JP2916360B2 - Semiconductor device packaging method and semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device packaging method and semiconductor device

Info

Publication number
JP2916360B2
JP2916360B2 JP5306783A JP30678393A JP2916360B2 JP 2916360 B2 JP2916360 B2 JP 2916360B2 JP 5306783 A JP5306783 A JP 5306783A JP 30678393 A JP30678393 A JP 30678393A JP 2916360 B2 JP2916360 B2 JP 2916360B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lead
dam bar
cutting
semiconductor device
bending
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP5306783A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH06232309A (en
Inventor
茂行 桜井
直毅 三柳
信彦 多田
義昭 下村
義也 長野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Construction Machinery Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Construction Machinery Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Construction Machinery Co Ltd filed Critical Hitachi Construction Machinery Co Ltd
Priority to JP5306783A priority Critical patent/JP2916360B2/en
Publication of JPH06232309A publication Critical patent/JPH06232309A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2916360B2 publication Critical patent/JP2916360B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、集積回路などの半導体
素子を保護するためのパッケージング方法及びパッケー
ジ装置並びに半導体装置に関し、特にリードフレームを
用いたパッケージングに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a packaging method for protecting a semiconductor element such as an integrated circuit, a packaging device, and a semiconductor device, and more particularly to a packaging using a lead frame.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年情報化社会の到来と共に、計算機の
CPU(中央処理装置)に代表されるような半導体装置
の小型化、高密度実装化が一段と加速されてきた。これ
ら集積回路半導体は、外部雰囲気から遮断して特性を安
定化させるために、保護ケースに充填されている、いわ
ゆるパッケージングが行われた後で出荷される。
2. Description of the Related Art In recent years, with the advent of the information-oriented society, miniaturization and high-density mounting of semiconductor devices typified by CPUs (central processing units) of computers have been further accelerated. These integrated circuit semiconductors are shipped after so-called packaging, which is filled in a protective case in order to stabilize the characteristics by isolating them from the external atmosphere.

【0003】集積回路のパッケージングは、半導体素子
のチップをリードフレームのダイパッド部にダイボンデ
ィング後、チップの導電端子をリードフレームのリード
端子にワイヤボンディングし、樹脂モールド(封入)
し、リードフレームのアウターリードの成形を行い、刻
印して出来上がる。
In packaging an integrated circuit, a semiconductor device chip is die-bonded to a die pad portion of a lead frame, and then conductive terminals of the chip are wire-bonded to lead terminals of the lead frame, followed by resin molding (encapsulation).
Then, the outer lead of the lead frame is molded, stamped and completed.

【0004】リードフレーム材料は、コバール、Fe−
Ni合金、隣青銅、銅、鉄などの薄い帯状の金属板であ
る。リードフレームは、この帯状金属板を適宜に切欠い
て半導体装置用リードフレーム形状を形成したものであ
り、通常の場合、加工中の取扱いを容易にするため、同
一形状のリードフレームを複数個連結した状態で取り扱
う。また個々のリードフレーム用形状は、リードフレー
ムの中央に半導体チップを取付けるためのダイパッド部
があり、その周囲に多数のリードが配列されている。
[0004] The lead frame material is Kovar, Fe-
It is a thin strip-shaped metal plate made of Ni alloy, adjacent bronze, copper, iron, or the like. The lead frame is formed by appropriately notching the band-shaped metal plate to form a lead frame shape for a semiconductor device. In general, in order to facilitate handling during processing, a plurality of lead frames having the same shape are connected. Handle in state. In each lead frame shape, a die pad portion for attaching a semiconductor chip is provided at the center of the lead frame, and a large number of leads are arranged around the die pad portion.

【0005】各リードの内側(インナーリード)は、半
導体チップの接続端子とリード間をワイヤボンディング
された後、全体がモールド樹脂によって封止される。ま
た、各リードの外側(アウターリード)には、モールド
成形時に、リードとリード隙間から、モールド樹脂が流
出するのをせき止めるためのダムバーが設けられ、この
ダムバーによって、各リードの外側部分が互いに連結さ
れている。さらに、各リードの外周端は、金属板の外枠
部分と連結されている。即ち、リードフレームは、ダイ
パッド部、リード端子(インナーリード部、ダムバー、
アウターリード部)及び外周の連結部から成る。
The inside of each lead (inner lead) is wire-bonded between the connection terminal of the semiconductor chip and the lead, and then the whole is sealed with a mold resin. In addition, a dam bar is provided on the outside of each lead (outer lead) to prevent the molding resin from flowing out of the lead and the lead gap during molding, and the outer portions of the leads are connected to each other by the dam bar. Have been. Further, the outer peripheral end of each lead is connected to the outer frame portion of the metal plate. That is, the lead frame has a die pad portion, a lead terminal (an inner lead portion, a dam bar,
(Outer lead portion) and a connecting portion on the outer periphery.

【0006】図15は、モールド成形後のリードフレー
ム全体図、図16、図15の#2の部分図である。さら
に、図17、図15から切り取った個々の半導体装置で
あって且つダムバー除去後の個々の半導体装置である。
このように半導体装置を切り取った後で、ダムバーを切
り取るやり方をとる。その後でリードフレームを折り曲
げて所定の形状に成形し、製品の半導体装置が完成す
る。ここで、図15〜図17を図に沿って説明する。
FIG. 15 is an overall view of a lead frame after molding, and FIGS. 16 and 15 are partial views of # 2 in FIG. Further, the individual semiconductor devices are cut out from FIGS. 17 and 15 and after the dam bar is removed.
After cutting the semiconductor device in this manner, a method of cutting the dam bar is adopted. Thereafter, the lead frame is bent and formed into a predetermined shape, thereby completing a semiconductor device as a product. Here, FIGS. 15 to 17 will be described with reference to the drawings.

【0007】図15は樹脂モールド後の3連式半導体装
置の全体図である。3連式半導体装置は、#1〜#3の
3つの半導体装置をリードフレーム部100で連続した
状態の装置である。#2の半導体装置を図16に示す。
リードフレーム部100は、半導体部200、300、
400と各リードフレーム500、600、700より
成り、図16ではこの中で半導体部200のみを、特に
示してある。半導体部200、300、400は、樹脂
モールドずみであり、次の行程ではダムバー切断に入る
ものとする。
FIG. 15 is an overall view of a triple semiconductor device after resin molding. The triple semiconductor device is a device in which three semiconductor devices # 1 to # 3 are connected in a lead frame unit 100. FIG. 16 shows the semiconductor device of # 2.
The lead frame unit 100 includes semiconductor units 200, 300,
In FIG. 16, only the semiconductor section 200 is particularly shown. The semiconductor sections 200, 300, and 400 are already resin-molded, and are to be cut into dam bars in the next step.

【0008】図15で、各半導体装置#1、#2、#3
は、四角形の半導体部200、300、400を有し、
且つその4つの角辺から、辺に直交する方向にリードフ
レーム500、600、700が導出している。これ
は、QFP(4辺形フラットパッケージ装置)と呼ばれ
ている。#1と#2、及び#2と#3との間は、孔10
1、110で区切られている。この3連式の他に、直列
に6連構成の直列6連式、3連式を並列にした並列6連
式などがある。
In FIG. 15, each of the semiconductor devices # 1, # 2, # 3
Has square semiconductor parts 200, 300, 400,
In addition, lead frames 500, 600, and 700 are derived from the four corner sides in a direction orthogonal to the sides. This is called a QFP (quadrilateral flat package device). Holes 10 between # 1 and # 2 and between # 2 and # 3
1, 110 are separated. In addition to the triple type, there is a series six-series type having a six-series configuration and a parallel six-series type in which the three-series type is arranged in parallel.

