JP2900084B2 - Manufacturing method of electronic component mounting board - Google Patents

Manufacturing method of electronic component mounting board

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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、金属層に対して基材層を一体化して構成さ
れる電子部品搭載用基板の製造方法に関するもので、特
にレーザー加工を利用して金属層の所定部分を基材層か
ら露出させるようにした電子部品搭載用基板の製造方法
の改良に関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method of manufacturing an electronic component mounting substrate configured by integrating a base layer with a metal layer, and particularly utilizes laser processing. The present invention relates to an improvement in a method of manufacturing an electronic component mounting substrate in which a predetermined portion of a metal layer is exposed from a base material layer.

(従来の技術) 近年の高密度化された電子部品は、そのままでは各種
電子機器を構成することができないから、これを基板に
実装してから使用しなければならない。そのために、従
来より種々の形式の電子部品搭載用基板が開発され提案
されている。
(Prior Art) In recent years, electronic components having a higher density cannot constitute various electronic devices as they are, and must be used after being mounted on a substrate. For this purpose, various types of electronic component mounting substrates have been conventionally developed and proposed.

例えば、電子部品と、これを外部に接続するためのリ
ード等の端子とを、基板において接続する形式の電子部
品搭載用基板は、導体層、リードあるいは伝熱層等とす
るための金属層に対して、樹脂等により形成されて絶縁
性の優れた基材層を一体化し、この基材層の表面あるい
は内部に導体回路等を形成することにより、電子部品を
実装する基板として構成されるものである。
For example, an electronic component mounting substrate of a type in which an electronic component and a terminal such as a lead for connecting the electronic component to the outside are connected on the substrate is a metal layer for forming a conductor layer, a lead or a heat transfer layer. On the other hand, by integrating a substrate layer formed of resin or the like and having excellent insulating properties, and forming a conductor circuit or the like on the surface or inside of the substrate layer, the substrate is configured as a substrate on which electronic components are mounted. It is.

そして、この種の電子部品搭載用基板に対しては、第
7図に示したように、電子部品(20)を搭載するための
電子部品搭載用凹部(13)や電子部品(20)から発生し
た熱を放散させる放熱部(18)を形成する等の目的で基
材層(12)から金属層(11)を露出させることが一般的
に行なわれている。
As shown in FIG. 7, the electronic component mounting substrate (13) for mounting the electronic component (20) and the electronic component (20) are generated from the electronic component mounting substrate (13). It is common practice to expose the metal layer (11) from the base material layer (12) for the purpose of forming a heat radiating portion (18) for dissipating the generated heat.

このような基材層(12)から金属層(11)が露出した
電子部品搭載用凹部(13)や放熱部(18)を形成するの
は、電子部品(20)を通電した際に発生する熱を直接熱
伝導性の高い金属層(11)に伝え、さらにこの熱を放熱
部(18)から大気中に放散させることにより、電子部品
(20)の放熱性を高めるためや、あるいは電子部品(2
0)を搭載したときの電子部品搭載用基板全体の厚さを
薄くするため等の理由によるものである。
The formation of the electronic component mounting concave portion (13) and the heat radiation portion (18) in which the metal layer (11) is exposed from the base material layer (12) occurs when the electronic component (20) is energized. The heat is directly transmitted to the highly heat-conductive metal layer (11), and this heat is dissipated into the atmosphere from the heat radiating section (18) to enhance the heat dissipation of the electronic component (20). (2
This is because the thickness of the entire electronic component mounting substrate when (0) is mounted is reduced.

そして、このような電子部品搭載用基板を製造する方
法には種々な方法があり、中でも本出願人が先の出願
(特開平1−113425号)において提案した「電子部品搭
載用基板の製造方法」が効果的である。
There are various methods for manufacturing such a substrate for mounting electronic components. Among them, there is a method for manufacturing a substrate for mounting electronic components proposed by the present applicant in an earlier application (Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-113425). Is effective.

この製造方法は、その特許請求の範囲からすると、 「金属層に対して基材層を一体化して、この基材層か
ら前記金属層の所定の部分を次の各工程を経て露出させ
ることにより構成される電子部品搭載用基板の製造方
法。
According to the claims, the manufacturing method is described as follows: `` by integrating the base layer with the metal layer and exposing a predetermined portion of the metal layer from the base layer through the following steps. A method of manufacturing an electronic component mounting substrate to be configured.

(1)露出部となるべき部分の金属層と基材層との間に
マスクを配置してから、前記金属層に対して前記基材層
を一体化する工程; (2)前記マスクの周囲に位置する、金属層上の基材層
に対してこの基材層側から前記金属層側にレーザー光を
照射して、前記マスクの周囲の基材層を切断する工程; (3)前記マスク上の基材層をこのマスクとともに剥離
する工程」である。
(1) a step of disposing a mask between the metal layer and the base material layer in a portion to be an exposed portion, and then integrating the base material layer with the metal layer; (2) around the mask Irradiating the base material layer on the metal layer with a laser beam from the base layer side to the metal layer side to cut the base layer around the mask; (3) the mask And removing the upper substrate layer together with the mask. "

つまり、この従来の製造方法は、マスクを介して金属
層と基材層とを一体化し、次にレーザー光により前記マ
スクの周囲の基材層を切断し、最後に前記マスク上の基
材層をこのマスクとともに剥離することによって、部分
的に金属層が露出した電子部品搭載用基板を製造するの
である。
That is, in this conventional manufacturing method, the metal layer and the base layer are integrated via a mask, then the base layer around the mask is cut by a laser beam, and finally, the base layer on the mask is cut. Is peeled off together with the mask, thereby manufacturing an electronic component mounting substrate in which the metal layer is partially exposed.

(発明が解決しようとする課題) ところで、近年の電子部品搭載用基板は、その小型化
及び電気特性の向上化のために、高多層化が要求されて
きている。多層化が進むとこの電子部品搭載用基板自体
の厚みは、従来よりも厚くなるのが当然である。そこ
で、上述したレーザー光を使って基材層を切断する従来
の製造方法において、例えば、炭酸ガスレーザーを使用
して、上記の多層化された電子部品搭載用基板の基材層
を切断する場合に、炭酸ガスレーザー光の焦点距離は、
0.6〜0.8mm程であり、従って、基材層の厚みがこのレー
ザー光の焦点距離よりも大きいと、完全に基材層を切断
することができないこととなる。つまり、基材層の厚み
がレーザー光の焦点距離よりも大きい場合には、基材層
を完全に切断することができず,レーザー光による基材
層の焦げ跡、即ち炭化物が金属層上に残ることとなる。
この炭化物には、導電性があり電子部品搭載用基板の絶
縁信頼性を低下させるという不都合が生じるのである。
特に、従来の製造方法により電子部品搭載用基板の外形
加工を行い、アウターリードとなる金属層を露出させる
ような場合にあっては、前述の炭化物がこのアウターリ
ードに付着し、この炭化物によってアウターリード間の
絶縁抵抗を低下させることとなって、電子部品搭載用基
板の信頼性を低下させるといった問題も生じるのであ
る。
(Problems to be Solved by the Invention) By the way, recent electronic component mounting substrates are required to have a high multilayer structure in order to reduce the size and improve the electrical characteristics. As the number of layers increases, the thickness of the electronic component mounting substrate itself naturally becomes larger than in the past. Therefore, in the conventional manufacturing method of cutting the base material layer using the laser light described above, for example, when cutting the base material layer of the multilayered electronic component mounting board using a carbon dioxide laser, In addition, the focal length of carbon dioxide laser light is
When the thickness of the base layer is larger than the focal length of the laser beam, the base layer cannot be completely cut. In other words, when the thickness of the base layer is larger than the focal length of the laser beam, the base layer cannot be completely cut, and the scorching of the base layer by the laser beam, that is, the carbide is left on the metal layer. Will remain.
This carbide has conductivity and causes a disadvantage that the insulation reliability of the electronic component mounting substrate is reduced.
In particular, in the case where the outer shape of the electronic component mounting substrate is processed by a conventional manufacturing method to expose the metal layer serving as the outer lead, the above-mentioned carbide adheres to the outer lead, and the outer material is formed by the carbide. As a result, the insulation resistance between the leads is reduced, and the reliability of the electronic component mounting substrate is reduced.

そこで案出されたのが本発明であってその目的とする
ところは、レーザー光を使用して電子部品搭載用基板の
製造する方法において、基材層の厚みがレーザー光の焦
点距離よりも大きい場合にあっても、レーザー光による
炭化物が発生せずに絶縁信頼性の高い電子部品搭載用基
板を容易に製造することができる方法を提供することに
ある。
Therefore, the present invention was devised and an object thereof is to provide a method of manufacturing an electronic component mounting substrate using laser light, wherein the thickness of the base material layer is larger than the focal length of the laser light. Even in such a case, it is an object of the present invention to provide a method capable of easily manufacturing an electronic component mounting substrate having high insulation reliability without generating carbide due to laser light.

(課題を解決するための手段) 以上の課題を解決するために本発明が採った手段は、
実施例において使用する符号を付して説明すると、 「金属層(11)に対して基材層(12)を一体化して、
この基材層(12)から金属層(11)の所定の部分を次の
各工程を経て露出させることにより構成される電子部品
搭載用基板(10)の製造方法。
(Means for Solving the Problems) Means taken by the present invention to solve the above problems are:
The following description is given with reference numerals used in the examples. “The base layer (12) is integrated with the metal layer (11),
A method for manufacturing an electronic component mounting board (10), comprising exposing a predetermined portion of the metal layer (11) from the base layer (12) through the following steps.

(イ)露出部(11A)となるべき部分の金属層(11)
と基材層(12)との間にマスク(16)を配置してから、
前記金属層(11)に対して前記基材層(12)を一体化す
る工程; (ロ)前記マスク(16)の周囲に位置する金属層(1
1)上の基材層(12)に対してザグリ加工を施し凹部(1
2C)を形成する工程; (ハ)前記凹部(12C)に対して基材層(12)側から
前記金属層(11)側にレーザー光を照射し、前記マスク
(16)の周囲の基材層(12)を切断する工程; (ニ)前記マスク(16)上の基材層(12)をこのマス
ク(16)とともに剥離する工程」である。
(B) Metal layer (11) to be exposed (11A)
After placing the mask (16) between the substrate and the base layer (12),
A step of integrating the base layer (12) with the metal layer (11); (b) a metal layer (1) located around the mask (16);
1) Counterbore processing is applied to the base material layer (12)
(C) irradiating a laser beam to the concave portion (12C) from the base material layer (12) side to the metal layer (11) side to form a base material around the mask (16). (D) a step of separating the substrate layer (12) on the mask (16) together with the mask (16).

すなわち、本発明の方法においては、まず第6図の
(a)に示したように、露出部(11A)となるべき部分
の金属層(11)と基材層(12)の一体化を阻止するた
め、これらの間にマスク(16)を配置してから、その他
の部分の金属層(11)と基材層(12)を一体化する。
That is, in the method of the present invention, as shown in FIG. 6 (a), the integration of the metal layer (11) and the base material layer (12) in the portion to be the exposed portion (11A) is prevented. For this purpose, a mask (16) is arranged between them, and then the other part of the metal layer (11) and the base material layer (12) are integrated.

このマスク(16)としては、金属層(11)と基材層
(12)を一体化する工程等、この電子部品搭載用基板
(10)を製造する一連の工程で熱や圧力等の衝撃が加え
られても変形することなく、最終的に何らかの方法で金
属層(11)から剥離できるものであれば何でもよく、例
えば比較的耐熱性の高い樹脂フィルムや、金属箔等が挙
げられる。
The mask (16) is subjected to a shock such as heat and pressure in a series of processes for manufacturing the electronic component mounting substrate (10), such as a process for integrating the metal layer (11) and the base material layer (12). Any material that can be finally peeled off from the metal layer (11) by any method without being deformed even if added may be used, and examples thereof include a resin film having relatively high heat resistance and a metal foil.

また、金属層(11)と基材層(12)を一体化すること
は、完全硬化する前の熱硬化型樹脂を金属層(11)と密
着させながら、適当な温度と時間を加えて、金属層(1
1)と基材層(12)を接着させることにより行なう。こ
の一体化方法としては、金属層(11)にプリプレグ(12
b)を重ねて、プレス等で熱圧着させることにより、こ
のプリプレグ(12b)を基材層(12)として形成する方
法、金属層(11)と基材層(12)の間に半硬化状態の接
着シート(12a)を配置して、プレス等で熱圧着させる
ことにより、基材層(12)とする方法、金属層(11)を
はさみ込んだ金型に熱硬化性樹脂を注入して熱硬化させ
てこれを基材層(12)とする、所謂射出成型の方法等が
挙げられる。
In addition, integrating the metal layer (11) and the base material layer (12) can be achieved by applying an appropriate temperature and time while keeping the thermosetting resin before being completely cured in close contact with the metal layer (11). Metal layer (1
This is performed by bonding 1) to the base material layer (12). This integration method includes a prepreg (12
b) Laminating the prepreg (12b) as a base layer (12) by thermocompression bonding with a press, etc., a semi-cured state between the metal layer (11) and the base layer (12) A method for forming a base layer (12) by placing an adhesive sheet (12a) and thermocompression bonding with a press or the like, injecting a thermosetting resin into a mold in which a metal layer (11) is inserted. A so-called injection molding method in which this is heat-cured to form a base material layer (12) can be used.

次に、以上のような基材層(12)に対して第6図の
(b)に示したように、基材層(12)の外側からマスク
(16)の外周に位置する金属層(11)上の基材層(12)
に対してルーター等によりザグリ加工を施し凹部(12
C)を形成する。この凹部(12C)の深さは、基材層(1
2)の残りの厚みがレーザー光の焦点距離よりも小さく
なるようにする必要があり、例えば、レーザー光として
炭酸ガスレーザーを使用し、その焦点距離が1.0mmの場
合には、基材層(12)の残りの厚みが1.0mm以下となる
深さの凹部(12C)を形成する必要がある。なお、この
凹部(12c)を形成する手段としては、ルーターによる
のみならず他の公知の方法によっても良い。
Next, as shown in FIG. 6 (b), the metal layer (12) positioned on the outer periphery of the mask (16) from the outside of the base material layer (12) to the base material layer (12) as described above. 11) Upper substrate layer (12)
Counterbore processing is performed on the recesses (12
Form C). The depth of the recess (12C) depends on the substrate layer (1
It is necessary to make the remaining thickness of 2) smaller than the focal length of the laser beam. For example, when a carbon dioxide laser is used as the laser beam and the focal length is 1.0 mm, the base layer ( It is necessary to form a recess (12C) having a depth such that the remaining thickness of 12) is 1.0 mm or less. As a means for forming the concave portion (12c), not only a router but also other known methods may be used.

次いで、この基材層(12)の凹部(12C)に対して第
6図の(c)に示したように、基材層(12)側から前記
金属層(11)側にレーザー光を照射するのである。
Next, as shown in FIG. 6 (c), a laser beam is irradiated from the side of the base material layer (12) to the side of the metal layer (11) to the recess (12C) of the base material layer (12). You do it.

ここで用いられるレーザー光は、基材層(12)の切断
を良好に行なうとともに、金属層(11)に傷をつけない
ようにする必要があるため、金属に対しての反射率の高
い波長のものが望ましい。その点発振波長が10.6μmで
ある炭酸ガスレーザーを用いると、金属層(11)を全く
傷つけることなく基材層(12)を切断できる。
The laser beam used here is required to cut the base layer (12) well and not to damage the metal layer (11). Is desirable. If a carbon dioxide laser having an oscillation wavelength of 10.6 μm is used, the substrate layer (12) can be cut without damaging the metal layer (11) at all.

このように、レーザー光によって、凹部(12C)に位
置する金属層(11)上の基材層(12)を切断することに
よって、第6図の(c)に示すように、マスク(16)の
外周に、マスク(16)上の基材層(12)と他の基材層
(12)とを確実に分離する溝が形成されるのである。
As described above, by cutting the base material layer (12) on the metal layer (11) located in the concave portion (12C) by the laser beam, the mask (16) is cut as shown in FIG. A groove is formed in the outer periphery of the substrate to reliably separate the base material layer (12) on the mask (16) from the other base material layer (12).

このようなマスク(16)上の外周に位置する溝が形成
されれば、マスク(16)上に位置する基材層(12)は、
他の基材層(12)と完全に分離されており、しかも前述
したようにマスク(16)と金属層(11)とは接着されて
いないため、マスク(16)は容易に剥離できる状態とな
っているのである。
If such a groove located on the outer periphery on the mask (16) is formed, the base material layer (12) located on the mask (16) becomes
The mask (16) is completely separated from the other base material layer (12), and the mask (16) is not bonded to the metal layer (11) as described above. It is becoming.

最後に、基材層(12)をマスク(16)とともに金属層
(11)から剥離すれば、第6図の(d)に示したよう
に、金属露出部(11A)を有する電子部品搭載用基板(1
0)が形成されるのである。
Finally, if the base material layer (12) is peeled off from the metal layer (11) together with the mask (16), as shown in FIG. 6 (d), an electronic component mounting part having an exposed metal part (11A) is provided. Substrate (1
0) is formed.

(発明の作用) このような方法で電子部品搭載用基板(10)の金属露
出部(11A)を形成すると、次のような作用がある。
(Operation of the Invention) When the metal exposed portion (11A) of the electronic component mounting board (10) is formed by such a method, the following operation is obtained.

金属露出部(11A)となるべき部分において、マスク
(16)によって基材層(12)と金属層(11)との一体化
を阻止する。すなわち、例えば基材層(12)と金属層
(11)とを接着させる接着シート(12a)として、熱圧
着時の樹脂の流れ性が高いものを採用しても、マスク
(16)の介在によって金属露出部(11A)の表面に接着
シート(12a)の樹脂の流出を防止することが可能なた
め、耐熱性、耐湿性、耐薬品性等の性能が優れた接着シ
ート(12a)が採用できる。
In a portion to be the metal exposed portion (11A), the integration of the base material layer (12) and the metal layer (11) is prevented by the mask (16). That is, for example, even if an adhesive sheet (12a) that adheres to the base material layer (12) and the metal layer (11) has high resin flowability during thermocompression bonding, the mask (16) intervenes. Since it is possible to prevent resin from flowing out of the adhesive sheet (12a) on the surface of the exposed metal part (11A), an adhesive sheet (12a) having excellent properties such as heat resistance, moisture resistance and chemical resistance can be adopted. .

また、特に発振波長が10.6μmである炭酸ガスレーザ
ーを採用すれば、金属に対して反射率の高いレーザー光
が得られ、しかも樹脂やガラスクロス等に関しては良好
な切断ができる。このため、凹部(12C)へレーザー光
を照射すれば、金属層(11)を傷つけることなく、基材
層(12)のみが選択的に切断されるのである。従って、
凹部(12C)における基材層(12)の残りの厚さが多少
変動するような場合でも、レーザー光による切断は、必
ず金属層表面までで止められるため、切断の深さ制御が
簡単にしかも正確に行なわれるのである。
In particular, when a carbon dioxide laser having an oscillation wavelength of 10.6 μm is employed, a laser beam having a high reflectance with respect to a metal can be obtained, and good cutting of resin, glass cloth, and the like can be performed. Therefore, when the concave portion (12C) is irradiated with the laser beam, only the base layer (12) is selectively cut without damaging the metal layer (11). Therefore,
Even when the remaining thickness of the base material layer (12) in the recess (12C) fluctuates slightly, cutting by laser light is always stopped at the surface of the metal layer. It is done exactly.

さらに、このレーザー光による加工はマスク(16)の
外周に位置する金属層(11)上の基材層(12)の凹部
(12c)に対して行なえばよく、マスク(16)上の基材
層(12)に対しては何等作業をする必要がないため、こ
の加工作業は非常に短時間内に完了するものである。
Further, the processing by the laser beam may be performed on the concave portion (12c) of the base layer (12) on the metal layer (11) located on the outer periphery of the mask (16). Since no operation is required on the layer (12), this processing operation is completed in a very short time.

また、このレーザー光による加工は非接触加工である
から、加工作業における工具の損傷を全く無視すること
ができるため安定した加工が行なえるのである。
Further, since the processing by the laser beam is a non-contact processing, the damage of the tool in the processing operation can be completely ignored, so that stable processing can be performed.

次に、本発明の最も重要な部分である基材層(12)に
設けられる凹部(12C)について説明する。この凹部(1
2C)は、レーザー光の照射により基材層(12)を切断す
る際に、レーザー光の焦点がぼけて、基材層(12)の焦
げ付きによる炭化物が生じるのを防止するために形成さ
れるものであり、レーザー光により切断する基材層(1
2)の実質的な厚みを薄くするためのものである。従っ
て、この凹部(12C)を予め形成しておくことによっ
て、切断すべき基材層(12)の厚みをレーザー光の焦点
距離よりも小さくし、レーザー光による基材層(12)の
炭化物が生じないようにして、炭化物が金属層(11)に
付着するのを防止できるのである。よって、この凹部
(12C)の深さを調節することにより、基材層(12)が
いかなる厚みであっても炭化物を発生させることなく当
該基材層(12)を切断することができることになる。
Next, the concave part (12C) provided in the base material layer (12), which is the most important part of the present invention, will be described. This recess (1
2C) is formed in order to prevent the laser light from being defocused when the base material layer (12) is cut by irradiation with laser light, and to prevent the generation of carbide due to scorching of the base material layer (12). The substrate layer (1
This is for reducing the substantial thickness of 2). Therefore, by forming the concave portion (12C) in advance, the thickness of the base material layer (12) to be cut is made smaller than the focal length of the laser light, and the carbide of the base material layer (12) by the laser light is reduced. This prevents carbides from adhering to the metal layer (11). Therefore, by adjusting the depth of the concave portion (12C), the substrate layer (12) can be cut without generating carbides regardless of the thickness of the substrate layer (12). .

(実施例) 次に、本発明に係る製造方法を図面に示した実施例に
従って詳細に説明する。
Example Next, a manufacturing method according to the present invention will be described in detail with reference to an example shown in the drawings.

実施例1 第1図、第2図、及び第3図の(a)〜(d)には、
本発明の実施例1が示してある。
Example 1 FIGS. 1, 2 and 3 show (a) to (d)
Example 1 of the present invention is shown.

第1図及び第2図に示したものは、複数のアウターリ
ード(17a)の内側に内部接続部(11C)を一体的に形成
し、この内部接続部(11C)の両側に基材層(12)を一
体的に設けることにより、基材層(12)から各アウター
リード(17a)を突出させるとともに、基材の少なくと
もいずれか一方に形成した導体回路(14)とアウターリ
ード(17a)とを電気的に接続した電子部品搭載用基板
(10)である。
FIGS. 1 and 2 show a case in which an internal connection portion (11C) is integrally formed inside a plurality of outer leads (17a), and a base material layer (10) is formed on both sides of the internal connection portion (11C). By providing 12) integrally, each outer lead (17a) protrudes from the base material layer (12), and the conductor circuit (14) and the outer lead (17a) formed on at least one of the base materials are provided. Is an electronic component mounting board (10) that is electrically connected.

この電子部品搭載用基板(10)は、電子部品(20)と
アウターリード(17a)との電気的接続を、基材層(1
2)上の導体回路(14)を介して行なう形式のものであ
り、特に金属層(11)としてアウターリード(17a)と
内部接続部(11C)とを一体的に形成したものを採用し
ている。従って、この電子部品搭載用基板(10)におい
ては、金属層(11)を構成している内部接続部(11C)
の両側に基材層(12)が一体的に設けてあり、アウター
リード(17a)はこの基材層(12)から外方に突出して
いるのである。そして、この電子部品搭載用基板(10)
は、基材層(12)上の導体回路(14)と、アウターリー
ド(17a)とを、内部接続部(11C)を通して設けたスル
ーホール(15)により、電気的に接続してあることを特
徴とするものである。
The electronic component mounting board (10) provides electrical connection between the electronic component (20) and the outer leads (17a) by the base layer (1).
2) This is a type that is carried out through the upper conductor circuit (14). In particular, as the metal layer (11), the outer lead (17a) and the internal connection part (11C) are integrally formed. I have. Therefore, in the electronic component mounting board (10), the internal connection portion (11C) constituting the metal layer (11) is formed.
The base layers (12) are integrally provided on both sides of the base material, and the outer leads (17a) protrude outward from the base layers (12). And this electronic component mounting board (10)
Means that the conductor circuit (14) on the base material layer (12) and the outer lead (17a) are electrically connected to each other by the through hole (15) provided through the internal connection portion (11C). It is a feature.

この電子部品搭載用基板(10)の製造方法について第
3図を参照して以下に説明する。
The method of manufacturing the electronic component mounting board (10) will be described below with reference to FIG.

先ず、リードフレーム材をエッチング加工して形成し
たリードフレーム(17)(これは金属層(11)に該当す
るものである)のアウターリード(17a)となるべき部
分の両面をおおうようにマスク(16)を配置し、さらに
その外側にプリプレグ、銅箔の順で重ね合わせていき、
これらをプレスで熱圧着して、積層一体化させる。これ
によって、第3図の(a)に示すように、アウターリー
ド(17a)となるべき部分において、マスク(16)によ
って基材層(12)との積層一体化が阻止されていて、リ
ードフレーム(17)が基材層(12)に埋設された形状の
基板が形成される。
First, a mask is formed so as to cover both surfaces of a portion to be an outer lead (17a) of a lead frame (17) formed by etching a lead frame material (this corresponds to the metal layer (11)). 16) is placed, and prepreg and copper foil are layered on the outside,
These are thermocompression-bonded by a press to be laminated and integrated. As a result, as shown in FIG. 3 (a), the lamination and integration with the base material layer (12) is prevented by the mask (16) in the portion to become the outer lead (17a), A substrate having a shape in which (17) is embedded in the base material layer (12) is formed.

この実施例1では、リードフレーム材として厚さ0.25
mmの銅合金板を使用し、プリプレグとしてガラスクロス
にビスマレイミドトリアジン樹脂を含浸させて半硬化状
態にした、所謂ガラストリアジンプリプレグを使用し
た。また、マスク(16)としては、厚さ50μmのポリフ
ェニレンサルファイドフィルム、所謂PPSを使用した。
In the first embodiment, the lead frame material has a thickness of 0.25 mm.
A so-called glass triazine prepreg, which was made by impregnating a glass cloth with a bismaleimide triazine resin into a semi-cured state, was used as a prepreg using a copper alloy plate of mm. As the mask (16), a polyphenylene sulfide film having a thickness of 50 μm, so-called PPS, was used.

次に、基材層(12)表面に形成する導体回路(14)と
アウターリード(17a)とを電気的に接続させるための
スルーホール(15)を、ドリルにより穴明で形成し、そ
の内壁に銅めっきを施す。
Next, a through hole (15) for electrically connecting the conductor circuit (14) formed on the surface of the base material layer (12) and the outer lead (17a) is formed by drilling, and the inner wall is formed. Is plated with copper.

その後、エッチングによって基材層(12)表面に導体
回路(14)を形成すると、第3図の(b)に示すような
基板が形成される。
Thereafter, when a conductive circuit (14) is formed on the surface of the base material layer (12) by etching, a substrate as shown in FIG. 3 (b) is formed.

次いで、マスク(16)の外周に位置するリードフレー
ム(17)(金属層(11))上の基材層(12)の両面に対
してルーターによりザグリ加工を施し、凹部(12c)を
形成すれば、第3図の(c)に示すような基板が形成さ
れる。
Next, both sides of the base layer (12) on the lead frame (17) (metal layer (11)) located on the outer periphery of the mask (16) are subjected to counterboring by a router to form a recess (12c). For example, a substrate as shown in FIG. 3C is formed.

次いで、炭酸ガスレーザーを用いて、凹部(12c)に
位置するリードフレーム(17)(金属層(11))上の基
材層(12)を切断することによって、マスク(16)の外
周に当該マスク(16)上の基材層(12)と他の基材層
(12)とを確実に分離する溝を形成する。すると、マス
ク(16)とアウターリード(17a)とは接着されていな
いため、アウターリード(17a)上のマスク(16)及び
基材層(12)は他の部分と完全に分離された状態にな
る。
Next, by cutting the base layer (12) on the lead frame (17) (metal layer (11)) located in the concave portion (12c) using a carbon dioxide laser, the outer periphery of the mask (16) is cut off. A groove for surely separating the base material layer (12) on the mask (16) from the other base material layer (12) is formed. Then, since the mask (16) and the outer lead (17a) are not bonded, the mask (16) and the base material layer (12) on the outer lead (17a) are completely separated from other parts. Become.

裏面からも同様なレーザー加工を施せば、第3図の
(d)に示すような基板が形成される。
By performing the same laser processing from the back surface, a substrate as shown in FIG. 3D is formed.

最後に、アウターリード(17a)上のマスク(16)及
び基材層(12)を剥離すれば、第1図及び第2図に示し
たような電子部品搭載用基板(10)が形成されるのであ
る。
Finally, if the mask (16) and the base material layer (12) on the outer leads (17a) are peeled off, the electronic component mounting substrate (10) as shown in FIGS. 1 and 2 is formed. It is.

このような方法で形成された電子部品搭載用基板(1
0)においては、レーザー光によってアウターリード(1
7a)に傷がつけられるようなことはないため、アウター
リード(17a)の折り曲げ強度や引き抜き強度等の物理
的強度に係る性能が劣化されることはない。
The electronic component mounting substrate (1
In (0), the outer leads (1
Since the 7a) is not damaged, the performance of the outer lead (17a) relating to physical strength such as bending strength and pull-out strength does not deteriorate.

また、この方法により製造された電子部品搭載用基板
(10)のアウターリード(17a)間の絶縁抵抗は、予め
凹部(12c)を形成せずにレーザー光のみによって基材
層(12)を切断したものと比較して1オーダーの向上が
確認された。
In addition, the insulation resistance between the outer leads (17a) of the electronic component mounting board (10) manufactured by this method can be obtained by cutting the base layer (12) only by laser light without forming a recess (12c) in advance. One order of improvement was confirmed in comparison with the above.

実施例2 次に、本発明の実施例2を第4図及び第5図に従って
説明する。第4図に示す電子部品搭載用基板(10)は電
子部品(20)を搭載するための電子部品搭載用凹部(1
3)や、電子部品(20)から発生した熱を大気中へ放散
させるための放熱部(18)を有するものであり、その製
造方法について第5図を参照して以下に説明する。
Second Embodiment Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The electronic component mounting board (10) shown in FIG. 4 has an electronic component mounting recess (1) for mounting the electronic component (20).
3) and a heat radiating portion (18) for dissipating heat generated from the electronic component (20) into the atmosphere. A method of manufacturing the heat radiating portion (18) will be described below with reference to FIG.

先ず、厚さ1.0mmのアルミニウム板(11B)の金属露出
部(11A)となるべき部分にマスク(16)を配置し、そ
の外側に接着シート(12a)と基材層(12)を重ね、プ
レスで熱圧着して、アルミニウム板(11B)と基材層(1
2)を積層一体化させ、第5図(a)に示すような基板
が形成される。
First, a mask (16) is arranged on a portion to be a metal exposed portion (11A) of an aluminum plate (11B) having a thickness of 1.0 mm, and an adhesive sheet (12a) and a base material layer (12) are stacked outside the mask (16). The aluminum plate (11B) and the base material layer (1
2) are laminated and integrated to form a substrate as shown in FIG. 5 (a).

ここでは、マスク(16)として厚さ25μmのアルミニ
ウム箔を使用し、接着シート(12a)としてエポキシ樹
脂を主成分とした半硬化状態のフィルムを使用した。ま
た、基材層(12)としては、ガラスエポキシプリプレグ
を完全に硬化させたものを使用した。
Here, a 25 μm-thick aluminum foil was used as the mask (16), and a semi-cured film mainly composed of epoxy resin was used as the adhesive sheet (12a). Further, as the base layer (12), one obtained by completely curing a glass epoxy prepreg was used.

次に、マスク(16)の外周に位置する金属層(11)上
の基材層(12)の両面に対してルーターによりザグリ加
工を施し、凹部(12c)を形成すれば、第5図の(b)
に示すような基板が形成される。
Next, both sides of the base material layer (12) on the metal layer (11) located on the outer periphery of the mask (16) are counterbored by a router to form recesses (12c). (B)
A substrate as shown in FIG.

次に、炭酸ガスレーザーを用いて、凹部(12c)の外
周に位置する金属層(11)上の基材層(12)を切断し
て、第5図(c)に示すような基板が形成される。
Next, using a carbon dioxide gas laser, the substrate layer (12) on the metal layer (11) located on the outer periphery of the concave portion (12c) is cut to form a substrate as shown in FIG. 5 (c). Is done.

最後に、金属露出部(11A)上のマスク(16)及び基
材層(12)を剥離すれば、第5図の(d)に示すよう
に、金属層(11)が露出した電子部品搭載用凹部や放熱
部を有する電子部品搭載用基板(10)が形成される。
Finally, if the mask (16) and the base material layer (12) on the exposed metal part (11A) are peeled off, as shown in FIG. An electronic component mounting substrate (10) having a concave portion and a heat radiating portion is formed.

むろん、この放熱部は電子部品搭載用基板(10)の両
面に形成することができ、その場合より高い放熱性を得
ることができる。
Needless to say, the heat radiating portions can be formed on both surfaces of the electronic component mounting substrate (10), and higher heat radiating properties can be obtained in that case.

(発明の効果) 以上詳述した通り、本発明の特徴は、上記実施例にて
例示した如く、 「金属層に対して基材層を一体化して、この基材層か
ら前記金属層の所定の部分を次の各工程を経て露出させ
ることにより構成される電子部品搭載用基板の製造方
法。
(Effects of the Invention) As described in detail above, the feature of the present invention is that, as exemplified in the above-described embodiment, “the base layer is integrated with the metal layer, and the predetermined metal layer is formed from the base layer. A method for manufacturing an electronic component mounting substrate, comprising exposing a portion through the following steps.

(イ)露出部となるべき部分の金属層と基材層との間に
マスクを配置してから、前記金属層に対して前記基材層
を一体化する工程; (ロ)前記マスクの周囲に位置する金属層上の基材層に
対してザグリ加工を施し凹部を形成する工程; (ハ)前記凹部に対して基材層側から前記金属層側にレ
ーザー光を照射し、前記マスクの周囲の基材層を切断す
る工程; (ニ)前記マスク上の基材層をこのマスクとともに剥離
する工程」である。
(A) a step of disposing a mask between the metal layer and the substrate layer in a portion to be an exposed portion, and then integrating the substrate layer with the metal layer; Forming a recess by performing a counterboring process on the base material layer on the metal layer positioned at (c); irradiating the recess with a laser beam from the base material layer side to the metal layer side; (D) a step of separating the base material layer on the mask together with the mask.

従って、この発明によれば、レーザー光による切削加
工が部分的であっても、電子部品搭載用基板における金
属露出部の形成を金属層を傷つけることなく、比較的広
い面積にわたって確実かつ短時間に行なうことができる
と共に、信頼性の高い電子部品搭載用基板を容易に製造
することができるのである。
Therefore, according to the present invention, even if the cutting process by the laser beam is partial, the formation of the exposed metal portion on the electronic component mounting substrate can be performed reliably and in a short time over a relatively large area without damaging the metal layer. In addition to this, a highly reliable board for mounting electronic components can be easily manufactured.

すなわち、本発明に係る製造方法によれば、電子部品
搭載用基板を構成している金属露出部の形成を確実かつ
短時間内に行なうことができるだけでなく、レーザー光
による非接触加工であるから、加工作業における工具の
損傷を全く無視できる。
That is, according to the manufacturing method of the present invention, not only can the metal exposed portion forming the electronic component mounting substrate be formed reliably and in a short time, but also non-contact processing by laser light. In addition, tool damage in the machining operation can be completely ignored.

また、金属露出部となるべき部分にマスクを配置する
ため、金属層と基材層を一体化する時に、金属露出部と
なるべき部分の表面に樹脂が付着することはないから、
例えば熱圧着時の流れ性が比較的高い接着シートを採用
することができる。
In addition, since the mask is arranged on the portion to be the metal exposed portion, when the metal layer and the base layer are integrated, the resin does not adhere to the surface of the portion to be the metal exposed portion,
For example, an adhesive sheet having relatively high flowability during thermocompression bonding can be employed.

従って、耐熱性、耐薬品性、耐湿性等の性能が高い接
着シートを用いることができ、結果的には信頼性の高い
電子部品搭載用基板を得ることができる。
Therefore, an adhesive sheet having high performance such as heat resistance, chemical resistance, and moisture resistance can be used, and as a result, a highly reliable electronic component mounting substrate can be obtained.

さらに、金属に比べて樹脂に対する切断能力が非常に
優れているというレーザー光特性により、基材層が完全
に切断されていても、金属層には傷をつけることがない
ため、切断の深さ制御が確実に行なえるとともに、金属
層の物理的強度に係る性能も劣化させることはない。
In addition, the laser light characteristic of having a very high cutting ability for resin compared to metal, even if the substrate layer is completely cut, the metal layer will not be damaged, so the cutting depth The control can be performed reliably, and the performance related to the physical strength of the metal layer does not deteriorate.

加えて、レーザー光で基材層を切断する前に予め凹部
を形成しておき、この凹部に対してレーザー光による切
断を行うようにしているため、基材層の厚みがレーザー
光の焦点距離よりも大きくても、基材層の焦げ付きによ
る炭化物の発生を防止することができ、よって、信頼性
の高い電子部品搭載用基板を得ることができる。
In addition, the concave portion is formed in advance before cutting the base material layer with the laser light, and the concave portion is cut with the laser light. Even if it is larger, the generation of carbides due to scorching of the base material layer can be prevented, so that a highly reliable board for mounting electronic components can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明に係る製造方法によって形成した電子部
品搭載用基板の部分拡大平面図、第2図は第1図のII−
II線に沿ってみた断面図、第3図の(a)〜(d)のそ
れぞれは第1図及び第2図に示した電子部品搭載用基板
の製造途中経過を示す部分拡大断面図、第4図は本発明
に係る製造方法によって形成した別の電子部品搭載用基
板の斜視図、第5図の(a)〜(d)のそれぞれは第4
図に示した電子部品搭載用基板の製造途中経過を示す部
分拡大断面図、第6図の(a)〜(d)のそれぞれは本
発明に係る製造方法によって形成したさらに別の電子部
品搭載用基板の製造途中経過を示す部分拡大断面図、第
7図は電子部品搭載用基板の一例を示す断面図である。 符号の説明 10…電子部品搭載用基板、11…金属層、11A…金属露出
部、11C…内部接続部、12…基材層、12a…接着シート、
12b…プリプレグ、12c…凹部、13…電子部品搭載用凹
部、14…導体回路、15…スルーホール、16…マスク、17
…リードフレーム、17a…アウターリード、18…放熱
部、20…電子部品。
FIG. 1 is a partially enlarged plan view of an electronic component mounting substrate formed by the manufacturing method according to the present invention, and FIG.
3 (a) to 3 (d) are partially enlarged sectional views showing the process of manufacturing the electronic component mounting board shown in FIGS. 1 and 2, respectively. FIG. 4 is a perspective view of another electronic component mounting substrate formed by the manufacturing method according to the present invention, and each of FIGS.
6A to 6D are partial enlarged cross-sectional views showing the process of manufacturing the electronic component mounting board shown in the figure, and each of FIGS. 6A to 6D shows another electronic component mounting substrate formed by the manufacturing method according to the present invention. FIG. 7 is a partially enlarged cross-sectional view showing the process of manufacturing the substrate, and FIG. 7 is a cross-sectional view showing an example of an electronic component mounting substrate. DESCRIPTION OF SYMBOLS 10: electronic component mounting board, 11: metal layer, 11A: exposed metal part, 11C: internal connection part, 12: base material layer, 12a: adhesive sheet,
12b: prepreg, 12c: recess, 13: recess for mounting electronic components, 14: conductor circuit, 15: through hole, 16: mask, 17
… Lead frame, 17a… outer lead, 18… radiator, 20… electronic parts.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 23/12 - 23/14 H01L 23/50 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) H01L 23/12-23/14 H01L 23/50

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】金属層に対して基材層を一体化して、この
基材層から前記金属層の所定の部分を次の各工程を経て
露出させることにより構成される電子部品搭載用基板の
製造方法。 (イ)露出部となるべき部分の金属層と基材層との間に
マスクを配置してから、前記金属層に対して前記基材層
を一体化する工程; (ロ)前記マスクの周囲に位置する金属層上の基材層に
対してザグリ加工を施し凹部を形成する工程; (ハ)前記凹部に対して基材層側から前記金属層側にレ
ーザー光を照射し、前記マスクの周囲の基材層を切断す
る工程; (ニ)前記マスク上の基材層をこのマスクとともに剥離
する工程。
An electronic component mounting substrate comprising a base layer integrated with a metal layer and a predetermined portion of the metal layer exposed from the base layer through the following steps. Production method. (A) a step of disposing a mask between the metal layer and the substrate layer in a portion to be an exposed portion, and then integrating the substrate layer with the metal layer; Forming a recess by performing a counterboring process on the base material layer on the metal layer positioned at (c); irradiating the recess with a laser beam from the base material layer side to the metal layer side; (D) peeling the substrate layer on the mask together with the mask.
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