JP2868971B2 - Ｉｃリードフレームの部分めっき装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ＩＣリードフレームの
部分めっき装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＩＣリードフレームの部分めっき装置の
従来構成を図３に示す。図において、１１は下部マスク
で部分めっき用の開口部を有している。また、１５は下
部マスク１１の平面方向位置を拘束する静止側アダプタ
である。２１は上部マスク、３１は上部マスク２１の昇
降手段および押圧力付加手段を兼用する昇降シリンダ装
置である。昇降シリンダ装置３１は、上部フレーム３５
を介して静止側アダプタ１５の上方に配設されており、
そのロッド３２の先端部は上部プレート２５を介して上
部マスク２１に連結されている。

【０００３】したがって、昇降シリンダ装置３１を駆動
してロッド３２を下方へ突出させると、上部マスク２１
は図３に示す待機位置より下降し下部マスク１１上にセ
ットされたＩＣリードフレームＷに乗った後、当該リー
ドフレームＷに所定の押圧力を加える。こうして、ＩＣ
リードフレームＷが、両マスク１１，２１によって挟持
されたところで、下方のめっき液吹出装置（図示省略）
からめっき液を下部マスク１１の開口部を目掛けて吹き
出す。これにより、ＩＣリードフレームＷは、下部マス
ク１１の開口部に対応する部分のみがめっきされる。

【０００４】ところで、上記部分めっき装置において、
ＩＣリードフレームＷを高品質に部分めっきするには当
該ＩＣリードフレームＷを挟持する下部マスク１１と上
部マスク２１との平面内相対位置を正確とする必要があ
るが、それには昇降シリンダ装置３１を堅牢・高精度と
しなければならずコスト高となる。

【０００５】そこで、従来、図３中２点鎖線で示す如く
上部マスク２１用のガイド機構３８（ガイド棒３９，ガ
イド孔３６）が付加されることがある。かかる構成で
は、昇降シリンダ装置３１を駆動して上部マスク２１を
下降させると、同期的にガイド棒３９もガイド孔３６よ
り下方へ引き出されつつ当該上部マスク２１をガイドし
てその平面方向移動を規制する。そのため、ガイド機構
３８を備えない部分メッキ装置よりも下部マスク１１と
上部マスク２１とを正確に位置決めすることができる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、ＩＣリードフ
レームＷは、現今のＩＣの小型化および高機能化にあわ
せて益々薄型（例えば、厚さ０．０７５〜０．１ｍｍ）
になるとともにリード線が本数増加・細線化されて弱剛
性となってきている。このように、ＩＣリードフレーム
Ｗが極薄で弱剛性となってくると、ガイド機構３８を備
えた上記従来構造では、二次元的に位置ずれが生じて変
形するだけでなく当該ＩＣリードフレームＷに皺寄せ現
象が生じてリード線同士が上下にくっついてめっきされ
てしまうという部分めっき装置では致命的な事態が生じ
ることがある。

【０００７】そこで、下部マスク１１と上部マスク２１
との位置決め時にガイド孔３６より長く引き出されたガ
イド棒３９が上部マスク１１の平面方向変位をより高精
度に規制できるように、ガイド孔３６とガイド棒３９と
の加工精度を向上したりガイド棒を太くして構造強度を
増大させたりしてみたが、大幅なコスト高を招く割には
効果が薄かった。また、位置決め時に昇降シリンダ装置
３１との間で上部マスク２１の姿勢を拘束する結果かえ
ってＩＣリードフレームＷの変形を引き起こす事態を生
じることがある。

【０００８】本発明の目的は、コスト低減を図りつつＩ
Ｃリードフレームが極薄でリード線が細線化されていて
も変形等させることなく高品質に部分めっきすることが
できるＩＣリードフレームの部分めっき装置を提供する
ことにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記従来構造では、上部
マスクが下部マスク上のＩＣリードフレームに位置づけ
される直前に、昇降シリンダ装置によって平面内で位置
変化させられた場合に弱剛性のＩＣリードフレームのリ
ード線が位置ずれや変形するとの分析にたち、上部マス
クを平面方向変位に関しては昇降シリンダ装置と縁を切
った状態で下部マスクと位置合わせできるように形成し
たものである。