【0009】図16の半導体装置#2は、周囲に樹脂モ
ールドされた半導体部200の4辺から、リードフレー
ム120、130、140、150がその辺に直交する
方向に導出している。各リードフレーム120、13
0、140、150は、リードフレーム本体500、5
00B、500C、500Dと、各リードフレーム本体
に直交方向で結合するダムバー800A、800B、8
00C、800Dとより成る。ダムバー800A〜80
0Dが、半導体部2への樹脂モールド時の樹脂のリード
フレームへの流出の防止部材となる。
In the semiconductor device # 2 shown in FIG. 16, lead frames 120, 130, 140, and 150 extend from four sides of a semiconductor portion 200 resin-molded therearound in a direction perpendicular to the sides. Each lead frame 120, 13
0, 140, 150 are the lead frame bodies 500, 5,
00B, 500C, and 500D, and dam bars 800A, 800B, and 8 that are coupled to the respective lead frame bodies in orthogonal directions.
00C and 800D. Dam bar 800A-80
OD serves as a member for preventing the resin from flowing into the lead frame during resin molding on the semiconductor portion 2.

【0010】この樹脂封止後に、ダムバー800A〜8
00Dを切断し、各リードフレーム本体を電気的に独立
したものとする。ダムバー800A〜800Dを除去
し、且つ周辺の各辺の不要リードフレーム部材を除去し
た様子を図17に示す。これは図15の点線部160に
示した部分に相当する。除去したダムバー800A〜8
00Dの様子を図17では点線で示してある。
After this resin sealing, the dam bars 800A-8A
00D is cut to make each lead frame body electrically independent. FIG. 17 shows a state in which the dam bars 800A to 800D have been removed and unnecessary lead frame members on the peripheral sides have been removed. This corresponds to the portion shown by the dotted line section 160 in FIG. Removed dam bar 800A-8
The state of 00D is indicated by a dotted line in FIG.

【0011】図7は、図16を実質的に示したものであ
り、記号は異なっているが実質的には同じである。この
図7は、大規模集積回路用によく用いられるQFP型リ
ードフレームの上面図を示す。図7では、前記したパッ
ケージング工程のうち、樹脂モールドが完了した段階の
リードフレーム2が示されている。図示したように樹脂
モールドされた半導体1の4辺から複数本の平行なリー
ド端子3が突出している。各リード端子を横一直線につ
なぐダムバー4によって、各リード端子3はワイヤボン
ディング部31及びアウターリード部32に分割されて
いる。またアウターリード部32の外側には、リード端
子の連結部11が残されている。なお、14はリードフ
レーム2を加工するために連結部11に設けられている
位置あわせ孔である。
FIG. 7 is a substantial view of FIG. 16, where the symbols are different but substantially the same. FIG. 7 shows a top view of a QFP type lead frame often used for a large scale integrated circuit. FIG. 7 shows the lead frame 2 at the stage when the resin molding is completed in the above-described packaging process. As shown, a plurality of parallel lead terminals 3 project from four sides of the resin-molded semiconductor 1. Each lead terminal 3 is divided into a wire bonding portion 31 and an outer lead portion 32 by a dam bar 4 connecting the respective lead terminals in a horizontal straight line. The connecting portion 11 of the lead terminal is left outside the outer lead portion 32. Reference numeral 14 denotes an alignment hole provided in the connecting portion 11 for processing the lead frame 2.

【0012】ボンディングされたワイヤまで含む半導体
素子1の樹脂モールドの際、型枠から洩れて流出した樹
脂は、ダムバー4にせきとめられてアウターリード部3
2まで流れることはない。図示されてないが、ダムバー
4にせきとめられた樹脂液は、隣接するワイヤボンディ
ング部の間の溝にはみ出てレジンばりを作る。レジンば
りは、ダムバー4切断加工の前または後で除去される。
しかる後、半導体装置をプリント基板等に直接接合でき
る形状とするためにアウターリード部32の曲げ加工が
行われる。その後刻印して選別加工に廻される。
During the resin molding of the semiconductor element 1 including the bonded wires, the resin leaking from the mold and flowing out is caught by the dam bar 4 and caught by the outer lead portion 3.
It does not flow to 2. Although not shown, the resin liquid caught in the dam bar 4 protrudes into a groove between the adjacent wire bonding portions to form a resin beam. The resin burr is removed before or after the dam bar 4 cutting process.
Thereafter, the outer lead portion 32 is subjected to a bending process in order to form the semiconductor device into a shape that can be directly bonded to a printed board or the like. It is then stamped and sent for sorting.

【0013】以上説明したリードフレーム構造半導体装
置のパッケージングを、まとめて工程図で示したのが図
2である。図2によればコバールやFe−Ni合金など
の金属板を素材として準備し(F1)、所定のパターン
に基づいてリードフレームを切断する(F2)。この時
ホトエッチングの技術やプレス加工が用いられる。次に
パターニングされたリードフレームに半田メッキを行う
(F3)。そしてダイパッド部にダイボンディングによ
って半導体素子のチップを搭載する(F4)。半導体素
子の電極とリードフレームのリード端子(ワイヤボンデ
ィング部)との間に、導線を接続するチップ/リード接
合を行う(F5)。次に型枠を用いて樹脂モールドを行
い(F6)、固化した後でダムバー切断を行う(F
7)。ダムバーの切断方法には、パンチプレスによる打
抜き法やレーザビーム切断法が知られている(特開昭6
3−31128号、特開平3−294077号)。更に
レジンばりの除去を行い(F8)、次に外周リードフレ
ーム、即ち連結部の切断を行う(F9)。この結果、各
半導体装置は独立した状態となる。しかる後、アウター
リード部の曲げ加工をし(F10)、マーキングして
(F11)、選別工程に廻され、合格したものが製品と
して出荷される(F12)。
FIG. 2 is a process diagram showing the packaging of the semiconductor device having the lead frame structure described above. According to FIG. 2, a metal plate such as Kovar or Fe-Ni alloy is prepared as a material (F1), and the lead frame is cut based on a predetermined pattern (F2). At this time, a photo-etching technique or press working is used. Next, solder plating is performed on the patterned lead frame (F3). Then, a semiconductor element chip is mounted on the die pad portion by die bonding (F4). Chip / lead bonding for connecting a conductor is performed between the electrode of the semiconductor element and the lead terminal (wire bonding portion) of the lead frame (F5). Next, resin molding is performed using a mold (F6), and after solidification, dam bar cutting is performed (F6).
7). As a method of cutting the dam bar, a punching method using a punch press and a laser beam cutting method are known (Japanese Patent Application Laid-Open No.
3-31128, JP-A-3-294077). Further, the resin burr is removed (F8), and then the outer peripheral lead frame, that is, the connecting portion is cut (F9). As a result, each semiconductor device is in an independent state. Thereafter, the outer lead portion is bent (F10), marked (F11), sent to a sorting process, and a product that has passed is shipped as a product (F12).

