JP2933573B2 - 除湿空気処理による切り花表面のカビ類の静菌方法 - Google Patents
除湿空気処理による切り花表面のカビ類の静菌方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、除湿空気処理によ
り、収穫後の切り花、特に花被（花弁及びがくからなる
器官の集合体）表面のカビ類の発育を抑制して、切り花
の長期間の貯蔵或いは鮮度保持を可能とする方法に関す
るものである。
り、収穫後の切り花、特に花被（花弁及びがくからなる
器官の集合体）表面のカビ類の発育を抑制して、切り花
の長期間の貯蔵或いは鮮度保持を可能とする方法に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】切り花を長期間貯蔵する際には、花被表
面に発生するカビがしばしば問題となる。そこで、従
来、このカビの発生を防ぐために、殺菌剤等の化学薬品
を用いた処理による表面殺菌又は静菌処理方法が試みら
れてきたが、効果及び利便性等が優れないことから現時
点で普及している技術はない。
面に発生するカビがしばしば問題となる。そこで、従
来、このカビの発生を防ぐために、殺菌剤等の化学薬品
を用いた処理による表面殺菌又は静菌処理方法が試みら
れてきたが、効果及び利便性等が優れないことから現時
点で普及している技術はない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このような殺菌剤等の
化学薬品を使用する殺菌又は静菌処理方法は、環境汚染
に対する配慮からその使用を制限する方向にある。そこ
で、本発明は、このような化学薬品による処理方法に代
わり得る非化学的処理方法によって、切り花表面のカビ
類を静菌する方法を開発した。
化学薬品を使用する殺菌又は静菌処理方法は、環境汚染
に対する配慮からその使用を制限する方向にある。そこ
で、本発明は、このような化学薬品による処理方法に代
わり得る非化学的処理方法によって、切り花表面のカビ
類を静菌する方法を開発した。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、収穫後の切り
花を、低相対湿度に制御された雰囲気中に、一定時間以
上保持することで、切り花表面組織の水分レベルをカビ
類の発育に不適当なレベルまで低下させ、換言すれば、
表面組織及び表面に付着しているカビ胞子を乾燥させ、
その結果として切り花表面のカビ類の静菌を行うことを
特徴としている。
花を、低相対湿度に制御された雰囲気中に、一定時間以
上保持することで、切り花表面組織の水分レベルをカビ
類の発育に不適当なレベルまで低下させ、換言すれば、
表面組織及び表面に付着しているカビ胞子を乾燥させ、
その結果として切り花表面のカビ類の静菌を行うことを
特徴としている。
【０００５】低下させる水分レベルは、カビ類の発育に
不適当であり、かつ切り花の貯蔵性及び開花後の商品価
値を損なわないレベルである。そのレベルを、つぼみ切
り（つぼみの状態で収穫された）カーネーション切り花
の花被について、水ポテンシャル（水を含む物質中の、
水分子のエネルギー状態を表す物理量で、その値が小さ
い程、その物質中の水分子が動きにくい、或いはその物
質外部に蒸発しにくいことを表す、その値は０が最大
で、それが低い程水分レベルが低いことを示す）で表す
と、ー１．５からー３．３ＭＰａ程度である。
不適当であり、かつ切り花の貯蔵性及び開花後の商品価
値を損なわないレベルである。そのレベルを、つぼみ切
り（つぼみの状態で収穫された）カーネーション切り花
の花被について、水ポテンシャル（水を含む物質中の、
水分子のエネルギー状態を表す物理量で、その値が小さ
い程、その物質中の水分子が動きにくい、或いはその物
質外部に蒸発しにくいことを表す、その値は０が最大
で、それが低い程水分レベルが低いことを示す）で表す
と、ー１．５からー３．３ＭＰａ程度である。
【０００６】相対湿度のレベルは、６０％以下であり、
そのレベルの作出は、処理室内の空気を除湿する、或い
は室外の空気を除湿して処理室内に導入することで行
う。
そのレベルの作出は、処理室内の空気を除湿する、或い
は室外の空気を除湿して処理室内に導入することで行
