JP2915889B2 - 低損失光能動素子及びその製造方法 - Google Patents

低損失光能動素子及びその製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光素子及びその製造
方法に係り、特に非線形効果を奏する一部の導波路領域
にだけ非線形ポリマーを挿入して導波路コアを形成して
素子の導波損失を減らす、光学ポリマーを用いた低損失
光能動素子及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般的に光学ポリマーを利用して光変調
素子及び光スイッチ等の光能動素子を構成する時、素子
に形成される光導波は導波路のクラッド領域とコア領域
に区分される。光学ポリマーを利用して光能動素子を製
作する時、従来では、非線形性の性質を有するポリマー
で素子の導波路コア領域を形成するようにしている。こ
の際前記素子に形成される導波路の全てのコア領域はそ
の材質として非線形有機ポリマーを使用する。
【０００３】しかし、能動素子をなす導波路の全てのコ
ア領域を非線形ポリマーを利用して形成する場合、全体
的な素子の損失特性が問題になる。現在非線形ポリマー
よりなる導波路の導波損失は０．５dB−１．０dB／cmの
特性を示しており、線形ポリマーよりなる導波路の導波
損失は０．１dB−０．２dB／cmの特性を示している。従
って同じ長さ及び同じ構造の導波路形成で非線形ポリマ
ーだけを利用して導波路を形成する場合は線形ポリマー
を利用して形成する場合より素子の挿入損失面からさら
に不利である。
【０００４】図１（Ａ）は既存の方法、即ち素子をなす
導波路のコア領域全体が非線形ポリマーよりなる方向カ
プラ形態の光スイッチを示しており、図１（Ｂ）は既存
の方法で形成されたマッハ−ツェンダー形態の光変調器
を示している。参照番号１００は基板、１２０は非線形
ポリマーよりなる導波路、１３０は電極を示す。前記図
１（Ａ）及び図１（Ｂ）に示したように、既存の方法で
は実際非線形効果を奏する電極１３０部分を含む光導波
路のコア領域の全体が、線形ポリマーに比べて相対的に
光損失が高い非線形ポリマーで導波路を形成しているた
め、素子の全体挿入損失が大きくなるという短所があ
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前述した問題
点を解決するために創出されたことであって、導波路の
全ての領域を非線形ポリマーを利用して形成する時より
導波路の導波損失を減らすために、光学ポリマーを利用
して低損失光能動素子を形成する際に、光変調効果を奏
する部分の導波路コア領域にだけ非線形ポリマーを利用
し、残りのコア領域には線形ポリマーを利用して導波路
コアを形成した、低損失光能動素子を提供することにそ
の目的がある。
【０００６】本発明の他の目的は導波路の全ての領域を
非線形ポリマーを利用して形成する時より導波路の導波
損失を減らすために、光学ポリマーを利用して低損失光
能動素子を形成する際に、光変調効果を奏する部分の導
波路コア領域にだけ非線形ポリマーを利用し、残りのコ
ア領域には線形ポリマーを利用して導波路コアを形成し
た、低損失光能動素子の製造方法を提供することにあ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る低損失光能動素子は、少なくとも一つ
の入力光を少なくとも一つの出力光として出力する光能
動役割をする光能動素子であって、基板と、 前記基板上
部に位置する下部クラッド層と、前記下部クラッド層の
上部に位置し、前記非線形効果が必要な非線形コア領域
と非線形効果の必要でない線形コア領域よりなり、光信
号を導波する光導波路と、前記光導波路及び下部クラッ
ド上部に位置する上部クラッド層を含んでいる。
【０００８】前記光導波路の非線形コア領域は前記線形
コア領域の間に位置し、非線形ポリマーで形成され、前
記光導波路の線形コア領域は一端は前記非線形コア領域
と連結され、他端は光信号の入力または出力端と連結さ
れ、前記非線形ポリマーより光導波損失が低い線形ポリ
マーで形成され、前記下部クラッド及び上部クラッドは