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】前記F7のダムバー切
断加工の方法として、実用化されているパンチプレス打
抜き法は、一方向のリード端子のダムバーを一度に処理
できるなど量産性が高い反面、QFP型リードフレーム
のような高密度実装用リードフレームに適用するのは、
精度の点で困難である。従って、大規模集積回路用リー
ドフレームのダムバー切断加工には、レーザビームによ
る溶断法が適していると云える。
As a method of cutting the dam bar of F7, a punch press punching method that has been put into practical use has a high mass productivity such that a dam bar of a one-way lead terminal can be processed at a time, but QFP has a high productivity. For high-density mounting leadframes such as die-type leadframes,
Difficult in accuracy. Therefore, it can be said that a laser beam fusing method is suitable for dam bar cutting of a large scale integrated circuit lead frame.

【0015】しかし、レーザビーム溶断法をF7のダム
バー切断工程で用いたとしても、図2に示した従来のリ
ードフレームによる半導体装置のパッケージング工程で
は、リード端子の加工精度に問題を残す。即ち、図7で
示したQFP型などの高密度実装用リードフレームにお
いては、リード端子幅、リードピッチ共に非常に狭く、
機械的強度が低い。そこで、F7のダムバー切断後、F
9で外周リードフレーム(連結部)の切断を行い、各リ
ードの端部が切りはなされた状態でアウターリード部の
曲げ加工(F10)を行うと、加工中にリード端子間に
不揃いを生じて規格精度からはずれる事故が生ずること
がある。
However, even if the laser beam fusing method is used in the dam bar cutting step of F7, there is a problem in the processing accuracy of the lead terminals in the conventional packaging process of the semiconductor device using the lead frame shown in FIG. That is, in the lead frame for high-density mounting such as the QFP type shown in FIG. 7, both the lead terminal width and the lead pitch are very narrow.
Low mechanical strength. Therefore, after cutting the dam bar of F7,
If the outer lead frame (connecting portion) is cut at 9 and the outer lead portion is bent (F10) with the ends of each lead cut off, irregularities occur between the lead terminals during the processing. Accidents that deviate from the standard accuracy may occur.

【0016】図3では、図2のF10の工程後のアウタ
ーリード部32の横断面を示している。斜線部はダムバ
ー4の位置であるが、既にF7の工程でダムバー4は除
去されている。アウターリード部32の曲げ加工は、ま
ずプレス加工によって曲げ部分6を形成し、次に曲げ部
分6の端部をプレス加工して水平部分7を形成する2段
階工程で行われる。
FIG. 3 shows a cross section of the outer lead portion 32 after the step F10 in FIG. The hatched portion is the position of the dam bar 4, but the dam bar 4 has already been removed in the process of F7. The bending of the outer lead portion 32 is performed in a two-step process in which the bent portion 6 is formed by press working first, and then the end of the bent portion 6 is pressed to form the horizontal portion 7.

【0017】水平部分7の端面を図のCの方向から眺め
た図形を、図4に示す。図4の(イ)は、隣接するリー
ド端子間のピッチが水平方向に乱れていることを示す図
である。本来d0であったが、曲げ加工時の外力を受け
て乱れ、d1やd2(d1>d0>d2)になっていること
が示されている。また、図4の(ロ)は隣接するリード
端子が垂直方向にも不揃いになっている状態を示す。
FIG. 4 shows a figure in which the end face of the horizontal portion 7 is viewed from the direction C in the figure. FIG. 4A shows that the pitch between adjacent lead terminals is disturbed in the horizontal direction. Although it was originally d 0 , it is shown that it is disturbed by an external force at the time of bending, and d 1 or d 2 (d 1 > d 0 > d 2 ). FIG. 4B shows a state in which adjacent lead terminals are also irregular in the vertical direction.

【0018】図4で示したようなリード端子間の不揃い
は、リード端子幅やピッチが狭くなる程顕著になること
が確認された。この結果、多ピン、狭ピッチの高密度実
装品ほど完成品の歩留りが低下することになる。これ
は、前記不揃いを放置すると、半導体装置をプリント基
板に配設時、プリント基板の配線回路とリードフレーム
の位置ずれが大きくなるため、接続不良を生ずる危険が
あり、製品の歩留りが大幅に低下する。
It has been confirmed that the irregularity between the lead terminals as shown in FIG. 4 becomes more remarkable as the lead terminal width and the pitch become narrower. As a result, the yield of finished products decreases with the increase in the number of pins and the high-density mounting products with a narrow pitch. This is because if the irregularities are left unattended, when the semiconductor device is disposed on the printed circuit board, the positional deviation between the wiring circuit of the printed circuit board and the lead frame becomes large, and there is a risk that a connection failure may occur, and the product yield is greatly reduced. I do.

【0019】このような曲げ加工に伴う不揃いは、ダム
バー4及び/又は連結部11が除去されて、リード端子
間を機械的に支持してピッチ間隔を保つ機構がなくなっ
た状態で加工するために生ずる。
Such irregularities due to the bending process are caused by the fact that the dam bar 4 and / or the connecting portion 11 are removed and the process is performed in a state where the mechanism for maintaining the pitch interval by mechanically supporting the lead terminals is eliminated. Occurs.

【0020】集積度の比較的低い半導体素子を実装する
リードフレームにおいては、リード端子幅やピッチが比
較的広いので、ダムバー除去を前記プレス打抜き法によ
って行うこともできる。しかし、この場合には、図5に
ワイヤボンディング部31の断面を示したように、金属
板に強い下向きせん断応力が作用するため、ダムバー除
去位置の下端面にバリ8が発生する。バリ8の大きさ
は、リードフレームの構成金属材料の種類やせん断応力
の大きさ等に依存するが、バリ8の存在は次の工程のリ
ード端子曲げ加工時に問題となる。
In a lead frame on which a semiconductor element having a relatively low degree of integration is mounted, the width of the lead terminals and the pitch are relatively wide, so that the dam bar can be removed by the press punching method. However, in this case, as shown in the cross section of the wire bonding portion 31 in FIG. 5, since a strong downward shear stress acts on the metal plate, burrs 8 are generated on the lower end surface of the dam bar removal position. The size of the burr 8 depends on the type of metal material constituting the lead frame, the magnitude of the shearing stress, and the like, but the presence of the burr 8 poses a problem during the lead terminal bending process in the next step.

【0021】図6は、バリ8の発生している図5のリー
ド端子を曲げ加工する時の加工治具10の配置を示す図
である。加工治具10は、上治具10Aと下治具10B
とから成り、10Aと10Bの間に、バリ8の残るダム
バー除去部位を挟んで加工する。即ち、リード端子の加
工治具10より樹脂モールド半導体素子1側がワイヤボ
ンディング部31であり、加工治具10より連結部(図
示せず)側がアウターリード部32を構成する。図示し
たように、加工治具10で挟んだリード端子に下向きの
外力を加えることによって、リード端子の曲げ部6を形
成する。しかしこの時、リード端子下面と下治具10B
との間には、図のBの位置でバリ8相当の隙間が形成さ
れているため、バリ8の具合いが個々に異なるリード端
子間で垂直方向に、図4(ロ)で示したような位置のバ
ラつきを生ずる。
FIG. 6 is a diagram showing the arrangement of the processing jig 10 when bending the lead terminal of FIG. The processing jig 10 includes an upper jig 10A and a lower jig 10B.
And processing is carried out between 10A and 10B with the dam bar removal site where the burr 8 remains. That is, the resin bonding semiconductor element 1 side from the processing jig 10 of the lead terminal is the wire bonding part 31, and the connecting part (not shown) side from the processing jig 10 forms the outer lead part 32. As shown in the figure, a bent portion 6 of the lead terminal is formed by applying a downward external force to the lead terminal sandwiched between the processing jigs 10. However, at this time, the lower surface of the lead terminal and the lower jig 10B
Since a gap equivalent to the burr 8 is formed at the position B in the figure, the condition of the burr 8 is vertically different between the lead terminals which are different from each other, as shown in FIG. This causes positional variations.

