JP2861935B2 - 夾雑物除去用電極及び夾雑物の除去方法及びその除去装置 - Google Patents
夾雑物除去用電極及び夾雑物の除去方法及びその除去装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は夾雑物の除去方法に
関し、特に紫外光で生じた光電子によって夾雑物をイオ
ン化させ対極で捕捉除去する方法であって、対極に夾雑
物分解触媒を配した集塵電極を用いて、捕捉した夾雑物
を分解除去することを特徴とする夾雑物の除去方法に関
する。
関し、特に紫外光で生じた光電子によって夾雑物をイオ
ン化させ対極で捕捉除去する方法であって、対極に夾雑
物分解触媒を配した集塵電極を用いて、捕捉した夾雑物
を分解除去することを特徴とする夾雑物の除去方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】光電子を用いて夾雑物の除去を行う従来
の方法としては、例えば特開平５−２１４１０号公報が
挙げられる。
の方法としては、例えば特開平５−２１４１０号公報が
挙げられる。
【０００３】この方法は、光電子放出部材に、光電子放
出部材の光電しきい値よりも大きなエネルギーを有する
紫外線を含む電磁波を照射し、照射により放出された光
電子により基板の表面及び基板表面近傍の空間に浮遊す
る微粒子を帯電させ、微粒子の帯電電荷とは反対の電位
を印加した電極に微粒子を捕集することにより基板表面
を清浄にするものである。
出部材の光電しきい値よりも大きなエネルギーを有する
紫外線を含む電磁波を照射し、照射により放出された光
電子により基板の表面及び基板表面近傍の空間に浮遊す
る微粒子を帯電させ、微粒子の帯電電荷とは反対の電位
を印加した電極に微粒子を捕集することにより基板表面
を清浄にするものである。
【０００４】この従来の方法には、１）可動部が不要
で、２）オゾン洗浄法による場合と異なり、オゾン等の
副正がなく、３）有機物だけでなく無機物についても除
去が可能などの特徴がある。
で、２）オゾン洗浄法による場合と異なり、オゾン等の
副正がなく、３）有機物だけでなく無機物についても除
去が可能などの特徴がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、前記特開平
５−２１４１０号では、対極に順次夾雑物が堆積し除去
効率が低下するため、定期的に堆積した夾雑物を除去す
る必要があるという問題点を有していた。夾雑物の除去
の際には一旦装置を停止する必要があり、またその際に
一旦収集した夾雑物が再拡散する可能性もある。
５−２１４１０号では、対極に順次夾雑物が堆積し除去
効率が低下するため、定期的に堆積した夾雑物を除去す
る必要があるという問題点を有していた。夾雑物の除去
の際には一旦装置を停止する必要があり、またその際に
一旦収集した夾雑物が再拡散する可能性もある。
【０００６】そこで、本発明では、夾雑物を分解するこ
との出来る触媒を表面に配した電極を用いることによっ
て、捕捉した夾雑物を直接分解し、夾雑物の電極上の集
積を防ぐことを目的とする。
との出来る触媒を表面に配した電極を用いることによっ
て、捕捉した夾雑物を直接分解し、夾雑物の電極上の集
積を防ぐことを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、光電子により
帯電された夾雑物を捕集する電極であって、電極表面に
夾雑物を分解する触媒が備えられていることを特徴とす
る夾雑物除去用電極である。
帯電された夾雑物を捕集する電極であって、電極表面に
夾雑物を分解する触媒が備えられていることを特徴とす
る夾雑物除去用電極である。
【０００８】また、本発明による夾雑物の除去方法は、
光電子放出部材に光電子放出部材の光電子しきい値より
も大きなエネルギーを有する紫外線を含む電磁波を照射
し、照射により放出された光電子により空間内を浮遊す
る夾雑物を帯電させ、帯電した夾雑物を帯電した夾雑物
の電荷とは反対の電位にした電極上に捕集するととも
に、前記電極上に配された夾雑物を分解する触媒により
夾雑物を分解することを特徴とする。
光電子放出部材に光電子放出部材の光電子しきい値より
も大きなエネルギーを有する紫外線を含む電磁波を照射
し、照射により放出された光電子により空間内を浮遊す
る夾雑物を帯電させ、帯電した夾雑物を帯電した夾雑物
の電荷とは反対の電位にした電極上に捕集するととも
に、前記電極上に配された夾雑物を分解する触媒により
