JP2886227B2 - 露光データの生成方法 - Google Patents
露光データの生成方法Info
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- JP2886227B2 JP2886227B2 JP32918589A JP32918589A JP2886227B2 JP 2886227 B2 JP2886227 B2 JP 2886227B2 JP 32918589 A JP32918589 A JP 32918589A JP 32918589 A JP32918589 A JP 32918589A JP 2886227 B2 JP2886227 B2 JP 2886227B2
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- processing
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Description
【発明の詳細な説明】 〔概要〕 この発明は、設計者より提供されるマスクパターンデ
ータに基づき、マスク・レチクル用の露光データを生成
する計算機を用いた露光データの生成方法に関し、 この種の露光データ生成処理における各種パラメータ
の誤りを簡便且つ確実に検証できることを目的とし、 マスクパターンデータに対して、少なくとも１つパラ
メータ処理を施すことにより、マスク・レチクル用の露
光データを生成する方法において、前記パラメータ処理
を施さない第１のダミー用パターンデータと、前記パラ
メータ処理のうち少なくとも１つを施した第２のダミー
用パターンデータとを追加挿入し、該第１のダミー用パ
ターンと該第２のダミー用パターンとをマスク・レチク
ルの有効領域外に発生させるように構成する。
ータに基づき、マスク・レチクル用の露光データを生成
する計算機を用いた露光データの生成方法に関し、 この種の露光データ生成処理における各種パラメータ
の誤りを簡便且つ確実に検証できることを目的とし、 マスクパターンデータに対して、少なくとも１つパラ
メータ処理を施すことにより、マスク・レチクル用の露
光データを生成する方法において、前記パラメータ処理
を施さない第１のダミー用パターンデータと、前記パラ
メータ処理のうち少なくとも１つを施した第２のダミー
用パターンデータとを追加挿入し、該第１のダミー用パ
ターンと該第２のダミー用パターンとをマスク・レチク
ルの有効領域外に発生させるように構成する。
この発明は、設計者より提供されるマスクパターンデ
ータに基づき、マスク・レチクル用の露光データを生成
する計算機を用いた露光データの生成方法に関する。
ータに基づき、マスク・レチクル用の露光データを生成
する計算機を用いた露光データの生成方法に関する。
計算機を用いたマスクパターンデータの加工、データ
フォーマット変換は、益々高集積度、高精度化を要求さ
れている。
フォーマット変換は、益々高集積度、高精度化を要求さ
れている。
また、その処理方式も複雑となってきており、処理上
の人為的、装置的な誤りを正確且つ迅速に発見すること
および管理することは益々困難となっている。
の人為的、装置的な誤りを正確且つ迅速に発見すること
および管理することは益々困難となっている。
従来の露光データの生成方法を第３図のフローチャー
トに示す。
トに示す。
同図に示されるように、この方法は設計者より提供さ
れるマスクパターンデータを先ず読込み（ステップ30
1）、このマスクパターンデータに対してリダクション
処理（ステップ302）、サイジング処理（ステップ303）
および論理処理（ステップ304）等の各種のパラメータ
処理を順次に施すことにより、マスク・レチクル用の露
光データを生成出力するようになっている（ステップ30
5）。
れるマスクパターンデータを先ず読込み（ステップ30
1）、このマスクパターンデータに対してリダクション
処理（ステップ302）、サイジング処理（ステップ303）
および論理処理（ステップ304）等の各種のパラメータ
処理を順次に施すことにより、マスク・レチクル用の露
光データを生成出力するようになっている（ステップ30
5）。
ところで、この様な露光データ生成処理仮定（ステッ
プ301〜305）が正しく行われたことの確認は、計算機の
処理過程を示すリスト出力や、管理上の記録等に基づ
き、必要に応じて測定用のパターン（例えば寸法等）を
随時挿入することにより行われていた。
プ301〜305）が正しく行われたことの確認は、計算機の
処理過程を示すリスト出力や、管理上の記録等に基づ
き、必要に応じて測定用のパターン（例えば寸法等）を
随時挿入することにより行われていた。
しかしながら、プログラミング上のミスがあった場合
にはリスト出力と最終結果たる露光データとの間に不一
致が発生することが考えられ、また人為的ミスを考慮す
れば管理記録は必ずしも完全なものではなく、更にパタ
ーンを挿入し測定することは原理上最適であるものの、
個々の処理に対応するには工数的に問題があり実用に供
し得ないという不具合があった。
にはリスト出力と最終結果たる露光データとの間に不一
致が発生することが考えられ、また人為的ミスを考慮す
れば管理記録は必ずしも完全なものではなく、更にパタ
ーンを挿入し測定することは原理上最適であるものの、
個々の処理に対応するには工数的に問題があり実用に供
し得ないという不具合があった。
上述のように、従来の露光データ生成処理における処
理過程確認方法は、プログラミング上のミスに対応でき
ないこと、人為的ミスを完全に排除できないこと、工数
上実用に供し得ないこと等の問題点があった。
理過程確認方法は、プログラミング上のミスに対応でき
ないこと、人為的ミスを完全に排除できないこと、工数
上実用に供し得ないこと等の問題点があった。
この発明は、上述の問題点に鑑み成されたものであ
り、その目的とするところはこの種の露光データ生成処
理における各種の誤りを簡便且つ確実に検証できるよう
にした露光データの生成方法を提供することにある。
り、その目的とするところはこの種の露光データ生成処
理における各種の誤りを簡便且つ確実に検証できるよう
にした露光データの生成方法を提供することにある。
この発明は上記の目的を達成する為に、マスクパター
ンデータに対して、少なくとも１つのパラメータ処理を
施すことにより、マスク・レチクル用の露光データを生
成する方法において、前記パラメータ処理を施さない第
１のダミー用パターンデータと、前記パラメータ処理の
うち少なくとも１つを施した第２のダミー用パターンデ
ータとを追加挿入し、該第１のダミー用パターンと該第
２のダミー用パターンとをマスク・レチクルの有効領域
外に発生させること、を特徴とするものである。
ンデータに対して、少なくとも１つのパラメータ処理を
施すことにより、マスク・レチクル用の露光データを生
成する方法において、前記パラメータ処理を施さない第
１のダミー用パターンデータと、前記パラメータ処理の
うち少なくとも１つを施した第２のダミー用パターンデ
ータとを追加挿入し、該第１のダミー用パターンと該第
２のダミー用パターンとをマスク・レチクルの有効領域
外に発生させること、を特徴とするものである。
この様な構成によれば、得られた露光データに基づき
マスク・レチクルを作成し、その有効露光領域外に形成
されたダミーパターンを計測することにより、露光デー
タ生成過程において発生した誤りを簡便且つ確実に検証
することができる。
マスク・レチクルを作成し、その有効露光領域外に形成
されたダミーパターンを計測することにより、露光デー
タ生成過程において発生した誤りを簡便且つ確実に検証
することができる。
第１図は、本発明に係わるる露光データの生成方法の
一実施例を示すフローチャートである。
一実施例を示すフローチャートである。
同図において、処理が開始されると、設計者より提供
されたマスクパターンデータ（第２図（ａ））の磁気テ
ープからの読取りが行われる（ステップ101）。
されたマスクパターンデータ（第２図（ａ））の磁気テ
ープからの読取りが行われる（ステップ101）。
第２図（ａ）に示されるマスクパターンデータは、層
名『１』、層名『２』とからなる２層構造を有するもの
であり、リダクション処理については縮小値90％が指定
されており、またサイジング処理については第１層パタ
ーンについては＋0.5が、また第２層パターンについて
は−0.2が指定され、更に論理処理についてはOR処理が
指定されている。
名『１』、層名『２』とからなる２層構造を有するもの
であり、リダクション処理については縮小値90％が指定
されており、またサイジング処理については第１層パタ
ーンについては＋0.5が、また第２層パターンについて
は−0.2が指定され、更に論理処理についてはOR処理が
指定されている。
次いで、ダミー用パターンデータの追加読込みが磁気
テープ或いはキーボードから行われる（ステップ10
2）。
テープ或いはキーボードから行われる（ステップ10
2）。
この例では、ダミー用パターンとしては、第２図に示
されるように、ａ×ａからなる正方形パターンが採用さ
れている。
されるように、ａ×ａからなる正方形パターンが採用さ
れている。
これらのダミー用パターンには、第２図（ｂ）〜
（ｅ）に示されるように、（ｂ）サイジング、リダクシ
ョン、および論理処理のいずれもがない場合、（ｃ）リ
ダクトのみ有りの場合、（ｄ）サイジングのみ有りの場
合、（ｅ）すべて有りの場合からなる４つの属性が付与
されている。
（ｅ）に示されるように、（ｂ）サイジング、リダクシ
ョン、および論理処理のいずれもがない場合、（ｃ）リ
ダクトのみ有りの場合、（ｄ）サイジングのみ有りの場
合、（ｅ）すべて有りの場合からなる４つの属性が付与
されている。
この様にして、マスクパターンデータおよびダミー用
パターンデータの読込みが完了すると（ステップ101、1
02）、以後リダクション処理、サイジング処理および論
理処理が必要に応じて行われる（ステップ104、106、10
8）。
パターンデータの読込みが完了すると（ステップ101、1
02）、以後リダクション処理、サイジング処理および論
理処理が必要に応じて行われる（ステップ104、106、10
8）。
すなわち、第２図（ｂ）に示されるように、サイジン
グ、リダクトおよび論理処理のいずれもがない場合は、
ダミー用パターンであるａ×ａの正方形パターンが、層
名『１』、『２』についてそのまま生成される（ステッ
プ103NO、105NO、107NO）。
グ、リダクトおよび論理処理のいずれもがない場合は、
ダミー用パターンであるａ×ａの正方形パターンが、層
名『１』、『２』についてそのまま生成される（ステッ
プ103NO、105NO、107NO）。
また、第２図（ｃ）に示されるように、リダクトのみ
有りの場合には、層名『１』、『２』について、それぞ
れ0.9a×0.9aからなる縮小された正方形パターンが生成
される（ステップ103YES、104、105NO、107NO）。
有りの場合には、層名『１』、『２』について、それぞ
れ0.9a×0.9aからなる縮小された正方形パターンが生成
される（ステップ103YES、104、105NO、107NO）。
また、サイジングのみ有りの場合には、第２図（ｄ）
に示されるように、層名『１』については（ａ＋0.5）
×（ａ＋0.5）の正方形パターンが、また層名『２』に
ついては（ａ−0.2）×（ａ−0.2）からなる正方形パタ
ーンがそれぞれ生成される（ステップ105YES、ステップ
107NO）。
に示されるように、層名『１』については（ａ＋0.5）
×（ａ＋0.5）の正方形パターンが、また層名『２』に
ついては（ａ−0.2）×（ａ−0.2）からなる正方形パタ
ーンがそれぞれ生成される（ステップ105YES、ステップ
107NO）。
更に、全て有りの場合には、第２図（ｅ）に示される
ように、大小二つの正方形を重ねた正方形パターンが生
成される（ステップ103YES、104、105YES、107YES、10
8）。
ように、大小二つの正方形を重ねた正方形パターンが生
成される（ステップ103YES、104、105YES、107YES、10
8）。
次いで、以上で得られた各処理後のダミー用パターン
（第２図（ｂ）〜（ｅ））は、露光データ中のマスク・
レチクルの有効露光領域外に相当する領域へと位置付け
（アドレス指定）される（ステップ109）。
（第２図（ｂ）〜（ｅ））は、露光データ中のマスク・
レチクルの有効露光領域外に相当する領域へと位置付け
（アドレス指定）される（ステップ109）。
その後、従来と同様な露光データの出力処理が行われ
る（ステップ110）。
る（ステップ110）。
以上で得られた露光データを基にマスク・レチクル用
の電子ビーム露光等を行えば、得られたマスク・レチク
ル上の有効露光領域外には第２図（ｂ）〜（ｅ）に示さ
れるダミーパターンが形成されるため、これらダミーパ
ターンを適宜に計測することによって、露光データ生成
処理で指定通りのパラメータ処理が正しく行われたか否
かを容易且つ確実に検証することができる。
の電子ビーム露光等を行えば、得られたマスク・レチク
ル上の有効露光領域外には第２図（ｂ）〜（ｅ）に示さ
れるダミーパターンが形成されるため、これらダミーパ
ターンを適宜に計測することによって、露光データ生成
処理で指定通りのパラメータ処理が正しく行われたか否
かを容易且つ確実に検証することができる。
以上の説明で明らかなように、この発明によれば、露
光データ生成処理の過程で各パラメータ処理が正しく行
われたか否かを、簡便且つ確実に検証することができ
る。
光データ生成処理の過程で各パラメータ処理が正しく行
われたか否かを、簡便且つ確実に検証することができ
る。
第１図は本発明方法のフローチャート、 第２図は本発明方法の処理過程を示す概念図、 第３図は従来方法のフローチャートである。 101……マスクパターン読込処理 102……ダミー用パターンデータ追加読込処理 104……リダクション処理 106……サイジング処理 108……論理処理 109……ダミーパターン発生処理 110……露光データ出力処理
Claims (1)
- 【請求項１】マスクパターンデータに対して、少なくと
も１つのパラメータ処理を施すことにより、マスク・レ
チクル用の露光データを生成する方法において、 前記パラメータ処理を施さない第１のダミー用パターン
データと、 前記パラメータ処理のうち少なくとも１つを施した第２
のダミー用パターンデータとを追加挿入し、該第１のダ
ミー用パターンと該第２のダミー用パターンとをマスク
・レチクルの有効領域外に発生させることを特徴とする
露光データの生成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32918589A JP2886227B2 (ja) | 1989-12-19 | 1989-12-19 | 露光データの生成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32918589A JP2886227B2 (ja) | 1989-12-19 | 1989-12-19 | 露光データの生成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03189653A JPH03189653A (ja) | 1991-08-19 |
| JP2886227B2 true JP2886227B2 (ja) | 1999-04-26 |
Family
ID=18218602
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32918589A Expired - Fee Related JP2886227B2 (ja) | 1989-12-19 | 1989-12-19 | 露光データの生成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2886227B2 (ja) |
-
1989
- 1989-12-19 JP JP32918589A patent/JP2886227B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03189653A (ja) | 1991-08-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |