DD273653A1 - Vorrichtung zum gleichmaessigen galvanischen beschichten mehrerer parallel in einem bad zu veredelnder bandfoermiger substrate - Google Patents

Vorrichtung zum gleichmaessigen galvanischen beschichten mehrerer parallel in einem bad zu veredelnder bandfoermiger substrate Download PDF

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DD273653A1
DD273653A1 DD31752888A DD31752888A DD273653A1 DD 273653 A1 DD273653 A1 DD 273653A1 DD 31752888 A DD31752888 A DD 31752888A DD 31752888 A DD31752888 A DD 31752888A DD 273653 A1 DD273653 A1 DD 273653A1
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DD
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parallel
bath
anodes
several
substrates
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Application number
DD31752888A
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English (en)
Inventor
Manfred Leonard
Kurt Bartsch
Kurt Luedersdorf
Wolfgang Klarius
Jochen Kiessling
Original Assignee
Mikroelektronik Bruno Baum Zeh
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Abstract

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum gleichmaessigen galvanischen Beschichten mehrerer parallel in einem Bad zu veredelnder bandfoermiger Substrate, insbesondere das Vorvergolden von Traegerstreifenbaendern fuer elektronische Bauelemente fuer die nachfolgende Versilberung. Erfindungsgemaess wird diese Aufgabe dadurch geloest, dass die parallel zu beschichtenden Baender als gemeinsame Katode leitend miteinander verbunden, die Anoden jedoch als Einzelanoden mit jeweils separater Stromversorgung und -regelung ausgefuehrt sind. Die fuer jedes einzelne Substrat ermittelte optimale Stromstaerke wird automatisch ueberwacht und auf dem Sollwert gehalten. Die Erfindung ist in Fig. 2 dargestellt. Sie ist fuer alle galvanischen Anlagen geeignet, bei denen mehrere bandfoermige Materialien parallel beschichtet werden, insbesondere fuer automatisch arbeitende Anlagen. Fig. 2

Description

0,150A, eingestellt wird. Die Verweilzeit in der Station beträgt etwa 30s. Die eingestellten Stromwerte wurden nunmehr automatisch überwacht und gehalten. Änderungen der Prozeßparameter, die innerhalb der statistischen Kontrolle liegen, wirken sich damit nicht auf die Abscheidungsbedingungen aus. Signifikante Abweichungen >0,02 A werden dagegen alarmiert und können korrigiert werden.
Nach Bestimmung der Au-Schichtdicke mittels Röntgenfluoreszenz, hierzu müssen Proben aus den Bändern herausgeschnitten werden, wird für jedes Band der Richtwert korrigiert und ein spezifischer Stromwert neu eingestellt. Messung und Korrektur werden so lange wiederholt, bis eine Abweichung von 10% der Gesamtschichtdicke zwischen den beiden Extrema erreicht ist. Nach erfolgter Eichung der Vergoldstation wird die Versilberungsstation zugeschaltet.

Claims (5)

1. Vorrichtung zum gleichmäßigen galvanischen Beschichten mehrerer parallel in einem Bad zu
veredelnder bandförmiger Substrate, gekennzeichnet dadurch, daß die ^u beschichtenden
Materialien als gemeinsame Katode miteinander verbunden, die Anoden jedoch als Einzelanoden ausgeführt sind, die von separaten Stromversorgungseinheiten gespeist werden.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß für jedes Band eine spezifische
Stromstärke entsprechend der realisierten Schichtdicke eingestellt und automatisch gehalten wird.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Stromwerte elektronisch
überwacht und automatisch korrigiert werden.
4. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die automatische Steuerung nur
innerhalb der natürlichen Toleranz des Prozesses wirksam ist.
5. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektrolyt aus einem gemeinsamen Behälter über Druckverteiler mittels Düsen jedem Substrat einzeln zugeführt wird.
Hierzu 2 Seiten Zeichnungen
Anwendungsgebiet der Erfindung
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum gleichmäßigen galvanischen Beschichten mehrerer parallel in einem Bad zu
veredelnder bandförmiger Substrate, insbesondere zum Vorvergolden von Trägerstreifen für elektronische Bauelemente für die nachfolgende Versilberung.
Charakteristik des bekannten Standes der Technik
Bei dem genannten Anwendungsgebiet handelt es sich um einen Spezialfall der kontinuierlichen Galvanisierung horizontal
geführter Metallbänder. Er ist sowohl dadurch charakterisiert, daß mehrere Bänder parallel in einem Galvanikband beschichtet werden als auch dadurch, daß eine extrem dünne Vorveredlungsschicht die notwendige Voraussetzung für die Beschichtung mit einer wesentlich stärkeren Endveredlungsschicht bildet.
Es ist keine Vorrichtung bekannt, die für diesen Anwendungsfall die Forderung erfüllt, eine gleichmäßige Abschichtungsstärke im Bereich von wenigen Nanometern zu gewährleisten. Hierfür ist eine eigene technische Lösung ertorderlich.
Ziel der Erfindung
Ziel der Erfindung ist eine Vorrichtung, die den Galvanisierstrom so regelt, daß für sämtliche parallel zu veredelnden Substrate gleiche Abschichtungsbedingungen gewährleistet werden.
Darlegung des Wesens der Erfindung
Die technische Aufgabe der Erfindung besteht darin, daß in einem gemeinsamen Galvanikbad auf mehrere separate
Metallbänder dünne Edelmetallschichten jeweils gleicher Stärke aufzutragen sind, um sowohl optimale Bedingungen in der
nachgeschalteten Endveredlungsstation als auch minimalen Edelmetallverbrauch im Vorveredlungsbad zu gewährleisten.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die parallel in einem Bad zu beschichtenden Bänder als gemeinsame Katode leitend miteinander verbunden werden, die Anoden jedoch als Einzelanoden mit jeweils separatem
Stromversorgungsmodul ausgeführt sind. Der für jedes Substrat eingestellte Strom wird automatisch überwacht und auf dem Sollwert gehalten, womit die Konstanz der Abschichtungsbedingungen und damit der Veredlungsstärke gesichert ist.
Ausführungsboispiel
Erläuterung an Hand des dynamischen Ablaufes.
Die Erfindung wird in zwei Zeichnungen dargestellt.
Fig. 1: Verfahrensprinzip der Gesamtanlage
Fig. 2: Stromregelung der Veredlungsstation
Zwecks Abscheidung einer Vorvergoldungsschicht von 20-30mm Dicke auf den 0,25 mm dicken und 25,4mm breiten Substraten aus FeNi 28 Co 18 werden die 4 elektrolytisch entfetteten und gebeizten Bänder, die als gemeinsame Katode leitend verbunden sind, der Vorvergoldungsstation des in Fig. 2 beschriebenen Typs mit 4 platzierten Titananodenpaaren, die von 4 unabhängigen Stromversorgungsmodulen mit gepulsten Strömen im Verhältnis 1:10 bis 1:100 gespeist werden, zugeführt. Jede
Stromversorgungseinheit besitzt eine digitale Anzeige für Strom und Spannung, mittels derer zunächst ein Richtwert, z. B.
DD31752888A 1988-07-04 1988-07-04 Vorrichtung zum gleichmaessigen galvanischen beschichten mehrerer parallel in einem bad zu veredelnder bandfoermiger substrate DD273653A1 (de)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3939681A1 (de) * 1989-12-01 1991-06-06 Schering Ag Verfahren zur steuerung des ablaufes von galvanischen anlagen, sowie zur durchfuehrung des verfahrens dienender anordnung
DE102012018393B4 (de) 2011-09-29 2018-05-24 Almex Pe Inc. Serielles Galvanisierungssystem

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IF04 In force in the year 2004

Expiry date: 20080705