夾雑物を分解することを特徴とする。
【０００９】さらにその除去装置は、光電子放出部材
と、光電子放出部材の光電子しきい値よりも大きなエネ
ルギーを有する紫外線を含む電磁波を照射する手段と、
照射により放出された光電子によって帯電された夾雑物
の電荷とは反対の電位を有する夾雑物の捕集用電極を備
え、前記電極の表面に夾雑物を分解する触媒が設けられ
ていることを特徴とする。
と、光電子放出部材の光電子しきい値よりも大きなエネ
ルギーを有する紫外線を含む電磁波を照射する手段と、
照射により放出された光電子によって帯電された夾雑物
の電荷とは反対の電位を有する夾雑物の捕集用電極を備
え、前記電極の表面に夾雑物を分解する触媒が設けられ
ていることを特徴とする。
【００１０】紫外線を含む電磁波の照射によって放出さ
れる光電子が、空間内の夾雑物をイオン化（帯電）し、
イオン化された夾雑物は、電界によって夾雑物の帯電電
荷とは反対の電位の電極に引き寄せられる。電極の表面
には、夾雑物を分解する触媒があるため、夾雑物は電極
に捕捉されるとともに、捕捉された夾雑物がこの触媒に
より分解され、分解生成物として電極上から除去され
る。そのため、本発明によれば、夾雑物を除去するだけ
でなく、夾雑物の電極上の堆積を防ぐことができる。
れる光電子が、空間内の夾雑物をイオン化（帯電）し、
イオン化された夾雑物は、電界によって夾雑物の帯電電
荷とは反対の電位の電極に引き寄せられる。電極の表面
には、夾雑物を分解する触媒があるため、夾雑物は電極
に捕捉されるとともに、捕捉された夾雑物がこの触媒に
より分解され、分解生成物として電極上から除去され
る。そのため、本発明によれば、夾雑物を除去するだけ
でなく、夾雑物の電極上の堆積を防ぐことができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面を参照
して説明する。図１は、本発明の一実施の形態である夾
雑物除去装置の構成断面図である。
して説明する。図１は、本発明の一実施の形態である夾
雑物除去装置の構成断面図である。
【００１２】紫外線ランプ２から照射された紫外線３
は、石英支持板４を通り抜けて光電子放出部材５に到達
し、光電子６を放出する。放出された光電子６は、夾雑
物をイオン化し、イオン化された夾雑物は、電界によっ
て夾雑物の帯電電荷とは反対の電位の電極９に引き寄せ
られる。電極９の表面には、夾雑物分解触媒８があるた
め、夾雑物はこの触媒によって分解され、分解生成物１
１として電極上から除去される。
は、石英支持板４を通り抜けて光電子放出部材５に到達
し、光電子６を放出する。放出された光電子６は、夾雑
物をイオン化し、イオン化された夾雑物は、電界によっ
て夾雑物の帯電電荷とは反対の電位の電極９に引き寄せ
られる。電極９の表面には、夾雑物分解触媒８があるた
め、夾雑物はこの触媒によって分解され、分解生成物１
１として電極上から除去される。
【００１３】光電子放出部材としては、光電子放出部材
の光電子しきい値が、紫外線を含む電磁波の有するエネ
ルギーよりも小さいものであればよい。例えば、特開平
５−２１４１０号公報に示されるような、Ａｇ（４．４
６ｅＶ），Ａｌ（４．２０ｅＶ），Ａｕ（４．８９ｅ
Ｖ），Ｂ（４．５０ｅｖ），Ｂｅ（３．９０ｅＶ），Ｂ
ｉ（４．２６ｅＶ），Ｃ（４．８１ｅＶ），Ｃｕ（４．
４５ｅＶ），Ｆｅ（４．４４ｅＶ），Ｍｇ（３．６７ｅ
Ｖ），Ｎｂ（４．３７ｅＶ），Ｐｂ（４．００ｅＶ），
Ｒｈ（４．９２ｅＶ），Ｐｂ（４．００ｅＶ），Ｒｈ
（４．９２ｅＶ），Ｓｎ（４．２９ｅＶ），Ｔａ（４．
１３ｅＶ），Ｚｎ（４．２９ｅＶ），Ｚｒ（４．３３ｅ
Ｖ）（カッコ内の数字が光電子しきい値エネルギ−）な
どの金属も使用でき、これらの二種以上からなる合金、
炭化物、ホウ化物なども使用できる。本実施の形態で
は、Ａｕを使用した。
の光電子しきい値が、紫外線を含む電磁波の有するエネ
ルギーよりも小さいものであればよい。例えば、特開平
５−２１４１０号公報に示されるような、Ａｇ（４．４
６ｅＶ），Ａｌ（４．２０ｅＶ），Ａｕ（４．８９ｅ
Ｖ），Ｂ（４．５０ｅｖ），Ｂｅ（３．９０ｅＶ），Ｂ
ｉ（４．２６ｅＶ），Ｃ（４．８１ｅＶ），Ｃｕ（４．
４５ｅＶ），Ｆｅ（４．４４ｅＶ），Ｍｇ（３．６７ｅ
Ｖ），Ｎｂ（４．３７ｅＶ），Ｐｂ（４．００ｅＶ），
Ｒｈ（４．９２ｅＶ），Ｐｂ（４．００ｅＶ），Ｒｈ
（４．９２ｅＶ），Ｓｎ（４．２９ｅＶ），Ｔａ（４．
１３ｅＶ），Ｚｎ（４．２９ｅＶ），Ｚｒ（４．３３ｅ
Ｖ）（カッコ内の数字が光電子しきい値エネルギ−）な