【0022】また、ダムバー4をレーザビームで切断す
る場合も、リード端子の切断部位下面には、リードフレ
ーム2の構成金属や半田等が溶断された後に固体瘤(ド
ロスと呼ぶ)が発生する。固体瘤のサイズ、形状はリー
ド端子毎に不揃いであるため、曲げ加工時に前記同様の
リード端子位置のバラつきを生ずる。
Also, when the dam bar 4 is cut with a laser beam, solid bumps (called dross) are generated on the lower surface of the cut portion of the lead terminal after the constituent metals, solder, etc. of the lead frame 2 are melted. Since the size and shape of the solid knob are not uniform for each lead terminal, the same lead terminal position variation occurs during bending as described above.

【0023】本発明の目的は、リード端子の曲げ加工時
に各リード端子が上下及び左右に位置ズレを生じない半
導体装置のパッケージ装置及びそのパッケージング方法
並びに半導体装置を提供することである。
It is an object of the present invention to provide a semiconductor device package device, a packaging method thereof, and a semiconductor device in which each lead terminal does not shift vertically and horizontally during bending of the lead terminal.

【0024】[0024]

【課題を解決するための手段】本発明では、リードフレ
ームにマウントされた半導体素子の樹脂モールド部周辺
に配設されているリード端子の曲げ加工を行った後で、
前記リード端子のダムバーをレーザ切断加工する工程を
行うことを特徴とする半導体装置のパッケージング方法
を開示する。
According to the present invention, after bending a lead terminal disposed around a resin mold portion of a semiconductor element mounted on a lead frame,
A method for packaging a semiconductor device, comprising performing a step of laser cutting the dam bar of the lead terminal.

【0025】リードフレームにマウントされた半導体素
子の樹脂モールド部周辺に配設されているリード端子の
曲げ加工及びリード端子外周(連結部)の切断加工を行
った後で、前記リード端子のダムバーをレーザ切断する
工程を行うことを特徴とする半導体装置のパッケージン
グ方法を開示する。
After bending the lead terminals disposed around the resin mold portion of the semiconductor element mounted on the lead frame and cutting the outer periphery (connection portion) of the lead terminals, the dam bar of the lead terminals is removed. A method for packaging a semiconductor device, which includes performing a laser cutting step, is disclosed.

【0026】リードフレームにマウントされた半導体素
子の樹脂モールド部周辺に配設されているリード端子の
アウターリード部のうちダムバーに近い領域を所定角度
に曲げる第1の曲げ工程と、該工程の後で、前記ダムバ
ーをレーザで切断加工する工程と、該工程の後で前記ア
ウターリード部の外周に近い領域を別の所定角度に曲げ
る第2の曲げ加工と、該工程の後で、前記リード端子の
外周切断加工を行う工程と、を含む半導体装置のパッケ
ージング方法を開示する。
A first bending step of bending a region close to the dam bar of the outer lead portion of the lead terminal disposed around the resin mold portion of the semiconductor element mounted on the lead frame at a predetermined angle; A step of cutting the dam bar with a laser, a second bending step of bending an area near the outer periphery of the outer lead portion to another predetermined angle after the step, and the lead terminal after the step. And a step of performing an outer periphery cutting process of the semiconductor device.

【0027】[0027]

【作用】本発明によれば、ダムバー及び/又はリードフ
レーム連結部によってリード端子の幅及びピッチを保持
したままリード端子の曲げ加工ができるので、曲げ加工
による各リード端子相互位置のズレの発生を防止するこ
とができる。
According to the present invention, the lead terminals can be bent while maintaining the width and pitch of the lead terminals by the dam bar and / or the lead frame connecting portion. Can be prevented.

【0028】[0028]

【実施例】以下本発明を、実施例に基づいてより詳しく
述べる。図1は、本発明の一実施例におけるパッケージ
ング工程の流れを示す図である。工程数は図2に示した
従来例と同じであるが、リード端子の曲げ加工時に発生
するリード端子間の位置ズレを効果的に防止するため
に、加工手順を異にする。即ち本実施例では、ダムバー
切断(F7)を行う前に、アウターリード部の曲げ成形
工程(F9)及び外周リードフレーム(リードフレーム
の連結部)の切断工程(F10)を導入した。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in more detail based on embodiments. FIG. 1 is a diagram showing a flow of a packaging step in one embodiment of the present invention. The number of steps is the same as that of the conventional example shown in FIG. 2, but the processing procedure is different in order to effectively prevent the positional deviation between the lead terminals which occurs at the time of bending the lead terminals. That is, in the present embodiment, before performing dam bar cutting (F7), a bending step (F9) of the outer lead portion and a cutting step (F10) of the outer peripheral lead frame (the connection portion of the lead frame) are introduced.

【0029】図8は、本実施例におけるアウターリード
部32の曲げ成形工程(F9)の加工治具の配置状態を
示す断面図である。ここでは、加工治具10の上治具1
0Aと下治具10Bが、ダムバー4を含むリード端子の
部位を挟んでいる。この状態で、図示したようにアウタ
ーリード部32に下向きの外力を印加すると、所定角度
を持つ曲げ部6が形成される。この時、図示してないが
特開平3−34358で開示されたように、リード端子
の4隅を欠いておくと曲げ加工しやすい。
FIG. 8 is a sectional view showing the arrangement of the processing jigs in the bending step (F9) of the outer lead portion 32 in this embodiment. Here, the upper jig 1 of the processing jig 10
0A and the lower jig 10B sandwich the lead terminal portion including the dam bar 4. In this state, when a downward external force is applied to the outer lead portion 32 as shown, the bent portion 6 having a predetermined angle is formed. At this time, although not shown, as described in JP-A-3-34358, bending is easy if the four corners of the lead terminal are omitted.

【0030】図8に示した状態で曲げ部6の形成を行う
と、ダムバー4及び連結部11(図示せず)がリード端
子の曲げ時に発生するねじれ変形応力に対抗する支えと
なるので、曲げ加工後もリード端子間の幅やピッチが変
わることはない。また、ダムバー4除去の際発生するバ
リ8や固体瘤の影響もないので垂直方向の位置バラつき
も生じない。
When the bent portion 6 is formed in the state shown in FIG. 8, the dam bar 4 and the connecting portion 11 (not shown) serve as a support against torsional deformation stress generated when the lead terminal is bent. After processing, the width and pitch between the lead terminals do not change. Further, since there is no influence of burrs 8 and solid bumps generated when the dam bar 4 is removed, there is no vertical positional variation.

【0031】なお、図1におけるダムバー切断(F7)
はレーザビームによって行われるが、外周リードフレー
ム切断(F10)はレーザビーム溶断でもプレス打抜き
でもどちらでも用いることができる。プレス打抜きによ
って外周リードフレーム切断を行う場合、ダムバーがせ
ん断応力に抗してリードフレーム間ピッチを保持する役
割を果たす。
Incidentally, dam bar cutting (F7) in FIG.
Is performed using a laser beam, and the outer peripheral lead frame cutting (F10) can be performed by either laser beam fusing or press punching. When the outer lead frame is cut by press punching, the dam bar plays a role in maintaining the pitch between the lead frames against the shear stress.

