JP2932823B2 - 試料の深さ方向の組成分析方法 - Google Patents
試料の深さ方向の組成分析方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はイオンビーム照射による
エッチングと電子線照射によるオージェ電子分光分析を
交互に繰り返し測定する試料の深さ方向組成分析方法に
関するものである。
エッチングと電子線照射によるオージェ電子分光分析を
交互に繰り返し測定する試料の深さ方向組成分析方法に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】オージェ電子分光法は試料表面２ｎｍ程
度の表面を分析するのに適している。一般のオージェ電
子分光法ではイオンビームを用いたスパッタエッチング
と電子線によるオージェ電子の検出とを組み合わせるこ
とによって、試料の深さ方向の組成分布の測定をおこな
う。
度の表面を分析するのに適している。一般のオージェ電
子分光法ではイオンビームを用いたスパッタエッチング
と電子線によるオージェ電子の検出とを組み合わせるこ
とによって、試料の深さ方向の組成分布の測定をおこな
う。
【０００３】図５はこのような試料の深さ方向組成分布
を得るためのオージェ電子分光装置の構成を説明する図
である。
を得るためのオージェ電子分光装置の構成を説明する図
である。
【０００４】図５において、１は電子銃、２は電子銃１
から放出された電子線、３は測定試料、４は入射電子線
２によって励起され試料３から放出されたオージェ電
子、５はオージェ電子のエネルギーを分光し検出するア
ナライザ、６はアナライザ５で検出されたオージェ電子
４の信号を増幅する信号増幅系、７は制御・演算・デー
タ記憶、８はイオン銃、９はイオン銃８から照射された
イオンビームである。
から放出された電子線、３は測定試料、４は入射電子線
２によって励起され試料３から放出されたオージェ電
子、５はオージェ電子のエネルギーを分光し検出するア
ナライザ、６はアナライザ５で検出されたオージェ電子
４の信号を増幅する信号増幅系、７は制御・演算・デー
タ記憶、８はイオン銃、９はイオン銃８から照射された
イオンビームである。
【０００５】以下、従来の測定方法について説明する。
電子銃１から照射される電子線２を測定試料３に入射す
ると、入射した電子線２によって励起されたオージェ電
子４が試料３から放出される。このオージェ電子４はア
ナライザ５で検出される。
電子銃１から照射される電子線２を測定試料３に入射す
ると、入射した電子線２によって励起されたオージェ電
子４が試料３から放出される。このオージェ電子４はア
ナライザ５で検出される。
【０００６】ここでアナライザ５は図６に示す断面構造
をしている。アナライザ５は外側の電極５ａ、内側の電
極５ｂ，２つの窓５ｃ，ｄと検出器５ｅで構成される。
外側の電極５ａには所定の負の電圧（−Ｖ）が印加され
ており、内側の電極はアース電位（０Ｖ）に保持されて
いる。試料３から放出されアナライザ５の入射窓５ｃに
入ったオージェ電子４のうち、所定のエネルギーの電子
のみが窓５ｄを通過して、検出器５ｅに到達する。電極
５ａに印加する電圧を走査することによって、試料から
放出されるオージェ電子４のエネルギーおよびその検出
強度を知ることができる。
をしている。アナライザ５は外側の電極５ａ、内側の電
極５ｂ，２つの窓５ｃ，ｄと検出器５ｅで構成される。
外側の電極５ａには所定の負の電圧（−Ｖ）が印加され
ており、内側の電極はアース電位（０Ｖ）に保持されて
いる。試料３から放出されアナライザ５の入射窓５ｃに
入ったオージェ電子４のうち、所定のエネルギーの電子
のみが窓５ｄを通過して、検出器５ｅに到達する。電極
５ａに印加する電圧を走査することによって、試料から
放出されるオージェ電子４のエネルギーおよびその検出
強度を知ることができる。
【０００７】深さ方向の組成分析においては、イオン銃
８から放出されたイオンビーム９を試料３に照射し試料
３表面のスパッタエッチングと上記の表面分析とを繰り
返し、各々の深さにおける所定元素の検出強度を求め
る。この方法によって検出された検出強度の結果を図７
に示す。
８から放出されたイオンビーム９を試料３に照射し試料
３表面のスパッタエッチングと上記の表面分析とを繰り
返し、各々の深さにおける所定元素の検出強度を求め
る。この方法によって検出された検出強度の結果を図７
に示す。
【０００８】図７において横軸はスパッタエッチング時
間で試料表面からの深さ、縦軸はオージェ電子の検出強
度である。
間で試料表面からの深さ、縦軸はオージェ電子の検出強
度である。
【０００９】オージェ電子信号Ｎ（Ｅ）は後方散乱電子
による大きなバックグラウンド上に、微小な信号強度で
検出される。通常のオージェスペクトル測定では信号処
理系６のロックインアンプを用いた微分処理によってバ
ックグラウンドを除去したｄＮ（Ｅ）／ｄＥを得る検出
方法が利用されている。
による大きなバックグラウンド上に、微小な信号強度で
検出される。通常のオージェスペクトル測定では信号処
理系６のロックインアンプを用いた微分処理によってバ
ックグラウンドを除去したｄＮ（Ｅ）／ｄＥを得る検出
方法が利用されている。
【００１０】しかし、一方で微分されていない信号Ｎ
（Ｅ）を検出する方法（Ｎ（Ｅ）型と呼ぶ）を用いる場
合でも、試料を構成する元素の結合状態に関する情報が
得られやすい。また、この方法は入射電流量が少ない場
合でもＳ／Ｎが優れているなどの利点もある。だがＮ
（Ｅ）型の場合においても、深さ方向の組成分布を表示
する場合には、Ｎ（Ｅ）スペクトルを計算機で数値微分
して検出強度を求める。微分処理は一般にサビッツキ・
ゴウレイ（Savitzky-Golay）型の平滑微分フィルタを用
いて処理されている。図８にＮ（Ｅ）型で測定されたオ
ージェスペクトルを示す。図９にフィルタサイズが５の
サビッツキ・ゴウレイ型平滑微分フィルタで処理した結
果を示す。
（Ｅ）を検出する方法（Ｎ（Ｅ）型と呼ぶ）を用いる場
合でも、試料を構成する元素の結合状態に関する情報が
得られやすい。また、この方法は入射電流量が少ない場
合でもＳ／Ｎが優れているなどの利点もある。だがＮ
（Ｅ）型の場合においても、深さ方向の組成分布を表示
する場合には、Ｎ（Ｅ）スペクトルを計算機で数値微分
して検出強度を求める。微分処理は一般にサビッツキ・
ゴウレイ（Savitzky-Golay）型の平滑微分フィルタを用
いて処理されている。図８にＮ（Ｅ）型で測定されたオ
ージェスペクトルを示す。図９にフィルタサイズが５の
サビッツキ・ゴウレイ型平滑微分フィルタで処理した結
果を示す。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、Ｎ
（Ｅ）型で測定した測定データを数値微分する場合、ス
ペクトルの形状変化と比較してより細かいエネルギース
テップで測定して数値微分しないとスペクトルの形状が
変化してしまう。
（Ｅ）型で測定した測定データを数値微分する場合、ス
ペクトルの形状変化と比較してより細かいエネルギース
テップで測定して数値微分しないとスペクトルの形状が
変化してしまう。
【００１２】その一例を図１０に示す。図１０はフィル
タサイズ５，７，９の微分フィルタで処理した結果を示
す。また、処理結果を定量的に評価した結果を表１に示
す。表１はバックグラウンド部のノイズの分散値、Ｔｉ
＋ＮとＴｉピークの検出強度および（Ｔｉ＋Ｎ）／Ｔｉ
検出強度比について６本のスペクトルの平均値を求めた
ものである。
タサイズ５，７，９の微分フィルタで処理した結果を示
す。また、処理結果を定量的に評価した結果を表１に示
す。表１はバックグラウンド部のノイズの分散値、Ｔｉ
＋ＮとＴｉピークの検出強度および（Ｔｉ＋Ｎ）／Ｔｉ
検出強度比について６本のスペクトルの平均値を求めた
ものである。
【００１３】
【表１】
【００１４】これよりフィルタサイズが大きくなるに従
い、ピークの形状、および検出強度が変化してしまう。
一方、フィルタサイズが小さいとノイズ成分が大きくな
ってしまうため、大きなフィルタサイズでの処理が要求
される。
い、ピークの形状、および検出強度が変化してしまう。
一方、フィルタサイズが小さいとノイズ成分が大きくな
ってしまうため、大きなフィルタサイズでの処理が要求
される。
【００１５】そこでオージェスペクトルの測定で細かい
エネルギーステップで測定し、できるかぎり大きなサイ
ズの平滑微分フィルタで処理することが求められる。だ
が、このように細かいエネルギーステップの測定では測
定に要する時間が長くなるという問題があった。
エネルギーステップで測定し、できるかぎり大きなサイ
ズの平滑微分フィルタで処理することが求められる。だ
が、このように細かいエネルギーステップの測定では測
定に要する時間が長くなるという問題があった。
【００１６】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、測定時間を短くしかも測定のばらつきが小さい結果
が得られる深さ方向の組成分析方法を提供するものであ
る。
で、測定時間を短くしかも測定のばらつきが小さい結果
が得られる深さ方向の組成分析方法を提供するものであ
る。
【００１７】
【課題を解決するための手段】この問題を解決するため
に本発明の試料の深さ方向組成分析方法は、イオンビー
ムを試料表面に照射してエッチングする工程と、電子線
照射によって前記試料表面から発生するオージェ電子の
検出する工程を交互に繰り返し、前記試料の任意の深さ
において検出されるオージェスペクトルのエネルギー走
査ステップを２ΔＥとした場合、前記深さの位置と前後
する深さの位置で走査するオージェスペクトルのエネル
ギー値をΔＥずらして測定し、前記試料の深さ位置で得
られたオージェスペクトル列を、エネルギー軸と深さ方
向軸で構成される２次元の測定データとみなし、２次元
のデータ処理によって、ΔＥステップのオージェスペク
トルを得ることである。
に本発明の試料の深さ方向組成分析方法は、イオンビー
ムを試料表面に照射してエッチングする工程と、電子線
照射によって前記試料表面から発生するオージェ電子の
検出する工程を交互に繰り返し、前記試料の任意の深さ
において検出されるオージェスペクトルのエネルギー走
査ステップを２ΔＥとした場合、前記深さの位置と前後
する深さの位置で走査するオージェスペクトルのエネル
ギー値をΔＥずらして測定し、前記試料の深さ位置で得
られたオージェスペクトル列を、エネルギー軸と深さ方
向軸で構成される２次元の測定データとみなし、２次元
のデータ処理によって、ΔＥステップのオージェスペク
トルを得ることである。
【００１８】
【作用】この測定方法とデータ処理方法を用いることに
よって、Ｎ（Ｅ）型のオージェスペクトルで数値微分を
考慮した場合の測定において、走査するエネルギーステ
ップを細かくする必要がない。このため、深さ方向の組
成分析に要する時間を従来より短くすることができる。
よって、Ｎ（Ｅ）型のオージェスペクトルで数値微分を
考慮した場合の測定において、走査するエネルギーステ
ップを細かくする必要がない。このため、深さ方向の組
成分析に要する時間を従来より短くすることができる。
【００１９】
【実施例】以下、本発明の一実施例について図面を参照
しながら説明する。
しながら説明する。
【００２０】図１は本発明による深さ方向の組成分布測
定におけるオージェスペクトル測定時のエネルギー走査
方法を説明する図である。図２は図１の測定データを処
理する５×５フィルタを駆動するデータの配列方法を説
明する図である。図３は積分型Ｎ（Ｅ）のオージェスペ
クトルとその微分処理結果を説明する図である。図４は
深さ方向の組成分布の測定結果を説明する図である。
定におけるオージェスペクトル測定時のエネルギー走査
方法を説明する図である。図２は図１の測定データを処
理する５×５フィルタを駆動するデータの配列方法を説
明する図である。図３は積分型Ｎ（Ｅ）のオージェスペ
クトルとその微分処理結果を説明する図である。図４は
深さ方向の組成分布の測定結果を説明する図である。
【００２１】図１はスパッタエッチングとの繰り返し
で、試料の各深さで測定されたオージェスペクトルをな
らべたものである。図中で、黒丸●はオージェスペクト
ル測定時に走査するエネルギー位置を示している。この
