JP2932196B2 - 連続鋳造設備におけるスプレイ水制御方法 - Google Patents
連続鋳造設備におけるスプレイ水制御方法Info
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- JP2932196B2 JP2932196B2 JP2003345A JP334590A JP2932196B2 JP 2932196 B2 JP2932196 B2 JP 2932196B2 JP 2003345 A JP2003345 A JP 2003345A JP 334590 A JP334590 A JP 334590A JP 2932196 B2 JP2932196 B2 JP 2932196B2
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は連続鋳造設備におけるスプレイ水制御方法に
関し、特にスプレイ水流量を実測鋳込速度に対応した値
に設定するカスケード制御方式に関する。
関し、特にスプレイ水流量を実測鋳込速度に対応した値
に設定するカスケード制御方式に関する。
（従来の技術） 従来の連続鋳造設備においては一般に湯だまり（タン
ディッシュ）から鋳型（モールド）に溶湯を注ぎ、モー
ルドを冷却しつつモールドから鋳片を引き抜き、この鋳
片に複数のゾーン毎に設けられたノズルから鋳込速度に
対応してあらかじめ設定された量のスプレイ冷却水を供
給して冷却し、鋳片を連続的に鋳造していた。
ディッシュ）から鋳型（モールド）に溶湯を注ぎ、モー
ルドを冷却しつつモールドから鋳片を引き抜き、この鋳
片に複数のゾーン毎に設けられたノズルから鋳込速度に
対応してあらかじめ設定された量のスプレイ冷却水を供
給して冷却し、鋳片を連続的に鋳造していた。
（発明が解決しようとする課題） ところで、このような従来の連続鋳造設備においては
鋳込速度の変動時（または鋳片の先端或いは後端鋳込み
時）のような非定常的な鋳込み時には鋳片の非均一冷
却、特に過冷却が生じることがあった。このような鋳片
の非均一温度分布を防止するため従来はプロセスコンピ
ュータを用いて伝熱方程式を解くことにより所定の鋳片
表面温度が得られるスプレイ水量を各ゾーン毎に決めて
いる。この制御方法は通常ダイナミックスプレイ制御と
呼ばれている。このプロセスコンピュータによる計算は
10〜20秒毎に行う必要があるが、伝熱方程式を解くため
には大規模なソフトウェアと高価なハードウェアを必要
とした。
鋳込速度の変動時（または鋳片の先端或いは後端鋳込み
時）のような非定常的な鋳込み時には鋳片の非均一冷
却、特に過冷却が生じることがあった。このような鋳片
の非均一温度分布を防止するため従来はプロセスコンピ
ュータを用いて伝熱方程式を解くことにより所定の鋳片
表面温度が得られるスプレイ水量を各ゾーン毎に決めて
いる。この制御方法は通常ダイナミックスプレイ制御と
呼ばれている。このプロセスコンピュータによる計算は
10〜20秒毎に行う必要があるが、伝熱方程式を解くため
には大規模なソフトウェアと高価なハードウェアを必要
とした。
一方ダイナミックスプレイ制御以外の方法としてカス
ケード制御と呼ばれる方法がある。この方法では、スプ
レイ水量の設定値Qsvを実測鋳込速度Vcに対応して第４
図に示すようなVc−Qsvカーブに従って決定している。
このVc‐Qsvカーブは予め各制御ループ毎、各鋼種毎に
定められている。
ケード制御と呼ばれる方法がある。この方法では、スプ
レイ水量の設定値Qsvを実測鋳込速度Vcに対応して第４
図に示すようなVc−Qsvカーブに従って決定している。
このVc‐Qsvカーブは予め各制御ループ毎、各鋼種毎に
定められている。
しかしこの方法では実測鋳込速度Vcが急激に上昇した
ような場合にはスプレイ水量の設定値Qsvも直ちに上昇
し、鋳片の過冷却を引き起こしていた。
ような場合にはスプレイ水量の設定値Qsvも直ちに上昇
し、鋳片の過冷却を引き起こしていた。
