JPS609258B2 - 中間調画像形成光学系 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は中間調画像を記録又は表示媒体上に記録表示す
る中間調画像形成光学系に関するものである。

従来、中間調画像形成光学系としては、記録又は表示用
の放射東（以下単に放射ビームと称す）の強度を変化さ
せ、この放射ビームを照射する感光性部村の感光特性を
利用して中間調画像を得る方法がある。

しかしこの方法は使用する感光性部材の特性に応じてそ
の都度放射ビームの強度の変調方法を変化させなければ
ならない。又、感光性部材の特性は周囲の環境の変化、
例えば気温、温度等の変化により影響を受けやすく、特
に感光性部材に電子写真法を用いる場合には静電気をと
り扱うためこの影響が顕著に現われる。加うるにこの方
法ではしーザー等の光源部の出力が経時的に変動するド
リフト現象の影響を除去する事ができなく長期間安定し
た中間調画像を得る事が困難である。タ 上記方法に代
えて中間調画像を得る方法としては放射ビームの断面積
を変化させる方法がある。

この放射ビームの断面積を変化させる方法は、放射ビー
ムの単位面積当りの強度は変化しないので、感光性部村
の感光特性が充分飽和した領域を０用し・る事により放
射ビームの断面積を変化させて中間調画像を形成するも
のである。従来、この方法におては、放射ビームの断面
積を変化させるために、光偏向器を挟むようにして光学
的に共役な位置に二個の遮光板を設ける。各々の遮光板
に設夕げられた開口部も光学的に共役な位置にあり、従
って一方の関口部の像はもう一方の関口部に重ね合わさ
れている。この重ね合わされた状態は上記光偏光器で制
御できるので、一方のスリット板に入射する放射ビーム
の断面積は自由に変化させる事ができるのである。本発
明は上述した放射ビームの断面積を変化させることによ
り中間調画像を得る光学系の改良を目的とするものであ
り、コンパクトで光偏向効率が高く、外界からの振動等
に対しても比較的影響を受けにくい中間調画像形成光学
系を提供するものである。

本発明に係る中間調画像形成光学系は、光源側より閉口
部を有する遮光板結像レンズ系、反射系を構成する光偏
向反射系より成るもので、遮光板Ｚの閉口部を通過する
放射ビームは結像レンズ系を通過した後、光偏向反射系
で偏向されると同時に入射方向に反射され再度結像レン
ズ系を介して前記遮光板の閉口部に閉口部自身の像を結
ぶ。

即ち上記結像レンズ系、及び光偏向反射系で構成する偏
向反射結像レンズ系の焦点位置に閉口部を有する遮光板
が設けられている。上記偏向反射結像レンズ系により遮
光板の閉口部上に結像される該関口部自身の像の位置は
、光偏向器により変位する。この閉口部から射出される
放射ビームは関口部と該閉口部自身の像の重畳した部分
であり、この重畳する部分の面積は上記偏向器により調
節される。上記偏向反射系は結晶性の光偏向素子と平面
反射鏡の組み合わせ、又は結晶性の光偏向素子の一面に
反射コートを施こし上記平面反射鏡を除去したもの、更
には単にガルバノミラーを設けたものでもよい。

上記結晶性の光偏向素子とは音響光学的結晶（以下ＡＯ
素子と呼ぶ）又は電気光学的結晶（以下ＥＯ素子と呼ぶ
）を利用したプリズム、又はＥＯ素子とウオラストンプ
リズム、ロッシェンプリズムの如き自然光を直交する偏
光面を有する二本の直線偏光の光東に分離し、該二光東
が交角を有するような光学素子の組み合わせ、更には色
分散プリズムである。但しこの色分散プリズムを用いる
場合は、光源部からのビームの波長を変化させる事によ
り偏向を行なうものである。偏向器が結晶性の偏向素子
である場合、偏向素子を両側から実質的に反射面で挟む
事により、放射ビームが偏向素子を通過する回数を増加
させる事が可能である。本発明に係る偏向反射光学系で
構成された中間調画像形成光学系に用いられる遮光板に
穿設される閉口部の数は、中間調画像形成光学系に入射
するビームと該光学系から射出するビームが同一の関口
部を通過するように光学系をセッティングする場合は一
個、放射ビームが入射する開ロ部と射出する閉口部を違
えるように光学系をセッティングする場合は二個必要で
ある。

以下本発明を詳述する。第１図は本発明に係る中間調画
像形成光学系の一実施例を示す斜視図で、光源部も同時
に示されている。

第１図は偏向素子として結晶性のＡＯ素子を用い、結像
レンズ系で遮光板の開□部の像を再度同一の関口部上に
結像させる場合を示している。即ちレーザー１１からの
光ビームはビームェクスパンダー１２で適当なビーム径
に変換され、平行光束のままビームスプリッター１３へ
入射する。ビームスプリッター通過後の光ビームはスリ
ット板１４に穿設されたアパーチャー１４ａを照明する
。アパーチャー１４ａを介して入射するビームは該ァパ
ーチャー上にその一方の焦点面を有する結像レンズ系１
５によりコリメートされ、ＡＯ素子１６に入射する。Ａ
Ｏ素子でブラツグ反射されたビームは平面反射鏡１８で
反射され再びＡＯ素子１ ６に指向され、再度ＡＯ素子
１ ６でブラッグ反射された後、結像レンズ系１５を介
して遮光板のアパーチャー１４ａに戻る。上記ＡＯ素子
１６には制御回路１７からの信号により該信号に対応し
た周波数の超音波を発生させるピェゾ素子（不図示）が
設けられていて、超音波が発生するとＡＯ素子内を伝播
する。従ってこの状態のＡＯ素子に光ビームが入射する
とブラッグ反射を起こし、光ビームはその方向を変えら
れる。このブラッグ角はＡＯ素子内を伝達する超音波の
周波数変調（ＦＭ変調）によつて自由に変えられるもの
である。故に制御回路からのある基準信号に対して、該
光学系１５，１６，１８で反射される光タビームが正確
にアパーチャ一部に戻るようにセッテイングしておけば
、制御回路からの信号を前記基準信号より変化させ、Ａ
Ｏ素子１ ６内でのブラッグ角を変化させる事によりア
パーチャー１４ａを通過する光ビームの断面積を変化さ
せる事がで○きる。第２図は上記中間調画像形成光学系
１４，１５，１６，１８の側面図である。

第２図に示す如く、点線ｄｌはアパーチャー１４ａを通
過するアパーチャーによる零次の回折光を示すものであ
り、結像レンズ系１５の焦点面ＰＩにそのスペクトル像
を結ぶ。又実線ｒｌはアパーチャー１４ａ内の点１４ｃ
を二次光源とし結像レンズ系１５を介して伝播して行く
光東を示すものである。前記ビームスプリツターからの
平行光東はアパーチヤー１４ａで回折され該回折光は結
像レンズ系１５の焦点面ＰＩにそのスペクトル像を結ぶ
。この位置ＰＩの近傍に反射鏡１８を設け、且つ偏向器
であるＡＯ素子を反射鏡に接近させて設けると信号の立
ち上り時間を早くでき又ＡＯ素子を小さくするとができ
更に素子内の不均質性の影響を緩和する事ができる。こ
のことはアパーチャー１４ａを照明するコヒーレント光
東がアパーチャー１４ａ上に集光していないために、結
像レンズ系１５によるアパーチャー１４ａのスペクトル
面ＰＩとアパーチャー１４ａの像面が空間的に分離でき
るからである。第２図に示す如く偏向素子がＡＯ素子の
ようにブラッグ反射を利用したものであり、ＡＯ素子が
結像レンズ系の光軸０に対して垂直に設置され且つアパ
ーチャーが結像レンズ系の光軸上にある場合は遮光板の
アパーチャ−１４ａを通過し結像レンズ系１５でコリメ
ートされる光ビームと、ＡＯ素子内を伝播する超音波の
波面とが交角を有さないので、光ビームは反射されない
。

故に光ビームがＡＯ素子でブラッグ反射を受けるために
は、ＡＯ素子に入射する光ビームとＡＯ素子内を伝播す
る超音波の波面とが角度を有するようにする事が必要で
あり、その手段が第３図及び第４図に示されている。第
３図はＡＯ素子１６が結像レンズ系１５の光軸０に対し
て倭むけて設けられアパーチャー１４からしンズ１５ま
での距離及びレンズ１５から反射鏡１８までの距離を、
結像レンズ１５の焦点距離に等しくした場合を示してい
る。

第３図に示す中間調画像形成光学系においては、制御回
路から基準信号かＡＯ素子に印加された場合アパーチャ
ー１４ａの各点を二次光源とし、結像レンズ系１５でコ
リメートされる光ビームはＡＯ素子でブラッグ反射を受
けるが、その一次のブラッグ反射光は反射鏡１８に垂直
に入射するように光学系がセッチィングされている。従
ってこの場合反射鏡に入射する一次のブラッグ反射光は
入射経路と同じ経路を経てアパーチヤ−１４ａに戻るの
で、中間調画像形成光学系ら射出される光ビームの断面
積はアパーチヤーと同じ大きさである。第４図は、ＡＯ
素子１６が結像レンズ系の光軸０に対して垂直に設けら
れているが、アパーチャー１４ａが光軸上に設けられて
いない場合を示している。

この場合は反射鏡１８を光軸０に対して傾けて設けただ
けでよい。第４図に示す光路図は第３図と同様にＡｑ素
子に基準信号が印加された場合の光路図で、アパーチャ
ー１４ａを二次光源として拡散される光ビームは結像レ
ンズ系１５でコリメートされＡｑ素子１６に入射する。
そしてＡＯ素子１６で一次のブラッグ反射を受けた光ビ
ームが反射鏡１８に垂直に入射するように光学系がセツ
テイングミれている。第５図は遮光板１４に設けられる
ァパーチャ−を光ビームの入射用１４ｂと出射用１４ｃ
に分離した中間調画像形成光学系の一実施例を示すもの
で、ＡＯ素子１６の光ビームが入射する側との逆の面１
６ａに反射コートを施こす事により上記実施例に示した
反射鏡を除去している。

このとき光ビームのスペクトル面を反射面１６ａ上に作
るにはァパーチャーを多少発散光東で照明すればよい。
アパーチヤ−１４ｂと１４ｃは結像レンズ系１５の光軸
○から等距離の位置に設けられ、又ＡＯ素子１６の両面
１６ａ，１６ｂは平行で、光軸と垂直に設けられている
。アパーチャー１４ｂから入射する発散光東は結像レン
ズ系１５を介してＡＯ素子１６に入射し一次のブラツグ
反射により反射面１６ａ上に結像する。反射面１６から
の光ビームは再度ブラッグ反射された後結像レンズを介
してアパーチャー１４ｃに到達する。第５図に示す如く
ＡＯ素子に印加する信号が基準信号である場合には、光
学系１４，１５，１６を通過する光ビームの光路は光軸
に対して対称となる。

第５図に示すように偏向器の一方の側に反射コートを施
こし反射鏡を除去する方法は、第３図及び第４図に示す
配置の偏向器に用いる事も当然可能である。

この場合は偏向器に光ビームが入射する面と反射する面
を平行とせず、偏向器１６の反射面が反射鏡１８の傾斜
を有するような偏向器を用いればよい。このように偏向
器に反射コートを施こし反射鏡を除去する手段は、振動
による影響を緩和する効果を有する。第６図及び第７図
は偏向器を光ビームが４回通過するようにした中間調画
像形成光学系の各実施例を示すもので、第６図はアパー
チャーが１個の場合、第７図はアパーチャーが入射用と
射出用の２個に分れている場合の一実施例を示している
。

第６図においては、遮光板１４とＡＯ素子１６が結像レ
ンズ系１５の光軸０に対して垂直に設けられておりＡＯ
素子の面１６ａ，１ ６ｂは互いに平行で、面１６ａに
は反射コートが施こされている。Ｒは光ビームの主光線
を示すもので、アパーチャー１４ａ、結像レンズ系１５
を順次介した光ビームはＡＯ素子１６で二度ブラッグ反
射を受けた後、ＡＯ素子から射出された反射鏡１８に入
射する。この場合、ＡＯ素子に基準信号が印加している
時、ＡＯ素子からの一次のブラッグ反射光は反射鏡１８
に垂直に入射するように光学系がセッティングされてい
るので、光ビームは入射経路を逆に経てァパーチャー１
４ａに戻るのである。第６図に示す構成は第３図に示す
ように偏向器が懐設されている場合においても使用可能
である。尚光ビームの上記スペクトル面は反射鏡１８上
にくるように設ける事が望ましい。第７図においては遮
光板１４とＡＯ素子１６が結像レンズ系１５の光軸０に
対して垂直に設けられ、ＡＯ素子の面１６ａは反射コー
トが施こされている。光ビームＲはアパーチャー１４ｂ
、結像レンズ系１５を順次通過し、ＡＯ素子１ ６で二
度ブラッグ反射を受けた後反射鏡１８で反射され、再度
ＡＯ素子１６で二度プラッグ反射を受けた後、結像レン
ズ系１５を介してアパーチヤー１４ｃに至る。この時、
ＡＯ素子に基準信号が印加されている場合、アパーチャ
−１４ｂを通過する光ビームで、ＡＯ素子で一次のブラ
ッグ反射を受けるものはアパーチャー１４ｃを通過する
ように光学系が設けられている。一般に結晶を用いた偏
向器は高速性には優れているが偏向度が小さいという欠
点を、上記実施例に示す如く光ビームを複数回偏向器を
通過せしめる事により有効に除去できるのである。

上記中間調画像形成光学系では光ビームが偏向器を通過
する回数が２回と４回であったが、これ以上の回数を通
過せしめる事も可能である。

又、上記実施例では偏向器としてブラッグ反射を利用す
るＡＯ素子を用いて説明したがＡＯ素子以外の偏向器も
上記実施例におけるＡＯ素子と同様に使用できる。以下
他の偏向器も説明する。第８図は偏向器として電気光学
的変調素子（以下ＥＯ素子と略す）を使用したプリズム
２１を示している。

該偏向器２１は結晶等に制御回路２２からの信号で電界
を加えると、該結晶の屈折率が変化する事を用いたもの
で、このＥＯ素子によりプリズム２１を形成し、電界を
変化させる事によりＥＯ素子から出射する光ビームの角
度を変化させるものである。第８図に示す如くＥＯ素子
に電界が印加されていない場合は、偏向器２１はプリズ
ムの作用をしないので、アパーチャー１４ａを通過する
光ビームは偏向器２１の反射面２１ａで垂直に反射され
、入射経路を逆行しアパーチャー１４ａ上に結像する。
この構成のプリズム２１を複数個並べる事により偏向角
を大きく取れるのである。第９図は偏向器としてＥＯ素
子２３とゥオラストンプリズム及びロッシェンブリズム
等の如く、自然光が入射した時互いに直交した偏向面を
有する二本の光線に分離し、且つこの二本の光線が平行
でない状態で取り出せる光学素子２４（以後本明細書で
は偏光光学素子と呼ぶ）の組み合わせを示している。

ＥＯ素子２３は電圧印加の時と無印カロの時とでＥＯ素
子２３から射出する光ビームの偏光角９０ｏ回転させる
事ができる。従ってＥＯ素子と前記偏光光学素子の組み
合わせで、ＥＯ素子に電界印加の時と無印加との時で光
東の出射方向を２つの異なる方向に分ける事ができる。
従ってＥＯ素子２３に入射する光ビームは偏光している
ものが望ましい。一組のＥＯ素子と偏光光学素子とで２
つの不連続的な出射角度変化を得る事ができ、この組を
Ｎ組続ける事により２Ｎの不連続的な出射角度変化を得
る事ができる。第１０図は偏向器として色分散プリズム
２５を用いたもので、プリズムの‐一面２５ａは反射コ
ートが施こされている。

色分散プリズム２５は入射ビームの波長に対応してビー
ムを屈折させるものであるため、この場合中間調画像形
成光学系には書き込み情報に対応した波長を有する光ビ
ームが入射するものである。従ってある基準の波長の光
ビームに対しては色分散プリズム２５がプリズムの作用
をしないようにすれば、アパーチャー１４ａを通過し色
分散プリズム２５に入射する光ビームは反射面２５ａに
垂直に入射するので、入射経路を逆行しアパ−チャー１
４ａに戻るものである。尚、書き込み情報に対応して光
ビームの波長を変化させる手段としては、チューナブル
・レーザー等が考えられるのである。
タ第１１図は上述した実施例とは異なり、偏向器に反射
ミラー２６を使用しているものである。反射ミラー２６
は結像レンズ系１５の光藤と交わる位置２６ａを中心に
して回動自在である。故に反射ミラー２６の傾き角によ
り、アパーチャー１４Ｚａを通過し、反射ミラー２６で
反射され再度アパーチャーに到達する光東の状態が変化
するのである。第１２図は本発明に係る中間調画像形成
光学系を用いた走査光学系の一実施例の概略を示す斜視
Ｚ図である。

レーザー３１より出た直線偏光したビームはビームェク
スパンダー３２により適当なビーム径に変換され、偏向
ビームスプリッター３３を通過後１／４入板３４を通過
する。この１／４＾板を通過した平行ビームは遮光板３
５のアパーチャー２３６を照明する。アパーチャー３６
を二次光源とするビームは結像レンズ系３７により平行
ビームとなり、制御回路３８からの信号により制御され
るＡＯ素子３９に入射する。ＡＯ素子３９により偏向さ
れたビームは反射鏡４０で反射され再び２ＡＯ素子３９
に入射する。ＡＯ素子３９で再び偏向された後、結像レ
ンズ系３７により遮光板３５上にアパーチャー３６の像
を結ぶ。この時、アパーチャー３６とアパーチャー像が
重なった部分のみ走査用のビームが通過する。このアパ
ーチャー３３６を新たなる光源とする走査用ビームは１
／４入板３４を通過した後、９０度回転した直線偏光と
なり偏光ビームスプリッター３３により折り曲げられコ
リメーターレンズ４１により平行ビームとされ回転多面
鏡４２に入射する。回転多面鏡４２で３走査されたビー
ムは走査用結像レンズ４３を経て走査面である感光ドラ
ム４４上に結像する。回転多面鏡４２が回転する事によ
りドラム４４上を走査ビームが直線的に走査すると共に
ドラム４４が回転する事により二次元的な走査が行なわ
れる。この実施例においては偏向ビームスプリッター３
３及び１／４入板３４を用いてビームを分けている。こ
れは単にハーフミラーを用いた場合よりも偏向ビームス
プリッターを用いた方がビームのエネルギーロスを防止
できるからであり、偏向ビームスプリッターを用いる場
合は光源からのビームが直線偏光している事が必要であ
る。第１２図に示す実施例においては１／４＾板３４を
偏向ビームスプリッター３３と遮光板３５の間に設けた
結像レンズ系３７及びＡＯ素子３９での有害反射光を除
去するには１／４入板３４をＡＯ素子３９と反射鏡４０
の間に設け且つアパーチャー３６から射出される走査用
ビームの直線偏向方向だけビーム通過させるような偏光
板をビームスプリッター３３と回転多面鏡４２の間に設
ければよい。

これは情報光と反射光（ノイズ）の偏光方向を９０ｏ回
転させて区別するためで、偏向ビームスプリッター３３
が十分精度よくできておれば偏光板は必要ない。又、第
５図及び第７図で示すような中間調画像形成光学系にお
いては、偏向ビームスプリッターを設けなくとも走査用
ビームを取り出せる構成であり、斯様な光学系で結像レ
ンズ系の表面で生じる有害反射光を除去するには上述し
た如くアパーチャー１４ｂに入射する走査ビームを直線
偏光させ１／４入板を結像レンズ系１５とＡＯ素子１６
の間に設け、且つアパーチャ−１ ４ｃから射出する走
査ビームのみを通過させる偏光板を設ける事が必要であ
る。第１３図Ａ，Ｂ，Ｃは第１２図で示す光学系におい
て、制御回路３８により周波数変調を受けたＡＯ素子３
９により該素子３９を出射後の走査用ビームの角度が変
化し、結像レンズ系３７によるアパーチャー３６の像と
アパーチヤー３６の重なり具合の変化、即ち走査用ビー
ムの断面積の変化の様子を示したものである。

第１３図ＡはＡＯ素子３９内を伝播する超音波周波数が
Ｗｏの時に、アパーチャーの結像レンズ系３７による共
役像３６ａとアパーチャー３６の重なり部分Ｓ，を示す
もので、第１３図Ｂは同じく超音波周波数Ｗｏ＋△Ｗ，
の時の重なり部分Ｓ２、第１０図Ｃは同じくＷＯ十△Ｗ
２（ｌ△Ｗ２ｌ＞ｌ△Ｗ，ｌ）の時の重なり部分Ｓ３を
示している。この時ドラム４の感光特性曲線の形状は第
１４図の実線ｄの如く表わされていて、第１３図で示し
た記録されるべき形状を有する走査用ビームのドラム４
４上での光強度分布の最大強度は前記曲線ｄの十分飽和
した部分にくるようになつつている。今、光学系に収差
がなく、又回折による広がりも感光ドラム４４上に結像
される走査ビームのスポットの大きさに比して十分小さ
ければ、感光ドラム上での走査スポットの光強度分布は
幾何光学的な大きさとして定まる。

従って感光ドラム４４上での走査スポットは、アパーチ
ャー３６を通過する光東の断面Ｓ，，Ｓ２，Ｓ３の形状
で且つ一定の光強度分布とみなせる。この様子を示した
ものが第１５図に示されている。第１５図は感光ドラム
の面をＸ−Ｙ座標面とし、縦軸には光強度１が示されて
いる。第１５図Ａは第１３図Ａに、第１５図Ｂは第１３
図Ｂに、第１５図Ｃは第１３図Ｃにそれぞれ対応するス
ポットの光強度を示しており、これ等が感光ドラム４４
上に記録された場合、第１６図に示す如く各々Ｓ，′，
Ｓ２′，Ｓ３′と面積の異なる絹点として記録される。
第１４図の破線で示した特性曲線は環境の変化により特
性曲線の形状が変動した状態を示すもので、記録される
べき光分布の最大値Ｑ（明部）及び最小値３（暗部）と
が十分強度の差があれば特性曲線のその強度に対する変
動は少なく、記録される絹点の形状は第１６図に示す形
状と変わりない。

更にレーザー光線の出力の変動に対しては特性曲線の十
分飽和した部分を用いているので、常に中間調画像形成
光学系で得られる走査用ビームの断面積の変化に対応し
た形状の記録が得られる。以上本発明に係る中間調画像
形成光学系においては、反射面を用いる事で中間調画像
形成光学系を実質的に折り返しているもので、偏向器と
反射面で構成する偏向反射光学系を有効に利用する事で
光学系をコンパクト化している。

又、偏向器をビームが複数回通過する事により結晶性の
偏向器の偏向角が小さい難点を解消できるものであり、
偏向器と反射面を一体に形成する事により振動等の影響
を緩和するものである。更には走査ビームを偏光させ、
偏向ビームスプリッターを用いて中間調画像形成光学系
に入射するビームと該光学系から射出されるビームを分
離する事で走査ビームひのパワーを有効に利用し且つ該
光学系で生じる有害な反射光を除去できるものである等
の優れた効果を有するものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る中間調画像形成光学系の夕−実施
例を示す斜視図、第２図は本発明に係る中間調画像形成
光学系の原理を説明するための図、第３図、第４図、第
５図、第６図、第７図、第８図、第９図、第１０図及び
第１１図は各々本発明に係る他の中間調画像形成光学系
の実施例を示す正面概略図、第１２図は本発明に係る中
間鋼画像形成光学系を用いた走査光学系の一実施例を示
す斜視図、第１３図Ａ，Ｂ，Ｃ、第１４図、第１５図Ａ
，Ｂ，Ｃ「及び第１６図は各々本発明に係る中間調画像
形成の過程を示す図。 １４・…・・遮光板、１４ａ，１４ｂ，１４ｃ・・・…
アパーチヤ−、１５・・・・・・結像レンズ系、１６．
．．．．．ＡＯ素子、１ ７・・・・・・制御回路、１
８・・・・・・平面反射鏡、２１・・・…プリズム、２
３・…・・ＥＯ素子、２５・・・・・・色分散プリズム
、２６・…・・反射ミラー。 実’図孫２図 蘇る図 孫４図 第５図 努る図 豹７図 叢８図 豹？図 弟’ｏ図 孫〃図 努′２図 努′ろ図 努「４図 多′５図 多′６図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 光源部からの光束を受ける第１放射束制限手段、前
   記第１放射束制限手段からの光束を受ける第２放射束制
   限手段、前記第１放射束制限手段の位置と第２放射束制
   限手段の位置とを光学的にほぼ共役な位置と成らしめる
   結像手段、前記第１と第２との放射束制限手段との間の
   光路に配され、第１の放射束制限手段から第２の放射束
   制限手段に向かう光束の進行方向を偏向させる結晶より
   成る偏向手段、前記第１と第２の放射束制限手段の間の
   光路上に配され該偏向手段を通過する光束が少なくとも
   ２回前記偏向手段を通過する様に光束を反射せしめる光
   束反射手段とを有する事を特徴とする中間調画像形成光
   学系。 ２ 光源部からの光束を受ける放射束制限手段、該放射
   束制限手段上にその一方の焦点位置を有する結像手段、
   該結像手段に関して前記放射束制限手段と反対側に設け
   られ結晶より成る光偏向手段、該光偏向手段を光束が少
   なくとも２回通過する様に光束を反射せしめる光束反射
   手段を備え、放射束制限手段を通過した光源部からの光
   束を、前記結像手段、光偏向手段及び光束反射手段を介
   した後に、再度前記放射束制限手段に入射せしめる事を
   特徴とする中間調画像形成光学系。