JP2935763B2

JP2935763B2 - 光磁気記録方法

Info

Publication number: JP2935763B2
Application number: JP26113991A
Authority: JP
Inventors: 鉄治北森; 功中村
Original assignee: ARUPUSU DENKI KK
Current assignee: ARUPUSU DENKI KK
Priority date: 1991-09-11
Filing date: 1991-09-11
Publication date: 1999-08-16
Anticipated expiration: 2014-08-16
Also published as: JPH0573988A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光磁気ディスク装置な
どにおける光磁気記録方法に係り、特にメディアの記録
面の加熱効率を向上させた光磁気記録方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】図６は従来の光磁気ディスク装置におけ
る光磁気記録方法を示している。メディアである光磁気
ディスクＤは一定の線速度Ｖにより走行し、このディス
クの記録面は加熱手段１によりパルス的に加熱される。
通常はこの加熱手段としてパルス駆動される半導体レー
ザを光源としたものが使用される。またディスクＤを挟
んで加熱手段１と対向する位置には、磁気ヘッドによる
磁界変調手段２が設けられている。

【０００３】図７は上記従来の光磁気記録方法を説明す
るためのものであり、同図（Ａ）は横軸を時間としたと
きの加熱手段１のパルス加熱周期を示し、（Ｂ）は同図
（Ｃ）に示しているピットの加熱領域の中心（イ）にお
ける温度変化を、横軸を時間として示している。また
（Ｃ）はパルス加熱によりディスクの記録面に形成され
るピット列を横軸をディスクの移動距離として示し、
（Ｄ）はピット列に対する磁界変調手段２による印加磁
界を横軸を時間として示している。

【０００４】図７により従来の光磁気記録方法を説明す
る。一定の線速度Ｖにより移動するディスクＤの記録面
を、図７（Ａ）で示す一定周期のパルスにより駆動され
た加熱手段（例えば半導体レーザを加熱光源とする）に
より加熱すると、図７（Ｃ）に示すように記録面に加熱
された領域に応じてピット列が形成される。この各ピッ
トの加熱領域の中心（イ）の温度変化は図７（Ｂ）に示
すように、時間の経過により低下していく。図（Ｄ）に
示すように、加熱されたピットに磁界変調手段２により
外部磁界を与えると、ピットが磁化変調される。図７
（Ｂ）においてＣは光磁気ディスクＤの記録膜のキュリ
ー温度を示している。加熱手段１により加熱されたピッ
トは温度が上昇するにしたがって保磁力が低下してキュ
リー温度以上で保磁力が零となり、冷却されてキュリー
温度以下になると保磁力が生じるようになり、さらに冷
却されるにしたがって保磁力が基に戻る。すなわち、加
熱されてキュリー温度以上になったピットは、冷却され
てキュリー温度以下になると磁界変調手段２により与え
られる外部磁界の方向に磁化されて保磁力が生じるよう
になり、さらに冷却されるとこの保磁力は次第に大きく
なりこのピットの保磁力が前記外部磁界よりも大きくな
ったときにピットにおける磁化の向きが固定され、これ
によりピットが磁化変調される。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記のように、光磁気
記録方法では、メディアの温度の上昇ならびに下降と、
このときの印加磁界によりピットの状態が決定される。
したがって加熱手段１によるピットの加熱力、加熱され
たときのメディアの加熱領域の温度分布は、ピットの形
成に大きく影響する。ピットを形成するためにメディア
を所定の温度以上に加熱するには、加熱手段１による加
熱力を高くしなくてはならない。よって加熱手段１が半
導体レーザを加熱源とするものである場合には、高価で
高い発光能力の半導体レーザを使用しなくてはならず、
コストが高くなる。

【０００６】またさらに高密度記録を行うためには、図
７（Ａ）に示す加熱手段１の加熱パルス周期を短くして
同図（Ｃ）に示すピットの長さを短くすることが必要で
ある。しかしながら単一の半導体レーザを加熱源とし、
加熱パルス周期を短くして駆動する場合、半導体レーザ
の駆動周期が短くなり、半導体レーザの負担が大きくな
る。よって単一の半導体レーザを使用して記録密度を高
くするには限界がある。

【０００７】次に図８はメディアの加熱温度と形成され
るピットとの関係を示しており、同図（Ａ）は加熱パル
ス周期を示している。加熱手段により加熱したときに、
メディアの温度が高いときには、同図（Ｂ）に示すよう
に形成されるピットの面積は広くなり、メディアの温度
が低いときには同図（Ｃ）に示すように、形成されるピ
ットの面積が狭くなる。よって例えば最初にデータの記
録を行ったときに、加熱手段による加熱力が強くあるい
は周囲温度が高く、ピットの面積が広くなっていたと
し、次に同じ箇所にデータを上書きするときに、加熱手
段による加熱力が弱くあるいは周囲温度が低かったとす
る。この場合、広い面積のピットに狭い面積のピットが
上書きされることになり、図８（Ｄ）においてハッチン
グで示す部分が消し残り状態となる。この消し残り部分
には上書き前の古いデータが記録されていることにな
り、データを読み出す際に読み出しエラーの原因にな
る。

【０００８】本発明は上記従来の課題を解決するもので
あり、メディアに対する加熱を効率よく行うことができ
且つメディアの加熱領域の温度分布を良好にし、且つ高
密度記録も可能な光磁気記録方法を提供することを目的
としている。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明による光磁気記録
方法は、所定速度で移動するメディアの記録面を同一の
パルス周期でパルス的に加熱する複数の加熱手段が前記
メディアの移動する方向へ間隔を開けて設けられ、前記
複数の加熱手段の間におけるパルスの位相は、記録面の
同じピット部分を加熱できるようにメディアの移動速度
に応じて所定時間ずれており、このピットに磁界変調手
段から磁界が与えられてピットが磁化変調されることを
特徴とするものである。また、上記において、メディア
の周囲温度を検出する温度検出手段が設けられ、この検
出された周囲温度に応じて前記複数の加熱手段の少なく
とも一つの加熱力を制御することが好ましい。

【００１０】

【作用】上記手段では、複数の加熱手段のパルス的な加
熱によりメディアにピットが形成される。複数の加熱手
段により共通の領域を加熱すれば、ひとつの加熱手段の
負担を低下でき、加熱手段が半導体レーザの場合には、
低い定格のものを使用できることになる。また加熱サイ
クルを短くして高密度記録を行おうとするとき、例えば
半導体レーザの駆動周期を短くすることになるが、共通
の加熱領域の加熱を複数の半導体レーザにより分担する
ことになるため、ひとつの半導体レーザの負荷は低くて
済み、かなりの高密度記録が可能になり、またそれぞれ
の半導体レーザの寿命も長くできる。また複数の加熱手
段により加熱することにより、メディアの加熱領域の温
度分布が従来の方法よりも均一に近くなり、ピット面積
を安定させることができ、また磁界変調の精度も高める
ことができる。さらに第２の手段では、周囲温度に応じ
て加熱手段の加熱力を制御できるため、ピットの加熱温
度を常に一定にでき、メディアの温度の違いによるピッ
ト面積の大小の差をなくすことができる。

【００１１】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面により説明す
る。図１は本発明による光磁気記録方法を実施する構造
を示す説明図である。また図２（Ａ）（Ｂ）は２つの加
熱手段のそれぞれの加熱パルス周期を、横軸を時間にと
って示す線図、（Ｃ）はピットの加熱領域の中心（イ）
における温度変化を横軸を時間で示した線図である。ま
た図２（Ｄ）はメディアに形成されるピット列を示し、
同図（Ｅ）は磁界変調手段により与えられる磁界の変化
を示している。

【００１２】図１に示すように、本発明による光磁気記
録方法では、メディアの一例である光磁気ディスクＤが
一定の線速度Ｖにて移動し、その記録面が第１の加熱手
段１１と第２の加熱手段１２とにより加熱される。そし
て、ディスクＤを挟んで前記加熱手段１２に対向する位
置に磁気ヘッドなどによる磁界変調手段２が設けられて
いる。第１の加熱手段１１は加熱駆動部１３ａにより駆
動され、第２の加熱手段１２は加熱駆動部１３ｂにより
駆動される。そして各加熱駆動部１３ａと１３ｂは制御
部１４により制御される。