う。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明は、収穫後の切り花を、図
１の例に示されるように除湿空気処理用容器或いは処理
室内に保持し、その処理用容器或いは処理室内に除湿し
た空気を流す、又は処理用容器或いは処理室内の空気を
除湿することにより、切り花表面組織の水分レベルを一
定レベルまで低下させることで、切り花表面、特に花被
表面のカビ類の静菌を行うものである。
１の例に示されるように除湿空気処理用容器或いは処理
室内に保持し、その処理用容器或いは処理室内に除湿し
た空気を流す、又は処理用容器或いは処理室内の空気を
除湿することにより、切り花表面組織の水分レベルを一
定レベルまで低下させることで、切り花表面、特に花被
表面のカビ類の静菌を行うものである。
【０００８】図１の例では、除湿剤のシリカゲルが充填
された除湿器に、エアーポンプにより外気を流すこと
で、除湿空気が処理用容器に供給される。このエアーポ
ンプの制御は、処理用容器内に設置された湿度計の計測
値に基づいてデジタル指示調節計を介して行われ、結果
として、処理用容器内の相対湿度が設定値に制御され
る。パーソナルコンピュータは、計測値集録装置である
データロガ（データ集録装置）を介して相対湿度の測定
値を蓄積するためのものである。
された除湿器に、エアーポンプにより外気を流すこと
で、除湿空気が処理用容器に供給される。このエアーポ
ンプの制御は、処理用容器内に設置された湿度計の計測
値に基づいてデジタル指示調節計を介して行われ、結果
として、処理用容器内の相対湿度が設定値に制御され
る。パーソナルコンピュータは、計測値集録装置である
データロガ（データ集録装置）を介して相対湿度の測定
値を蓄積するためのものである。
【０００９】
（前処理）南米コロンビアで生産され、日本に空輸され
たつぼみ切りカーネーションを用い、この切り花を気温
４℃の恒温室内に入れ、そこでＳＴＳ（チオ硫酸銀）水
溶液を前処理液として使用し、暗黒下で、これに１０時
間浸けた。
たつぼみ切りカーネーションを用い、この切り花を気温
４℃の恒温室内に入れ、そこでＳＴＳ（チオ硫酸銀）水
溶液を前処理液として使用し、暗黒下で、これに１０時
間浸けた。
【００１０】（除湿空気処理）その後、図１に示すよう
に、前処理された切り花をアクリル樹脂製の除湿空気処
理用容器内に縦置きにして置き、その処理用容器にコン
ピュター制御された除湿空気を流すことにより低相対湿
度雰囲気を作出し除湿空気処理を行った。その処理用容
器内の相対湿度は、約４２％、気温約４℃、暗黒下と
し、その除湿空気処理時間は０（対照区）、１２、２４
及び３６時間の４段階とした。
に、前処理された切り花をアクリル樹脂製の除湿空気処
理用容器内に縦置きにして置き、その処理用容器にコン
ピュター制御された除湿空気を流すことにより低相対湿
度雰囲気を作出し除湿空気処理を行った。その処理用容
器内の相対湿度は、約４２％、気温約４℃、暗黒下と
し、その除湿空気処理時間は０（対照区）、１２、２４
及び３６時間の４段階とした。
【００１１】（貯蔵保存処理）次に、除湿空気処理後の
切り花を１０本ごとに藁半紙で包装した後、貯蔵用小室
内に入れ、表１に示されるように、相対湿度９５％以
上、気温約４℃、暗黒下で３０日間貯蔵した。
切り花を１０本ごとに藁半紙で包装した後、貯蔵用小室
内に入れ、表１に示されるように、相対湿度９５％以
上、気温約４℃、暗黒下で３０日間貯蔵した。
【００１２】除湿空気処理用容器での処理直後及び貯蔵
用小室での貯蔵直後の切り花の花被を滅菌蒸留水中で３
０分間振とうして得た水１ｍｌとローズベンガル寒天培
地１０ｍｌを混合し、培養室内で気温約２５℃で培養し
た。そして、培養後の培地に形成したコロニー数を花被
表面に存在していたカビ胞子数として測定した。又、除
湿空気処理直後に、熱電対サイクロメーター（ＳＣ−１
０，Ｄｅｃａｇｏｎ社製）を用いて、花弁及びがくの水
ポテンシャル（ψw）を測定した。
用小室での貯蔵直後の切り花の花被を滅菌蒸留水中で３
０分間振とうして得た水１ｍｌとローズベンガル寒天培
地１０ｍｌを混合し、培養室内で気温約２５℃で培養し
た。そして、培養後の培地に形成したコロニー数を花被