前記導波路コアよりなる線形ポリマー及び非線形ポリマ
ーより屈折率が低いことを特徴とする。
【０００９】上記他の目的を達成するために本発明に係
る低損失光能動素子の製造方法は、光信号導波時に非線
形効果の必要な光導波路コア部分（非線形コア領域）及
び非線形効果が必要でない光導波路コア部分（線形コア
領域）よりなる光導波路を具備した光能動素子の製造方
法であって、紫外線（UV光）を透過させうる基板の表面
に線形ポリマーとして下部クラッド層を形成する下部ク
ラッド形成段階と、前記下部クラッド層の上部の前記光
導波路が位置する領域を除外した領域に、紫外線を透過
しない第１金属層を形成する第１金属層形成段階と、前
記線形コア領域の上部及び前記線形コア領域の両側方に
隣接した前記第１金属層の上部に、前記第１金属層と異
なる物質よりなり、紫外線を透過しない第２金属層を形
成する第２金属層形成段階と、前記導波路領域、前記第
１金属層及び第２金属層の上部に非線形ポリマーを形成
する非線形ポリマー形成段階と、前記基板下部に紫外線
を露光して前記非線形コア領域にだけ硬化した非線形ポ
リマーを形成し、前記第１金属層及び第２金属層の上部
に形成された硬化されない非線形ポリマーを除去する非
線形ポリマー硬化段階と、前記非線形コア領域に形成さ
れた非線形ポリマーの上部に第３金属層を形成する第３
金属層形成段階と、前記第２金属層を除去する第２金属
層除去段階と、前記第１金属層及び光導波路の上部に線
形ポリマーを塗布する線形ポリマー塗布段階と、前記基
板下部に紫外線を露光して前記線形コア領域にだけ硬化
した線形ポリマーを形成する線形ポリマー硬化段階と、
下部クラッド層の上部にある第１金属層と第３金属層と
を除去する金属層除去段階と、前記下部クラッド層及び
導波路コア領域の上部に上部クラッド層を形成する上部
クラッド形成段階を含むことが望ましい。
【００１０】前記第３金属層形成段階は、前記非線形ポ
リマー硬化段階で形成された硬化した非線形ポリマーを
含む基板上部にフォトレジストを塗布する段階と、前記
硬化した非線形ポリマー上部のフォトレジストが洗い上
がるように、紫外線を前記基板下部に照射して前記フォ
トレジストでパターニングする段階と、前記パターニン
グされた基板上部に真空蒸着方法で第３金属層を蒸着さ
せる段階と、前記基板上部のフォトレジストをリフトオ
フする段階を含むことを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、添付した図面を参照して本
発明を詳細に説明する。図２に示すように、本発明の望
ましい一実施形態による低損失光能動素子は、線形ポリ
マーと非線形ポリマーが共に導波路コアを構成し、光能
動素子から非線形効果を奏する部分に電極とその部分に
非線形ポリマーにより導波路コアが形成されている。前
記光能動素子は基板１００と、前記基板１００の上部に
位置する下部クラッド層１７０と、前記下部クラッド層
１７０の上部に位置し、前記非線形効果が必要な非線形
コア領域１５０と非線形効果の必要でない線形コア領域
１４０よりなり、光信号を導波する光導波路１４０、１
５０と、前記光導波路１４０、１５０及び下部クラッド
層１７０の上部に位置する上部クラッド層１８０と、前
記非線形コア領域１５０の上部に位置した電極１３０と
を含んでなる。前記光導波路の非線形コア領域１５０は
前記線形コア領域１４０の間に位置し、非線形ポリマー
よりなる。前記光導波路の線形コア領域１４０は、一端
が前記非線形コア領域１５０と連結され、他端は光信号
が入力される入力端または光信号が出力される出力端と
連結され、前記非線形ポリマーより光導波損失が低い線
形ポリマーよりなる。また前記下部クラッド層１７０及
び上部クラッド層１８０は前記導波路コアよりなる線形
ポリマー及び非線形ポリマーより屈折率が低い。
【００１２】一方、本発明による非線形ポリマーを利用
して光スイッチや光モジュレータ等の低損失光能動素子
を製作する方法ではUV光により硬化が可能な機能グルー
プを有し、NLO Chromophore(Epoxy, Acrylate, or Sili
con-Containing Funtionaities) を機能性要素として有
するポリマーグループが使われる。本発明において非線
形ポリマーを利用して非線形効果を奏する部分にだけ非
線形ポリマーを挿入して光能動素子を構成する製作方法
は次の通りである。
【００１３】本発明の説明の便宜のために、図３におい
て、本発明の全体構成図の断面線Ａ−Ａ' 、Ｂ−Ｂ' 、
Ｃ−Ｃ' を定義する。図４に、本発明の望ましい一実施
形態による基板に下部クラッド層を塗布した図面を示
す。まず基板は透明な基板１００を利用する。この基板
は、用いられるポリマーをキュアリングさせるUV光を透
過させうる基板ならば可能である。例えばスライドガラ
スを例として挙げられる。次に基板１００の表面に線形
ポリマーで下部クラッド層１７０をスピンコーティング
方法で形成する。スピンコーティングされた線形ポリマ
ーよりなる下部クラッド層１７０はUV光に露光してキュ
アリングした後、乾燥工程を通じてその膜質を良くする
ことができる。
【００１４】図５は本発明の望ましい一実施形態による
基板１００に形成された下部クラッド層１７０上に第１
金属層１９０を形成した図面を示している。第１金属層
１９０を形成するためにまず既に形成された下部クラッ
ド層１７０上にフォトレジスト（以下PRとする）をスピ
ンコーティング方法で塗布する。この後、パターンが描
かれたフォトマスクを基板上に配置してUV光を照射し、
PRに選択的にUV光が照射されるようにする。この工程が
終わるとPRを現像溶液に浸して現像をし、乾燥をしてPR
パターンを形成する。このようにPRパターンが形成され
た基板にスパッタリング、電子ビーム、または熱蒸発な
どの真空蒸着方法で第１金属層１９０を基板１００に蒸
着させる。蒸着後、PRをリフトオフして第１金属層１９
０を完成する。
【００１５】図６は本発明の望ましい一実施形態による
第１金属層１９０の上部に第２金属層２００を形成した
図面を示す。前記第２金属層２００は、 前記第１金属層
１９０を形成することと同じ方法で形成する。即ちPRを
下部クラッド層１７０と第１金属層１９０が形成されて
いる基板１００に塗布し、 フォトマスクを基板１００上
に配置した後UV光を照射して第２金属層２００のパター
ンのためのPRパターンを完成する。この後、前記PRパタ
ーンの形成された基板１００上に金属を真空蒸着方法に
より蒸着させ、PRをリフトオフして第２金属層２００を
形成する。この二つの第１金属層１９０と第２金属層２
００は相異なる物質よりなるべきであり、第２金属層２
００を蝕刻溶液で蝕刻する時、その蝕刻溶液によって第
１金属層１９０が侵害されない物質を選択する。前記第
１金属層１９０と第２金属層２００は非線形ポリマーと
線形ポリマーよりなる導波路のコア層を形成する時UV光
に対するマスクとして作用する。
【００１６】図７〜図１１は本発明の望ましい一実施形
態による非線形効果が生ずる部分に選択的に非線形有機
ポリマーよりなる導波路のコア１５０を形成するための
工程過程図を図４に示した断面線Ａ−Ａ' とＣ−Ｃ' を
基準で示したものである。まず、素子内で非線形効果を
奏する領域に非線形ポリマーよりなる導波路コア１５０
を形成するために、UV光により硬化性を有する非線形有
機ポリマーをスピンコーティング方法を用いて基板１０
０に非線形ポリマー層１６０を形成する。
【００１７】図７には本発明の望ましい一実施形態によ
りスピンコーティング法で非線形ポリマー層１６０を形
成したことを示す。この後、図８のように基板の背面か
らUV光を露光する。この時、上述した工程によって形成
された第１金属層１９０及び第２金属層２００がUV光に
対してマスクの役割をして、選択的に金属層のない領域
にある非線形ポリマーだけが硬化される。このように選
択的に硬化した部分は非線形ポリマーよりなる導波路の
非線形コア領域１５０部分になる。図８及び図９は上記
の工程内容を図式化した図面である。
【００１８】図１０及び図１１は第３金属層２１０を形
成する工程を示している。まず非線形コア領域１５０が
形成された基板１００にPRをスピンコーティング方法に
より塗布する。この後、同じように別のマスクの整列作
