JP2921157B2 - イメージ炉の熱制御方式 - Google Patents
イメージ炉の熱制御方式Info
- Publication number
- JP2921157B2 JP2921157B2 JP8276291A JP8276291A JP2921157B2 JP 2921157 B2 JP2921157 B2 JP 2921157B2 JP 8276291 A JP8276291 A JP 8276291A JP 8276291 A JP8276291 A JP 8276291A JP 2921157 B2 JP2921157 B2 JP 2921157B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image furnace
- thermal control
- quartz tube
- energy
- visible light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Control Of Resistance Heating (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はイメージ炉の熱制御方式
に関し、特にイメージ炉の鏡面部の光学的処理を改良し
たイメージ炉の熱制御方式に関する。
に関し、特にイメージ炉の鏡面部の光学的処理を改良し
たイメージ炉の熱制御方式に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般にイメージ炉は図２に示すように、
楕円体内部の曲面に鏡面処理がなされており、この楕円
体の一方の集点にハロゲンランプのランプフィラメント
１を、そして他方の集点に試料５を置くことにより、ハ
ロゲンランプの光を鏡面で反射させた可視光線エネルギ
の流れＬ１を試料５に集光させて資料５を融解させる。
また、試料５の融解時に発生する試料５の蒸気がイメー
ジ炉の鏡面部に付着することを防ぐために、資料５の回
りは中空の石英管４で囲まれている。
楕円体内部の曲面に鏡面処理がなされており、この楕円
体の一方の集点にハロゲンランプのランプフィラメント
１を、そして他方の集点に試料５を置くことにより、ハ
ロゲンランプの光を鏡面で反射させた可視光線エネルギ
の流れＬ１を試料５に集光させて資料５を融解させる。
また、試料５の融解時に発生する試料５の蒸気がイメー
ジ炉の鏡面部に付着することを防ぐために、資料５の回
りは中空の石英管４で囲まれている。
【０００３】従来、この種のイメージ炉は、ハロゲンラ
ンプのバルブ壁２及び石英管４は、それぞれランプフィ
ラメント１および試料５から放出される赤外線Ｌ２及び
Ｌ４を吸収する。しかし、ランプバルブ壁２，石英管４
からの赤外線Ｌ３及びＬ５による２次的な放熱は、鏡面
の金メッキ６の部分で反射され、大半は石英管４もしく
はランプバルブ壁２で再び吸収されてしまうために、結
果的に、有効な放熱が困難となっている。このことによ
り両者は非常な高温となるが、これらが融解してしまう
ことを防ぐために、従来の技術では、強制空冷を行った
り、ランプバルブ壁２、石英管４の径を大きくして入熱
密度を下げていた。
ンプのバルブ壁２及び石英管４は、それぞれランプフィ
ラメント１および試料５から放出される赤外線Ｌ２及び
Ｌ４を吸収する。しかし、ランプバルブ壁２，石英管４
からの赤外線Ｌ３及びＬ５による２次的な放熱は、鏡面
の金メッキ６の部分で反射され、大半は石英管４もしく
はランプバルブ壁２で再び吸収されてしまうために、結
果的に、有効な放熱が困難となっている。このことによ
り両者は非常な高温となるが、これらが融解してしまう
ことを防ぐために、従来の技術では、強制空冷を行った
り、ランプバルブ壁２、石英管４の径を大きくして入熱
密度を下げていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のランプ
バルブ壁等の熱制御方式のうち、強制空冷によるもので
は、空冷を行うための付加的な装置が必要となる。ま
た、石英管、ランプバルブ壁の径を大きくする方法は、
イメージ炉本体の大型化も必要となる。前述の二つの冷
却手段は、たとえば、宇宙機に搭載する場合には、重
量，容積の制限があるので、重大な欠点となる。
バルブ壁等の熱制御方式のうち、強制空冷によるもので
は、空冷を行うための付加的な装置が必要となる。ま
た、石英管、ランプバルブ壁の径を大きくする方法は、
イメージ炉本体の大型化も必要となる。前述の二つの冷
却手段は、たとえば、宇宙機に搭載する場合には、重
量，容積の制限があるので、重大な欠点となる。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明のイメージ炉の熱
制御方式は、イメージ炉において、一方の焦点の可視発
光源の光エネルギを他方の焦点に集束させる鏡面部の表
面に赤外線に対して吸収率が高く、かつ、可視光に対し