どの金属も使用でき、これらの二種以上からなる合金、
炭化物、ホウ化物なども使用できる。本実施の形態で
は、Ａｕを使用した。
【００１４】紫外線を含む電磁波照射手段としては、例
えば、特開平５−２１４１０号公報に示されるような、
水銀灯（主発光波長：約２５４nm）、カーボンアーク灯
（主発光波長：約３７５nm）、キセノンランプ（主発光
波長：約４６０nm）等を使用できる。
えば、特開平５−２１４１０号公報に示されるような、
水銀灯（主発光波長：約２５４nm）、カーボンアーク灯
（主発光波長：約３７５nm）、キセノンランプ（主発光
波長：約４６０nm）等を使用できる。
【００１５】第１の実施の形態では、照射の方向性と照
射効率を向上させるため、光電子放出部材との対向面を
除く他の面をとり囲むように、光源の後ろに反射鏡１を
設置した。
射効率を向上させるため、光電子放出部材との対向面を
除く他の面をとり囲むように、光源の後ろに反射鏡１を
設置した。
【００１６】本実施の形態では、電磁波を光電子放出部
材５内部を通過させ、電磁波が入射した面とは反対の面
から光電子を放出し夾雑物を帯電させるため、光電子放
出部材５は薄くし、透過効率をよくすることが好まし
い。
材５内部を通過させ、電磁波が入射した面とは反対の面
から光電子を放出し夾雑物を帯電させるため、光電子放
出部材５は薄くし、透過効率をよくすることが好まし
い。
【００１７】そこで、光電子放出部材５を薄くし、光電
子放出部材を支持、固定するものとして、光電子放出部
材５の光源側の表面に石英板からなる支持体４を配し
た。実際には、石英板上に金を薄く被覆して作製した。
光電子放出部材の支持体４としては、電磁波を透過する
ものであれば石英に限らない。
子放出部材を支持、固定するものとして、光電子放出部
材５の光源側の表面に石英板からなる支持体４を配し
た。実際には、石英板上に金を薄く被覆して作製した。
光電子放出部材の支持体４としては、電磁波を透過する
ものであれば石英に限らない。
【００１８】図２は本発明の第２の実施の形態である夾
雑物除去装置の構成断面図である。第１の実施形態と
は、電磁波の光電子放出部材への照射・光電子放出方向
と、電磁波照射手段及び反射鏡が設置される箇所、支持
体４の材質が異なるだけで、他の構成は同じである。
雑物除去装置の構成断面図である。第１の実施形態と
は、電磁波の光電子放出部材への照射・光電子放出方向
と、電磁波照射手段及び反射鏡が設置される箇所、支持
体４の材質が異なるだけで、他の構成は同じである。
【００１９】第２の実施の形態では、電磁波照射手段２
を光電子放出部材５の電極側表面に照射できるように設
置することにより、電磁波を光電子放出部材５の電極側
表面に照射し、電磁波が入射した面と同じ面から光電子
を放出し夾雑物を帯電させる。
を光電子放出部材５の電極側表面に照射できるように設
置することにより、電磁波を光電子放出部材５の電極側
表面に照射し、電磁波が入射した面と同じ面から光電子
を放出し夾雑物を帯電させる。
【００２０】照射面と同じ面より光電子を放出させるた
め、光電子放出部材５は第１の実施の形態よりも薄くで
き、薄い光電子放出部材５を支える支持体４としては、
放出効率を考慮して電磁波を透過しない材質がよい。
め、光電子放出部材５は第１の実施の形態よりも薄くで
き、薄い光電子放出部材５を支える支持体４としては、
放出効率を考慮して電磁波を透過しない材質がよい。
【００２１】第１の実施の形態では入射面と同じ面から
一部光電子が放出することがあるが、本実施の形態によ
れば光放出方向をさらに制御でき、第１の実施の形態よ
りも光電子の放出効率を向上させることができる。
一部光電子が放出することがあるが、本実施の形態によ
れば光放出方向をさらに制御でき、第１の実施の形態よ
りも光電子の放出効率を向上させることができる。
【００２２】
（実施例１）本実施例では図２に示す夾雑物除去装置を
用いた。
用いた。
【００２３】有機物を捕捉し分解除去する電極１０とし
て、鉄棒にパラジウムをメッキし、さらにパラジウム上
に夾雑物分解用触媒８として有機物の酸化触媒である白
金をメッキしたものを用いた。この電極を夾雑物除去用
電極とした図２に示す本発明による夾雑物除去装置を、
ジオクチルフタル酸の微粒子で汚染された室内に設置し
た。
て、鉄棒にパラジウムをメッキし、さらにパラジウム上
に夾雑物分解用触媒８として有機物の酸化触媒である白
金をメッキしたものを用いた。この電極を夾雑物除去用
電極とした図２に示す本発明による夾雑物除去装置を、