【0032】外周リードフレーム切断をレーザビーム溶
断によって行う場合には、図1のダムバー切断(F7)
と外周リードフレーム切断(F10)とを工程上入れ替
えることが可能である。むしろ、レーザ切断の作業性を
考慮すると、その方が効率的といえる。
When the outer lead frame is cut by laser beam cutting, dam bar cutting (F7) shown in FIG.
It is possible to replace the outer lead frame cutting (F10) in the process. Rather, considering the workability of laser cutting, it can be said that it is more efficient.

【0033】図1のダムバー切断(F7)をレーザビー
ムによって行う場合の状況を横断図で示したのが図9で
ある。既に工程F9によってアウターリード部32の曲
げ加工が終了し、曲げ部6と水平部7が形成されている
リード端子のダムバー4に、集光レンズ23を介してレ
ーザビーム12が照射される。レーザビームスポットの
熱によって微小な切り口で、しかも高速にダムバー4の
溶断を行うことができる。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing a situation where the dam bar cutting (F7) in FIG. 1 is performed by a laser beam. The bending of the outer lead portion 32 has already been completed in step F9, and the laser beam 12 is irradiated via the condenser lens 23 to the dam bar 4 of the lead terminal where the bent portion 6 and the horizontal portion 7 are formed. The dam bar 4 can be melted and cut at a high speed at a small cut by the heat of the laser beam spot.

【0034】ダムバー4或いは外周リードフレーム(連
結部)11の溶断を行うレーザビーム12は、図10に
示すような装置によって制御される。図10は、ダムバ
ー加工を行うためのレーザ装置を示す。図10におい
て、テーブル17及びこの上に搭載された微動台18は
マイコン30からの制御信号30A、30Bによって移
動制御される。加工ヘッド20は、レーザ光を収束させ
るための部材であり、先端部はノズル20Aを形成し、
側方には、アシストガス22Aを導入できる導入管22
が形成され、更に収束用の集光レンズ23がレーザ光学
経路中に設けられている。アシストガス22Aは、レー
ザによるダムバー切断を助けるために使う。尚、微動台
18上の半導体装置19は、固定治具21で固定してお
り、微動台18上では切断加工中に動かないようになっ
ている。
The laser beam 12 for fusing the dam bar 4 or the outer peripheral lead frame (connection portion) 11 is controlled by an apparatus as shown in FIG. FIG. 10 shows a laser device for performing dam bar processing. In FIG. 10, the movement of the table 17 and the fine moving table 18 mounted thereon is controlled by control signals 30A and 30B from the microcomputer 30. The processing head 20 is a member for converging a laser beam, and a tip portion forms a nozzle 20A,
On the side, an introduction pipe 22 through which the assist gas 22A can be introduced
Are formed, and a converging condenser lens 23 is provided in the laser optical path. The assist gas 22A is used to assist the dam bar cutting by the laser. The semiconductor device 19 on the fine moving table 18 is fixed by a fixing jig 21 so as not to move on the fine moving table 18 during cutting.

【0035】光学系13を介してのレーザ光は、ダイク
ロイックミラー13Aを経由して加工ヘッド20に入射
する。ダイクロイックミラー13Aは、レーザ光の波長
の光だけを加工ヘッド20の側に反射し、それ以外の
光、即ち、可視光は透過するものである。
The laser beam passing through the optical system 13 enters the processing head 20 via the dichroic mirror 13A. The dichroic mirror 13A reflects only the light of the wavelength of the laser light toward the processing head 20, and transmits other light, that is, visible light.

【0036】更に、図10の実施例では、レーザ切断加
工中の様子の切断監視、及びリード端子→ダムバー→リ
ード端子→ダムバー→リード端子→……の如くダムバー
とリード端子とが、テーブル17の移動によって交互に
現れることからダムバーの出現監視を行う。切断監視の
ための手段がCCDカメラ26と画像メモリ27と画像
処理装置29、モニタTV28である。ダムバーの出現
監視のための手段がリードフレーム検出器25、信号処
理器34、マイコン30である。更に、ハーフミラー3
3A、33B及び照明器24がその監視の補助用に使わ
れている。
Further, in the embodiment shown in FIG. 10, the cutting bar is monitored during the laser cutting process, and the dam bar and the lead terminal are connected to the table 17 as shown in the following table: lead terminal → dam bar → lead terminal → dam bar → lead terminal →. The appearance of the dam bar is monitored because it appears alternately by moving. Means for monitoring cutting are a CCD camera 26, an image memory 27, an image processing device 29, and a monitor TV 28. Means for monitoring the appearance of the dam bar are the lead frame detector 25, the signal processor 34, and the microcomputer 30. Furthermore, half mirror 3
3A, 33B and illuminator 24 are used to assist in the monitoring.

【0037】図10の実施例の動作を説明する。先ず、
マイコン30の制御信号30Aによってテーブル17の
初期位置決めがなされる。これは、加工対象の半導体装
置を位置決めすることである。更に、マイコン30の制
御信号30Bによってテーブル17の初期化の後で、微
動台18の初期位置決めを行う。微動台18の初期位置
決めとは、加工対象の半導体装置の先頭ダムバーを位置
決めすることである。初期位置設定後、テーブル17を
移動しながら、ダムバーの切断を次々に行う。テーブル
17の移動には、連続的な定速度移動と、ダムバーピッ
チだけ移動して停止するという間欠的な移動とがある。
The operation of the embodiment shown in FIG. 10 will be described. First,
The table 17 is initially positioned by the control signal 30A of the microcomputer 30. This is to position the semiconductor device to be processed. Further, after the table 17 is initialized by the control signal 30B of the microcomputer 30, the fine positioning table 18 is initially positioned. The initial positioning of the fine movement table 18 is to position the leading dam bar of the semiconductor device to be processed. After the initial position is set, the dam bar is cut one after another while moving the table 17. The movement of the table 17 includes continuous movement at a constant speed, and intermittent movement of moving at a dam bar pitch and stopping.

【0038】ダムバーの切断のためのレーザ光は、光学
系13及びダイクロイックミラー13Aを介して加工ヘ
ッド20に送られ、集光レンズ23で集光されてビーム
化され、ダムバーへの照射となる。この時、アシストガ
ス22Aが与えられ、切断の作業を促進させる。
The laser beam for cutting the dam bar is sent to the processing head 20 via the optical system 13 and the dichroic mirror 13A, is condensed by the condensing lens 23, is converted into a beam, and irradiates the dam bar. At this time, the assist gas 22A is supplied to accelerate the cutting operation.