【００１０】すなわち、本発明に係るＩＣリードフレー
ムの部分めっき装置は、平面方向位置を拘束する静止側
アダプタに保持された下部マスクと，上部マスクを昇降
させる昇降手段と，下部マスク上にセットされたＩＣリ
ードフレーム上に乗せられた上部マスクに押圧力を加え
る押圧力付加手段とを具備してなるＩＣリードフレーム
の部分めっき装置において、前記昇降手段によって下降
された上部マスクと機械的に係合して下部マスクと上部
マスクとの位置決めを行う位置決め機構を設け、前記昇
降手段と上部マスクとを昇降動作可能でかつ下降された
上部マスクが該位置決め機構に係合した後は昇降手段と
上部マスクとの平面内相対位置変化を許容可能に連結し
たことを特徴とする。

【００１１】

【作用】上記構成による本発明では、昇降手段によって
上部マスクを下降させると、当該上部マスクは位置決め
機構と機械的に係合して昇降手段に対して平面内位置変
化可能となる。したがって、位置決め機構は、上部マス
クを平面方向変位に関しては昇降手段と縁を切った状態
で下部マスクに対する位置決めを行う。そのため、上部
マスクが、下部マスク上のＩＣリードフレームに位置づ
けされる直前に昇降手段によって平面内で位置変化させ
られてしまうような事態は発生せず、ＩＣリードフレー
ムが極薄で弱剛性であっても皺寄せ現象等が生じるのを
阻止して変形等するのを防止することができる。

【００１２】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。本ＩＣリードフレームの部分めっき装置は、図１
に示す如く、基本的構成が従来例（図３）と同様とされ
ており、位置決め機構４１により上部マスク２１を平面
方向変位に関しては昇降手段（３１）と縁を切った状態
で下部マスク１１に対して位置決めを行えるように形成
して、ＩＣリードフレームＷが極薄で弱剛性であっても
リード線の変形等を防止できるようにしたものである。

【００１３】具体的には、本部分めっき装置は、昇降手
段（昇降シリンダ装置３１）によって下降された上部マ
スク２１と機械的に係合して下部マスク１１と上部マス
ク２１との位置決めを行う位置決め機構４１を設け、昇
降手段（３１）と上部マスク２１とを昇降動作可能でか
つ下降された上部マスク２１が位置決め機構４１に係合
した後は昇降手段（３１）と上部マスク２１との平面内
相対位置変化を許容可能に連結した構成とされている。

【００１４】本実施例においては、位置決め機構４１
は、ベース２の四隅に対角線上に立設された４本のガイ
ドポスト４２と，上部マスク２１側の上部プレート２５
の四隅に設けられ対応するガイドポスト４２を摺動自在
に被嵌する４個のガイド孔部４３とからなり、昇降シリ
ンダ装置３１によって下降される上部マスク２１を各ガ
イドポスト４２と各ガイド孔部４３とにより前後左右
（平面方向）に位置規制して下部マスク１１と上部マス
ク２１との位置決めを行う構成とされている。

【００１５】このように、ベース２に対角線上に配設さ
れた各ガイドポスト４２によって、下部マスク１１と上
部マスク２１との位置決めを行うので、ガイドポスト４
２（したがってガイド孔部４３）の設置個数を押さえつ
つ高精度に位置決めすることができる。特に、構造強度
が最大となるガイドポスト４２の基端部付近で下部マス
ク１１と上部マスク２１との位置決めを行うので、より
一段と高精度に位置決めできる。また、各ガイドポスト
４２間の間隔を広く取ることができるので、ＩＣリード
フレームＷの取出し，取付けを支障なく行うことができ
る。また、下部マスク１１および上部マスク２１の交換
も支障なく行える。

