JP2859292B2 - 散乱表面からの過渡運動の光学的検出方法及び装置 - Google Patents
散乱表面からの過渡運動の光学的検出方法及び装置Info
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、散乱表面から過渡運動を光学的に検出する
方法および装置に関する。特に本発明は、超音波等によ
って発生する光位相変調を検出する上で有用である。
方法および装置に関する。特に本発明は、超音波等によ
って発生する光位相変調を検出する上で有用である。
光ビームを使用して対象物の運動を検出する各種応用
分野において、光波の位相変調または周波数変調を検出
することは重要である。例えば振動のレーザ感知、超音
波のレーザ検出、衝撃や衝突によって発生する物体の過
渡変形のレーザー検出等のケースがある。実際の応用に
おいてこれら検出が特に有益なのは、超音波や衝撃波が
レーザによって発生される場合である。この場合、完全
な遠隔超音波検査システムが実現可能であり、例えば高
温における超音波検査が可能となる。レーザ発生および
その光学的検出を基礎とした技術は、高温物質（金属、
セラミクス等）の検査とその処理や品質管理への利用、
処理中に発生する傷の即座の検出、生産パラメータ（厚
さ、温度等）の測定、オンラインでの微細構造特性（粒
子サイズ、多孔率等）の決定に有効である。
分野において、光波の位相変調または周波数変調を検出
することは重要である。例えば振動のレーザ感知、超音
波のレーザ検出、衝撃や衝突によって発生する物体の過
渡変形のレーザー検出等のケースがある。実際の応用に
おいてこれら検出が特に有益なのは、超音波や衝撃波が
レーザによって発生される場合である。この場合、完全
な遠隔超音波検査システムが実現可能であり、例えば高
温における超音波検査が可能となる。レーザ発生および
その光学的検出を基礎とした技術は、高温物質（金属、
セラミクス等）の検査とその処理や品質管理への利用、
処理中に発生する傷の即座の検出、生産パラメータ（厚
さ、温度等）の測定、オンラインでの微細構造特性（粒
子サイズ、多孔率等）の決定に有効である。
超音波は一般に高出力レーザによって発生される。こ
のレーザがサンプルまたは工作物の表面を局所的に加熱
して音源を生成する。そして位相変調または周波数変調
をレーザ干渉計で検出する。多くの場合、検出される変
調変動は小さいので感度が重要な問題である。適切な感
度を実現するには、大きな有効集光効率を有する受信復
調手段を必要とする。従来の光学検出システムの多くは
感度が悪く、これが前記技術を完全に実用的に商用化す
ることを妨げる主因となっている。
のレーザがサンプルまたは工作物の表面を局所的に加熱
して音源を生成する。そして位相変調または周波数変調
をレーザ干渉計で検出する。多くの場合、検出される変
調変動は小さいので感度が重要な問題である。適切な感
度を実現するには、大きな有効集光効率を有する受信復
調手段を必要とする。従来の光学検出システムの多くは
感度が悪く、これが前記技術を完全に実用的に商用化す
ることを妨げる主因となっている。
一般に干渉計システムの集光効率は、その集光領域パ
ラメータ（またはスループット）によって決まる。この
パラメータは、有効入口開口面積とその入口開口中心を
通る最大傾斜の光線が限定する立体角との積として定ま
り、これは視野を規定する。前記最大傾斜の光線は干渉
縞を1/4だけ変位させるものとして定義できる。この集
光領域パラメータが重要な理由は、幾何光学の範疇にお
いて不変だからである。集光領域が大きければ大きなサ
イズの集光光学構成を選択できる。ただしコストおよび
実用性の面での制限はある。集光構成のサイズが大きけ
れば大きな面積に対してその表面運動を検出できる。
ラメータ（またはスループット）によって決まる。この
パラメータは、有効入口開口面積とその入口開口中心を
通る最大傾斜の光線が限定する立体角との積として定ま
り、これは視野を規定する。前記最大傾斜の光線は干渉
縞を1/4だけ変位させるものとして定義できる。この集
光領域パラメータが重要な理由は、幾何光学の範疇にお
いて不変だからである。集光領域が大きければ大きなサ
イズの集光光学構成を選択できる。ただしコストおよび
実用性の面での制限はある。集光構成のサイズが大きけ
れば大きな面積に対してその表面運動を検出できる。
多くの応用範囲における重要な問題は、正確な表面運
動を代表する周波数応答を提供する能力である。これは
検出技術が広い周波数帯域幅を有する場合にのみ実現し
得る。
動を代表する周波数応答を提供する能力である。これは
検出技術が広い周波数帯域幅を有する場合にのみ実現し
得る。
表面で散乱されるレーザビームに対する過渡運動の影
響は、各同等の３つの異なる方法で説明できる。表面運
動は瞬時周波数の可変位相変位またはドップラー変位を
発生する。あるいはレーザ周波数の両側に側波帯を発生
する。パルス超音波励振の場合、これら側波帯は広が
る。
響は、各同等の３つの異なる方法で説明できる。表面運
動は瞬時周波数の可変位相変位またはドップラー変位を
発生する。あるいはレーザ周波数の両側に側波帯を発生
する。パルス超音波励振の場合、これら側波帯は広が
る。
本出願人はすでに米国特許第4,633,715号において超
音波変位を測定するためのレーザヘテロダイン干渉計方
法およびシステムを開示した。この開示では、工作物の
表面によって散乱したレーザビームと、それと同一のレ
ーザ源を起源とする基準ビームとを干渉させる。この基