ように配列することによって、エネルギー軸と深さ方向
軸からなる２次元データとして取り扱うことができる。
で、試料の各深さで測定されたオージェスペクトルをな
らべたものである。図中で、黒丸●はオージェスペクト
ル測定時に走査するエネルギー位置を示している。この
ように配列することによって、エネルギー軸と深さ方向
軸からなる２次元データとして取り扱うことができる。
【００２２】本発明の測定方法では、従来の倍のステッ
プである２ΔＥのステップでオージェスペクトルを測定
する。この時、隣合う深さ位置における測定エネルギー
をΔＥだけずらせて測定している。ΔＥずらすことによ
って、データ補間の精度を高めることができる。
プである２ΔＥのステップでオージェスペクトルを測定
する。この時、隣合う深さ位置における測定エネルギー
をΔＥだけずらせて測定している。ΔＥずらすことによ
って、データ補間の精度を高めることができる。
【００２３】次に図１に示す測定方法で得られたオージ
ェスペクトルを処理するための２次元サビッツキ・ゴウ
レイ型微分フィルタの求め方について説明する。
ェスペクトルを処理するための２次元サビッツキ・ゴウ
レイ型微分フィルタの求め方について説明する。
【００２４】横軸のエネルギー軸をｉ軸、縦軸の深さ方
向軸をｊ軸とし、フィッティング関数を ｚ（ｉ，ｊ）＝ａｉ2＋ｂｉｊ＋ｃｊ2＋ｄｉ＋ｅｊ＋ｆ ……… （１） として、平滑微分フィルタのサイズを５×５とした場合
について説明する。
向軸をｊ軸とし、フィッティング関数を ｚ（ｉ，ｊ）＝ａｉ2＋ｂｉｊ＋ｃｊ2＋ｄｉ＋ｅｊ＋ｆ ……… （１） として、平滑微分フィルタのサイズを５×５とした場合
について説明する。
【００２５】図１の測定データをもとにΔＥステップの
微分データを計算するが、この場合５×５のフィルタの
とり方には図２（ａ），（ｂ）で示される２通りがあ
る。ここでは図２（ａ）の場合について説明する。
微分データを計算するが、この場合５×５のフィルタの
とり方には図２（ａ），（ｂ）で示される２通りがあ
る。ここでは図２（ａ）の場合について説明する。
【００２６】いま、平滑微分値を求める５×５の中央の
点を原点（０，０）とする。各点の測定値をＶijとした
場合、最小自乗条件は、次の（２）式で示される。
点を原点（０，０）とする。各点の測定値をＶijとした
場合、最小自乗条件は、次の（２）式で示される。
【００２７】
【数１】
【００２８】ここで未知変数はａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ
である。（２）式を満たす条件は、 Ｙ／ａ＝０ Ｙ／ｂ＝０ Ｙ／ｃ＝０ Ｙ／ｄ＝０ Ｙ／ｅ＝０ Ｙ／ｆ＝０ …………………… （３） であるので、次の連立方程式が得られる。
である。（２）式を満たす条件は、 Ｙ／ａ＝０ Ｙ／ｂ＝０ Ｙ／ｃ＝０ Ｙ／ｄ＝０ Ｙ／ｅ＝０ Ｙ／ｆ＝０ …………………… （３） であるので、次の連立方程式が得られる。
【００２９】 ａΣｉ4＋ｂΣｉ3ｊ＋ｃΣｉ2ｊ2＋ｄΣｉ3＋ｅΣｉ2ｊ＋ｆΣｉ2 ＝Σｉ2Ｖｉｊ ａΣｉ3ｊ＋ｂΣｉ2ｊ2＋ｃΣｉｊ3＋ｄΣｉ2ｊ＋ｅΣｉｊ2＋ｆΣｉｊ ＝ΣｉｊＶｉｊ ａΣｉ2ｊ2＋ｂΣｉｊ3＋ｃΣｊ4＋ｄΣｉｊ2＋ｅΣｊ3＋ｆΣｊ2 ＝Σｊ2Ｖｉｊ （４） ａΣｉ3＋ｂΣｉ2ｊ＋ｃΣｉｊ2＋ｄΣｉ2＋ｅΣｉｊ＋ｆΣｉ ＝ΣｉＶｉｊ ａΣｉ2ｊ＋ｂΣｉｊ2＋ｃΣｊ3＋ｄΣｉｊ＋ｅΣｊ2＋ｆΣｊ ＝ΣｊＶｉｊ ａΣｉ2＋ｂΣｉｊ＋ｃΣｊ2＋ｄΣｉ＋ｅΣｊ＋ｆΣ ＝ΣＶｉｊ …………………… （４） 図２（ａ）の場合、 Σｉ4＝１００ Σｉ2ｊ2＝６８ Σｉ2＝２８ Σｊ2＝２８ Σ＝１３ Σｉ3ｊ＝ｄΣｉ3＝Σｉ2ｊ＝ｃΣｉｊ3＝Σｉｊ2＝Σ
ｉｊ＝Σｉｊ3＝Σｊ3＝Σｉ3＝ｆΣｉ＝Σｊ＝０ であるので、（４）式の連立方程式は次のようになる。
ｉｊ＝Σｉｊ3＝Σｊ3＝Σｉ3＝ｆΣｉ＝Σｊ＝０ であるので、（４）式の連立方程式は次のようになる。
【００３０】 １００ａ＋６８ｃ＋２８ｆ＝Σｉ2Ｖｉｊ ６８ｂ＝ΣｉｊＶｉｊ ６８ａ＋１００ｃ＋２８ｆ＝Σｊ2Ｖｉｊ ２８ｄ＝ΣｉＶｉｊ ２８ｅ＝ΣｊＶｉｊ ２８ａ＋２８ｃ＋１３ｆ＝ΣＶｉｊ …………………… （５） ここで、いま求めようとしているのは原点におけるｚ