表面に存在していたカビ胞子数として測定した。又、除
湿空気処理直後に、熱電対サイクロメーター（ＳＣ−１
０，Ｄｅｃａｇｏｎ社製）を用いて、花弁及びがくの水
ポテンシャル（ψw）を測定した。
【００１３】（除湿空気処理の効果）除湿空気処理後の
花被表面のカビ胞子数は、処理時間１２時間以上では、
図２に示すように、対照区（０時間処理）のそれと比較
して危険率５％水準で有意に小となった。このことか
ら、収穫後の除湿空気処理は切り花の花被表面のカビ類
の静菌に有効であることが示された。これは、主に花被
表面の水ポテンシャル（ψw）を低下させることで、花
被表面組織上においてカビの発育に不適当な水分状態が
作り出されたこと、花弁及びがくの表皮細胞の細胞壁の
肥厚化及びがく表皮のクチクラ化の促進によって、カビ
の栄養菌糸の成長が抑制されたことによる。クチクラ化
とは、表皮細胞の細胞壁外側にクチンが分泌、蓄積され
ることをいい、クチクラ化が進むと結果的に植物表面が
固化、防水化し、菌等の進入を抑制したり、菌等が植物
表面から水分を吸収して発育するのを抑制する効果が期
待できる。なお、処理時間１２時間から３６時間の間で
はカビ胞子数の減少は認められなかった。
花被表面のカビ胞子数は、処理時間１２時間以上では、
図２に示すように、対照区（０時間処理）のそれと比較
して危険率５％水準で有意に小となった。このことか
ら、収穫後の除湿空気処理は切り花の花被表面のカビ類
の静菌に有効であることが示された。これは、主に花被
表面の水ポテンシャル（ψw）を低下させることで、花
被表面組織上においてカビの発育に不適当な水分状態が
作り出されたこと、花弁及びがくの表皮細胞の細胞壁の
肥厚化及びがく表皮のクチクラ化の促進によって、カビ
の栄養菌糸の成長が抑制されたことによる。クチクラ化
とは、表皮細胞の細胞壁外側にクチンが分泌、蓄積され
ることをいい、クチクラ化が進むと結果的に植物表面が
固化、防水化し、菌等の進入を抑制したり、菌等が植物
表面から水分を吸収して発育するのを抑制する効果が期
待できる。なお、処理時間１２時間から３６時間の間で
はカビ胞子数の減少は認められなかった。
【００１４】図３に示すように、除湿空気処理区の花弁
の水ポテンシャル（ψw）は、１２時間処理区で対照区
と比較して危険率５％水準で有意に小となった。処理時
間１２時間から３６時間の間では低下は認められなかっ
た。他方、処理時間の増加に伴うがくの水ポテンシャル
の低下は、花弁のそれよりも小さかった。
の水ポテンシャル（ψw）は、１２時間処理区で対照区
と比較して危険率５％水準で有意に小となった。処理時
間１２時間から３６時間の間では低下は認められなかっ
た。他方、処理時間の増加に伴うがくの水ポテンシャル
の低下は、花弁のそれよりも小さかった。
【００１５】更に、図４に示すように、花弁の水ポテン
シャルと花被表面のカビ胞子数の間には、危険率５％水
準で有意な相関が認められ、除湿空気処理により花弁の
水ポテンシャルを低下させると花被表面のカビ類の静菌
の効果が高まることが明らかとなった。他方、がくの水
ポテンシャルとカビ胞子数の間では有意差は認められな
かった。
シャルと花被表面のカビ胞子数の間には、危険率５％水
準で有意な相関が認められ、除湿空気処理により花弁の
水ポテンシャルを低下させると花被表面のカビ類の静菌
の効果が高まることが明らかとなった。他方、がくの水
ポテンシャルとカビ胞子数の間では有意差は認められな
かった。
【００１６】（貯蔵処理の効果）貯蔵用小室での貯蔵後
における花被表面のカビ胞子数は、図５に示すように、
貯蔵前の除湿空気処理時間が大であるほど小となる傾向
が認められ、２４時間処理区の切り花の花被表面のカビ
胞子数は、対照区のそれと比較して危険率５％水準で有
意に小となった。このことから、除湿空気処理の効果が
３０日貯蔵後においても、貯蔵前の除湿空気処理による
切り花表面のカビ類の静菌効果が持続していたことが示
された。
における花被表面のカビ胞子数は、図５に示すように、
貯蔵前の除湿空気処理時間が大であるほど小となる傾向
が認められ、２４時間処理区の切り花の花被表面のカビ
胞子数は、対照区のそれと比較して危険率５％水準で有
意に小となった。このことから、除湿空気処理の効果が