準ビームの周波数はブラッグセルまたは音響光学セルに
よって偏移される。この方法においては基準波がレーザ
から直接に得られるので、基準波の表面は、表面で散乱
されたビームの波面と一致しない。このためスペックル
に対して感応し集光領域が極めて限定されるという欠点
を有する。最良の検出性は約１つのスペックルが検出さ
れる場合に得られ、これにはビームを工作物表面に集束
することが必要である。感度は基準ビームに重なり合う
スペックルの強さによって著しく変動する。
音波変位を測定するためのレーザヘテロダイン干渉計方
法およびシステムを開示した。この開示では、工作物の
表面によって散乱したレーザビームと、それと同一のレ
ーザ源を起源とする基準ビームとを干渉させる。この基
準ビームの周波数はブラッグセルまたは音響光学セルに
よって偏移される。この方法においては基準波がレーザ
から直接に得られるので、基準波の表面は、表面で散乱
されたビームの波面と一致しない。このためスペックル
に対して感応し集光領域が極めて限定されるという欠点
を有する。最良の検出性は約１つのスペックルが検出さ
れる場合に得られ、これにはビームを工作物表面に集束
することが必要である。感度は基準ビームに重なり合う
スペックルの強さによって著しく変動する。
W.カウルによる米国特許第4,046,477号は、２波干渉
計を使用して超音波エネルギにさらされる工作物の表面
変形を検出する方法を提案している。工作物の表面によ
って散乱されたレーザビームに発生する光学ドップラー
偏移は、マイケルソン型干渉計によって検出される。マ
イケルソン干渉計では適切な周波数弁別感度を得るため
に長い光路差が必要であり、干渉の中心縞は非常に小さ
な角度で観察されるので、カウルの提案する干渉計は、
観察される表面がミラー状でない場合、極めて限られた
集光領域を有する。
計を使用して超音波エネルギにさらされる工作物の表面
変形を検出する方法を提案している。工作物の表面によ
って散乱されたレーザビームに発生する光学ドップラー
偏移は、マイケルソン型干渉計によって検出される。マ
イケルソン干渉計では適切な周波数弁別感度を得るため
に長い光路差が必要であり、干渉の中心縞は非常に小さ
な角度で観察されるので、カウルの提案する干渉計は、
観察される表面がミラー状でない場合、極めて限られた
集光領域を有する。
大きな集光領域または集光効率を有するべ別システム
を提供するため、本出願人は米国特許第4,659,224号に
おいて共焦点ファブリペロー型光学干渉計を提案した。
この干渉計システムの利点は、スペックルに感応せず集
光効率が大きいことである。しかしながらこの方法は濾
波作用に基づいているため、周波数帯域幅が制限され、
その応答は広い周波数範囲にわたって平坦でない。
を提供するため、本出願人は米国特許第4,659,224号に
おいて共焦点ファブリペロー型光学干渉計を提案した。
この干渉計システムの利点は、スペックルに感応せず集
光効率が大きいことである。しかしながらこの方法は濾
波作用に基づいているため、周波数帯域幅が制限され、
その応答は広い周波数範囲にわたって平坦でない。
従って本発明の課題は、前記欠点を克服することであ
り、散乱表面から過渡運動を光学的に検出するための方
法および装置において大きな集光領域または集光効率を
有すると共に広い周波数帯域幅を有する方法および装置
を提供することである。
り、散乱表面から過渡運動を光学的に検出するための方
法および装置において大きな集光領域または集光効率を
有すると共に広い周波数帯域幅を有する方法および装置
を提供することである。
本発明の一形態において、散乱表面から過渡運動を光
学的に検出するための本発明方法は、所定周波数を有す
るレーザビームを対象表面に送って散乱させることによ
り、前記所定周波数に中心ピークがあり該中心ピークの
両側に側波帯がある光学的スペクトルを有し光学的波面
を規定する散乱レーザビームを発生させる。前記表面に
よって散乱されたレーザビームは、前記散乱レーザビー
ムを起源とし前記散乱ビームの波面と実質的に一致する
光学的波面を有すると共に前記所定周波数に単一のピー
クがあり側波帯が無い光学的スペクトルを有する基準ビ
ームと干渉し、これによって光信号を提供する。この光
信号を検出し、それを前記過渡運動を代表する電気信号
に変換する。
学的に検出するための本発明方法は、所定周波数を有す
るレーザビームを対象表面に送って散乱させることによ
り、前記所定周波数に中心ピークがあり該中心ピークの
両側に側波帯がある光学的スペクトルを有し光学的波面
を規定する散乱レーザビームを発生させる。前記表面に
よって散乱されたレーザビームは、前記散乱レーザビー
ムを起源とし前記散乱ビームの波面と実質的に一致する
光学的波面を有すると共に前記所定周波数に単一のピー
クがあり側波帯が無い光学的スペクトルを有する基準ビ
ームと干渉し、これによって光信号を提供する。この光
信号を検出し、それを前記過渡運動を代表する電気信号
に変換する。
本発明の別の形態において、散乱表面から過渡運動を
光学的に検出するための本発明装置は、 所定周波数を有するレーザビームを発生しそれを対象
表面に送って散乱させることにより、前記周波数の中心
ピークがあり該中心ピークの両側に側波帯がある光学的
スペクトルを有すると共に光学的波面を規定する散乱レ
ーザビームを発生させるレーザ源手段と、 前記散乱レーザビームから、前記散乱ビームの波面と
実質的に一致する光学的波面を有すると共に前記所定周
波数に単一のピークがあり側波帯が無い光学的スペクト
ルを有する基準ビームを提供し、前記散乱レーザビーム
と前記基準ビームとを干渉させて光信号を提供する光学
的組立体手段と、 前記光信号を検出し変換することにより前記表面にお
ける過渡運動を代表する電気信号を提供する検出器手段
とを具備する。
光学的に検出するための本発明装置は、 所定周波数を有するレーザビームを発生しそれを対象
表面に送って散乱させることにより、前記周波数の中心
ピークがあり該中心ピークの両側に側波帯がある光学的
スペクトルを有すると共に光学的波面を規定する散乱レ
ーザビームを発生させるレーザ源手段と、 前記散乱レーザビームから、前記散乱ビームの波面と
実質的に一致する光学的波面を有すると共に前記所定周
波数に単一のピークがあり側波帯が無い光学的スペクト
ルを有する基準ビームを提供し、前記散乱レーザビーム
と前記基準ビームとを干渉させて光信号を提供する光学
的組立体手段と、 前記光信号を検出し変換することにより前記表面にお
ける過渡運動を代表する電気信号を提供する検出器手段
とを具備する。
本出願人は、表面によって散乱されたレーザビームか
ら該散乱ビームの波面と一致する波面を有する基準ビー
ムを得、この基準ビームから側波帯を除去した後、周波
数スペクトルが搬送レーザ周波数と隣接の側波帯とを含
む散乱レーザビームを前記基準ビームと干渉させること
により、大きな集光領域または集光効率および広い周波
数帯域幅で過渡運動を検出できることを全く予期せずに
発見した。
ら該散乱ビームの波面と一致する波面を有する基準ビー
ムを得、この基準ビームから側波帯を除去した後、周波
数スペクトルが搬送レーザ周波数と隣接の側波帯とを含
む散乱レーザビームを前記基準ビームと干渉させること
により、大きな集光領域または集光効率および広い周波
数帯域幅で過渡運動を検出できることを全く予期せずに
発見した。
「過渡運動」という表現は非ゼロ加速を有する運動を
意味する。従ってこの表現は全ての振動運動を含むが定
速度の運動は含まない。
意味する。従ってこの表現は全ての振動運動を含むが定
速度の運動は含まない。
本発明は、超音波エネルギにさらされる材料の小さな
表面変形または変位を検出するために特に有用であり、
１Åの数分の１から数百Åまでの変位を、大きな集光領
域または集光効率および広い周波数帯域幅で検出するこ
とが可能である。
表面変形または変位を検出するために特に有用であり、
１Åの数分の１から数百Åまでの変位を、大きな集光領
域または集光効率および広い周波数帯域幅で検出するこ
とが可能である。
本発明の他の特徴および利点は、添付図面に例示した
好適実施例についての以下の説明でさらに明らかにす
る。
好適実施例についての以下の説明でさらに明らかにす
る。
第１図において、レーザビーム10はレーザ源12で発生
され、周波数エネルギを受ける材料または工作物の表面
14に向かう。レーザビーム10によって検出される表面14
の超音波変位は、超音波圧電変換器、電気的放電、投射
衝突、高強度レーザパルスなどによって発生し得るもの
であり、歪んだ材料内に自然発生することもある。レー
ザビーム10は表面14に衝突して散乱する。このようにし
て発生した散乱レーザビーム16は、第１図の挿入図に示
すように、レーザ周波数FLの中心ピークとその両側の側
波帯とからなる光学的スペクトルを有する。散乱ビーム
16はビームスプリッタ18によって２つのビーム部分16a
および16bに分割される。このうちビーム部分16bは測定
ビームとなる。ビーム部分16aは側波帯ストリッパ20を
通ることによってその側波帯が取り去られ、基準ビーム
22を提供する。この基準ビーム22の光学的スペクトル
は、レーザ周波数FLの単一ピークのみからなり側波帯を
有さない。側波帯ストリッパ20から出射される基準ビー
ム22はミラー24で反射されビームミキサ26に向かう。ビ
ームミキサ26において基準ビーム22は、ミラー28で反射
されてビームミキサ26に入射する前記測定ビーム16bと
結合する。これらビームの結合ビーム30は互いに干渉し
て光信号を発生する。この光信号は光電検出器32によっ
て検出され表面変位を表す電気信号に変換される。基準
ビーム22は散乱レーザビーム16をもとに適切な設計の側
波帯ストリッパ20を使用して得られるので、基準ビーム
22の波面は散乱ビーム16の波面と実質的に一致する。こ
のため大きな集光効率が得られる。一方、搬送レーザ周
波数のみからなる基準ビーム22を干渉に使用するので広
い周波数帯域幅が得られる。
され、周波数エネルギを受ける材料または工作物の表面
14に向かう。レーザビーム10によって検出される表面14
の超音波変位は、超音波圧電変換器、電気的放電、投射
衝突、高強度レーザパルスなどによって発生し得るもの
であり、歪んだ材料内に自然発生することもある。レー
ザビーム10は表面14に衝突して散乱する。このようにし
て発生した散乱レーザビーム16は、第１図の挿入図に示
すように、レーザ周波数FLの中心ピークとその両側の側
波帯とからなる光学的スペクトルを有する。散乱ビーム
16はビームスプリッタ18によって２つのビーム部分16a
および16bに分割される。このうちビーム部分16bは測定
ビームとなる。ビーム部分16aは側波帯ストリッパ20を
通ることによってその側波帯が取り去られ、基準ビーム
22を提供する。この基準ビーム22の光学的スペクトル
は、レーザ周波数FLの単一ピークのみからなり側波帯を
有さない。側波帯ストリッパ20から出射される基準ビー
