JP2870506B2 - バンプ付きワークの半田付け方法 - Google Patents

バンプ付きワークの半田付け方法

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JP2870506B2 JP8294730A JP29473096A JP2870506B2 JP 2870506 B2 JP2870506 B2 JP 2870506B2 JP 8294730 A JP8294730 A JP 8294730A JP 29473096 A JP29473096 A JP 29473096A JP 2870506 B2 JP2870506 B2 JP 2870506B2
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    • H05K3/3457Solder materials or compositions; Methods of application thereof

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  • Wire Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、金バンプをパッド
上の半田部で半田付けするバンプ付きワークの半田付け
方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、フリップチップなどのバンプ付き
ワークのプリント基板などのワークへの半田付けは、次
のようにして行われていた。まずバンプ付きワークのバ
ンプまたはワークのパッド上に形成された半田部にフラ
ックスを塗布する。次にバンプを半田部に着地させてバ
ンプ付きワークをワーク上に搭載する。次にワークを加
熱炉へ送り、半田部をその融点(一般には200°C程
度)以上に加熱して溶融させ、次いで冷却することによ
り固化させる。以上によりバンプ付きワークをワークに
実装する。
【0003】図3は、以上のようにして半田付けされた
従来のバンプ付きワークの実装構造の部分断面図を示し
ている。図中、1はバンプ付きワークであって、その下
面にはバンプ2が突設されている。3はワークであっ
て、その表面の回路パターンのパッド4上にはバリヤと
してのニッケル層5が形成されており、ニッケル層5上
に形成された半田部6にバンプ2が半田付けされてい
る。7はワーク3のパッド4以外の表面を覆うレジスト
膜である。パッド4は、一般に銅で形成される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】バンプ付きワークのバ
ンプとしては、耐食性や導通性にすぐれていることか
ら、金バンプが多く用いられている。ところが金バンプ
の場合、上述のように加熱炉で加熱して半田部を溶融さ
せると、金バンプの表面部分の金は半田部に溶け込
み、その結果、金バンプ2の表面には微細な空隙8が生
じやすいという問題点があった。この空隙8は、バン
プ2のボンディング強度を低下させ、またバンプ2と
パッド4の間の導通性を悪化させる。さらには最悪の場
合、バンプ2の金は大量に半田部6に吸収されて
ンプ2の体積は著しく減少してしまい、バンプとして
の機能を果せなくなる。
【0005】したがって本発明は、金バンプの金が半田
部に溶け込むのを防止して、金バンプを導通性よくしっ
かりと半田付けできるバンプ付きワークの半田付け方法
を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、パッド上に表
層としての金層を形成しこの金層上に半田部を形成
し、高温の半田部に金層の金を溶かし込んだ後、この半
田部にバンプ付きワークの金バンプを搭載して加熱し、
半田部と前記金バンプを接合させるようにした。
【0007】
【発明の実施の形態】上記構成において、金層上に半田
部を形成、高温の半田部の内部に金層の金を溶け込
せる。次いでこの半田部上に金バンプを搭載して加熱す
ることにより、半田部と金バンプを接合するが、この場
合、半田部の内部には金層の金がすでに溶け込んでいる
ので、金バンプの金が半田部の内部に溶け込むの阻止
される。したがって金バンプの表面に空隙が生じること
はなく、金バンプを導通性よくしっかり半田部にボンデ
ィングすることができる。
【0008】以下、本発明の実施の形態を図面を参照し
て説明する。図1は、本発明の一実施の形態のバンプ付
きワークの半田付け工程図、図2は同バンプ付きワーク
の実装構造の部分断面図である。
【0009】まず、図1の(a)〜(d)を参照して実
装工程を順に説明する。図1(a)において、ワーク1
1の上面には回路パターンの一部分であるパッド12が
形成されている。このパッド12は銅から成る。パッド
12以外のワーク11の表面にはレジスト膜13が形成
されている。
【0010】図1(b)に示すように、、パッド12上
に中間層としてニッケル層14を形成し、ニッケル層1
4上に表層としての金層15を形成する。ニッケル層1
4は、金層15の金とパッド12の銅が溶け合うのを防
止するバリヤとなる。このニッケル層14と金層15の
2層構造のメッキは、フラッシュメッキ処理により形成
することができる。
【0011】次に、図1(c)に示すように金層15上
に半田部16を形成する。すると金層15の金は高温の
半田部16の内部に速やかに溶け込んで金層15は消滅
する(図1(d)参照)。この半田部16は、メッキ手
段や半田レベラ手段やクリーム半田などにより形成され
る。半田と金は互いにぬれ性がきわめて良いという性質
があり、したがって半田部16はパッド12上にきわめ
て形状よく形成することができる。
【0012】以上のようにしてワーク11の処理を行っ
たならば、次に図1()に示すようにバンプ付きワー
ク17の金バンプ18を半田部16上に着地させてバン
プ付きワーク17をワーク11上に搭載する。この場
合、望ましくは金バンプ18を半田部16に強く押し付
けて図示するように金バンプ18を半田部16の内部に
埋入させる。なおバンプ付きワークのワークへの搭載
は、例えば特開平2−56944号公報などに記載され
た実装装置により行う。
【0013】以上のようにしてバンプ付きワーク17を
ワーク11に搭載したならば、半田部16の加熱処理を
行う。この加熱処理は、一般にはワーク11を加熱炉内
へ送り、ワーク11やバンプ付きワーク17を加熱する
ことにより行われる。半田部16をその融点(一般には
200°C程度)以上まで加熱すると、半田部16は溶
融し、続いて冷却すると半田部16は固化し、金バンプ
18は半田部16に接合してボンディングされる。
【0014】図2は、以上のようにして金バンプ18を
半田付けした実装構造を示している。上述したように、
金バンプ18を半田部16に搭載して加熱する場合、半
田部16の内部には金層15の金がすでに溶け込んでい
るので、金バンプ18の金が半田部16内に溶け込むの
は半田部16に溶け込んだ金により阻止される。したが
って図3に示す従来例のように金バンプ18の表面に空
隙が生じることはなく、金バンプ18をしっかり半田部
16にボンディングできる。
【0015】なお本発明者が行った実験結果によれば、
金層15は0.1μm以下のごく薄いものでも十分な上
記効果が得られた。ただし半田部16の厚さが厚すぎる
と、半田部16に溶け込む金の濃度が低くなってその効
果は低下するので、半田部16の厚さは50μm以下に
することが望ましい。また金バンプ18を半田部16に
接合する方法としては、金バンプ18と半田部16を圧
接した状態で超音波振動を加えて行ってもよく、必ずし
も半田部16を溶融させて接合しなくてもよい。
【0016】
【発明の効果】本発明によれば、きわめて簡単な方法に
より、金バンプの金が半田部に溶け込んで空隙を生じる
のを解消し、金バンプを導通性よくしっかり半田付けす
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態のバンプ付きワークの半
田付け工程図
【図2】本発明の一実施の形態のバンプ付きワークの実
装構造の部分断面図
【図3】従来のバンプ付きワークの実装構造の部分断面
【符号の説明】
11 ワーク 12 パッド 14 ニッケル層 15 金層 16 半田部 17 バンプ付きワーク 18 金バンプ

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ワークのパッド上に形成された半田部でバ
    ンプ付きワークの金バンプを半田付けするバンプ付きワ
    ークの半田付け方法であって、前記パッド上に表層とし
    ての金層を形成しこの金層上に半田部を形成し、高温
    の半田部に金層の金を溶かし込んだ後、この半田部にバ
    ンプ付きワークの金バンプを搭載して加熱し、前記半田
    と前記金バンプを接合させることを特徴とするバンプ
    付きワークの半田付け方法。
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JP2012204631A (ja) 2011-03-25 2012-10-22 Fujitsu Semiconductor Ltd 半導体装置、半導体装置の製造方法及び電子装置

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