【0039】この切断の様子は、照明器24の光がハー
フミラー33Aを介してダムバー箇所に照射され、その
反射光をCCDカメラ26が受光することで監視され
る。即ち、CCDカメラ26で受光したダムバーの切断
作業の状況が画像メモリ27に送られてモニタTV28
に映される。更に、画像処理部29(例えば2値化処理
や切断状況の識別処理を行う)で、オンラインで画像処
理され、併せてモニタ28にその結果が表示される。
又、画像処理の結果、テーブル17や微動台の位置制御
を必要とする場合もあるため、マイコン30にその結果
を送り必要な位置制御を行わせる。
The state of the cutting is monitored by irradiating the light of the illuminator 24 to the dam bar portion via the half mirror 33A, and receiving the reflected light by the CCD camera 26. That is, the status of the cutting operation of the dam bar received by the CCD camera 26 is sent to the image memory 27 and the monitor TV 28
It is reflected in. Further, the image processing section 29 (for example, performs a binarization processing and a cutting state identification processing) performs online image processing, and also displays the result on the monitor 28.
In some cases, as a result of the image processing, the position control of the table 17 or the fine moving table is required. Therefore, the microcomputer 30 sends the result to perform the necessary position control.

【0040】一方、ダムバーの出現の監視はリードフレ
ーム検出器25が行う。ここでは、ハーフミラー33B
からの反射光を受光し、リード端子の出現を検出する。
リード端子の次にはダムバーが存在するはずであるか
ら、リード端子の出現を検出すれば、ダムバーを直接に
監視しなくとも、ダムバーの出現を間接的に検出できる
ことになる。ダムバーの直接監視ではなく間接監視とし
たのは、切断箇所のダムバーの次のダムバーを見つけな
ければならないが、切断中に見つけにくいことや切断後
にあっても切断箇所が固体瘤の影響を受けたりすること
や切断時の熱ひずみ応力が切断箇所に内在したりするこ
と等のため、ダムバーの直接監視はさけたのである。従
って、検出するリード端子とは、ダムバーを結ぶ線上に
あるリード端子ではなく、アウターリード部のことであ
る。以上は、ダムバーの切断例であったが、外周リード
フレームの切断(F10)にもレーザビーム照射位置を
変更することで実現できる。
On the other hand, the appearance of the dam bar is monitored by the lead frame detector 25. Here, the half mirror 33B
And detects the appearance of the lead terminal.
Since there should be a dam bar next to the lead terminal, if the appearance of the lead terminal is detected, the appearance of the dam bar can be indirectly detected without directly monitoring the dam bar. Indirect monitoring instead of direct monitoring of the dam bar means that the dam bar next to the dam bar at the cutting point must be found, but it is difficult to find during the cutting, and even after the cutting, the cutting point is affected by solid bumps The direct monitoring of the dam bar has been avoided because of the fact that the heat strain stress during cutting is inherent in the cut location. Therefore, the lead terminal to be detected is not the lead terminal on the line connecting the dam bars, but the outer lead portion. The above is an example of cutting the dam bar. However, the cutting of the outer peripheral lead frame (F10) can also be realized by changing the laser beam irradiation position.

【0041】図1で示した方向のパッケージング工程に
よれば、アウターリード部の曲げ加工に伴う形状不良が
殆ど発生しないので、製品の歩留りは向上する。従っ
て、本発明のパッケージング方法によって製造された半
導体装置のパッケージもまた、本発明の範注に属する。
According to the packaging process in the direction shown in FIG. 1, almost no defective shape due to the bending of the outer lead portion occurs, so that the product yield is improved. Therefore, a semiconductor device package manufactured by the packaging method of the present invention also belongs to the scope of the present invention.

【0042】図11は、本発明の別の実施例における半
導体装置のパッケージング工程を示す流れ図である。本
実施例では、半導体素子及びワイヤボンディング個所を
樹脂モールド(F6)して後、まずリード端子アウター
リード部32の曲げ部6を形成する。これがF9a工程
である。対応個所の横断図を図12(b)に示した。図
では、曲げ加工のためにリード端子に取り付けられた加
工治具は、省略されている。
FIG. 11 is a flowchart showing a packaging process of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention. In this embodiment, the bent portion 6 of the lead terminal outer lead portion 32 is formed first after the semiconductor element and the wire bonding portion are resin-molded (F6). This is the F9a step. FIG. 12B shows a cross-sectional view of the corresponding part. In the figure, a processing jig attached to a lead terminal for bending is omitted.

【0043】次に、ダムバー4をレーザビームで溶断す
る(F7)。この工程は、前実施例で図9及び10を用
いて説明した通りである。これを図12(c)に示し
た。その後、レジン除去工程(F8)を経て、F9bで
アウターリード部32の水平部7を形成する。この時、
図示してないが、F9aの工程同様曲げ治具が用いられ
る。しかる後、工程F10で外周リードフレーム(連結
部)11を切断する。これを、図12(d)に示した。
本実施例においては、連結部11の切断パンチプレスに
よって行ったが、勿論レーザビームを用いることもでき
る。
Next, the dam bar 4 is blown off by a laser beam (F7). This step is as described in the previous embodiment with reference to FIGS. This is shown in FIG. Thereafter, through a resin removing step (F8), the horizontal portion 7 of the outer lead portion 32 is formed by F9b. At this time,
Although not shown, a bending jig is used as in the process of F9a. Thereafter, in step F10, the outer peripheral lead frame (connection portion) 11 is cut. This is shown in FIG.
In the present embodiment, the cutting is performed by a punch punch for cutting the connecting portion 11, but a laser beam can of course be used.

【0044】本実施例によれば、アウターリード部の曲
げ工程が2つに分れられている。これは、以下のような
利点を有する。即ち、最初の曲げ部形成(F9a)後ダ
ムバー4をレーザビームで溶断すると(F7)、溶断部
位は局部的に高温加熱されて、金属の蒸気や合金液滴が
発生する。この結果、アウターリード部32のダムバー
近傍には、スパッタリングされた金属くずや固体瘤が再
凝固して付着する。それ故、次のレジン除去工程(F
8)ではアウターリード部のレジンばりの他これら金属
付着物を除去する必要がある。この時、連結部11がア
ウターリード部32に接続していれば、応力が印加され
てもリード端子がよじれることなくゴミや汚れを除去す
ることが可能である。
According to the present embodiment, the outer lead portion bending step is divided into two steps. This has the following advantages. That is, when the dam bar 4 is blown off by a laser beam after the first bent portion is formed (F9a) (F7), the blown portion is locally heated to a high temperature to generate metal vapor or alloy droplets. As a result, spattered metal dust and solid nodules are re-solidified and adhere to the outer lead portion 32 near the dam bar. Therefore, the next resin removal step (F
In 8), it is necessary to remove these metal deposits in addition to the resin bur at the outer lead portion. At this time, if the connecting portion 11 is connected to the outer lead portion 32, it is possible to remove dust and dirt without kinking the lead terminal even when stress is applied.

【0045】特に、図7で示したQFP型リードフレー
ムの如く、多ピン且つ狭ピッチのリードフレームの曲げ
加工及び付着物の除去は、寸法精度が厳しいので、アウ
ターリード部に外周リードフレームを残しておくことが
非常に有効である。
In particular, since the dimensional accuracy is severe in the bending of a multi-pin, narrow-pitch lead frame and the removal of extraneous substances, as in the QFP type lead frame shown in FIG. 7, the outer lead frame is left on the outer lead portion. It is very effective to keep it.