従って本発明は、鋳込速度の変動時のような非定常的
な鋳込み時に発生する鋳片の非均一冷却、特に過冷却を
防止し得る連続鋳造設備におけるスプレイ水制御方法を
提供することを目的とするものである。
な鋳込み時に発生する鋳片の非均一冷却、特に過冷却を
防止し得る連続鋳造設備におけるスプレイ水制御方法を
提供することを目的とするものである。
（課題を解決するための手段） 本発明によれば、湯だまりから鋳型に溶湯を注ぎ、鋳
型を冷却しつつ鋳型から鋳片を引き抜き、この鋳片に複
数のゾーン毎にゾーン中心に設けられたノズルから鋳込
速度に対応して設定される流量のスプレイ冷却水を供給
して冷却する連続鋳造設備におけるスプレイ水制御方法
において、 前記スプレイ冷却水流量の設定は前記ゾーン毎に異な
り、前記鋳型から遠いゾーンほど長くなる時間遅れを持
たせて、鋳込速度に対応した値に前記スプレイ冷却水流
量を設定する方法であって、 前記複数のゾーンを第１乃至第Ｎ（Ｎは２以上の整
数）のゾーンとすると、前記第１乃至前記第Ｎのゾーン
の第ｎ（ｎは１からＮまで変化する）のゾーンの前記時
間遅れTnは、 Tn＝ln/V2 （ただし、lnは鋳型から前記第ｎのゾーンのゾーン中
心までの距離を表し、V2は、鋳込速度がV1からV2へと変
化した時点での変化後の鋳込速度を表すものとする。） で表され、 前記スプレイ冷却水流量を、変化前の鋳込速度V1に対
応するスプレイ冷却水流量Q1から変化後の鋳込速度V2に
対応するスプレイ冷却水流量Q2に、前記時間遅れTiをも
って、徐々に変化させることを特徴とする連続鋳造設備
におけるスプレイ水制御方法が得られる。
型を冷却しつつ鋳型から鋳片を引き抜き、この鋳片に複
数のゾーン毎にゾーン中心に設けられたノズルから鋳込
速度に対応して設定される流量のスプレイ冷却水を供給
して冷却する連続鋳造設備におけるスプレイ水制御方法
において、 前記スプレイ冷却水流量の設定は前記ゾーン毎に異な
り、前記鋳型から遠いゾーンほど長くなる時間遅れを持
たせて、鋳込速度に対応した値に前記スプレイ冷却水流
量を設定する方法であって、 前記複数のゾーンを第１乃至第Ｎ（Ｎは２以上の整
数）のゾーンとすると、前記第１乃至前記第Ｎのゾーン
の第ｎ（ｎは１からＮまで変化する）のゾーンの前記時
間遅れTnは、 Tn＝ln/V2 （ただし、lnは鋳型から前記第ｎのゾーンのゾーン中
心までの距離を表し、V2は、鋳込速度がV1からV2へと変
化した時点での変化後の鋳込速度を表すものとする。） で表され、 前記スプレイ冷却水流量を、変化前の鋳込速度V1に対
応するスプレイ冷却水流量Q1から変化後の鋳込速度V2に
対応するスプレイ冷却水流量Q2に、前記時間遅れTiをも
って、徐々に変化させることを特徴とする連続鋳造設備
におけるスプレイ水制御方法が得られる。
更に本発明によれば、湯だまりから鋳型に溶湯を注
ぎ、鋳型を冷却しつつ鋳型から鋳片を引き抜き、この鋳
片に複数のゾーン毎にゾーン中心に設けられたノズルか
ら鋳込速度に対応して設定される流量のスプレイ冷却水
を供給して冷却する連続鋳造設備におけるスプレイ水制
御方法において、 前記スプレイ冷却水流量の設定は前記ゾーン毎に異な
り、前記鋳型から遠いゾーンほど長くなる時間遅れを持
たせて、鋳込速度に対応した値に前記スプレイ冷却水流
量を設定する方法であって、 前記複数のゾーンを第１乃至第Ｎ（Ｎは２以上の整
数）のゾーンとすると、前記第１乃至前記第Ｎのゾーン
の第ｎ（ｎは１からＮまで変化する）のゾーンの前記時
間遅れTnは、 Tn＝ln/V2 （ただし、lnは鋳型から前記第ｎのゾーンのゾーン中
心までの距離を表し、V2は、鋳込速度がV1からV2へと変
化した時点での変化後の鋳込速度を表すものとする。） で表され、 前記スプレイ冷却水流量を、変化前の鋳込速度V1に対
応するスプレイ冷却水流量Q1から変化後の鋳込速度V2に
対応するスプレイ冷却水流量Q2に、前記時間遅れTiをも
って、徐々に変化させ、 鋳片の先端部或いは後端部の通過時には、前記スプレ
イ冷却水流量を、変化前の鋳込速度V1に対応するスプレ
イ冷却水流量Q1から、変化後の鋳込速度V2に対応するス
プレイ冷却水流量Q2に０より大きく１より小さい係数を
乗じた値に、前記時間遅れTiをもって、徐々に変化させ
ることを特徴とする連続鋳造設備におけるスプレイ水制
御方法が得られる。
ぎ、鋳型を冷却しつつ鋳型から鋳片を引き抜き、この鋳
片に複数のゾーン毎にゾーン中心に設けられたノズルか
ら鋳込速度に対応して設定される流量のスプレイ冷却水
を供給して冷却する連続鋳造設備におけるスプレイ水制
御方法において、 前記スプレイ冷却水流量の設定は前記ゾーン毎に異な
り、前記鋳型から遠いゾーンほど長くなる時間遅れを持
たせて、鋳込速度に対応した値に前記スプレイ冷却水流
量を設定する方法であって、 前記複数のゾーンを第１乃至第Ｎ（Ｎは２以上の整
数）のゾーンとすると、前記第１乃至前記第Ｎのゾーン
の第ｎ（ｎは１からＮまで変化する）のゾーンの前記時
間遅れTnは、 Tn＝ln/V2 （ただし、lnは鋳型から前記第ｎのゾーンのゾーン中
心までの距離を表し、V2は、鋳込速度がV1からV2へと変
化した時点での変化後の鋳込速度を表すものとする。） で表され、 前記スプレイ冷却水流量を、変化前の鋳込速度V1に対
応するスプレイ冷却水流量Q1から変化後の鋳込速度V2に
対応するスプレイ冷却水流量Q2に、前記時間遅れTiをも
って、徐々に変化させ、 鋳片の先端部或いは後端部の通過時には、前記スプレ
イ冷却水流量を、変化前の鋳込速度V1に対応するスプレ
イ冷却水流量Q1から、変化後の鋳込速度V2に対応するス
プレイ冷却水流量Q2に０より大きく１より小さい係数を
乗じた値に、前記時間遅れTiをもって、徐々に変化させ
ることを特徴とする連続鋳造設備におけるスプレイ水制
御方法が得られる。
（実施例） 以下、図面により本発明の一実施例を説明する。
第１図は本発明が適用される連続鋳造設備の一部を示
す概略構成図である。図示しない湯だまり（タンディッ
シュ）からモールド11に溶湯を注ぐ。モールド11は冷却
され、鋳片12はこのモールドから引き抜かれ多数のロー
ラが配列された円弧ローラエプロン部13を通り同じく多
数のローラが配列された水平引抜き矯正部14に供給され
る。円弧ローラエプロン部13は複数のゾーン15−１、15
−２、15−３…に区分されている。各ゾーンの複数のロ
ーラのうち少なくとも一つは駆動ローラとして作用し、
この駆動ローラはそれぞれ電動機（図示せず）に連結さ
れている。各ゾーン15−１、15−２、15−３…の中心に
はスプレイ水供給用のノズル16−１、16−2,16−３…が
設けられ、それぞれに流量調節弁17−１、17−２、17−
３…および流量計18−１、18−２、18−３…を介してス
プレイ水が供給される。
す概略構成図である。図示しない湯だまり（タンディッ
シュ）からモールド11に溶湯を注ぐ。モールド11は冷却
され、鋳片12はこのモールドから引き抜かれ多数のロー
ラが配列された円弧ローラエプロン部13を通り同じく多
数のローラが配列された水平引抜き矯正部14に供給され
る。円弧ローラエプロン部13は複数のゾーン15−１、15
−２、15−３…に区分されている。各ゾーンの複数のロ
ーラのうち少なくとも一つは駆動ローラとして作用し、
この駆動ローラはそれぞれ電動機（図示せず）に連結さ
れている。各ゾーン15−１、15−２、15−３…の中心に
はスプレイ水供給用のノズル16−１、16−2,16−３…が
設けられ、それぞれに流量調節弁17−１、17−２、17−
３…および流量計18−１、18−２、18−３…を介してス
プレイ水が供給される。
第２図は第１図におけるスプレイ冷却水の供給量Qsv
の本発明による設定方法を示すブロック図である。鋳込
速度検出器21の出力である実測鋳込速度Vcは遅れ回路22
により所定の遅延時間Ｔが与えられる。遅れ回路22の出
力は実測鋳込速度（Vc）をスプレイ冷却水の供給流量
（Qsv）に変換する変換器23に供給され、その出力側に
供給流量Qsvが得られる。この供給流量Qsvは係数回路24
においてデータレジスタ25に記憶された所定の係数Ｋが
乗じられ、出力端子26に冷却水の供給流量KQsvが得られ
る。この供給流量KQsvの値により第１図の流量調節弁17
−１、17−２、17−３…および流量計18−１、18−２、
18−３…が制御される。
の本発明による設定方法を示すブロック図である。鋳込
速度検出器21の出力である実測鋳込速度Vcは遅れ回路22
により所定の遅延時間Ｔが与えられる。遅れ回路22の出
力は実測鋳込速度（Vc）をスプレイ冷却水の供給流量
（Qsv）に変換する変換器23に供給され、その出力側に
供給流量Qsvが得られる。この供給流量Qsvは係数回路24
においてデータレジスタ25に記憶された所定の係数Ｋが
乗じられ、出力端子26に冷却水の供給流量KQsvが得られ
る。この供給流量KQsvの値により第１図の流量調節弁17
−１、17−２、17−３…および流量計18−１、18−２、
18−３…が制御される。
遅れ回路22で与えられる遅延時間Ｔは鋳片12が移動す
る複数のゾーン毎に異なり、次のように設定される。第
１図において、モールド11部分からの各ゾーン15−１、
15−２、15−３…の中心までの距離をそれぞれl1、l2、
l3…とする。いま鋳込速度がV1からV2に変化したとする
と、各ゾーンの制御ループにおける遅延時間T1、T2、T3
…は次のように与えられる。
る複数のゾーン毎に異なり、次のように設定される。第
１図において、モールド11部分からの各ゾーン15−１、
15−２、15−３…の中心までの距離をそれぞれl1、l2、
l3…とする。いま鋳込速度がV1からV2に変化したとする
と、各ゾーンの制御ループにおける遅延時間T1、T2、T3
…は次のように与えられる。
T1＝l1/V2 T2＝l2/V2 T3＝l3/V2 … これらの関係式から明らかなように、各ゾーンの制御
ループにおける遅延時間は下方のゾーンすなわちモール
ドから遠いゾーン程長くなっていることが分かる。
ループにおける遅延時間は下方のゾーンすなわちモール
ドから遠いゾーン程長くなっていることが分かる。
次ぎに、係数回路において流量Qsvに乗ずる係数Ｋは
定常時は１であるが、非定常時例えば鋳片先端部の通過
時はX1、鋳片後端部の通過時はX2、タンディッシュ交換
時はX3とそれぞれ異ならせる。ここで、X1〜X3はそれぞ
れ０より大きく１より小さい値とする。
定常時は１であるが、非定常時例えば鋳片先端部の通過
時はX1、鋳片後端部の通過時はX2、タンディッシュ交換
時はX3とそれぞれ異ならせる。ここで、X1〜X3はそれぞ
れ０より大きく１より小さい値とする。
第３図により本発明のスプレイ水制御方法を連続的鋳
造設備に適用した場合の動作を説明する。第３図（Ａ）
に示すように鋳込速度がV1からV2に変化すると、冷却水
の供給流量Qsvは第３図（Ｃ）に示すようにＴの遅延時
間を持って徐々にQ1からQ2に変化する。しかもモールド
11から遠いゾーン程遅延時間Ｔが大きくなっているた
め、Vcの変動による鋳片表面温度の過度の変動を防止で
きる。なお、第３図（Ｂ）は遅延回路を設けない場合の
冷却水の供給流量Qsvの変化を示しており、Qsvが急激に
変化している。
造設備に適用した場合の動作を説明する。第３図（Ａ）
に示すように鋳込速度がV1からV2に変化すると、冷却水
の供給流量Qsvは第３図（Ｃ）に示すようにＴの遅延時
間を持って徐々にQ1からQ2に変化する。しかもモールド
11から遠いゾーン程遅延時間Ｔが大きくなっているた
め、Vcの変動による鋳片表面温度の過度の変動を防止で
きる。なお、第３図（Ｂ）は遅延回路を設けない場合の
冷却水の供給流量Qsvの変化を示しており、Qsvが急激に
変化している。
鋳片先端部および鋳片後端部の通過は図示しない検出
器によりトラッキングされ、これらが各ゾーンを通過す
るときはQsvを係数Ｋにより定常鋳込み時の水量より少
なくする。従って鋳片先端部および鋳片後端部の過冷却
をも防止することができる。タンディッシュ交換時も同
様にQsvを少なくして通常のカスケード制御で発生する
過冷却を防止することができる。
器によりトラッキングされ、これらが各ゾーンを通過す
るときはQsvを係数Ｋにより定常鋳込み時の水量より少
なくする。従って鋳片先端部および鋳片後端部の過冷却
をも防止することができる。タンディッシュ交換時も同
様にQsvを少なくして通常のカスケード制御で発生する
過冷却を防止することができる。
（発明の効果） 以上説明した本発明の連続鋳造設備におけるスプレイ
水制御方法によればプロセスコンピュータを用いること
無く、計装レベルのコントローラにより非定常鋳込時に
おいても鋳片表面温度を均一に制御することかできる。
水制御方法によればプロセスコンピュータを用いること
無く、計装レベルのコントローラにより非定常鋳込時に
おいても鋳片表面温度を均一に制御することかできる。
第１図は本発明が適用される連続鋳造設備の一部を示す
概略構成図、第２図は第１図におけるスプレイ冷却水の
供給量Qsvの設定方法を示すブロック図、第３図は本発
明のスプレイ水制御方法を適用した場合の冷却水供給量
Qsvの変化を示すグラフ、第４図は従来のカスケード制
御法におけるVc‐Qsvカーブを示すグラフである。 11…モールド、12…鋳片、13…円弧ローラエプロン部、
14…水平引抜き矯正部、15…ゾーン、16…ノズル、17…
流量調節弁、18…流量計、21…鋳込速度検出器、22…遅
れ回路、23…変換器、24…係数回路。
概略構成図、第２図は第１図におけるスプレイ冷却水の
供給量Qsvの設定方法を示すブロック図、第３図は本発
明のスプレイ水制御方法を適用した場合の冷却水供給量
Qsvの変化を示すグラフ、第４図は従来のカスケード制
御法におけるVc‐Qsvカーブを示すグラフである。 11…モールド、12…鋳片、13…円弧ローラエプロン部、
14…水平引抜き矯正部、15…ゾーン、16…ノズル、17…
流量調節弁、18…流量計、21…鋳込速度検出器、22…遅
れ回路、23…変換器、24…係数回路。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−212157（ＪＰ，Ａ) 特公 昭43−16721（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B22D 11/00 - 11/22
Claims (2)
- 【請求項１】湯だまりから鋳型に溶湯を注ぎ、鋳型を冷
却しつつ鋳型から鋳片を引き抜き、この鋳片に複数のゾ
ーン毎にゾーン中心に設けられたノズルから鋳込速度に
対応して設定される流量のスプレイ冷却水を供給して冷
却する連続鋳造設備におけるスプレイ水制御方法におい
て、 前記スプレイ冷却水流量の設定は前記ゾーン毎に異な
り、前記鋳型から遠いゾーンほど長くなる時間遅れを持
たせて、鋳込速度に対応した値に前記スプレイ冷却水流
量を設定する方法であって、 前記複数のゾーンを第１乃至第Ｎ（Ｎは２以上の整数）
のゾーンとすると、前記第１乃至前記第Ｎのゾーンの第
ｎ（ｎは１からＮまで変化する）のゾーンの前記時間遅
れTnは、 Tn＝ln/V2 （ただし、lnは鋳型から前記第ｎのゾーンのゾーン中心
までの距離を表し、V2は、鋳込速度がV1からV2へと変化
した時点での変化後の鋳込速度を表すものとする。） で表され、 前記スプレイ冷却水流量を、変化前の鋳込速度V1に対応
するスプレイ冷却水流量Q1から変化後の鋳込速度V2に対
応するスプレイ冷却水流量Q2に、前記時間遅れTiをもっ
て、徐々に変化させることを特徴とする連続鋳造設備に
おけるスプレイ水制御方法。 - 【請求項２】湯だまりから鋳型に溶湯を注ぎ、鋳型を冷
却しつつ鋳型から鋳片を引き抜き、この鋳片に複数のゾ
ーン毎にゾーン中心に設けられたノズルから鋳込速度に
対応して設定される流量のスプレイ冷却水を供給して冷
却する連続鋳造設備におけるスプレイ水制御方法におい
て、 前記スプレイ冷却水流量の設定は前記ゾーン毎に異な
り、前記鋳型から遠いゾーンほど長くなる時間遅れを持
たせて、鋳込速度に対応した値に前記スプレイ冷却水流
量を設定する方法であって、 前記複数のゾーンを第１乃至第Ｎ（Ｎは２以上の整数）
のゾーンとすると、前記第１乃至前記第Ｎのゾーンの第
ｎ（ｎは１からＮまで変化する）のゾーンの前記時間遅
れTnは、 Tn＝ln/V2 （ただし、lnは鋳型から前記第ｎのゾーンのゾーン中心
までの距離を表し、V2は、鋳込速度がV1からV2へと変化
した時点での変化後の鋳込速度を表すものとする。） で表され、 前記スプレイ冷却水流量を、変化前の鋳込速度V1に対応
するスプレイ冷却水流量Q1から変化後の鋳込速度V2に対
応するスプレイ冷却水流量Q2に、前記時間遅れTiをもっ
て、徐々に変化させ、 鋳片の先端部或いは後端部の通過時には、前記スプレイ
冷却水流量を、変化前の鋳込速度V1に対応するスプレイ
冷却水流量Q1から、変化後の鋳込速度V2に対応するスプ
レイ冷却水流量Q2に０より大きく１より小さい係数を乗
じた値に、前記時間遅れTiをもって、徐々に変化させる
ことを特徴とする連続鋳造設備におけるスプレイ水制御
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003345A JP2932196B2 (ja) | 1990-01-12 | 1990-01-12 | 連続鋳造設備におけるスプレイ水制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003345A JP2932196B2 (ja) | 1990-01-12 | 1990-01-12 | 連続鋳造設備におけるスプレイ水制御方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03210954A JPH03210954A (ja) | 1991-09-13 |
| JP2932196B2 true JP2932196B2 (ja) | 1999-08-09 |
Family
ID=11554768
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003345A Expired - Lifetime JP2932196B2 (ja) | 1990-01-12 | 1990-01-12 | 連続鋳造設備におけるスプレイ水制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2932196B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100476807B1 (ko) * | 2000-06-28 | 2005-03-16 | 주식회사 포스코 | 냉간압연 저속부 형상 제어방법 |
| CN115821175B (zh) * | 2022-10-31 | 2024-04-09 | 首都航天机械有限公司 | 一种5m级直径贮箱整体箱底多曲率变截面变形控制方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59212157A (ja) * | 1983-05-16 | 1984-12-01 | Nippon Steel Corp | 連鋳２次冷却水の制御方法 |
-
1990
- 1990-01-12 JP JP2003345A patent/JP2932196B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03210954A (ja) | 1991-09-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
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