業をすることなくUV光を基板１００の背面から照射す
る。現像工程によりUV光に照射されたPR領域を洗い上
げ、残りの部分をそのまま残す。このようにPRでパター
ニングした後、真空蒸着法で第３金属層２１０を蒸着さ
せる。前記第３金属層２１０を蒸着後にPRをリフトオフ
すると初めて非線形ポリマーよりなる非線形コア領域１
５０の上の領域にだけ図１１のように第３金属層２１０
が形成される。この後、第２金属層２００は蝕刻溶液を
利用して蝕刻してしまう。
【００１９】次の工程は線形ポリマーよりなる線形コア
領域１４０を、先に形成した非線形ポリマーよりなる非
線形コア領域１５０に連結して形成する方法である。図
１２乃至図１７は本発明の望ましい一実施例による非線
形効果が生じない部分に線形有機ポリマーで線形コア領
域１４０を形成するための工程過程図である。図１２に
示すように断面線Ｂ−Ｂ' で見ると基板１００上に下部
クラッド層１７０と第１金属層１９０が形成されてお
り、断面線Ｃ−Ｃ' から見ると、非線形ポリマーよりな
る非線形コア領域１５０とその非線形コア領域１５０の
上に第３金属層２１０が順次積層されている。このよう
な各層が積層された基板１００上に、図１３に示すよう
に、スピンコーティングにより線形ポリマーを塗布して
線形ポリマー層１６５を形成する。塗布後、図１４のよ
うに基板１００の背面からUV光を照射すると、第１金属
層１９０がUV光をマスキングする役割を行い、線形導波
路コアを形成する領域だけがUV光に硬化されて線形ポリ
マーよりなる線形コア領域１４０が形成される。この
時、UV光の照射量を変化させることにより、硬化される
厚さを調節する。UV光に硬化されない残りの線形ポリマ
ー部分は適切なソルベントを使用して洗い上げる。図１
５は上記の工程によって線形ポリマーが硬化されて線形
コア領域１４０が形成されたことを示す。この後、図１
５から非線形ポリマーよりなる非線形コア領域１５０の
上にある第３金属層２１０と下部クラッド層１７０上に
ある第１金属層１９０を蝕刻溶液を利用して蝕刻してし
まう。上の工程が終わると上部クラッドの役割をするポ
リマーを上記の基板１００にスピンコーティングし、全
体的にUV−キュアリングをして上部クラッド層１８０を
完成する。図１７には上記の全ての工程を経て非線形ポ
リマーよりなる非線形コア領域１５０と線形ポリマーよ
りなる線形コア領域１４０が同時に連結してなる導波路
を示す。
【００２０】次に本発明の動作を説明する。図２は本発
明の望ましい一実施形態による線形ポリマーと非線形ポ
リマーが共に導波路コア１４０、１５０を構成し、光能
動素子から非線形効果が生ずる部分に電極１３０とその
部分に非線形ポリマーで非線形コア領域１５０が形成さ
れたことを示した本発明の構成図である。光能動素子内
において直接電極１３０に与えられた電圧や電気場によ
って非線形効果の必要でない部分には光進行損失が低損
失である線形ポリマーよりなる線形コア領域１４０が形
成されており、一方の端部から入力された光信号は、ま
ず、この線形コア領域１４０を通過する。線形コア領域
１４０を通過した光信号は、電極１３０がある部分の非
線形ポリマーより形成された非線形コア領域１５０部分
を通過しながら直接電極１３０に与えられた電圧や電気
場によって光の特性が変化され、この変化された光信号
は再び線形ポリマーよりなる線形コア領域１４０を経て
出力端に出力される。
【００２１】既存の方法では、単純に光信号の進行だけ
必要な導波路領域も、線形ポリマーに比べて導波損失の
高い非線形ポリマーによって導波路コア領域が構成され
ているため、全体的な素子の導波損失が高くなって素子
の挿入損失が大きくなる。これに対して本発明では、非
線形効果が生ずる領域にだけ非線形ポリマーよりなる非
線形コア領域１５０を構成し、残りの部分は線形ポリマ
ーで線形コア領域１４０を構成することによって素子内
の導波損失及び全体的な素子の挿入損失を低くすること
ができる。
【００２２】図１８及び図１９は本発明の望ましい一実
施形態の方法により形成された方向カプラ形態の光スイ
ッチ及びマッハ−ツェンダー形態の光変調器を示してい
る。図１８は光能動素子の一種類である方向性カプラ形
態の光スイッチを示す。入力端1 から入力された光信号
は、光能動素子内の光進行損失が低損失である線形ポリ
マーよりなる導波路１１０領域を通過する。導波路１１
０を通過した光信号は電極部分の非線形ポリマーよりな
る導波路１２０部分を通過しながら直接電極１３０に与
えられる電圧や電気場によって光の特性が変化され、こ
の変化された光信号はさらに線形ポリマーよりなる導波
路１１０領域を経て出力端３または４に出力されて光ス
イッチの役割をする。図１９は本発明の望ましい一実施
形態の方法により形成されたマッハ−ツェンダータイプ
の光変調器を示している。入力端１から入力された光信
号は、光能動素子内において光進行損失が低損失である
線形ポリマーよりなる導波路１１０領域を通過する。導
波路１１０を通過した光信号は、電極部分の非線形ポリ
マーよりなる導波路１２０部分を通過しながら直接電極
１３０に与えられる電圧や電気場によって光の特性が変
化され、この変化された光信号は再び線形ポリマーより
なる導波路１１０領域を経て出力端2 に出力される。し
たがって、このように出力される光信号は、初期の光信
号の強さを変調できるようになる。
【００２３】有機光学ポリマーを利用して光能動素子を
構成する時、電極が位置している部分にのみ光非線形効
果が発生するので、電極が位置した部分にだけ非線形ポ
リマーを利用して導波路のコアを形成し、残りの非線形
効果の必要でない導波路の領域には非線形有機ポリマー
に比べて相対的に光進行損失の少ない線形有機ポリマー
を利用して導波路のコアを形成することによって、光能
動素子の全体的な素子挿入損失を減らす。
【００２４】
【発明の効果】本発明は非線形ポリマーを利用して光導
波路素子を製作する時、素子の導波損失を減らすため
に、光導波路の形成時に、非線形効果を発生させる素子
の一部領域にだけ選択的に非線形ポリマー導波路を形成
して素子の性能を向上させる。非線形ポリマーを利用し
て光能動素子を形成する時、本発明のように光変調効果
が生ずる導波路の領域にだけ非線形ポリマーを形成し、
残りの領域には線形ポリマーを利用して導波路を形成す
るならば、全ての導波路を非線形ポリマーで利用して導
波路を形成する時より導波路の導波損失を最小化させう
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】（Ａ）素子をなす導波路のコア全体が非線形ポ
リマーより形成された従来の方向カプラ形態の光スイッ
チの縦断面図。 （Ｂ）既存の方法で形成されたマッハーツェンダー形態
の光変調器の縦断面図。
【図２】本発明の望ましい一実施形態による、低損失光
能動素子の構成を示す斜視図。
【図３】本発明の説明の便宜のために、本発明の全体構
成図の断面線（Ａ−Ａ' ，Ｂ−Ｂ' ，Ｃ−Ｃ' ）の定義
を示す斜視図。
【図４】本発明の望ましい一実施形態による基板に下部
クラッド層を塗布したときの斜視図。
【図５】本発明の望ましい一実施形態による基板に形成
された下部クラッド層上に第１金属層を形成したときの
斜視図。
【図６】本発明の望ましい一実施形態による第１金属層
の上部に第２金属層を形成したときの斜視図。
【図７】本発明の望ましい一実施形態による非線形効果
を奏する部分に選択的に非線形有機ポリマーよりなる導
波路のコア領域を形成するための工程過程を、図４に示
した断面線Ａ−Ａ' とＣ−Ｃ' を基準とした断面図。
【図８】本発明の望ましい一実施形態による非線形効果
を奏する部分に選択的に非線形有機ポリマーよりなる導
波路のコア領域を形成するための工程過程を、図４に示
した断面線Ａ−Ａ' とＣ−Ｃ' を基準とした断面図。
【図９】本発明の望ましい一実施形態による非線形効果
を奏する部分に選択的に非線形有機ポリマーよりなる導
波路のコア領域を形成するための工程過程を、図４に示
した断面線Ａ−Ａ' とＣ−Ｃ' を基準とした断面図。
【図１０】本発明の望ましい一実施形態による非線形効
果を奏する部分に選択的に非線形有機ポリマーよりなる
導波路のコア領域を形成するための工程過程を、図４に
示した断面線Ａ−Ａ' とＣ−Ｃ' を基準とした断面図。
【図１１】本発明の望ましい一実施形態による非線形効
果を奏する部分に選択的に非線形有機ポリマーよりなる
導波路のコア領域を形成するための工程過程を、図４に
示した断面線Ａ−Ａ' とＣ−Ｃ' を基準とした断面図。
【図１２】本発明の望ましい一実施形態による非線形効
果を奏さない部分に線形ポリマーで導波路コアを形成す
るための工程過程を、図４に示した断面線Ｂ−Ｂ' 及び
Ｃ−Ｃ' を基準とした断面図。
【図１３】本発明の望ましい一実施形態による非線形効
果を奏さない部分に線形ポリマーで導波路コアを形成す
るための工程過程を、図４に示した断面線Ｂ−Ｂ' 及び
Ｃ−Ｃ' を基準とした断面図。
【図１４】本発明の望ましい一実施形態による非線形効
果を奏さない部分に線形ポリマーで導波路コアを形成す
るための工程過程を、図４に示した断面線Ｂ−Ｂ' 及び
Ｃ−Ｃ' を基準とした断面図。
【図１５】本発明の望ましい一実施形態による非線形効
果を奏さない部分に線形ポリマーで導波路コアを形成す
るための工程過程を、図４に示した断面線Ｂ−Ｂ' 及び
Ｃ−Ｃ' を基準とした断面図。
【図１６】本発明の望ましい一実施形態による非線形効
果を奏さない部分に線形ポリマーで導波路コアを形成す
るための工程過程を、図４に示した断面線Ｂ−Ｂ' 及び
Ｃ−Ｃ' を基準とした断面図。
【図１７】本発明の望ましい一実施形態による非線形効
果を奏さない部分に線形ポリマーで導波路コアを形成す
るための工程過程を、図４に示した断面線Ｂ−Ｂ' 及び
Ｃ−Ｃ' を基準とした断面図。
【図１８】本発明の望ましい一実施形態の方法により形
成された方向カプラ形態の光スイッチの縦断面図。
【図１９】本発明の望ましい一実施形態の方法により形
成された方向カプラ形態のマッハーツェンダー形態の光
変調器の縦断面図。
【符号の説明】
１００：基板 １１０：線形ポリマーよりなる導波路 １２０：非線形ポリマーよりなる導波路 １３０：電極 １４０：線形コア領域 １５０：非線形コア領域 １６０：スピンコーティングされた非線形ポリマー層 １６５：スピンコーティングされた線形ポリマー層 １７０：下部クラッド層 １８０：上部クラッド層 １９０：第１金属層 ２００：第２金属層 ２１０：第３金属層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 李 勇 雨 大韓民国京畿道龍仁市器興邑農書里山14 番地 (56)参考文献 特開 平６−214274（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G02B 6/12 - 6/138 G02F 1/35

Claims (11)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 光信号導波時に非線形効果の必要な光導
    波路コア部分（非線形コア領域）及び非線形効果が必要
    でない光導波路コア部分（線形コア領域）よりなる光導
    波路を具備した光能動素子の製造方法において、 紫外線（UV光）を透過させうる基板の表面に線形ポリマ
    ーで下部クラッド層を形成する下部クラッド形成段階
    と、 前記下部クラッド層の上部の前記光導波路が位置する領
    域を除外した領域に、紫外線を透過しない第１金属層を
    形成する第１金属層形成段階と、 前記線形コア領域の上部及び前記線形コア領域の両側方
    に隣接した前記第１金属層の上部に、前記第１金属層と
    異なる物質よりなり、紫外線を透過しない第２金属層を
    形成する第２金属層形成段階と、 前記導波路領域、前記第１金属層及び第２金属層の上部
    に非線形ポリマーを形成する非線形ポリマー形成段階
    と、 前記基板下部に紫外線を露光して前記非線形コア領域だ
    けに硬化された非線形ポリマーを形成し、前記第１金属
    層及び第２金属層の上部に形成された硬化されない非線
    形ポリマーを除去する非線形ポリマー硬化段階と、 前記非線形コア領域に形成された非線形ポリマーの上部
    に第３金属層を形成する第３金属層形成段階と、 前記第２金属層を除去する第２金属層除去段階と、 前記第１金属層及び光導波路の上部に線形ポリマーを塗