【００１３】前記制御部１４による制御動作により、加
熱駆動部１３ａからは、図２（Ａ）に示す一定周期の駆
動パルスＰ１１，Ｐ１２，Ｐ１３，Ｐ１４が発せられ、
このこの駆動パルスにより第１の加熱手段１１がパルス
駆動される。また加熱駆動部１３ｂからは図２（Ｂ）に
示す駆動パルスＰ２１，Ｐ２２，Ｐ２３，Ｐ２４が発せ
られ、この駆動パルスにより第２の加熱手段１２がパル
ス駆動される。

【００１４】図２（Ａ）に示す駆動パルスＰ１１，Ｐ１
２，Ｐ１３，Ｐ１４の周期と、図２（Ｂ）に示す駆動パ
ルスＰ２１，Ｐ２２，Ｐ２３，Ｐ２４の周期は同じであ
り、且つパルスの位相は、図２（Ｂ）に示す駆動パルス
が図２（Ａ）に示す駆動パルスよりも時間ｔ（ｎｓｅ
ｃ）だけ遅れている。図１に示すように、第１の加熱手
段による加熱位置と第２の加熱手段による加熱位置との
距離をＸ（μｍ）とし、ディスクＤの線速度をＶ（μｍ
／ｎｓｅｃ）としたときに、（Ｘ＝Ｖ×ｔ）となってい
れば、図２（Ａ）に示す駆動パルスと同図（Ｂ）に示す
駆動パルスとで、メディアの同じ箇所が加熱される。す
なわち図２（Ａ）に示す駆動パルスの立ち上がりにより
加熱が開始される位置と、図２（Ｂ）に示す駆動パルス
の立ち上がりにより加熱が開始される位置が同じ位置に
なる。

【００１５】したがって図２（Ｄ）に示すピットの中心
（イ）の位置における温度の時間的変化は図２（Ｃ）に
示す通りであり、第１の加熱手段１１により加熱された
ときの温度Ｔ１が完全に下がる前に第２の加熱手段１２
により同じ箇所が加熱されＴ２で示す温度になる。そし
て磁界変調手段２では前記ピットに対し図２（Ｅ）に示
す磁界の変化が与えられ、ピットの温度が低下したとき
に磁界に応じた磁化の向きが固定される。

【００１６】上記のように共通の加熱領域を第１と第２
の加熱手段１１と１２とで加熱することにより、それぞ
れの加熱手段１１または１２による加熱力が従来よりも
弱くてもピットを十分な温度に加熱することができ、安
定した磁界変調を与えることができる。また図２（Ａ）
と（Ｂ）に示す駆動パルスの周期を短くすれば図２
（Ｄ）に示すピットの長さを短くできて高密度記録が可
能になるが、このときそれぞれの加熱手段１１と１２の
加熱力自体は弱くてよいため、加熱サイクルを短くして
も加熱手段の負荷はさほど増大せず、よってそれぞれの
加熱手段の負担が高くならない。よって高密度記録を行
っても加熱手段（例えば半導体レーザ）の寿命を低下さ
せるようなことはない。

【００１７】また図１に示すように、メディアである光
磁気ディスクＤの近傍に温度センサ１５を設け、この温
度センサ１５により周囲温度を検出し、その検出値に応
じて制御部１４により各加熱手段１１，１２の加熱力を
制御してもよい。例えば第１の加熱手段１１の加熱力を
制御部１４により制御し、周囲温度が低いときには加熱
力を高く、周囲温度が高いときに加熱力を低くすれば、
ピットの加熱温度を常に一定にでき、メディアの温度の
違いによるピット面積の大小の差をなくすことができ、
図８に示したようなピット面積の違いによる消し残りが
生じなくなる。なお周囲温度に応じて加熱力を制御する
のは、必らずしも第１の加熱手段１１のみに限られず、
第２の加熱手段１２のみ温度に応じて制御してもよい
し、第１と第２の加熱手段１１と１２の双方の加熱力を
周囲温度に応じて制御してもよい。

【００１８】また、図２（Ａ）に示している第１の加熱
手段１１を駆動するための駆動パルスＰ１１，Ｐ１２，
Ｐ１３，Ｐ１４と、同図（Ｂ）に示している第２の加熱
手段１２を駆動するための駆動パルスＰ２１，Ｐ２２，
Ｐ２３，Ｐ２４の両駆動パルスのパルス時間幅は必らず
しも同じである必要はなく、両駆動パルスの時間幅が相
違してもよい。