３０日貯蔵後においても、貯蔵前の除湿空気処理による
切り花表面のカビ類の静菌効果が持続していたことが示
された。
【００１７】
【発明の効果】以上のことから、除湿空気処理後の切り
花被表面についてだけでなく、貯蔵前に行った除湿空気
処理の効果が３０日間貯蔵後の花被表面のカビ類の静菌
に対しても有効であることが示された。処理の相対湿度
をより低くすることで、除湿空気処理時間の短縮又は静
菌効果の増大も可能であった。
花被表面についてだけでなく、貯蔵前に行った除湿空気
処理の効果が３０日間貯蔵後の花被表面のカビ類の静菌
に対しても有効であることが示された。処理の相対湿度
をより低くすることで、除湿空気処理時間の短縮又は静
菌効果の増大も可能であった。
【図１】本発明の除湿空気処理装置の１例を示す図であ
る。
る。
【図２】除湿空気処理が切り花の花被表面のカビ胞子数
に及ぼす影響を示す図である。（図中のＬＳＤは統計的
検定法の一つである最小有意差検定法を表す。ｎ＝２０
は、各測定点の値が２０個の測定値の平均値であること
を意味し、即ち測定サンプル数を示す。）
に及ぼす影響を示す図である。（図中のＬＳＤは統計的
検定法の一つである最小有意差検定法を表す。ｎ＝２０
は、各測定点の値が２０個の測定値の平均値であること
を意味し、即ち測定サンプル数を示す。）
【図３】除湿空気処理が切り花の花弁及びがくの水ポテ
ンシャルに及ぼす影響を示す図である。
ンシャルに及ぼす影響を示す図である。
【図４】除湿空気処理が切り花及びがくの水ポテンシャ
ルと花被表面のカビ胞子数に及ぼす影響を示す図であ
る。
ルと花被表面のカビ胞子数に及ぼす影響を示す図であ
る。
【図５】除湿空気処理が切り花の花を３０日間貯蔵した
後の花被表面のカビ胞子数に及ぼす影響を示す図であ
る。
後の花被表面のカビ胞子数に及ぼす影響を示す図であ
る。
Claims (1)
- 【請求項１】 除湿空気により作出された相対湿度６０
％以下の雰囲気中に、収穫後の切り花を一定時間以上保
持することからなる除湿空気処理による切り花表面のカ
ビ類の静菌方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22611097A JP2933573B2 (ja) | 1997-08-22 | 1997-08-22 | 除湿空気処理による切り花表面のカビ類の静菌方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22611097A JP2933573B2 (ja) | 1997-08-22 | 1997-08-22 | 除湿空気処理による切り花表面のカビ類の静菌方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1156099A JPH1156099A (ja) | 1999-03-02 |
| JP2933573B2 true JP2933573B2 (ja) | 1999-08-16 |
Family
ID=16840000
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22611097A Expired - Fee Related JP2933573B2 (ja) | 1997-08-22 | 1997-08-22 | 除湿空気処理による切り花表面のカビ類の静菌方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2933573B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6201552B2 (ja) * | 2013-09-10 | 2017-09-27 | 株式会社島津製作所 | フーリエ変換赤外分光光度計 |
-
1997
- 1997-08-22 JP JP22611097A patent/JP2933573B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH1156099A (ja) | 1999-03-02 |
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