    布する線形ポリマー塗布段階と、 前記基板の下部に紫外線を露光して前記線形コア領域だ
    けに硬化された線形ポリマーを形成する線形ポリマー硬
    化段階と、 下部クラッド層の上部にある第１金属層と第３金属層と
    を除去する金属層除去段階と、 前記下部クラッド層及び導波路コア領域の上部に上部ク
    ラッド層を形成する上部クラッド形成段階と、 を含むことを特徴とする、低損失光能動素子の製造方
    法。
  2. 【請求項２】 前記下部クラッド形成段階において、ス
    ピンコーティング法により下部クラッドの形成を行うこ
    とを特徴とする、請求項１に記載の低損失光能動素子の
    製造方法。
  3. 【請求項３】 前記スピンコーティングされた線形ポリ
    マーよりなる下部クラッド層形成段階は、 紫外線露光で前記下部クラッド層をキュアリングする段
    階と、 乾燥工程を通じて膜質を良くする段階と、 をさらに具備することを特徴とする、請求項２に記載の
    低損失光能動素子の製造方法。
  4. 【請求項４】 前記第１金属層形成段階は、 前記下部クラッド層の上部にフォトレジストを塗布する
    段階と、 所定のパターンが描かれたフォトマスクを前記基板に整
    列して前記フォトレジストに選択的に紫外線が露光でき
    るようにする段階と、 前記フォトレジストを現像溶液に浸して現像及び乾燥を
    行ってフォトレジストパターンを形成する段階と、 前記フォトレジストパターンが形成された基板に真空蒸
    着法で第１金属層を蒸着させる段階と、 前記フォトレジストをリフトオフする段階と、 を含むことを特徴とする、請求項１に記載の低損失光能
    動素子の製造方法。
  5. 【請求項５】 前記第１金属層形成段階の第１金属層
    は、前記第２金属層が蝕刻される蝕刻溶液に蝕刻されな
    いことを特徴とする、請求項１に記載の低損失光能動素
    子の製造方法。
  6. 【請求項６】 前記第３金属層形成段階は、 前記非線形ポリマー硬化段階で形成された硬化した非線
    形ポリマーを含む基板上部にフォトレジストを塗布する
    段階と、 前記硬化した非線形ポリマー上部のフォトレジストが洗
    い上がるように、紫外線を前記基板下部に照射して前記
    フォトレジストをパターニングする段階と、 前記パターニングされた基板上部に真空蒸着法で第３金
    属層を蒸着させる段階と、 前記基板の上部のフォトレジストをリフトオフする段階
    と、 を含むことを特徴とする、請求項１に記載の低損失光能
    動素子の製造方法。
  7. 【請求項７】 前記第２金属層除去段階は、前記第１金
    属層が蝕刻されない蝕刻溶液を利用して前記第２金属層
    を蝕刻することを特徴とする、請求項１に記載の低損失
    光能動素子の製造方法。
  8. 【請求項８】 前記線形ポリマー硬化段階で硬化される
    線形ポリマーの厚さは、前記紫外線の照射量により調節
    されることを特徴とする、請求項１に記載の低損失光能
    動素子の製造方法。
  9. 【請求項９】 前記下部クラッド及び上部クラッドは、
    前記導波路コアを形成する線形ポリマー及び非線形ポリ
    マーより屈折率の低いことを特徴とする、請求項１に記
    載の低損失光能動素子の製造方法。
  10. 【請求項１０】 前記非線形ポリマーは、紫外線（UV
    光）感応性の特性を有し、非線形光学色素を機能性要素
    として有する物質であることを特徴とする、請求項１に
    記載の低損失光能動素子の製造方法。
  11. 【請求項１１】 前記線形ポリマーは、使用する光の使
    用波長に対する光透明性を有する線形光学有機物質であ
    り、前記非線形ポリマーより光導波損失が低い物質であ
    ることを特徴とする、請求項１に記載の低損失光能動素
    子の製造方法。
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