て透過率が高い物質のコーティング層を形成している。
制御方式は、イメージ炉において、一方の焦点の可視発
光源の光エネルギを他方の焦点に集束させる鏡面部の表
面に赤外線に対して吸収率が高く、かつ、可視光に対し
て透過率が高い物質のコーティング層を形成している。
【０００６】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。図１は本発明の一実施例の説明を含む構成図であ
る。
る。図１は本発明の一実施例の説明を含む構成図であ
る。
【０００７】図１の実施例で図２の従来例と相違する点
は、金メッキ６の内面にコーティング３をほどこした点
にある。コーティング３は赤外線吸収率が高く、かつ可
視光の透過率が高い物質である石英ガラスにより形成さ
れている。コーティング３が鏡面部の金メッキ６表面に
コートされている。ランプフィラメント１から放出され
る光のうち、可視光線のエネルギーＬ１はほとんど、ラ
ンプバルブ壁２、コーティング３を透過し、金メッキ６
で反射された後に石英管４を透過し、試料５に集光され
る。また、赤外線のエネルギーＬ２はランプバルブ壁２
で吸収される。この吸収されたエネルギーＬ２は赤外線
のエネルギーＬ３の形で一部が放出されるが、金メッキ
６の鏡面部にコーティング３を施してあるために、鏡面
部でこのエネルギーＬ３は反射されることはなく、コー
ティング３で吸収率約８０％程度が吸収される。また、
加熱された試料５から放出される赤外線エネルギーＬ４
は、石英管４で吸収される。石英管４で吸収されたエネ
ルギーＬ４の残りは赤外線エネルギーＬ５の形で放出さ
れ、コーティング３で吸収される。従って、このコーテ
ィング３を行うことにより、石英管４及びランプバルブ
壁２の放熱効率があがり、石英管４及びランプバルブ壁
２の温度上昇を防ぐ効果がある。
は、金メッキ６の内面にコーティング３をほどこした点
にある。コーティング３は赤外線吸収率が高く、かつ可
視光の透過率が高い物質である石英ガラスにより形成さ
れている。コーティング３が鏡面部の金メッキ６表面に
コートされている。ランプフィラメント１から放出され
る光のうち、可視光線のエネルギーＬ１はほとんど、ラ
ンプバルブ壁２、コーティング３を透過し、金メッキ６
で反射された後に石英管４を透過し、試料５に集光され
る。また、赤外線のエネルギーＬ２はランプバルブ壁２
で吸収される。この吸収されたエネルギーＬ２は赤外線
のエネルギーＬ３の形で一部が放出されるが、金メッキ
６の鏡面部にコーティング３を施してあるために、鏡面
部でこのエネルギーＬ３は反射されることはなく、コー
ティング３で吸収率約８０％程度が吸収される。また、
加熱された試料５から放出される赤外線エネルギーＬ４
は、石英管４で吸収される。石英管４で吸収されたエネ
ルギーＬ４の残りは赤外線エネルギーＬ５の形で放出さ
れ、コーティング３で吸収される。従って、このコーテ
ィング３を行うことにより、石英管４及びランプバルブ
壁２の放熱効率があがり、石英管４及びランプバルブ壁
２の温度上昇を防ぐ効果がある。
【０００８】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、石英ガラ
スのコーティングを鏡面部にほどこすことにより、石英
管及びランプバルブ壁から放出される赤外線は、鏡面部
で反射されずに大半はコーティング部で吸収されるの
で、石英管及びランプバルブ壁の非常に効率の良い放熱
を行うことができ、高温となることを防止できる効果が
ある。したがって、従来例のような冷却のための付加的
な装置やイメージ炉の大型化といった重量，容積の増加
をさけることができる。
スのコーティングを鏡面部にほどこすことにより、石英
管及びランプバルブ壁から放出される赤外線は、鏡面部
で反射されずに大半はコーティング部で吸収されるの
で、石英管及びランプバルブ壁の非常に効率の良い放熱
を行うことができ、高温となることを防止できる効果が
ある。したがって、従来例のような冷却のための付加的
な装置やイメージ炉の大型化といった重量，容積の増加
をさけることができる。
【図１】本発明の一実施例のイメージ炉断面及びエネル
ギーの流れを示す構成図である。
ギーの流れを示す構成図である。
【図２】従来のイメージ炉の熱制御方式の構成図であ
る。
る。
１ ランプフィラメント ２ ランプバルブ壁 ３ コーティング ４ 石英管 ５ 試料 ６ 金メッキ Ｌ１ フィラメントから放出される可視光線エネルギ
ーの流れ（破線） Ｌ２〜Ｌ５ 赤外線のエネルギーの流れ（波線）
ーの流れ（破線） Ｌ２〜Ｌ５ 赤外線のエネルギーの流れ（波線）
Claims (2)
- 【請求項１】 イメージ炉において、一方の焦点の可視
発光源の光エネルギを他方の焦点に集束させる鏡面部の
表面に赤外線に対して吸収率が高く、かつ、可視光に対
して透過率が高い物質のコーティング層を形成している