ジオクチルフタル酸の微粒子で汚染された室内に設置し
た。
【００２４】紫外線を照射し、電極９を正極とし直流１
２０Ｖの電極間電位で、夾雑物であるジオクチルフタル
酸の微粒子の捕捉を開始した。開始後１０００時間経て
も電極上にジオクチルフタル酸の堆積は見られなかっ
た。
２０Ｖの電極間電位で、夾雑物であるジオクチルフタル
酸の微粒子の捕捉を開始した。開始後１０００時間経て
も電極上にジオクチルフタル酸の堆積は見られなかっ
た。
【００２５】装置運転中に室内のガスを分析したとこ
ろ、ジオクチルフタル酸の濃度が徐々に下がり、逆に二
酸化炭素濃度が上昇していた。この結果から、ジオクチ
ルフタル酸が本発明による電極によって捕捉され、さら
に触媒により酸化分解反応が促進され、二酸化炭素と水
蒸気に変化していることがわかる。
ろ、ジオクチルフタル酸の濃度が徐々に下がり、逆に二
酸化炭素濃度が上昇していた。この結果から、ジオクチ
ルフタル酸が本発明による電極によって捕捉され、さら
に触媒により酸化分解反応が促進され、二酸化炭素と水
蒸気に変化していることがわかる。
【００２６】（実施例２）前記実施例１と同じ本発明に
よる夾雑物除去装置をリノール酸を含む微粒子で汚染さ
れた室内に設置した。
よる夾雑物除去装置をリノール酸を含む微粒子で汚染さ
れた室内に設置した。
【００２７】紫外線を照射し、捕捉を開始したが、１０
００時間後においても電極上にリノール酸の堆積は見ら
れなかった。
００時間後においても電極上にリノール酸の堆積は見ら
れなかった。
【００２８】装置運転中に室内のガスを分析したとこ
ろ、リノール酸の濃度が徐々に下がり、逆に二酸化炭素
濃度が上昇していた。この結果から、リノール酸が本発
明による電極によって捕捉され、さらに触媒により酸化
分解反応が促進されて二酸化炭素と水蒸気に変化してい
ることは明らかである。
ろ、リノール酸の濃度が徐々に下がり、逆に二酸化炭素
濃度が上昇していた。この結果から、リノール酸が本発
明による電極によって捕捉され、さらに触媒により酸化
分解反応が促進されて二酸化炭素と水蒸気に変化してい
ることは明らかである。
【００２９】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば電極
上に捕捉された夾雑物が、電極上の触媒により速やかに
分解されるため、従来の方法のように装置を定期的に停
止し電極に付着した夾雑物を除去する必要がなくなる。
その結果として、前記夾雑物除去操作に伴う装置内の堆
積夾雑物の再拡散による汚染の可能性もなくなる。
上に捕捉された夾雑物が、電極上の触媒により速やかに
分解されるため、従来の方法のように装置を定期的に停
止し電極に付着した夾雑物を除去する必要がなくなる。
その結果として、前記夾雑物除去操作に伴う装置内の堆
積夾雑物の再拡散による汚染の可能性もなくなる。
【図１】本発明による夾雑物除去装置の一実施の形態の
構成断面図である。
構成断面図である。
【図２】本発明による夾雑物除去装置の別の実施の形態
の構成断面図である。
の構成断面図である。
１ 反射鏡 ２ 紫外線ランプ ３ 紫外線 ４ 支持体 ５ 光電子放出部材 ６ 光電子 ７ 光電子によってイオン化された夾雑物 ８ 夾雑物分解触媒 ９ 電極 １０ 本発明による夾雑物除去用電極 １１ 分解生成物 １２ 電源
Claims (3)
- 【請求項１】光電子により帯電された夾雑物を捕集する
電極であって、前記電極表面に前記夾雑物を分解する触
媒が備えられていることを特徴とする夾雑物除去用電
極。 - 【請求項２】光電子放出部材に、前記光電子放出部材の
光電子しきい値よりも大きなエネルギーを有する紫外線
を含む電磁波を照射し、前記照射により放出された光電
子により夾雑物を帯電させ、帯電した前記夾雑物を帯電
した前記夾雑物の電荷とは反対の電位にした電極上に捕
集するとともに、前記電極上に配された前記夾雑物を分
解する触媒により前記夾雑物を分解することを特徴とす
る夾雑物の除去方法。 - 【請求項３】光電子放出部材と、前記光電子放出部材の
光電子しきい値よりも大きなエネルギーを有する紫外線
を含む電磁波を照射する手段と、前記照射により放出さ
れた光電子によって帯電された前記夾雑物の電荷とは反
対の電位を有する前記夾雑物の捕集用電極を備え、前記
電極の表面に前記夾雑物を分解する触媒が設けられてい
