JP2894309B2 - Ｘ線マイクロビームの生成方法及び生成装置 - Google Patents
Ｘ線マイクロビームの生成方法及び生成装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はＸ線マイクロビーム
の生成方法及び生成装置に関する。
の生成方法及び生成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】Ｘ線ビームサイズの微小化には、従来、
フレネルゾーンプレート、全反射ミラー、および非対称
反射Ｘ線回折などが利用されていた。すなわち、フレネ
ルゾーンプレートを利用する方法では、光源から出射さ
れたＸ線は、Ｘ線フレネルゾーンプレートによって、仮
想光源である焦点位置に集光される。また、Ｘ線全反射
ミラー等の集光素子を使った方法では、Ｘ線の屈折率が
１より小さいために、ある臨界角よりもすれすれに物体
表面に入射したとき全反射を起こす現象を利用したＸ線
全反射ミラーをフレネルゾーンプレートの替わりに用い
ていた。更に、入射Ｘ線光路上に非対称反射の結晶分光
器を挿入し、反射鏡を用いて、その結晶分光器による疑
似発光点と元の発光点からのＸ線を同一位置に反射する
非対称反射Ｘ線回折法があった。あるいは、スリットや
ピンホールなどでＸ線束の断面積を限っても、空間的に
絞られたＸ線束を得ることができた。
フレネルゾーンプレート、全反射ミラー、および非対称
反射Ｘ線回折などが利用されていた。すなわち、フレネ
ルゾーンプレートを利用する方法では、光源から出射さ
れたＸ線は、Ｘ線フレネルゾーンプレートによって、仮
想光源である焦点位置に集光される。また、Ｘ線全反射
ミラー等の集光素子を使った方法では、Ｘ線の屈折率が
１より小さいために、ある臨界角よりもすれすれに物体
表面に入射したとき全反射を起こす現象を利用したＸ線
全反射ミラーをフレネルゾーンプレートの替わりに用い
ていた。更に、入射Ｘ線光路上に非対称反射の結晶分光
器を挿入し、反射鏡を用いて、その結晶分光器による疑
似発光点と元の発光点からのＸ線を同一位置に反射する
非対称反射Ｘ線回折法があった。あるいは、スリットや
ピンホールなどでＸ線束の断面積を限っても、空間的に
絞られたＸ線束を得ることができた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の技術
は、以下の問題点がある。
は、以下の問題点がある。
【０００４】フレネルゾーンプレートにおいてはＸ線の
エネルギーの変化に伴い焦点位置が変化してしまった。
また、全反射ミラーではエネルギーの選別機能がなかっ
た。非対称反射Ｘ線回折を用いる方法では例えば特開昭
６２−１５０１４号公報及び特開平４−４３９９８号公
報に開示されているように、Ｘ線の波長の変化（エネル
ギーの変化）によって非対称の度合いが変わり、集光効
率が変わってしまう困難があった。
エネルギーの変化に伴い焦点位置が変化してしまった。
また、全反射ミラーではエネルギーの選別機能がなかっ
た。非対称反射Ｘ線回折を用いる方法では例えば特開昭
６２−１５０１４号公報及び特開平４−４３９９８号公
報に開示されているように、Ｘ線の波長の変化（エネル
ギーの変化）によって非対称の度合いが変わり、集光効
率が変わってしまう困難があった。
【０００５】上記従来技術の問題点に鑑み、本発明の目
的は、Ｘ線の波長が変化しても非対称度や集光効率を一
定値に保つＸ線マイクロビームの生成方法及び生成装置
を提供することにある。
的は、Ｘ線の波長が変化しても非対称度や集光効率を一
定値に保つＸ線マイクロビームの生成方法及び生成装置
を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のＸ線マイクロビ
ームの生成方法は、結晶表面に平行でない反射格子面を
利用する非対称反射Ｘ線回折方法によるＸ線マイクロビ
ームの生成方法において、反射格子面に垂直な軸のまわ
りに結晶を回転して、ブラッグ条件を保存したまま、結
晶表面に対する入射角および出射角を変える。
ームの生成方法は、結晶表面に平行でない反射格子面を
利用する非対称反射Ｘ線回折方法によるＸ線マイクロビ
ームの生成方法において、反射格子面に垂直な軸のまわ
りに結晶を回転して、ブラッグ条件を保存したまま、結
晶表面に対する入射角および出射角を変える。
【０００７】また、複数の結晶からの逐次反射を経過し
て微小サイズのＸ線ビームを得てもよい。
て微小サイズのＸ線ビームを得てもよい。
【０００８】また、複数の結晶間で、互いに垂直な散乱
面を逐次反射に利用してもよい。
面を逐次反射に利用してもよい。
【０００９】本発明のＸ線マイクロビームの生成装置
は、上述のＸ線マイクロビームの生成方法を用いてい
る。
は、上述のＸ線マイクロビームの生成方法を用いてい
る。
【００１０】そのため、本発明ではＸ線のエネルギーの
変化による非対称因子（非対称の度合い）を一定に保
ち、集光効率を変えずに人射Ｘ線のエネルギー走査を可
能にする。更に、本発明の方法と装置では、選別される
Ｘ線の波長が変化しても非対称度を一定値に保つことが
可能となる。また、Ｘ線のエネルギーとビームサイズ等
を含む集光条件を独立に設定することができる。
変化による非対称因子（非対称の度合い）を一定に保
ち、集光効率を変えずに人射Ｘ線のエネルギー走査を可
能にする。更に、本発明の方法と装置では、選別される
Ｘ線の波長が変化しても非対称度を一定値に保つことが
可能となる。また、Ｘ線のエネルギーとビームサイズ等
を含む集光条件を独立に設定することができる。
【００１１】従って、Ｘ線の波長の変化（エネルギーの
変化）による非対称の度合いあるいは集光効率が変わっ
てしまう困難を解決できる。
変化）による非対称の度合いあるいは集光効率が変わっ
てしまう困難を解決できる。
【００１２】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。
て図面を参照して説明する。
【００１３】（本発明の第１の実施の形態）図１は本発
明の第１の実施の形態の非対称反射によるビームサイズ
の縮小の模式的側面図である。
明の第１の実施の形態の非対称反射によるビームサイズ
の縮小の模式的側面図である。
【００１４】Ｘ線ビームサイズの微小化を行う場合、結
晶表面に平行でない、反射面（格子面）を利用する非対
称反射において、図１のように格子面に垂直な軸のまわ
りに結晶を回転することにより、ブラッグ条件を乱すこ
となく結晶表面に対する入射角および出射角を変えるこ
とで、Ｘ線のエネルギーの変化による非対称因子（非対
称の度合い）を一定に保ち、集光効率を変えずに入射Ｘ
線のエネルギー走査を可能にする。非対称因子ｂとは、
結晶表面と入射および出射Ｘ線の方向とのなす角度θO
およびθGを用いて、 ｂ＝ｓｉｎθO／ｓｉｎθG と表される量であり非対称度とも言われ、非対称度ｂの
回折により入射Ｘ線の散乱面内の空間的広がりは、出射
Ｘ線で１／ｂ倍に、角度発散はｂ倍にされる。ブラッグ
角θBおよび回折に関わる格子面と結晶表面のなす角α
を用いれば、 ｂ＝ｓｉｎ（θB＋α）／ｓｉｎ（θB−α） と表される。ここで、αは−θBからθBまでの範囲をと
ることができる。複数の結晶を用いて逐次反射をさせれ
ば、ビームサイズをより小さくすることが可能である。
非対称反射において、格子面に垂直な軸のまわりに結晶
を回転（図１のφ）することにより、入射Ｘ線および出
射Ｘ線の表面に対する角度を変えることができる。結果
としてφ＝９０度のとき（このときα＝０）のｂ＝１を
含み、φ＝０度〜１８０度の範囲で、非対称因子をｂか
ら１／ｂまで変化させることができ、入射Ｘ線の波長
（またはエネルギー）が変わり、ブラッグ角の変化とし
ての非対称度の変化をφの回転により補償することがで
きる。すなわち、結晶の回転により、選別されるＸ線の
波長の変化に伴う非対称度の変化をφの回転を連動する
ことにより補償し、結果として非対称度を一定値に保つ
ことが可能となる。また、ｂの変化の結果として集光条
件を任意の値に設定することができ、ビームサイズを変
えることも可能となる。
晶表面に平行でない、反射面（格子面）を利用する非対
称反射において、図１のように格子面に垂直な軸のまわ
りに結晶を回転することにより、ブラッグ条件を乱すこ
となく結晶表面に対する入射角および出射角を変えるこ
とで、Ｘ線のエネルギーの変化による非対称因子（非対
称の度合い）を一定に保ち、集光効率を変えずに入射Ｘ
線のエネルギー走査を可能にする。非対称因子ｂとは、
結晶表面と入射および出射Ｘ線の方向とのなす角度θO
およびθGを用いて、 ｂ＝ｓｉｎθO／ｓｉｎθG と表される量であり非対称度とも言われ、非対称度ｂの
回折により入射Ｘ線の散乱面内の空間的広がりは、出射
Ｘ線で１／ｂ倍に、角度発散はｂ倍にされる。ブラッグ
角θBおよび回折に関わる格子面と結晶表面のなす角α
を用いれば、 ｂ＝ｓｉｎ（θB＋α）／ｓｉｎ（θB−α） と表される。ここで、αは−θBからθBまでの範囲をと
ることができる。複数の結晶を用いて逐次反射をさせれ
ば、ビームサイズをより小さくすることが可能である。
非対称反射において、格子面に垂直な軸のまわりに結晶
を回転（図１のφ）することにより、入射Ｘ線および出
射Ｘ線の表面に対する角度を変えることができる。結果
としてφ＝９０度のとき（このときα＝０）のｂ＝１を
含み、φ＝０度〜１８０度の範囲で、非対称因子をｂか
ら１／ｂまで変化させることができ、入射Ｘ線の波長
（またはエネルギー）が変わり、ブラッグ角の変化とし
ての非対称度の変化をφの回転により補償することがで
きる。すなわち、結晶の回転により、選別されるＸ線の
波長の変化に伴う非対称度の変化をφの回転を連動する
ことにより補償し、結果として非対称度を一定値に保つ
ことが可能となる。また、ｂの変化の結果として集光条
件を任意の値に設定することができ、ビームサイズを変
えることも可能となる。
【００１５】（本発明の第２の実施の形態）図２は本発
明の第２の実施の形態の模式的平面図（（ａ））及び模
式的側面図（（ｂ））である。
明の第２の実施の形態の模式的平面図（（ａ））及び模
式的側面図（（ｂ））である。
【００１６】図２のように互いに垂直な散乱面を逐次反
射に利用することにより、全体としてビームサイズを小
さくし、更に入射Ｘ線の回折に関わる角度幅が秒のオー
ダーであるため、角度幅の絞られたＸ線束が得られる。
射に利用することにより、全体としてビームサイズを小
さくし、更に入射Ｘ線の回折に関わる角度幅が秒のオー
ダーであるため、角度幅の絞られたＸ線束が得られる。
【００１７】図２において、Ｘ線源２から出たＸ線束は
シリコン単結晶３により、非対称反射のブラッグ反射を
受け、ビームサイズを限られる。使用したＸ線源は回転
陽極型のＸ線発生装置で、ビームサイズはｌｍｍ×１ｍ
ｍである。波長０．０５ｎｍのＸ線に対して４２２反射
におけるブラッグ角は１３．０度であり、（４２２）面
と結晶表面とのなす角度を１２．０度になるようにカッ
トした結晶を用いて、非対称度ｂは２４．３となる。
シリコン単結晶３により、非対称反射のブラッグ反射を
受け、ビームサイズを限られる。使用したＸ線源は回転
陽極型のＸ線発生装置で、ビームサイズはｌｍｍ×１ｍ
ｍである。波長０．０５ｎｍのＸ線に対して４２２反射
におけるブラッグ角は１３．０度であり、（４２２）面
と結晶表面とのなす角度を１２．０度になるようにカッ
トした結晶を用いて、非対称度ｂは２４．３となる。
【００１８】この結晶３による回折Ｘ線をさらに同様の
結晶４により回折させることにより更にビームサイズを
小さくすることができ、１０μｍほどになった。結晶３
および結晶４における散乱面と垂直な散乱面になるよう
結晶５および結晶６を配置し、水平方向および垂直方向
のビームサイズとも１０μｍ程度にすることができた。
また、回折Ｘ線の角度発散は１０秒程度であった。ここ
で、結晶３、４、５および６を回転させ、波長０．１５
ｎｍのＸ線を取り出す。この場合のブラッグ角は４２．
６度であり、非対称因子ｂは５７．０となった。集光条
件は大きく変わり、ビームサイズは５μｍ程度となっ
た。
結晶４により回折させることにより更にビームサイズを
小さくすることができ、１０μｍほどになった。結晶３
および結晶４における散乱面と垂直な散乱面になるよう
結晶５および結晶６を配置し、水平方向および垂直方向
のビームサイズとも１０μｍ程度にすることができた。
また、回折Ｘ線の角度発散は１０秒程度であった。ここ
で、結晶３、４、５および６を回転させ、波長０．１５
ｎｍのＸ線を取り出す。この場合のブラッグ角は４２．
６度であり、非対称因子ｂは５７．０となった。集光条
件は大きく変わり、ビームサイズは５μｍ程度となっ
た。
【００１９】ここで、各結晶のφの回転をさせ、出射Ｘ
線方向の結晶表面に対する角度を２．３度となるように
し非対称度を２．４程度にするとビームサイズは波長を
変化させても１０μｍ程度のままであった。また、φの
回転によりＸ線の出射方向の結晶表面に対する角度を変
化させることによりビームサイズは１０μｍから数ｃｍ
程度まで、連続的に変化させることができた。
線方向の結晶表面に対する角度を２．３度となるように
し非対称度を２．４程度にするとビームサイズは波長を
変化させても１０μｍ程度のままであった。また、φの
回転によりＸ線の出射方向の結晶表面に対する角度を変
化させることによりビームサイズは１０μｍから数ｃｍ
程度まで、連続的に変化させることができた。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、集光条件
を乱すことなく微小サイズのＸ線束のエネルギーを広い
範囲で走査することができるようになり、エネルギー走
査による実験であるＥＸＡＦＳ（Ｅｘｔｅｎｄｅｄ Ｘ
−ｒａｙ Ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ Ｆｉｎｅ Ｓｔｒｕ
ｃｔｕｒｅ）等の実験を微小ビームサイズで容易に行え
るようになるという効果がある。また、集光条件を制御
してビームサイズを自由に変えることができるようにな
る。これにより、試料の局所歪解析や微小領域の構造解
析が行える。すなわち、本発明の方法と装置では、選別
されるＸ線の波長の変化に伴う非対称度の変化を補償し
て、結果として非対称度を一定値に保つことが可能とな
る。また、Ｘ線のエネルギーとビームサイズ等を含む集
光条件を独立に設定することができる。
を乱すことなく微小サイズのＸ線束のエネルギーを広い
範囲で走査することができるようになり、エネルギー走
査による実験であるＥＸＡＦＳ（Ｅｘｔｅｎｄｅｄ Ｘ
−ｒａｙ Ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ Ｆｉｎｅ Ｓｔｒｕ
ｃｔｕｒｅ）等の実験を微小ビームサイズで容易に行え
るようになるという効果がある。また、集光条件を制御
してビームサイズを自由に変えることができるようにな
る。これにより、試料の局所歪解析や微小領域の構造解
析が行える。すなわち、本発明の方法と装置では、選別
されるＸ線の波長の変化に伴う非対称度の変化を補償し
て、結果として非対称度を一定値に保つことが可能とな
る。また、Ｘ線のエネルギーとビームサイズ等を含む集
光条件を独立に設定することができる。
【図１】本発明の第１の実施の形態の非対称反射による
ビームサイズの縮小の模式的側面図である。
ビームサイズの縮小の模式的側面図である。
【図２】本発明の第２の実施の形態の模式図である。 （ａ）模式的平面図である。 （ｂ）模式的側面図である。
１ 非対称反射をさせる結晶 ２ Ｘ線源 ３ 非対称反射をさせる結晶 ４ 非対称反射をさせる結晶 ５ 非対称反射をさせる結晶 ６ 非対称反射をさせる結晶
Claims (4)
- 【請求項１】 結晶表面に平行でない反射格子面を利用
する非対称反射Ｘ線回折方法によるＸ線マイクロビーム
の生成方法において、 前記反射格子面に垂直な軸のまわりに結晶を回転して、
ブラッグ条件を保存したまま、前記結晶表面に対する入
射角および出射角を変えることを特徴とするＸ線マイク
ロビームの生成方法。 - 【請求項２】 請求項１に記載のＸ線マイクロビームの
生成方法において、 複数の結晶からの逐次反射を経過して微小サイズのＸ線
ビームを得ることを特徴とするＸ線マイクロビームの生
成方法。 - 【請求項３】 請求項２に記載のＸ線マイクロビームの
生成方法において、 前記複数の結晶間で、互いに垂直な散乱面を逐次反射に
利用することを特徴とするＸ線マイクロビームの生成方
法。 - 【請求項４】 請求項１から請求項３の何れか１項に記
載のＸ線マイクロビームの生成方法を用いていることを
特徴とするＸ線マイクロビームの生成装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9002942A JP2894309B2 (ja) | 1997-01-10 | 1997-01-10 | Ｘ線マイクロビームの生成方法及び生成装置 |
| NL1007118A NL1007118C2 (nl) | 1996-09-27 | 1997-09-25 | Werkwijze voor het opwekken van een röntgenstralenmicrobundel en inrchting daarvoor. |
| US08/936,384 US5914998A (en) | 1996-09-27 | 1997-09-25 | X-ray microbeam generating method and device for the same |
| FR9712008A FR2754102B1 (fr) | 1996-09-27 | 1997-09-26 | Procede de generation d'un microfaisceau de rayons x et dispositif pour celui-ci |
| FR9800776A FR2756449B1 (fr) | 1996-09-27 | 1998-01-26 | Procede de generation d'un microfaisceau de rayons x et dispositif pour celui-ci |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9002942A JP2894309B2 (ja) | 1997-01-10 | 1997-01-10 | Ｘ線マイクロビームの生成方法及び生成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10197697A JPH10197697A (ja) | 1998-07-31 |
| JP2894309B2 true JP2894309B2 (ja) | 1999-05-24 |
Family
ID=11543425
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9002942A Expired - Fee Related JP2894309B2 (ja) | 1996-09-27 | 1997-01-10 | Ｘ線マイクロビームの生成方法及び生成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2894309B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4660712B2 (ja) * | 2000-11-30 | 2011-03-30 | 財団法人新産業創造研究機構 | Ｘ線マイクロビーム生成装置 |
-
1997
- 1997-01-10 JP JP9002942A patent/JP2894309B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10197697A (ja) | 1998-07-31 |
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| Date | Code | Title | Description |
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