（ｉ，ｊ）のｉ軸方向の微係数ｄｚ（０，０）／ｄｉ＝
ｄである。
（ｉ，ｊ）のｉ軸方向の微係数ｄｚ（０，０）／ｄｉ＝
ｄである。
【００３１】（５）式より ｄ＝ｉＶij／２８ …………………… （６） が得られる。
【００３２】図２（ｂ）の場合も同様に、 ｄ＝ｉＶij／２２ …………………… （７） が得られる。
【００３３】（６），（７）式から、表２の平滑微分フ
ィルタが得られる。
ィルタが得られる。
【００３４】
【表２】
【００３５】図３は図１に示す２ΔＥステップで測定し
た積分型Ｎ（Ｅ）のオージェスペクトルを表２の５×５
平滑微分フィルタで処理した結果である。ΔＥステップ
の測定データをフィルタサイズ５の一次元処理微分フィ
ルタで処理した結果と比較している。
た積分型Ｎ（Ｅ）のオージェスペクトルを表２の５×５
平滑微分フィルタで処理した結果である。ΔＥステップ
の測定データをフィルタサイズ５の一次元処理微分フィ
ルタで処理した結果と比較している。
【００３６】また、処理結果を定量的に評価した結果を
表２に示す。表２はバックグラウンド部のノイズの分散
値、Ｔｉ＋ＮとＴｉピークの検出強度および（Ｔｉ＋
Ｎ）／Ｔｉ検出強度比について６本のスペクトルの平均
値を求めたものである。
表２に示す。表２はバックグラウンド部のノイズの分散
値、Ｔｉ＋ＮとＴｉピークの検出強度および（Ｔｉ＋
Ｎ）／Ｔｉ検出強度比について６本のスペクトルの平均
値を求めたものである。
【００３７】図３と表２から、５×５平滑微分フィルタ
では、フィルタサイズが５の場合と比較してピーク形
状、ピーク値に変化もなく、ノイズが軽減されているこ
とがわかる。
では、フィルタサイズが５の場合と比較してピーク形
状、ピーク値に変化もなく、ノイズが軽減されているこ
とがわかる。
【００３８】図４にオージェスペクトルの検出強度から
得た深さ方向の組成分布を示す。このようにフィルタサ
イズ５×５は１次元のフィルタサイズが５の結果と同様
の結果が得られている。
得た深さ方向の組成分布を示す。このようにフィルタサ
イズ５×５は１次元のフィルタサイズが５の結果と同様
の結果が得られている。
【００３９】従来の測定方法と比較して、本発明方法で
はデータ処理が付加されるが、一般のオージェ電子分光
装置に付属されている計算機を用い、処理に要する時間
は測定時間と比較して無視できるほどの短時間である。
はデータ処理が付加されるが、一般のオージェ電子分光
装置に付属されている計算機を用い、処理に要する時間
は測定時間と比較して無視できるほどの短時間である。
【００４０】以上のように本実施例によれば、測定点数
を減らした図１に示した測定方法でオージェスペクトル
を測定し、表２に示した平滑微分フィルタを用いて処理
することによって、従来の測定結果と同様の結果が得ら
れるので、測定時間の短縮が可能となる。
を減らした図１に示した測定方法でオージェスペクトル
を測定し、表２に示した平滑微分フィルタを用いて処理
することによって、従来の測定結果と同様の結果が得ら
れるので、測定時間の短縮が可能となる。
【００４１】なお、上記実施例ではフィッティング関数
として（１）式の２次曲線を用い、フィルタサイズとし
た５×５を用いたが、これらの代わりに異なるフィッテ
ィング関数やフィルタサイズを用いてもよい。
として（１）式の２次曲線を用い、フィルタサイズとし
た５×５を用いたが、これらの代わりに異なるフィッテ
ィング関数やフィルタサイズを用いてもよい。
【００４２】なお、上記実施例では分析方法としてオー
ジェ電子分光法を用いたが、同様な深さ方向の組成分布
を測定する光電子分光法などを用いてもよい。
ジェ電子分光法を用いたが、同様な深さ方向の組成分布
を測定する光電子分光法などを用いてもよい。
【００４３】
【発明の効果】本発明は、２次元データ処理を用いるこ
とによって深さ方向の組成分布測定におけるオージェス
ペクトルの測定点数を減らし、測定に要する時間が短縮
できる深さ方向の組成分布測定を実現するものである。