【００１９】さらに、加熱手段１１，１２として半導体
レーザを加熱光源とした場合、メディアの記録面に形成
されるスポット径はレーザ波長に比例する。よって例え
ば第１の加熱手段１１の加熱光源である半導体レーザの
レーザ波長を、第２の加熱手段１２の加熱光源の半導体
レーザのレーザ波長よりも長いものとし、第１の加熱手
段１１により加熱される領域をやや広めにして、形成さ
れるピット面積を安定化させることも可能である。逆に
第２の加熱手段１２によるレーザ波長を第１の加熱手段
１１によるレーザ波長よりも長くしてもよい。

【００２０】次に、図２（Ｃ）では、ピットの加熱領域
の中心（イ）での時間による温度変化を線図により示し
たが、図３ではひとつのピット内での温度分布について
示している。図３（Ａ）に示すように、ピットは（１）
（２）（３）の順に形成され、（１）のピットの後端
（図示右端）に（２）のピットが重ねられ、さらに
（２）のピットの後端に（３）のピットが重なる状態と
なる。図３（Ｂ）（Ｃ）（Ｄ）は、横軸を（２）のピッ
ト内の位置とし、縦軸にピット内の各位置の温度の高さ
を示したものである。

【００２１】図３（Ｂ）は、図６に示すように、単一の
加熱手段により加熱した従来の方法により記録されたピ
ットの線速度方向の温度分布を示している。この図に示
すように、（２）のピットの先部（図の左端部分）で
は、加熱手段による加熱領域が後部（図示右方向）に移
動して先に冷却が進むので、図示左方向の位置への温度
勾配は比較的急となる。一方ピットの中央部から後部
（図示右端部分）にかけては、先部に比べて緩やかな温
度勾配となる。このように従来の単一の加熱手段により
加熱したピットでは、ピットの先部と後部とでは温度分
布が相違し、よって磁界変調による影響に差が生じる。

【００２２】図３（Ｃ）は図１に示した実施例により形
成されたピットの温度分布を示している。図１の実施例
では図２（Ｃ）に示すように、ピットの同じ箇所が２回
加熱されるために、１回目の加熱後の温度低下が２回目
の加熱により抑えられるので、ピット全体の温度分布の
変化が少なく、よって図３（Ｃ）に示すようにピット内
の温度差が少なくなる。よって磁界変調手段２により与
えられる磁界によりピット全域が安定した状態で変調さ
れる。

【００２３】次に、前記実施例では、図２（Ａ）と
（Ｂ）による駆動パルスの時間差をｔとした場合に、加
熱位置間の距離Ｘを（Ｘ＝Ｖ×ｔ）として、第１と第２
の加熱手段で同じ位置を加熱している。しかしながら、
第１と第２の加熱手段による加熱位置の距離Ｘを上記の
関係式よりも少し長くして、第１の加熱手段１１による
加熱領域よりも、第２の加熱手段１２による加熱領域の
位置を後方（図３の右方向）へわずかにずらしてもよ
い。この場合には図３（Ｄ）に示すように、第１の加熱
手段１１のみにより加熱したときの温度勾配Ｔａに、第
２の加熱手段１２により加熱される温度分布Ｔｂがずれ
た状態で重なるため、ピット内の温度分布は図３（Ｃ）
よりもさらに均一化され、磁界変調がピット全域に安定
して行われるようになる。

【００２４】図４と図５は第１と第２の加熱手段の具体
例を示している。第１の加熱手段１１としてレーザ光１
を使用し、第２の加熱手段１２としてレーザ光２を使用
する。両レーザ光を共通の対物レンズ２１に異なる角度
にて入射させ、対物レンズ２１によりそれぞれのレーザ
光をメディア（例えば光ディスク）の記録面に集光させ
る。これによりレーザ光１の集光点とレーザ光２の集光
点との間に距離Ｘを設定でき、第１と第２の加熱手段と
することができる。

【００２５】図５は、図４をさらに詳しく示している。
この図では、第１の加熱手段１１が、半導体レーザ１１
ａと、コリメートレンズ１１ｂと、反射ミラー１１ｃと
から構成され、第２の加熱手段１２が、半導体レーザ１
２ａと、コリメートレンズ１２ｂと、反射ミラー１２ｃ
とから構成されている。そして両半導体レーザ１１ａと
１１ｂとから発せられたレーザ光１とレーザ光２が異な
る角度にて対物レンズ２１に入射し、図４にて説明した
ように、距離Ｘを隔てて二ヶ所の加熱位置が形成され
る。

【００２６】なお上記実施例では、加熱手段として半導
体レーザを加熱光源とするものを示しているが、加熱源
は必らずしもレーザである必要はなく、ピット形状の加
熱ができるものであればどのようなものであってもよ
い。また加熱手段の数は２つに限られず、３つあるいは
それ以上であってもよい。

【００２７】

【発明の効果】以上のように請求項１記載の発明によれ
ば、複数の加熱手段によりメディアを加熱しているの
で、ピットの加熱効率がよくなり、半導体レーザなどの
加熱源の定格を下げることができ、安価な半導体レーザ
などを使用することができる。また記録密度をさらに高
めるために、加熱手段の加熱周期を短くした場合、それ
ぞれの加熱手段により負荷を分担できるため、半導体レ
ーザなどの加熱手段の負荷を軽減でき、長寿命化を実現
できる。またピットの加熱が安定してできるため、温度
差によるピット面積の大小の差も生じにくくなる。さら
に請求項２記載の発明によれば、メディアの温度の違い
によるピット面積の大小の差をなくすことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による光磁気記録方法の実施例を示す説
明図、

【図２】（Ａ）は第１の加熱手段の加熱パルス周期を示
す線図、（Ｂ）は第２の加熱手段の加熱パルス周期を示
す線図、（Ｃ）はピットの加熱領域の中心の時間による
温度変化を示す線図、（Ｄ）は加熱により形成されたピ
ット列の説明図、（Ｅ）は磁界変調手段による印加磁界
を示す線図、

【図３】（Ａ）は形成されたピットの説明図、（Ｂ）は
従来の記録方法におけるピット内の温度分布を示す線
図、（Ｃ）と（Ｄ）は本発明による記録方法におけるピ
ット内の温度分布を示す線図、

【図４】第１と第２の加熱手段の具体例を示す説明図、

【図５】第１と第２の加熱手段のさらに具体的な構造を
示す説明図、

【図６】従来の光磁気記録方法を示す説明図、

【図７】（Ａ）は従来の単一の加熱手段の加熱パルス周
期を示す線図、（Ｂ）は従来の記録方法において、ピッ
トの加熱領域の中心の温度変化を示す線図、（Ｃ）は加
熱により形成されたピット列の説明図、（Ｄ）は磁界変
調手段による印加磁界を示す線図、

【図８】（Ａ）は従来の加熱手段の加熱パルス周期を示
す線図、（Ｂ）はメディア温度が高い場合のピットを示
す説明図、（Ｃ）はメディア温度が低い場合のピットを
示す説明図、（Ｄ）は同図（Ｂ）のピットに（Ｃ）のピ
ットを上書きした際の問題点を示す説明図、

【符号の説明】Ｄ光磁気ディスク（メディア）２磁界変調手段１１第１の加熱手段１２第２の加熱手段Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３，Ｐ１４第１の加熱手段の駆
動パルスＰ２１，Ｐ２２，Ｐ２３，Ｐ２４第２の加熱手段の駆
動パルス

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G11B 11/10 G11B 7/12

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】所定速度で移動するメディアの記録面を
同一のパルス周期でパルス的に加熱する複数の加熱手段
が前記メディアの移動する方向へ間隔を開けて設けら
れ、前記複数の加熱手段の間におけるパルスの位相は、
記録面の同じピット部分を加熱できるようにメディアの
移動速度に応じて所定時間ずれており、このピットに磁
界変調手段から磁界が与えられてピットが磁化変調され
ることを特徴とする光磁気記録方法。
【請求項２】メディアの周囲温度を検出する温度検出
手段が設けられ、この検出された周囲温度に応じて前記
複数の加熱手段の少なくとも一つの加熱力を制御する請
求項１記載の光磁気記録方法。