ことを特徴とするイメージ炉の熱制御方式。 - 【請求項２】 前記コーティング層の物質が石英ガラス
であることを特徴とする請求項１記載のイメージ炉の熱
制御方式。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8276291A JP2921157B2 (ja) | 1991-04-16 | 1991-04-16 | イメージ炉の熱制御方式 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8276291A JP2921157B2 (ja) | 1991-04-16 | 1991-04-16 | イメージ炉の熱制御方式 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04316981A JPH04316981A (ja) | 1992-11-09 |
| JP2921157B2 true JP2921157B2 (ja) | 1999-07-19 |
Family
ID=13783458
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8276291A Expired - Lifetime JP2921157B2 (ja) | 1991-04-16 | 1991-04-16 | イメージ炉の熱制御方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2921157B2 (ja) |
-
1991
- 1991-04-16 JP JP8276291A patent/JP2921157B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04316981A (ja) | 1992-11-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3094902B2 (ja) | 紫外線照射装置 | |
| US5099399A (en) | High efficiency fiber optics illuminator with thermally controlled light guide bushing | |
| US6511715B2 (en) | Method for UV curing a coating on a filament or the like | |
| JPH06349813A (ja) | サブストレートを加熱する装置 | |
| JP2921157B2 (ja) | イメージ炉の熱制御方式 | |
| US6599585B2 (en) | UV curing system for heat sensitive substances and process | |
| JPH01211705A (ja) | 光ファイバーによる発光体の光源装置 | |
| EP0854121B1 (en) | Apparatus for curing a fiber having at least two fiber coating curing stages separated by a cooling stage | |
| JPH0527027B2 (ja) | ||
| JPH0126774Y2 (ja) | ||
| JPH0729844A (ja) | 半導体基板の赤外線加熱方法及び赤外線加熱装置 | |
| JPH0550007A (ja) | 紫外線照射装置 | |
| RU2127176C1 (ru) | Устройство для светолучевой пайки и сварки металлов и неметаллов | |
| JPS62121637A (ja) | 溶融方法 | |
| JPH09168551A (ja) | 光硬化装置 | |
| JP2842676B2 (ja) | 光ビーム照射装置 | |
| JPH0230454Y2 (ja) | ||
| RU2013192C1 (ru) | Лучевой паяльник | |
| JP2558659B2 (ja) | 赤外線加熱単結晶製造装置 | |
| JPS5814127A (ja) | 複写機の照明装置 | |
| JPS62158984A (ja) | 溶融装置 | |
| KR830000056B1 (ko) | 가열장치 | |
| RU93000518A (ru) | Устройство для локального облучения | |
| JP2658921B2 (ja) | イメージ炉 | |
| JP2001201645A (ja) | 平板付プラスチック製光ファイバ及び平板付プラスチック製光ファイバの製造方法、光ファイバ端面処理器具並びに光伝送システム |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19990330 |