ることを特徴とする夾雑物の除去装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8135426A JP2861935B2 (ja) | 1996-05-29 | 1996-05-29 | 夾雑物除去用電極及び夾雑物の除去方法及びその除去装置 |
| US08/865,163 US5870664A (en) | 1996-05-29 | 1997-05-29 | Method and apparatus for removing impurity by an improved electrode |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8135426A JP2861935B2 (ja) | 1996-05-29 | 1996-05-29 | 夾雑物除去用電極及び夾雑物の除去方法及びその除去装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09321008A JPH09321008A (ja) | 1997-12-12 |
| JP2861935B2 true JP2861935B2 (ja) | 1999-02-24 |
Family
ID=15151459
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8135426A Expired - Fee Related JP2861935B2 (ja) | 1996-05-29 | 1996-05-29 | 夾雑物除去用電極及び夾雑物の除去方法及びその除去装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5870664A (ja) |
| JP (1) | JP2861935B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6027616A (en) * | 1998-05-01 | 2000-02-22 | Mse Technology Applications, Inc. | Extraction of contaminants from a gas |
| JP2000294530A (ja) | 1999-04-06 | 2000-10-20 | Nec Corp | 半導体基板の洗浄方法及びその洗浄装置 |
| WO2016153760A1 (en) | 2015-03-23 | 2016-09-29 | Clariant Corporation | A catalyst material for the oxidation and ammoxidation of propylene and isopropylene, processes for making and using same |
| US10479759B2 (en) | 2017-02-08 | 2019-11-19 | Clariant Corporation | Synthetic methods for the preparation of propylene ammoxidation catalysts |
| US10479760B2 (en) | 2017-02-08 | 2019-11-19 | Clariant Corporation | Synthetic methods for the preparation of propylene ammoxidation catalysts |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0521410A (ja) * | 1991-07-16 | 1993-01-29 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 基板表面清浄方法および清浄装置 |
-
1996
- 1996-05-29 JP JP8135426A patent/JP2861935B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-05-29 US US08/865,163 patent/US5870664A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5870664A (en) | 1999-02-09 |
| JPH09321008A (ja) | 1997-12-12 |
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