【0046】図13は、本発明のさらに別の半導体装置
パッケージング方法の実施例を示す流れ図、図14は図
13の工程F9〜F10に対応した加工図(断面図)を
示す。本実施例においては、半導体素子1及びワイヤボ
ンディング個所の樹脂モールド工程(F6)後、まずリ
ード端子アウターリード部32の曲げ成形工程(F9)
を行う。この場合は、前実施例と異なり、図14(b)
で示すように曲げ部6及び水平部7の形成を連続的に行
う。しかる後、工程F7でレーザビームを用いてダムバ
ー4の切断を行う。これを図14(c)に示す。既にア
ウターリード部の曲げ加工は、ダムバー4及び外周リー
ドフレーム11を接続した状態で行われているので、リ
ード端子間の加工ゆがみによるバラつきはなく、従って
極めて高い精度でダムバー4だけを確実に溶断すること
ができる。
FIG. 13 is a flowchart showing another embodiment of the semiconductor device packaging method according to the present invention, and FIG. 14 is a processing diagram (cross-sectional view) corresponding to steps F9 to F10 in FIG. In this embodiment, after the resin molding step (F6) of the semiconductor element 1 and the wire bonding portion, first, the bending forming step (F9) of the lead terminal outer lead portion 32.
I do. In this case, unlike the previous embodiment, FIG.
As shown by, the formation of the bent portion 6 and the horizontal portion 7 is performed continuously. Thereafter, in step F7, the dam bar 4 is cut using a laser beam. This is shown in FIG. Since the bending process of the outer lead portion has already been performed with the dam bar 4 and the outer lead frame 11 connected, there is no variation due to processing distortion between the lead terminals. Therefore, only the dam bar 4 is reliably melted with extremely high precision. can do.

【0047】次いで、適当な表面処理によってレジンば
り、アウターリード部への付着物を除去する(F8)。
この工程時には、外周リードフレーム11が接続したま
まなので、高い寸法精度を維持しながら作業ができる。
その後、工程F10で外周リードフレームの切断を行
う。切断後の状態を図14(d)に示す。
Next, the resin is deburred by an appropriate surface treatment, and the deposits on the outer lead portions are removed (F8).
In this step, since the outer peripheral lead frame 11 remains connected, the operation can be performed while maintaining high dimensional accuracy.
Then, in step F10, the outer peripheral lead frame is cut. The state after cutting is shown in FIG.

【0048】アウターリード部の曲げ加工では、特に
「曲げ個所(1)」と図示したダムバー近傍の所定角度
への曲げ加工が難しい。本発明では、「曲げ個所
(1)」の形成時に、ダムバー4及び連結部11を残し
た状態にしておくことによって、細くて狭いリード端子
にねじれを与えることなく高い寸法精度で作業を行うこ
とができるという特徴を持つ。
In the bending of the outer lead portion, it is particularly difficult to bend to a predetermined angle near the dam bar shown as "bending point (1)". In the present invention, the dam bar 4 and the connecting portion 11 are left at the time of forming the "bending point (1)", so that the work can be performed with high dimensional accuracy without twisting the thin and narrow lead terminal. There is a feature that can be.

【0049】本発明では、ダムバー切断を非接触のレー
ザビームで高速に行いうるため、アウターリード部の曲
げ形状を損なう心配が殆どない。
According to the present invention, since dam bar cutting can be performed at a high speed by a non-contact laser beam, there is almost no fear of damaging the bent shape of the outer lead portion.

【0050】[0050]

【発明の効果】(1)、ダムバーがアウターリード部曲
げ加工の時に存在するためリード端子の剛性が向上し、
狭ピッチのリードフレームの場合も、アウターリード成
形精度が向上し、精度よいパッケージングが可能とな
る。 (2)、曲げ加工後、ダムバーを切断する場合、パンチ
プレスではなく、レーザビームにより加工を行うため
に、パンチプレスのように特別な治具を必要としない。 (3)、レーザビームは、加工部に対し非接触であり、
また、周囲への熱影響も少ないためレーザビーム溶断を
行えば、機械加工のような残留応力によるピッチの乱れ
がない。 (4)、パンチプレス(又はレーザビーム加工)により
ダムバーを切断した場合にバリや固体瘤が発生する。し
かし本発明では、その前に曲げ成形加工を行うために、
バリや固体瘤の影響を受けずに、高精度の曲げ成形が可
能でありアウターリード先端部の平面精度が良好とな
る。
(1) The rigidity of the lead terminal is improved because the dam bar is present at the time of bending the outer lead portion.
Even in the case of a lead frame having a narrow pitch, the outer lead molding accuracy is improved, and accurate packaging is possible. (2) When the dam bar is cut after the bending process, a special jig is not required unlike the punch press because the process is performed by the laser beam instead of the punch press. (3) The laser beam is not in contact with the processed part,
Further, since there is little thermal influence on the surroundings, if laser beam fusing is performed, there will be no disturbance in pitch due to residual stress as in mechanical processing. (4) When the dam bar is cut by a punch press (or laser beam processing), burrs and solid bumps are generated. However, in the present invention, in order to perform a bending process before that,
It is possible to perform high-precision bending without being affected by burrs or solid nodules, and the flatness of the outer lead tip is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例による半導体装置のパッケージング工程
を示す流れ図である。
FIG. 1 is a flowchart showing a packaging process of a semiconductor device according to an embodiment.

【図2】従来例による半導体装置のパッケージング工程
を示す流れ図である。
FIG. 2 is a flowchart showing a packaging process of a semiconductor device according to a conventional example.

【図3】従来例で曲げ加工を行ったアウターリード部の
横断面図を示す。
FIG. 3 is a cross-sectional view of an outer lead portion subjected to bending in a conventional example.

【図4】図3のC方向から見たアウターリード部の端面
図である。
FIG. 4 is an end view of the outer lead portion viewed from a direction C in FIG. 3;

【図5】プレス打抜き法によるダムバー除去後のリード
端子断面図である。
FIG. 5 is a sectional view of a lead terminal after a dam bar is removed by a press punching method.

【図6】図5の場合のリード端子の曲げ加工治具断面図
である。
FIG. 6 is a sectional view of a bending jig for a lead terminal in the case of FIG. 5;

【図7】樹脂モールド工程後のQFP型リードフレーム
上面図である。
FIG. 7 is a top view of a QFP type lead frame after a resin molding step.

【図8】実施例におけるアウターリード部曲げ工程の加
工治具断面図である。
FIG. 8 is a sectional view of a processing jig in an outer lead portion bending step according to the embodiment.

【図9】ダムバーのレーザビーム溶断時の状態図であ
る。
FIG. 9 is a state diagram when the dam bar is melted by a laser beam.

【図10】レーザビーム溶断のための制御系を示す図で
ある。
FIG. 10 is a diagram showing a control system for laser beam fusing.

【図11】別の実施例による半導体装置のパッケージン
グ工程図である。
FIG. 11 is a view showing a packaging process of a semiconductor device according to another embodiment.

【図12】図11の工程F9a〜F10の対応加工図で
ある。
FIG. 12 is a processing diagram corresponding to steps F9a to F10 in FIG. 11;

【図13】更に別の実施例による半導体装置のパッケー
ジング工程図である。
FIG. 13 is a view showing a packaging process of a semiconductor device according to still another embodiment.

【図14】図13の工程F9〜F10に対応した加工図
である。
FIG. 14 is a processing diagram corresponding to steps F9 to F10 in FIG. 13;

【図15】本発明の適用対象となる3連式半導体装置の
全体図である。
FIG. 15 is an overall view of a triple semiconductor device to which the present invention is applied.

【図16】その1つの半導体装置を示す図である。FIG. 16 is a diagram showing one of the semiconductor devices.