【００１６】また、昇降シリンダ装置３１のロッド３２
と上部マスク２１とは、フローティング接続機構５１を
用いて連結されている。フローティング接続機構５１
は、簡易な構成でロッド３２と上部マスク２１とを上下
方向に同期移動可能かつ上部マスク２１の平面内位置変
化を許容可能に連結する構成とされている。

【００１７】具体的には、フローティング接続機構５１
は、フローティングプレート５２，支持棒５３，５３お
よびスプリング５４，５４を含み構成されている。フロ
ーティングプレート５２は、昇降シリンダ装置３１のロ
ッド３２の先端部に連結されており、当該プレート５２
の両端部には貫通穴５２ａ，５２ａが形成されている。
また、支持棒５３，５３は、フローティングプレート５
２の貫通穴５２ａ，５２ａに摺動自在に嵌装されてお
り、その下端部は上部プレート２５部分に連結されてい
る。また、各スプリング５４は、それぞれ支持棒５３の
頭部５３ａとフローティングプレート５２との間に縮設
されている。

【００１８】したがって、昇降シリンダ装置３１を駆動
してロッド３２を突出・後退させることにより、上部マ
スク２１はフローティング接続機構５１を介して当該ロ
ッド３２に対する平面内位置変化が許容された状態で下
降・上昇される。

【００１９】次に、本実施例の作用について説明する。
昇降シリンダ装置３１によって上部マスク２１を下降さ
せると、当該上部マスク２１は各ガイドポスト４２と各
ガイド孔部４３とによって前後左右（平面）方向に位置
規制されつつ下部マスク１１に向けて案内される。この
際、上部マスク２１は、フローティング接続機構５１を
介して昇降シリンダ装置３１のロッド３２に平面内方向
変位可能に連結されているので、昇降シリンダ装置３１
と縁を切った状態で各ガイドポスト４２と各ガイド孔部
４３とによって下部マスク１１との平面内での位置決め
を行える。

【００２０】したがって、上部マスク２１が下部マスク
１１上のＩＣリードフレームに位置づけされる直前に昇
降シリンダ装置３１によって平面内で位置変化させられ
るような事態は発生しない。そのため、ＩＣリードフレ
ームが、極薄でリード線が細線化されていても皺寄せ現
象等は生ぜずリード線同士がくっついて部分めっきされ
るといった問題は生じない。

【００２１】しかして、この実施例によれば、昇降シリ
ンダ装置３１によって下降された上部マスク２１を位置
決め機構４１によって平面方向変位に関しては当該昇降
シリンダ装置３１と縁を切った状態で下部マスク１１と
位置決めを行う構成としたので、コスト低減を図りつつ
ＩＣリードフレームが極薄でリード線が細線化されてい
ても変形等させることなく高品質に部分めっきすること
ができる。

【００２２】また、構造強度が最大となるガイドポスト
４２の基端部付近で位置合せできるので、一段と高精度
に上部マスク２１と下部マスク１１との位置合せを行え
る。また、ベース２の四隅にガイドポスト４２を設けた
ので、ＩＣリードフレームや各マスク１１，２１の取付
け・取外しに支障を来たすことはない。

【００２３】なお、上記実施例においては、位置決め機
構４１を、４本のガイドポスト４２と同数のガイド孔部
４３とから構成したが、昇降シリンダ装置３１によって
下降された上部マスク２１と機械的に係合して下部マス
ク１１と上部マスク２１との位置決めを正確に行えれば
どのように構成してもよい。

【００２４】例えば、図２に示す如く、位置決め機構４
１を、ベース２上端部の四隅に対角線上に立設された４
本のガイド突起部４５と，各ガイド突起部４５と対応し
て上部プレート２５の四隅に設けられた４個のガイド凹
部４６より構成する。各ガイド突起部４５は、先端部が
円錐状に形成されている。また、各ガイド凹部４６は対
応するガイド突起部４５の先端部を被嵌し得るように下
面より少し内へ入った部分が断面円錐状に穿設されてい
る。したがって、各ガイド突起部４５は、昇降シリンダ
装置３１によって下降された上部マスク２１側の各ガイ
ド凹部４６と係合して、平面方向変位に関して昇降シリ
ンダ装置３１と縁を切った状態で当該マスク２１と下部
マスク１１との平面内の位置決めを高精度に行う。

【００２５】かかる構成により、ガイド突起部４５を短
く形成することができ、一段とコスト低減を図ることが
できる。また、ＩＣリードフレームＷの脱着やマスク交
換をより一段と円滑に行うことができる。

【００２６】また、昇降手段を昇降シリンダ装置３１よ
り形成したが、上部マスク２１を円滑に昇降させること
ができれば、どのように構成してもよい。また、押圧力
付加手段も、下部マスク１１上にセットされたＩＣリー
ドフレーム上に乗せられた上部マスク２１に所定の押圧
力を加えることができれば昇降シリンダ装置３１に限定
されない。

【００２７】さらに、昇降シリンダ装置３１と上部マス
ク２１とをフローティング接続機構５１を介して接続し
たが、昇降シリンダ装置３１と上部マスク２１とを昇降
動作可能でかつ下降された上部マスク２１が位置決め機
構４１に係合した後は昇降シリンダ装置３１と上部マス
ク２１との平面内相対位置変化を許容可能とすることが
できれば、どのように接続してもよい。

【００２８】

【発明の効果】本発明によれば、昇降手段によって下降
された上部マスクと機械的に係合して下部マスクと上部
マスクとの位置決めを行う位置決め機構を設け、昇降手
段と上部マスクとを昇降動作可能でかつ下降された上部
マスクが該位置決め機構に係合した後は昇降手段と上部
マスクとの平面内相対位置変化を許容可能に連結した構
成としたので、位置決め機構により上部マスクを平面方
向変位に関しては昇降手段と縁を切った状態で下部マス
クと位置合せすることができる。その結果、上部マスク
が下部マスク上のＩＣリードフレームに位置付けされる
直前に平面内で位置変化させられるような事態は発生し
ない。そのため、ＩＣリードフレームが極薄でリード線
が細線化されていても皺寄せ現象等が生じるのを阻止し
て変形等させることなく高品質に部分めっきすることが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例を説明するための斜視図であ
る。

【図２】同じく、位置決め機構の変形例を説明するため
の図である。

【図３】従来のＩＣリードフレームの部分めっき装置の
構成を説明するための図である。

【符号の説明】

１１ 下部マスク ２１ 上部マスク ３１ 昇降シリンダ装置（昇降手段，押圧力付加手段） ４１ 位置決め機構

フロントページの続き (72)発明者 湯口 紀之 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 林 琢哉 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 大森 照雄 東京都稲城市平尾３−６−１ 三友エン ジニアリング株式会社内 (72)発明者 倉地 章五 東京都稲城市平尾３−６−１ 三友エン ジニアリング株式会社内 (72)発明者 松下 哲夫 東京都稲城市平尾３−６−１ 三友エン ジニアリング株式会社内 (56)参考文献 特開 平２−107796（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−219084（ＪＰ，Ａ) 実開 昭56−173667（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) H01L 23/50 C25D 5/02 C25D 7/12

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 平面方向位置を拘束する静止側アダプタ
   に保持された下部マスクと，上部マスクを昇降させる昇
   降手段と，下部マスク上にセットされたＩＣリードフレ
   ーム上に乗せられた上部マスクに押圧力を加える押圧力
   付加手段とを具備してなるＩＣリードフレームの部分め
   っき装置において、 前記昇降手段によって下降された上部マスクと機械的に
   係合して下部マスクと上部マスクとの位置決めを行う位
   置決め機構を設け、前記昇降手段と上部マスクとを昇降
   動作可能でかつ下降された上部マスクが該位置決め機構
   に係合した後は昇降手段と上部マスクとの平面内相対位
   置変化を許容可能に連結したことを特徴とするＩＣリー
   ドフレームの部分めっき装置。