。
この装置は請求項４に記載されている。この種の検出
手段はそれ自体公知である。この手段は所要の仕方で所
要の個所に配置し、さらにアノードを入切接続する電気
的手段と必要な接続を行うことができる。
請求項４の装置に対して選択的に、請求項５に記載の
装置も課題解決のために使用できる。請求項４の装置で
は入切接続すべきアノードの上側および／または下側の
それぞれの領域が検出されるが、請求項５の手段では電
気メッキすべき構成被加工物相互の位置検出が装置全体
の唯１つの個所で行われる。この個所は有利には、構成
被加工物が装置に搬入される個所である。この場合検出
手段は一つ設けるだけで良い。電気メッキすべき被加工
物の装置による引き続く搬送シーケンスにおいて、被加
工物の相互位置、例えば被加工物間の間隔は変化しない
から、該当個所で検出された位置を計算機に入力し、装
置内の被加工物の位置、従いアノードに対するこの空間
的対応関係について、被加工物の通過中に装置によって
計算することができる。このようにして許容されない大
きな間隔の位置または“像”を全装置によって追従し、
この間隔がアノードの丁度上または下にあるときに所属
のアノードを常に遮断することができる。
本発明の別の利点および特徴は別の従属請求項並びに
以下の説明および図面に示されている。
図１は、冒頭の延べた従来技術の電気メッキ装置の側
面図および一部遮断図である。
図２は、本発明による装置の側面図および一部遮断図
面である。
図１はこの種の公知の電気メッキ装置の原理構成を側
面から示す。メッキすべきここではプレート状の被加工
物１は搬送面２を矢印方向３に移動される。搬送手段お
よび装置のその他の構成被加工物は本発明の説明には必
要ないので図面および説明には省略してある。搬送面２
の上側と下側には搬送方向３で相互に所定の、極端に大
きくない間隔でアノード４が配置されている。ここでそ
れぞれ２つのアノードは縦に並んで対を形成する。この
対の一方のアノードは搬送面の上側に、他方のアノード
は下側に配置されている。被加工物１はアノード４と直
流回路において次のように接続される。すなわち、アノ
ードから発するフィールド線が電解浴を通って被加工物
１に達し、そこで電気メッキが行われるように接続され
る。装置を連続して通過する被加工物１が所要の比較的
小さな間隔a1ではなく、これにより大きな間隔a2を相互
に有していると、フィールド線５の不所望な集中がエッ
ジまたは正面６に生じる。これは領域a2において構成被
加工物１へのフィールド線自体が存在しないことによ
る。間隔a1に対して許容されない程大きい間隔a2は種々
の原因から生じ得る。例えば、電気メッキすべき被加工
物の大きさが種々異なっており、チャージが比較的小さ
い。柔軟な自動電気メッキ装置では、個々の被加工物間
の間隔が不所望に大きくなる。正面６の領域では前記の
析出の増大が生じる。
被加工物１間の間隔がa1よりも小さければ、そこでも
ある程度のフィールド線集中が生じる（図１と図２の右
側参照）。しかしそこではこのフィールド線集中は無視
できる程小さい。
図２は本発明の装置の模式図である。本発明では方法
的および／または装置的に、前に説明した従来技術の欠
点が回避されている。原則的に同じ構成被加工物には図
１と同じ参照番号が付してある。アノードはそれぞれ制
御装置８と統合的に接続されており、その際各対称の上
側アノードと下側アノードは並列接続されている。これ
は図面を簡単にするため図２の左側のアノード対４と、
以下さらに詳細に説明するアノード対７に示されている
だけである。
例えば光学的、誘導的または機械的に動作し得る検出
手段は模式的に示されており、本発明の実施例に従い11
または12が付してある。
検出手段11は図面簡単化のため、アノード対７の領域
にのみ示されている。しかしこの検出手段は、本発明の
第１実施例では相応して別の各アノード対４にも設けら
れる。検出手段は対のアノード間の空間を検出し、そこ
に許容されるものより大きな間隔a2が存在するか否か確
定する。存在する場合、検出手段は図面には詳細に示し
ていないが、制御装置８の相応のスイッチ13を開放し、
これによりアノード対７は直流電源、ここでは整流器10
から遮断され、無電流状態になる。これによりこの対の
アノード７間にフィールド線５が形成されず、従って相
互に間隔a2離れて対向する被加工物１の正面14での不所
望の沈着が回避される。被加工物１は矢印方向３に搬送
されるから、間隔a2は、矢印方向３で後続するアノード
対４の領域においても存在し、従ってこのアノード対４
を遮断し、前に無電流状態にしたアノード対７を再び投
入する。
このようにして図に示したように一定のフィールド線
経過５が得られる。
前記の検出手段の構成の代わりに、本発明の第２の実
施例によれば、図２の左側に設置された被加工物１の装
置への搬入個所に、点線で示した検出手段12が設けられ
る。この検出手段12は被加工物間の間隔ないし被加工物
の位置を検出し、図示していない計算機によって次の評
価を行う。すなわち、収容できない大きな間隔（前記の
間隔a2参照）がアノード対を通る被加工物１の経過時に
この間隔の通過中に発生した場合、該当するアノード対
を遮断し、従って再投入接続するよう評価を行う。その
際、装置の別のデータ、例えば被加工物１の搬送速度が
計算機に入力される。これは矢印９により示されてい
る。
前記２つの実施例とも、アノードの入切接続はセグメ
ント毎に行われる。すなわち、各アノード対は相応に接
続すべきセグメントである。
フロントページの続き (72)発明者 シュレーダー，ロルフ ドイツ連邦共和国 8501 ブルクタン ザントエッカーシュトラーセ ３ (56)参考文献 特開 昭57−5898（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C25D 21/12

Claims (7)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】水平に移動する電気メッキ搬送装置のシー
    ケンス制御方法であって、電気メッキすべき被加工物、
    例えばプレート状の被加工物が連続して通過し、当該被
    加工物がアノードから発する電流によって電気メッキさ
    れる電気メッキ搬送装置のシーケンス制御方法におい
    て、 連続して装置を通過走行する被加工物（１）の位置およ
    び／または当該被加工物間の間隔（a1,a2）を検出し、 電気メッキ電流の供給を、当該位置／および／または間
    隔に適合したアノード（４、７）の入切接続によって、
    被加工物（１）のすべての領域においてフィールド線密
    度がほぼ同じになるように調整することを特徴とするシ
    ーケンス制御方法。
  2. 【請求項２】前記アノード（４、７）を、装置の経過で
    見てセグメント的に入切接続する請求項１記載の方法。
  3. 【請求項３】別の量、例えば被加工物（19搬送速度を制
    御量として使用する請求項１または２記載の方法。
  4. 【請求項４】各アノード（４、７）の上側ないし下側に
    センサ、検出器、光学的手段等の検出手段が、電気メッ
    キすべき被加工物が被加工物（１）の搬送平面（２）に
    存在しているか（またはしていないか）監視するために
    設けられており、 前記検出手段は、前記アノード電流供給部と制御接続さ
    れており、当該アノードを相応に入切接続することを特
    徴とする、前記請求項１から３までの方法を実施するた
    めの装置。
  5. 【請求項５】装置の所定の位置、有利には電気メッキす
    べき被加工物（１）の装置への搬送個所に検出手段（1
    2）が設けられており、当該検出手段は計算機とデータ
    接続しており、 該計算機は、被加工物（１）の位置および／または間隔
    についての検出結果を、それら被加工物の装置の通過中
    に計算し、 前記計算機は同時に装置のアノード（４、７）の電流の
    入切接続を、被加工物（１）の通過および当該被加工物
    間の間隔に相応して制御することを特徴とする、前記請
    求項１から３までの方法を実施するための装置。
  6. 【請求項６】直流電源、例えば整流器（10）とアノード
    （４、７）との間の線路に、当該各線路を開放および閉
    成するためのスイッチ（13）がそれぞれ設けられてお
    り、 前記検出手段（11、12）または計算機は該スイッチ（1
    3）を操作するための手段と接続されている請求項４ま
    たは５記載の装置。
  7. 【請求項７】それぞれ２つのアノード（４、７）は重な
    り合って配置されており、すなわち一方のアノードが被
    加工物（１）の搬送路（２）の上側、他方のアノードが
    下側に配置されており、 各対のアノードは相互に、入切接続するための手段に接
    続されている請求項４から６までのいずれか１記載の装
    置。
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