【図17】図16の半導体装置の外枠を切断した図であ
る。
FIG. 17 is a diagram in which an outer frame of the semiconductor device of FIG. 16 is cut;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 樹脂モールドされた半導体素子 2 リードフレーム 3 リード端子 4 ダムバー 6 曲げ部 7 水平部 10 加工治具 10A 上治具 10B 下治具 11 連結部 12 レーザビーム 13 光学系 14 位置あわせ孔 17 テーブル 18 微動台 20 加工ヘッド 21 固定治具 22A アシストガス 23 集光レンズ 24 照明 25 LF検出 26 CCDカメラ 27 画像メモリ 28 モニタTV 29 画像処理器 30 マイコン 31 ワイヤボンディング部 32 アウターリード部 33A、33B ハーフミラー 34 信号処理器 100 レーザ発振器 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Resin-molded semiconductor element 2 Lead frame 3 Lead terminal 4 Dam bar 6 Bending part 7 Horizontal part 10 Processing jig 10A Upper jig 10B Lower jig 11 Connecting part 12 Laser beam 13 Optical system 14 Alignment hole 17 Table 18 Fine movement Table 20 Processing head 21 Fixing tool 22A Assist gas 23 Condenser lens 24 Lighting 25 LF detection 26 CCD camera 27 Image memory 28 Monitor TV 29 Image processor 30 Microcomputer 31 Wire bonding unit 32 Outer lead unit 33A, 33B Half mirror 34 Signal Processor 100 Laser oscillator

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 下村 義昭 茨城県土浦市神立町650番地 日立建機 株式会社土浦工場内 (72)発明者 長野 義也 茨城県土浦市神立町650番地 日立建機 株式会社土浦工場内 (56)参考文献 特開 昭60−224254(JP,A) 特開 平4−199665(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 23/50 B23K 26/00 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Yoshiaki Shimomura 650, Kandate-cho, Tsuchiura-shi, Ibaraki Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. (56) References JP-A-60-224254 (JP, A) JP-A-4-199665 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) H01L 23/50 B23K 26/00

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 リードフレームにマウントされた半導体
素子の樹脂モールド部周辺に配設されているリード端子
の曲げ加工を行った後で、前記リード端子のダムバーを
レーザ切断加工する工程を行うことを特徴とする半導体
装置のパッケージング方法。
1. A method of laser cutting a dam bar of a lead terminal after bending a lead terminal provided around a resin mold portion of a semiconductor element mounted on a lead frame. A method for packaging a semiconductor device, comprising:
【請求項2】 リードフレームにマウントされた半導体
素子の樹脂モールド部周辺に配設されているリード端子
の曲げ加工及びリード端子外周(連結部)の切断加工を
行った後で、前記リード端子のダムバーをレーザ切断す
る工程を行うことを特徴とする半導体装置のパッケージ
ング方法。
2. A lead terminal provided around a resin mold portion of a semiconductor element mounted on a lead frame is subjected to bending processing and cutting of an outer periphery (connection part) of the lead terminal. A method of packaging a semiconductor device, comprising performing a step of laser cutting a dam bar.
【請求項3】 リードフレームにマウントされた半導体
素子の樹脂モールド部周辺に配設されているリード端子
のアウターリード部のうちダムバーに近い領域を所定角
度に曲げる第1の曲げ工程と、該工程の後で、前記ダム
バーをレーザで切断加工する工程と、該工程の後で前記
アウターリード部の外周に近い領域を別の所定角度に曲
げる第2の曲げ加工と、該工程の後で、前記リード端子
の外周切断加工を行う工程と、 を含む半導体装置のパッケージング方法。
3. A first bending step of bending a region close to a dam bar in an outer lead portion of a lead terminal disposed around a resin mold portion of a semiconductor element mounted on a lead frame at a predetermined angle, and the first bending step. After the step of cutting the dam bar with a laser, after the step, a second bending processing of bending an area near the outer periphery of the outer lead portion to another predetermined angle, after the step, Performing a process of cutting the outer periphery of the lead terminal; and a method of packaging a semiconductor device.
【請求項4】 更に、前記ダムバーのレーザ切断加工の
工程後に、前記リード端子の外周切断加工を行うことを
特徴とする請求項1記載の半導体装置のパッケージング
方法。
4. The semiconductor device packaging method according to claim 1, further comprising, after the step of laser-cutting the dam bar, cutting the outer periphery of the lead terminal.
【請求項5】 リードフレームが接続された半導体チッ
プと、半導体チップを樹脂モールドしたモールド部と、
を持つ半導体装置において、上記樹脂モールド後の周辺
リード部を、請求項1〜4のいずれかに記載されたパッ
ケージング方法によって製造した半導体装置。
5. A semiconductor chip to which a lead frame is connected, a molded part obtained by resin-molding the semiconductor chip,
5. A semiconductor device, comprising: a peripheral lead portion after the resin molding is manufactured by the packaging method according to claim 1.
JP5306783A 1992-12-11 1993-12-07 Semiconductor device packaging method and semiconductor device Expired - Fee Related JP2916360B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5306783A JP2916360B2 (en) 1992-12-11 1993-12-07 Semiconductor device packaging method and semiconductor device

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33156292 1992-12-11
JP4-331562 1992-12-11
JP5306783A JP2916360B2 (en) 1992-12-11 1993-12-07 Semiconductor device packaging method and semiconductor device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06232309A JPH06232309A (en) 1994-08-19
JP2916360B2 true JP2916360B2 (en) 1999-07-05

Family

ID=26564866

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5306783A Expired - Fee Related JP2916360B2 (en) 1992-12-11 1993-12-07 Semiconductor device packaging method and semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2916360B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5755186B2 (en) 2012-06-25 2015-07-29 三菱電機株式会社 Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06232309A (en) 1994-08-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2929273B2 (en) Ball grid array semiconductor package unit PCB carrier frame and method of manufacturing ball grid array semiconductor package using the same
KR100753751B1 (en) Semiconductor integrated circuit device
KR100721280B1 (en) A method of forming semiconductor chip assembly and an apparatus for forming wire bonds from circuitry on a substrate to a semiconductor chip
US5080279A (en) Method for tape automated bonding
JP2916360B2 (en) Semiconductor device packaging method and semiconductor device
US10840171B2 (en) Integrated circuit package including inward bent leads
JPH06350009A (en) Manufacture of semiconductor device and lead frame
JP2798040B2 (en) Method for manufacturing semiconductor device
JP3069621B2 (en) Lead frame and manufacturing method thereof
KR100721274B1 (en) A method of forming semiconductor chip assembly
JP2635722B2 (en) Lead frame and manufacturing method thereof
JPH03152965A (en) Manufacture of lead frame and semiconductor device
JPH06196531A (en) Semiconductor device and manufacture thereof
JPH118275A (en) Manufacture of semiconductor device
JPH0590460A (en) Manufacture of semiconductor device
JPH1140605A (en) Tape carrier package
JPH04168759A (en) Semiconductor device, lead frame and fabrication thereof
JP2522557B2 (en) Forming method for leads for resin-sealed semiconductor devices
JPH05190719A (en) Manufacture of multipin lead frame
JPH10154723A (en) Structure of wire bonding for resin packaged semiconductor device
JP2004200719A (en) Semiconductor device
JPH05144989A (en) Production of lead frame and method for bonding semiconductor element using the frame
JPH0945843A (en) Semiconductor device
JP2007294637A (en) Method for manufacturing semiconductor device
JPH07147372A (en) Lead frame and its manufacture

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees