JP2895797B2 - 透光性薄膜のパターニング方法 - Google Patents
透光性薄膜のパターニング方法Info
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- JP2895797B2 JP2895797B2 JP8069525A JP6952596A JP2895797B2 JP 2895797 B2 JP2895797 B2 JP 2895797B2 JP 8069525 A JP8069525 A JP 8069525A JP 6952596 A JP6952596 A JP 6952596A JP 2895797 B2 JP2895797 B2 JP 2895797B2
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、集積型太陽電池
や液晶表示装置（ＬＣＤ）などに用いられる透光性絶縁
性基板上に形成された透明導電膜等の透光性薄膜のパタ
ーニング方法に関する。
や液晶表示装置（ＬＣＤ）などに用いられる透光性絶縁
性基板上に形成された透明導電膜等の透光性薄膜のパタ
ーニング方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、クリーンなエネルギーとして、太
陽光発電が注目されている。その中でも特に非晶質太陽
電池は、低コスト化に有望であることから、研究開発が
積極的に進められている。
陽光発電が注目されている。その中でも特に非晶質太陽
電池は、低コスト化に有望であることから、研究開発が
積極的に進められている。
【０００３】一般的な非晶質太陽電池は、ガラス基板の
上に透明導電膜、ｐ型、ｉ型、ｎ型非晶質シリコン（ａ
−Ｓｉ）層、金属電極をこの順序で積層して形成され
る。そして全体の構造として、１枚の基板から高い電圧
を取り出せる集積型構造が知られている。
上に透明導電膜、ｐ型、ｉ型、ｎ型非晶質シリコン（ａ
−Ｓｉ）層、金属電極をこの順序で積層して形成され
る。そして全体の構造として、１枚の基板から高い電圧
を取り出せる集積型構造が知られている。
【０００４】集積型構造を形成するためには、ガラス基
板上の透明導電膜、非晶質シリコン（ａ−Ｓｉ）層、金
属電極膜を分離する必要がある。各々の膜の分離の方法
としては、レーザを用いたレーザパターニング法が一般
的に用いられている。
板上の透明導電膜、非晶質シリコン（ａ−Ｓｉ）層、金
属電極膜を分離する必要がある。各々の膜の分離の方法
としては、レーザを用いたレーザパターニング法が一般
的に用いられている。
【０００５】従来のレーザを用いたパターニング装置の
構成を図２に示す。このレーザパターニング装置は、Ｙ
ＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レー
ザ発振装置１から出射されたレーザビーム２を反射ミラ
ー３により方向を変え、集光レンズ４により集光し、Ｘ
ＹＺステージからなる移動テーブル５に載置された被加
工物６の被加工領域に照射する。パターンは被加工物６
を載置している移動テーブル５を動かすことにより制御
される。
構成を図２に示す。このレーザパターニング装置は、Ｙ
ＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レー
ザ発振装置１から出射されたレーザビーム２を反射ミラ
ー３により方向を変え、集光レンズ４により集光し、Ｘ
ＹＺステージからなる移動テーブル５に載置された被加
工物６の被加工領域に照射する。パターンは被加工物６
を載置している移動テーブル５を動かすことにより制御
される。
【０００６】上記装置を用いて、透明導電膜のパターニ
ングを行う場合には、被加工物６として、全面に透明導
電膜６１を設けたガラス基板６０を移動テーブル５上に
載置し、移動テーブル５をＸＹＺ方向に制御しながら透
明導電膜６１の被加工領域をレーザビームで除去してゆ
く。
ングを行う場合には、被加工物６として、全面に透明導
電膜６１を設けたガラス基板６０を移動テーブル５上に
載置し、移動テーブル５をＸＹＺ方向に制御しながら透
明導電膜６１の被加工領域をレーザビームで除去してゆ
く。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の装置に
おいては、被加工物６をパターニングする際には、１枚
づつ移動テーブル５上に設置する必要がある。このた
め、複数枚の被加工物を加工する場合においては、１枚
の被加工物６のパターニングが終了した後に、この加工
物６を外して、次の被加工物６を移動テーブル５に設置
して、パターニングの加工を行わなければならない。
おいては、被加工物６をパターニングする際には、１枚
づつ移動テーブル５上に設置する必要がある。このた
め、複数枚の被加工物を加工する場合においては、１枚
の被加工物６のパターニングが終了した後に、この加工
物６を外して、次の被加工物６を移動テーブル５に設置
して、パターニングの加工を行わなければならない。
【０００８】しかしながら、ガラス基板上の透明導電膜
をパターニングするときに、従来のように、１枚、１枚
作業を行っていたのでは、加工効率が悪く、太陽電池装
置全体の製造スループットにも影響を与える。
をパターニングするときに、従来のように、１枚、１枚
作業を行っていたのでは、加工効率が悪く、太陽電池装
置全体の製造スループットにも影響を与える。
【０００９】この発明は、上述した従来の問題点に鑑み
なされたものにして、複数の被加工物を同時にパターニ
ングすることができ、製造スループットを上げる製造方
法を提供することを目的とする。
なされたものにして、複数の被加工物を同時にパターニ
ングすることができ、製造スループットを上げる製造方
法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】この発明の透光性薄膜の
パターニング方法は、透光性基板上に形成された透光性
薄膜をレーザビームを用いてパターニングする透光性薄
膜のパターニング方法であって、レーザビームを光学手
段を用いて平行ビームとし、透光性薄膜が形成された透
光性基板を所定の間隔を開けて複数枚数重ね、平行ビー
ムとしたレーザビームを所定の間隔を開けて重ね合わせ
た透光性基板のそれぞれの透光性薄膜の被加工領域に照
射し、この被加工領域を除去する。
パターニング方法は、透光性基板上に形成された透光性
薄膜をレーザビームを用いてパターニングする透光性薄
膜のパターニング方法であって、レーザビームを光学手
段を用いて平行ビームとし、透光性薄膜が形成された透
光性基板を所定の間隔を開けて複数枚数重ね、平行ビー
ムとしたレーザビームを所定の間隔を開けて重ね合わせ
た透光性基板のそれぞれの透光性薄膜の被加工領域に照
射し、この被加工領域を除去する。
【００１１】さらに、前記レーザービームと対向する最
も外側に位置する透光性基板の外側に前記レーザビーム
を基板側へ反射するミラーを配置するとよい。
も外側に位置する透光性基板の外側に前記レーザビーム
を基板側へ反射するミラーを配置するとよい。
【００１２】すなわち、この発明は、複数の透光性基板
上の透光性薄膜を同時にパターニングするために、基板
を少し離して並べ、レーザを光学手段で平行ビームと
し、初めの透光性薄膜を加工したレーザビームは２枚目
の透光性薄膜／透光性基板に照射され、その透光性薄膜
のパターニングを行い、２枚目の透光性薄膜をパターニ
ングする。これを繰り返すうちに、レーザパワーの減衰
により透光性薄膜のパターニングが不能となる基板が存
在する。この時に、この基板を通過した弱いビームをミ
ラーで反射して再び透光性薄膜に照射して、パターニン
グを完了する。
上の透光性薄膜を同時にパターニングするために、基板
を少し離して並べ、レーザを光学手段で平行ビームと
し、初めの透光性薄膜を加工したレーザビームは２枚目
の透光性薄膜／透光性基板に照射され、その透光性薄膜
のパターニングを行い、２枚目の透光性薄膜をパターニ
ングする。これを繰り返すうちに、レーザパワーの減衰
により透光性薄膜のパターニングが不能となる基板が存
在する。この時に、この基板を通過した弱いビームをミ
ラーで反射して再び透光性薄膜に照射して、パターニン
グを完了する。
【００１３】本発明の方法を用いることにより、複数枚
の透光性基板に設けられた透光性薄膜を高いスループッ
トでパターニングすることができる。
の透光性基板に設けられた透光性薄膜を高いスループッ
トでパターニングすることができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態につ
き図面を参照して説明する。図１は、この発明が用いら
れるパターニング装置の構成を示す模式的側面図であ
る。
き図面を参照して説明する。図１は、この発明が用いら
れるパターニング装置の構成を示す模式的側面図であ
る。
【００１５】図１に示すように、この発明に用いられる
レーザパターニング装置は、ＹＡＧレーザ発振装置１か
ら出射されたレーザビーム２を反射ミラー３により方向
を変え、レデューサ７に与え、このレデューサ７により
レーザービームを平行ビームに変換する。このレデュー
サ７は、例えば、凸のシリンドリカルレンズと、凹のシ
リンドリカルレンズにより、一方のビーム形を収束し楕
円の断面形状を持つ平行ビームに変換するものである。
このレデューサ７より平行ビームに変換されたビームは
図示しないアイリスを通して、直径が３０μｍの平行ビ
ームにされ、複数の被加工物６に照射される。
レーザパターニング装置は、ＹＡＧレーザ発振装置１か
ら出射されたレーザビーム２を反射ミラー３により方向
を変え、レデューサ７に与え、このレデューサ７により
レーザービームを平行ビームに変換する。このレデュー
サ７は、例えば、凸のシリンドリカルレンズと、凹のシ
リンドリカルレンズにより、一方のビーム形を収束し楕
円の断面形状を持つ平行ビームに変換するものである。
このレデューサ７より平行ビームに変換されたビームは
図示しないアイリスを通して、直径が３０μｍの平行ビ
ームにされ、複数の被加工物６に照射される。
【００１６】この実施の形態においては、被加工物６
は、ガラス基板６０の全面に形成された透明導電膜６１
である。透明導電膜６１が形成されたガラス基板６０を
所定の間隔を開けて複数枚重ねて、図示しないＸＹＺス
テージからなる移動テーブル上に載置されている。そし
て、レーザービームと対向する最も外側に位置するガラ
ス基板６０の外側には前記レーザビームを基板６０側へ
反射するミラー８が配置されている。
は、ガラス基板６０の全面に形成された透明導電膜６１
である。透明導電膜６１が形成されたガラス基板６０を
所定の間隔を開けて複数枚重ねて、図示しないＸＹＺス
テージからなる移動テーブル上に載置されている。そし
て、レーザービームと対向する最も外側に位置するガラ
ス基板６０の外側には前記レーザビームを基板６０側へ
反射するミラー８が配置されている。
【００１７】図１に示すように、レデューサ７及びアイ
リスにより直径が３０μｍの平行ビームに変換されたレ
ーザビームが、複数枚重ね合わされた被加工物６ａ〜６
ｘの被加工領域に照射される。そして、最初の被加工物
６ａのガラス基板６０上の透明導電膜６１をパターニン
グする。この時、アイリスを通った後のレーザパワー
は、５〜３０Ｊパルス、パルス幅１ｍｓである。このレ
ーザは最初の透明導電膜６１をパターニングするには十
分なパワーを持っており、この最初のガラス基板６０を
貫通し、２枚目の被加工物６ｂのガラス基板６０上の透
明導電膜６１をパターニングする。それでもパワーに余
裕がある場合は、３枚目の被加工物６ｃのガラス基板６
０上の透明導電膜６１をパターニングすることができ
る。最後の被加工物６ｘのガラス基板６０上の透明導電
膜６１をパターニングするパワーが不足する場合は、ガ
ラス基板６０の下にミラー８をおいて、透過したレーザ
を再び透明導電膜６１に照射してパターニングを完了す
る。
リスにより直径が３０μｍの平行ビームに変換されたレ
ーザビームが、複数枚重ね合わされた被加工物６ａ〜６
ｘの被加工領域に照射される。そして、最初の被加工物
６ａのガラス基板６０上の透明導電膜６１をパターニン
グする。この時、アイリスを通った後のレーザパワー
は、５〜３０Ｊパルス、パルス幅１ｍｓである。このレ
ーザは最初の透明導電膜６１をパターニングするには十
分なパワーを持っており、この最初のガラス基板６０を
貫通し、２枚目の被加工物６ｂのガラス基板６０上の透
明導電膜６１をパターニングする。それでもパワーに余
裕がある場合は、３枚目の被加工物６ｃのガラス基板６
０上の透明導電膜６１をパターニングすることができ
る。最後の被加工物６ｘのガラス基板６０上の透明導電
膜６１をパターニングするパワーが不足する場合は、ガ
ラス基板６０の下にミラー８をおいて、透過したレーザ
を再び透明導電膜６１に照射してパターニングを完了す
る。
【００１８】上記した実施の形態においては、ＹＡＧレ
ーザを用いた透明導電膜のパターニングの例について示
しているが、この発明はこれに限定されるものではな
く、レーザの種類としてはＹＡＧ−ＳＨＧレーザ、エキ
シマレーザ、被加工物としては、非晶質シリコン膜その
他の透光性薄膜材料に適用が可能である。
ーザを用いた透明導電膜のパターニングの例について示
しているが、この発明はこれに限定されるものではな
く、レーザの種類としてはＹＡＧ−ＳＨＧレーザ、エキ
シマレーザ、被加工物としては、非晶質シリコン膜その
他の透光性薄膜材料に適用が可能である。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように、この発明のパター
ニング法を用いることにより、複数枚の透光性薄膜を高
いスループットでパターニングすることができる。
ニング法を用いることにより、複数枚の透光性薄膜を高
いスループットでパターニングすることができる。
【図１】この発明が用いられるパターニング装置の構成
を示す模式的側面図である。
を示す模式的側面図である。
【図２】従来の透明導電膜のパターニング方法を示す模
式的側面図である。
式的側面図である。
１ レーザ発振装置 ２ レーザビーム ３ ミラー ６、６ａ〜６ｘ 被加工物 ６０ ガラス基板 ６１ 透明導電膜 ５ 移動装置 ８ ミラー
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−109397（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−97791（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−94482（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−149978（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−179089（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−179089（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−19784（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B23K 26/00 - 26/18
Claims (2)
- 【請求項１】 透光性基板上に形成された透光性薄膜を
レーザビームを用いてパターニングする透光性薄膜のパ
ターニング方法であって、レーザビームを光学手段を用
いて平行ビームとし、透光性薄膜が形成された透光性基
板を所定の間隔を開けて複数枚数重ね、平行ビームとし
たレーザビームを所定の間隔を開けて重ね合わせた透光
性基板のそれぞれの透光性薄膜の被加工領域に照射し、
この被加工領域を除去することを特徴とす透光性薄膜の
パターニング方法。 - 【請求項２】 前記レーザービームと対向する最も外側
に位置する透光性基板の外側に前記レーザビームを基板
側へ反射するミラーを配置したことを特徴とする請求項
１に記載の透光性薄膜のパターニング方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8069525A JP2895797B2 (ja) | 1996-03-26 | 1996-03-26 | 透光性薄膜のパターニング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8069525A JP2895797B2 (ja) | 1996-03-26 | 1996-03-26 | 透光性薄膜のパターニング方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09253875A JPH09253875A (ja) | 1997-09-30 |
| JP2895797B2 true JP2895797B2 (ja) | 1999-05-24 |
Family
ID=13405236
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8069525A Expired - Fee Related JP2895797B2 (ja) | 1996-03-26 | 1996-03-26 | 透光性薄膜のパターニング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2895797B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100603258B1 (ko) * | 2001-02-07 | 2006-07-20 | 삼성코닝 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널의 전자파 차폐 필터 |
| JP6244121B2 (ja) * | 2013-06-21 | 2017-12-06 | スタンレー電気株式会社 | 透明電極を有する電気装置の製造方法 |
-
1996
- 1996-03-26 JP JP8069525A patent/JP2895797B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09253875A (ja) | 1997-09-30 |
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Legal Events
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