とによって深さ方向の組成分布測定におけるオージェス
ペクトルの測定点数を減らし、測定に要する時間が短縮
できる深さ方向の組成分布測定を実現するものである。
【図１】本発明のオージェスペクトルの測定方法を説明
する図
する図
【図２】微分フィルタのためのデータ配列を説明する図
【図３】本発明方法で得られたオージェスペクトと従来
方法との比較を示す図
方法との比較を示す図
【図４】本発明方法の深さ方向の組成分布と従来法のそ
れとの比較を示す図
れとの比較を示す図
【図５】従来のオージェ電子分光装置の構成図
【図６】エネルギーアナライザの断面構造図
【図７】深さ方向の組成分布の測定結果を示す図
【図８】従来の平滑微分処理結果を示す図
【図９】従来の平滑微分処理結果を示す図
【図１０】フィルタサイズが異なる平滑微分処理した結
果を示す図
果を示す図
【符号の説明】 １ 電子銃 ２ 電子線 ３ 測定試料 ４ オージェ電子 ５ アナライザ ６ 信号増幅系 ７ 制御・演算・データ記憶 ８ イオン銃 ９ イオンビーム
Claims (1)
- 【請求項１】イオンビームを試料表面に照射してエッチ
ングする工程と、電子線照射によって前記試料表面から
発生するオージェ電子の検出する工程を交互に繰り返
し、前記試料の任意の深さにおいて検出されるオージェ
スペクトルのエネルギー走査ステップを２ΔＥとした場
合、前記深さの位置と前後する深さの位置で走査するオ
ージェスペクトルのエネルギー値をΔＥずらして測定
し、前記試料の深さ位置で得られたオージェスペクトル
列を、エネルギー軸と深さ方向軸で構成される２次元の
測定データとみなし、２次元のデータ処理によって、Δ
Ｅステップのオージェスペクトルを得ることを特徴とし
た試料の深さ方向組成分析方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4064581A JP2932823B2 (ja) | 1992-03-23 | 1992-03-23 | 試料の深さ方向の組成分析方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4064581A JP2932823B2 (ja) | 1992-03-23 | 1992-03-23 | 試料の深さ方向の組成分析方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07174718A JPH07174718A (ja) | 1995-07-14 |
| JP2932823B2 true JP2932823B2 (ja) | 1999-08-09 |
Family
ID=13262358
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4064581A Expired - Fee Related JP2932823B2 (ja) | 1992-03-23 | 1992-03-23 | 試料の深さ方向の組成分析方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2932823B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005140567A (ja) * | 2003-11-05 | 2005-06-02 | Jeol Ltd | 表面分析装置 |
-
1992
- 1992-03-23 JP JP4064581A patent/JP2932823B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005140567A (ja) * | 2003-11-05 | 2005-06-02 | Jeol Ltd | 表面分析装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07174718A (ja) | 1995-07-14 |
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