ム22はミラー24で反射されビームミキサ26に向かう。ビ
ームミキサ26において基準ビーム22は、ミラー28で反射
されてビームミキサ26に入射する前記測定ビーム16bと
結合する。これらビームの結合ビーム30は互いに干渉し
て光信号を発生する。この光信号は光電検出器32によっ
て検出され表面変位を表す電気信号に変換される。基準
ビーム22は散乱レーザビーム16をもとに適切な設計の側
波帯ストリッパ20を使用して得られるので、基準ビーム
22の波面は散乱ビーム16の波面と実質的に一致する。こ
のため大きな集光効率が得られる。一方、搬送レーザ周
波数のみからなる基準ビーム22を干渉に使用するので広
い周波数帯域幅が得られる。
有用性を高めるため、側波帯ストリップ20は十分な集
光領域を有する必要がある。すなわち側波帯ストリッパ
20は、各方向から入射する光線に対して十分に大きな視
野をもってそれら光線の側波帯を効率的に除去する必要
がある。第２図に示すように、側波帯ストリッパとして
共焦点・高Ｑ・光共振器120を使用してもよい。この光
共振器120は２つの高反射凹面ミラー134,136を備える。
これら凹面ミラー134,136は同一半径を有し、両半径に
等しい距離だけ離れている。共焦点形の共振器を構成す
るミラーの曲率半径を１メートルとし、これらミラーの
塗膜によって帯域幅1.5MHz、波長1.06μｍが発生される
とすれば、この共焦点形の共振器の集光領域は約0.1m
m2.Srである。これはほとんどの応用において適切であ
る。より高い集光領域のストリッパを実現するには、両
ミラーの間に形状収差を補正するための光学要素を内蔵
させる。図示のように、共焦点形の共振器120の一方の
ミラーは圧電プッシャ138に取り付け、両ミラー134,136
間の間隔を微調整できるようにする。共焦点形の共振器
120はマッハ・ツェンダー２波干渉計の構成内に光学的
に一体化されている。この構成はビームスプリッタ118
とビームミキサ126と２つのミラー124,128とを備える。
ミラー128は圧電プッシャ140に取り付けられ、前記干渉
計の一方のアームの光路長さを変化させることができ
る。
光領域を有する必要がある。すなわち側波帯ストリッパ
20は、各方向から入射する光線に対して十分に大きな視
野をもってそれら光線の側波帯を効率的に除去する必要
がある。第２図に示すように、側波帯ストリッパとして
共焦点・高Ｑ・光共振器120を使用してもよい。この光
共振器120は２つの高反射凹面ミラー134,136を備える。
これら凹面ミラー134,136は同一半径を有し、両半径に
等しい距離だけ離れている。共焦点形の共振器を構成す
るミラーの曲率半径を１メートルとし、これらミラーの
塗膜によって帯域幅1.5MHz、波長1.06μｍが発生される
とすれば、この共焦点形の共振器の集光領域は約0.1m
m2.Srである。これはほとんどの応用において適切であ
る。より高い集光領域のストリッパを実現するには、両
ミラーの間に形状収差を補正するための光学要素を内蔵
させる。図示のように、共焦点形の共振器120の一方の
ミラーは圧電プッシャ138に取り付け、両ミラー134,136
間の間隔を微調整できるようにする。共焦点形の共振器
120はマッハ・ツェンダー２波干渉計の構成内に光学的
に一体化されている。この構成はビームスプリッタ118
とビームミキサ126と２つのミラー124,128とを備える。
ミラー128は圧電プッシャ140に取り付けられ、前記干渉
計の一方のアームの光路長さを変化させることができ
る。
第２図は代表的なスキュー光線116′の経路を示して
おり、いかにして大きな集光領域を得るかを示す。この
スキュー光線はビームスプリッタ118によって２つの光
線116′ａと116′ｂとに分割される。光線116′ａは共
焦点形の共振器120に進入し、４つの各連続する重ね合
わせ光線117′,119′（反射光線）と121′,122′（透過
光線）とを発生する。入射光線116′ａと共直線性の光
線122′のみが重ね合わせ光線122とともに基準ビームと
して使用される。この光線122は共焦点形の共振器120の
中心から出射される光線であり、中心光線116から発生
した入射光線116aに対して共直線性を有する。共振器12
0をレーザ周波数に対して適切に調整すれば、このレー
ザ周波数から離れた１つ以上の空洞スペクトル帯域幅に
存在する全ての側波帯を光線122,122′から取り除け
る。これら光線122,122′はミラー124で反射されビーム
ミキサ126に向かう。ビームミキサ126において、光線12
2,122′は各々光線116b,116′ｂと結合される。光線116
b,116′ｂはミラー128によって反射され補償要素135,13
7を通過してビームミキサ126に至るものである。補償要
素135,137は、ミラー134,136と同一の曲線および厚さを
有し、ビームスプリッタ118とビームミキサ126とに対し
てミラー134,136と同一の距離の箇所に位置し、反射防
止塗装がなされている。ミラー128と補償要素135,137と
ビームスプリッタ118とで構成される一方の光学アーム
を通過した像が、ミラー124と空洞ミラー134,136の基板
とで構成される他方の光学アームを通過した像に重ね合
わされる時、ビームミキサ126の出力において、光線116
b,116′ｂを起源とする出力光線は光線122,122′を起源
とする出力光線に各々重ね合わされ光線130,130′を発
生する。このため入力における傾斜がどのようであって
も、所望の大きな集光領域が提供される。像の重ね合わ
せは、光路長さABCとADCとが互いに等しくかつビームミ
キサ126が光線116bおよび122の形成する角度を二等分す
る方向を向く等に実現される。しかしながら、例えば光
線116′等の入射光線を起源とする全光線の重ね合わせ
は第１近似においてのみ有効である。これは共焦点形の
共振器120の第３位収差による限界である。前記したよ
うに、この限界はより進んだ共振器設計によって取り除
くことができるが、多くの場合、共焦点形の共振器120
が提供する集光領域が十分である。空洞ミラー134,136
の基板が全表面にわたって均一な厚さを有しておりかつ
十分に薄い場合、光学アームABC上の補償要素135,137を
省略しても良好な近似が得られる。従ってこれら補償要
素135,137はオプションである。この場合、一方のアー
ム長さをわずかに変更し、ビームミキサ126の角度をわ
ずかに変更する必要がある。
おり、いかにして大きな集光領域を得るかを示す。この
スキュー光線はビームスプリッタ118によって２つの光
線116′ａと116′ｂとに分割される。光線116′ａは共
焦点形の共振器120に進入し、４つの各連続する重ね合
わせ光線117′,119′（反射光線）と121′,122′（透過
光線）とを発生する。入射光線116′ａと共直線性の光
線122′のみが重ね合わせ光線122とともに基準ビームと
して使用される。この光線122は共焦点形の共振器120の
中心から出射される光線であり、中心光線116から発生
した入射光線116aに対して共直線性を有する。共振器12
0をレーザ周波数に対して適切に調整すれば、このレー
ザ周波数から離れた１つ以上の空洞スペクトル帯域幅に
存在する全ての側波帯を光線122,122′から取り除け
る。これら光線122,122′はミラー124で反射されビーム
ミキサ126に向かう。ビームミキサ126において、光線12
2,122′は各々光線116b,116′ｂと結合される。光線116
b,116′ｂはミラー128によって反射され補償要素135,13
7を通過してビームミキサ126に至るものである。補償要
素135,137は、ミラー134,136と同一の曲線および厚さを
有し、ビームスプリッタ118とビームミキサ126とに対し
てミラー134,136と同一の距離の箇所に位置し、反射防
止塗装がなされている。ミラー128と補償要素135,137と
ビームスプリッタ118とで構成される一方の光学アーム
を通過した像が、ミラー124と空洞ミラー134,136の基板
とで構成される他方の光学アームを通過した像に重ね合
わされる時、ビームミキサ126の出力において、光線116
b,116′ｂを起源とする出力光線は光線122,122′を起源
とする出力光線に各々重ね合わされ光線130,130′を発
生する。このため入力における傾斜がどのようであって
も、所望の大きな集光領域が提供される。像の重ね合わ
せは、光路長さABCとADCとが互いに等しくかつビームミ
キサ126が光線116bおよび122の形成する角度を二等分す
る方向を向く等に実現される。しかしながら、例えば光
線116′等の入射光線を起源とする全光線の重ね合わせ
は第１近似においてのみ有効である。これは共焦点形の
共振器120の第３位収差による限界である。前記したよ
うに、この限界はより進んだ共振器設計によって取り除
くことができるが、多くの場合、共焦点形の共振器120
が提供する集光領域が十分である。空洞ミラー134,136
の基板が全表面にわたって均一な厚さを有しておりかつ
十分に薄い場合、光学アームABC上の補償要素135,137を
省略しても良好な近似が得られる。従ってこれら補償要
素135,137はオプションである。この場合、一方のアー
ム長さをわずかに変更し、ビームミキサ126の角度をわ
ずかに変更する必要がある。
２つの安定調整を行う必要がある。まず共焦点形の共
振器120から出射して基準ビームとして使用される光線
から側波帯を完全に除去するため、レーザ周波数を調整
して共振器120の透過ピークに合わせなければならな
い。次にマッハ・ツェンダー干渉計構成を調整して中央
縞のゼロ点交差に合わせ、感度の高い直線的な検出を実
現する必要がある。これら２つの調整を可能とする構成
を第３図に示す。
振器120から出射して基準ビームとして使用される光線
から側波帯を完全に除去するため、レーザ周波数を調整
して共振器120の透過ピークに合わせなければならな
い。次にマッハ・ツェンダー干渉計構成を調整して中央
縞のゼロ点交差に合わせ、感度の高い直線的な検出を実
現する必要がある。これら２つの調整を可能とする構成
を第３図に示す。
第３図に示すように、レーザビーム10はレーザ源12で
発生され、ビームスプリッタ142で２つのビーム部分10
a,10bに分割される。ビーム部分10aは検査表面14に向か
う。ビーム部分10aの光路には適切な光学系144が配置さ
れ、所望サイズの光点で表面を照射する。他の光学系14
6は方面14によって散乱される光線を集める。前記安定
調整はレーザビーム10から得られるビーム部分10bを使
用して可能となる。ビーム部分10bは、例えば電気光学
効果に基づく標準的な技術を使用する位相変調器148に
よって位相変調され、位相変調安定化ビーム150を提供
する。このビーム150は偏光ビームスプリッタ152によっ
て散乱レーザビーム116と共直線的に混合される。偏光
ビームスプリッタは、入射面において偏光された光をほ
ぼ100％透過すると共に該入射面に直交して偏光された
光をほぼ100％反射する特性を有する。偏光ビームスプ
リッタ152を通過した後、散乱ビーム116は図と同一の面
において偏光されるが、安定化ビームは該面に直交する
面において偏光される。このためこれら２つのビーム
は、偏光ビームスプリッタ等の他の偏光光学系を使用し
て互いに分離することができる。次にこれら２つのビー
ムはマッハ・ツェンダー干渉計構成に送られる。この構
成は第２図に示した共焦点形の共振器120を含む。
発生され、ビームスプリッタ142で２つのビーム部分10
a,10bに分割される。ビーム部分10aは検査表面14に向か
う。ビーム部分10aの光路には適切な光学系144が配置さ
れ、所望サイズの光点で表面を照射する。他の光学系14
6は方面14によって散乱される光線を集める。前記安定
調整はレーザビーム10から得られるビーム部分10bを使
用して可能となる。ビーム部分10bは、例えば電気光学
効果に基づく標準的な技術を使用する位相変調器148に
よって位相変調され、位相変調安定化ビーム150を提供
する。このビーム150は偏光ビームスプリッタ152によっ
て散乱レーザビーム116と共直線的に混合される。偏光
ビームスプリッタは、入射面において偏光された光をほ
ぼ100％透過すると共に該入射面に直交して偏光された
光をほぼ100％反射する特性を有する。偏光ビームスプ
リッタ152を通過した後、散乱ビーム116は図と同一の面
において偏光されるが、安定化ビームは該面に直交する
面において偏光される。このためこれら２つのビーム
は、偏光ビームスプリッタ等の他の偏光光学系を使用し
て互いに分離することができる。次にこれら２つのビー
ムはマッハ・ツェンダー干渉計構成に送られる。この構
成は第２図に示した共焦点形の共振器120を含む。
図示のように、散乱ビーム116および安定化ビーム150
は各々ビームスプリッタ118によって各２つのビーム部
分116a,116bと150a,150bとに分割される。ビーム部分11
6a,150aは共焦点形の共振器120に進入する。共焦点形の
共振器120によって部分的に反射された安定化ビーム151
は、ビームスプリッタ118によって偏光ビームスプリッ
タ154に向かい、この偏光ビームスプリッタ154で反射さ
れて安定化検出器156に向かう。検出器156は、位相変調
器148の周波数において変化する信号を検出する。検出
された信号は共焦点形の共振器20用の安定化ネットワー
ク158に送られる。「応用物理学Ｂ」第31巻（1983）の
第97〜105ページにおいてR.W.P.ドレバー等が説明して
いる方法を使用し、レーザ共振器をその反射側から安定
させる。この方法によれば、変調周波数におけるゼロ位
信号は自動的に追跡されるので、レーザ周波数は空洞共
振周波数に対応する。安定化ネットワーク158が発生す
る補正信号は圧電プッシャ138に印加され、ミラー134,1
36間の距離を変化させるので、空洞共振周波数が変化す
る。あるいは、共焦点形の共振器120の透過側で作用さ
せることも可能である。この場合は点線で示した偏光ビ
ームスプリッタ154′と安定化検出器156′とを使用す
る。透過した安定化ビーム153は基準ビーム122から分離
される。基準ビーム153は基準ビーム122から分離され
る。基準ビーム122は散乱ビーム116を起源として空洞12
0から出射されるものである。安定化ビーム153を基準ビ
ーム122から分離するのは偏光ビームスプリッタ154′で
ある。このスプリッタ154′は安定化ビーム153を反射し
て検出器156′に向かわせる。安定化ネットワーク158
は、前記した安定化方法と同様、変調周波数におけるゼ
ロ位信号を共焦点形の共振器120の反射側から追跡す
る。
は各々ビームスプリッタ118によって各２つのビーム部
分116a,116bと150a,150bとに分割される。ビーム部分11
6a,150aは共焦点形の共振器120に進入する。共焦点形の
共振器120によって部分的に反射された安定化ビーム151
は、ビームスプリッタ118によって偏光ビームスプリッ
タ154に向かい、この偏光ビームスプリッタ154で反射さ
れて安定化検出器156に向かう。検出器156は、位相変調
器148の周波数において変化する信号を検出する。検出
された信号は共焦点形の共振器20用の安定化ネットワー
ク158に送られる。「応用物理学Ｂ」第31巻（1983）の
第97〜105ページにおいてR.W.P.ドレバー等が説明して
いる方法を使用し、レーザ共振器をその反射側から安定
させる。この方法によれば、変調周波数におけるゼロ位
信号は自動的に追跡されるので、レーザ周波数は空洞共
振周波数に対応する。安定化ネットワーク158が発生す
る補正信号は圧電プッシャ138に印加され、ミラー134,1
36間の距離を変化させるので、空洞共振周波数が変化す
る。あるいは、共焦点形の共振器120の透過側で作用さ
せることも可能である。この場合は点線で示した偏光ビ
ームスプリッタ154′と安定化検出器156′とを使用す
る。透過した安定化ビーム153は基準ビーム122から分離
される。基準ビーム153は基準ビーム122から分離され
る。基準ビーム122は散乱ビーム116を起源として空洞12
0から出射されるものである。安定化ビーム153を基準ビ
ーム122から分離するのは偏光ビームスプリッタ154′で
ある。このスプリッタ154′は安定化ビーム153を反射し
て検出器156′に向かわせる。安定化ネットワーク158
は、前記した安定化方法と同様、変調周波数におけるゼ
ロ位信号を共焦点形の共振器120の反射側から追跡す
る。
マッハ・ツェンダー構成の安定化は、ビーム150b,153
の干渉によってビームミキサ126の出力から出射される
安定化ビームの１つを選択することによって実現され
る。この選択には偏光ビームスプリッタ160を使用す
る。偏光ビームスプリッタ160は安定化検出器162に光学
的に結合している。安定化ネットワーク164は、マッハ
・ツェンダー干渉計の応答曲線の第２導関数のゼロに対
応する変調周波数の第２調波のゼロを自動的に追跡す
る。あるいは第３図に示すように、安定化ネットワーク
164は、検出器162の直流電圧出力と、中央縞のゼロ交差
レベルに対応する所定電圧値とを比較することによりエ
ラー信号を発生する。安定化ネットワーク164が発生す
る補正信号は圧電プッシャ140に印加され、ミラー128を
移動させ、マッハ・ツェンダー干渉計構成のアームの一
方の光路長さを変化させる。
の干渉によってビームミキサ126の出力から出射される
安定化ビームの１つを選択することによって実現され
る。この選択には偏光ビームスプリッタ160を使用す
る。偏光ビームスプリッタ160は安定化検出器162に光学
的に結合している。安定化ネットワーク164は、マッハ
・ツェンダー干渉計の応答曲線の第２導関数のゼロに対
応する変調周波数の第２調波のゼロを自動的に追跡す
る。あるいは第３図に示すように、安定化ネットワーク
164は、検出器162の直流電圧出力と、中央縞のゼロ交差
レベルに対応する所定電圧値とを比較することによりエ
ラー信号を発生する。安定化ネットワーク164が発生す
る補正信号は圧電プッシャ140に印加され、ミラー128を
移動させ、マッハ・ツェンダー干渉計構成のアームの一
方の光路長さを変化させる。
第３図に示すように、出力側に２つの検出器132,166
が使用される。これら検出器に続いて作動増幅器168が
設けられる。偏光ビームスプリッタ170は偏光ビームス
プリッタ160と同様、安定化ビーム150b,153が検出器13
2,166に到達するを阻止する。このような構成は、出力
信号を２倍にし、該出力信号に対するレーザ振幅の変動
の効果を減少させ、非干渉ビーム121′の効果を減少さ
せる。
が使用される。これら検出器に続いて作動増幅器168が
設けられる。偏光ビームスプリッタ170は偏光ビームス
プリッタ160と同様、安定化ビーム150b,153が検出器13
2,166に到達するを阻止する。このような構成は、出力
信号を２倍にし、該出力信号に対するレーザ振幅の変動
の効果を減少させ、非干渉ビーム121′の効果を減少さ
せる。
第４図および第５図は本発明の第２実施例を示す。こ
の実施例は共焦点形の共振器220のみを使用し外部の干
渉計構成は使用しない。図示のように、第２図および第
３図に示した実施例における通常のビームスプリッタ11
8を使用する代わりに、偏光ビームスプリッタ218を使用
する。このスプリッタ218に続いて1/4波長板272を設け
る。1/4波長板272は入射偏光に対して45゜の方向を向い
ている。第４図は中心光線216とスキュー光線216′とが
たどる光路を第２図と同様に示す。第４図の実施例は、
共振器220から出射される反射ビーム217′の電磁場が、
実際にはミラー234によって反射され搬送レーザ周波数
と隣接側波帯とを含む電磁場と、空洞から漏洩し側波帯
が除去された基準ビームに対応する電磁場との重ね合わ
せであるという事実に基づいている。この重ね合わせ
は、いかなる方向の入射光線（少なくとも第１近似にお
ける）に対しても発生し、所望の大きな集光領域を提供
する。この重ね合わせは、中心光線216を起源とし空洞
から出射される反射ビーム217にも適用される。共焦点
器220に対して入出射するビームは偏光ビームスプリッ
タ218と1/4波長板272とによって結合される。偏光ビー
ムスプリッタ218を通過したビーム216,216′は、図面と
同一面内において偏光され、45゜方向を向いた1/4波長
板272によって周期的に偏光され、共焦点形の共振器220
に送れられる。反射され1/4波長板272を再び透過した反
射ビーム217,217′は、偏光ビームスプリッタ218によっ
て図面に直交する面において偏光される。実際上は、検
査表面14から受け取るレーザビームが空洞軸に対して良
好に中心が合っている場合、共振器220から漏洩するビ
ーム219′は、検出器232（第５図）において重ね合わせ
ビーム217,217′から分離できない。ビーム217′,219′
は検出器232において非干渉的に加算される（すなわち
光度が単純に加算される）。理論および実験により、こ
れは有害でなく、実際には空洞帯域幅の周波数に対する
周波数応答をさらに平坦化する傾向があることが確認さ
れている。また理論および実験により、レーザ周波数は
共振ピークの傾斜上の1/2共振高さの近辺で安定化する
必要のあることが分かっている。共振における安定化に
より、側波帯は互いに相殺し合う。本実施例では、表面
14で散乱し側波帯を有するビームに対して基準ビームの
位相を変化させることを、側波帯除去のための調整とは
別個に行うことはできない。
の実施例は共焦点形の共振器220のみを使用し外部の干
渉計構成は使用しない。図示のように、第２図および第
３図に示した実施例における通常のビームスプリッタ11
8を使用する代わりに、偏光ビームスプリッタ218を使用
する。このスプリッタ218に続いて1/4波長板272を設け
る。1/4波長板272は入射偏光に対して45゜の方向を向い
ている。第４図は中心光線216とスキュー光線216′とが
たどる光路を第２図と同様に示す。第４図の実施例は、
共振器220から出射される反射ビーム217′の電磁場が、
実際にはミラー234によって反射され搬送レーザ周波数
と隣接側波帯とを含む電磁場と、空洞から漏洩し側波帯
が除去された基準ビームに対応する電磁場との重ね合わ
せであるという事実に基づいている。この重ね合わせ
は、いかなる方向の入射光線（少なくとも第１近似にお
ける）に対しても発生し、所望の大きな集光領域を提供
する。この重ね合わせは、中心光線216を起源とし空洞
から出射される反射ビーム217にも適用される。共焦点
器220に対して入出射するビームは偏光ビームスプリッ
タ218と1/4波長板272とによって結合される。偏光ビー
ムスプリッタ218を通過したビーム216,216′は、図面と
同一面内において偏光され、45゜方向を向いた1/4波長
板272によって周期的に偏光され、共焦点形の共振器220
に送れられる。反射され1/4波長板272を再び透過した反
射ビーム217,217′は、偏光ビームスプリッタ218によっ
て図面に直交する面において偏光される。実際上は、検
査表面14から受け取るレーザビームが空洞軸に対して良
好に中心が合っている場合、共振器220から漏洩するビ
ーム219′は、検出器232（第５図）において重ね合わせ
ビーム217,217′から分離できない。ビーム217′,219′
は検出器232において非干渉的に加算される（すなわち
光度が単純に加算される）。理論および実験により、こ
れは有害でなく、実際には空洞帯域幅の周波数に対する
周波数応答をさらに平坦化する傾向があることが確認さ
れている。また理論および実験により、レーザ周波数は
共振ピークの傾斜上の1/2共振高さの近辺で安定化する
必要のあることが分かっている。共振における安定化に
より、側波帯は互いに相殺し合う。本実施例では、表面
14で散乱し側波帯を有するビームに対して基準ビームの
位相を変化させることを、側波帯除去のための調整とは
別個に行うことはできない。
共振器220をレーザ周波数に安定化させるための適切
な構成を第５図に示す。レーザビーム10はレーザ源12で
発生されビームスプリッタ242によって２つのビーム部
分10a,10bに分割される。ビーム部分10aは検査表面14に
向かう。ビーム部分10aの光路には光学系244が配置さ
れ、所望サイズの光点によって表面14を照射する。別の
光学系246は表面14によって散乱された光線を集めるた
めに設けられる。安定化調整はレーザビーム10から得ら
れるビーム部分10bを使用して実現される。レーザビー
ム部分10bはビームスプリッタ252によって反射され、偏
光ビームスプリッタ218に入射し、安定化ビーム250を提
供する。この安定化ビーム250は共直線的に散乱レーザ
ビーム216と混合される。一方、共焦点空洞220で反射さ
れた重ね合わせビーム217は偏光ビームスプリッタ218で
反射され、ビームスプリッタ252を透過し、信号検出器2
32に至る。この構成は、反射ビーム217を空洞が反射し
た安定化ビームから分離することを可能にする。空洞が
反射した安定化ビームは表面14の方向に送られ検出器23
2の方向には向かわない。第２の1/4波長板274は共焦点
形の共振器の後に配置される。この1/4波長板274の軸は
第１の1/4波長板272の軸に逆平行であるため、これらの
組合せは偏光効果を有さない。このような構成は、散乱
ビーム216を起電として空洞220から出射されるビーム22
2の影響を受けることなく、透過した安定化ビーム253が
偏光ビームスプリッタ254によって安定化検出器256の方
向に反射されることを可能にする。共焦点形の共振器22
0のミラー236は約0.1％の透過率を有する極めて反射率
の高いミラーであり最良の検出条件を提供するものであ
る。安定化は検出器256の直流電圧出力と共振ピーク高
さの約1/2に対応する所定電圧値とを比較することによ
って容易に実行可能である。安定化ネットワーク258が
発生する補正信号は圧電プッシャ238に印加され、ミラ
ー234,236間の距離を変化させ、これによって空洞共振
周波数を変化させる。
な構成を第５図に示す。レーザビーム10はレーザ源12で
発生されビームスプリッタ242によって２つのビーム部
分10a,10bに分割される。ビーム部分10aは検査表面14に
向かう。ビーム部分10aの光路には光学系244が配置さ
れ、所望サイズの光点によって表面14を照射する。別の
光学系246は表面14によって散乱された光線を集めるた
めに設けられる。安定化調整はレーザビーム10から得ら
れるビーム部分10bを使用して実現される。レーザビー
ム部分10bはビームスプリッタ252によって反射され、偏
光ビームスプリッタ218に入射し、安定化ビーム250を提
供する。この安定化ビーム250は共直線的に散乱レーザ
ビーム216と混合される。一方、共焦点空洞220で反射さ
れた重ね合わせビーム217は偏光ビームスプリッタ218で
反射され、ビームスプリッタ252を透過し、信号検出器2
32に至る。この構成は、反射ビーム217を空洞が反射し
た安定化ビームから分離することを可能にする。空洞が
反射した安定化ビームは表面14の方向に送られ検出器23
2の方向には向かわない。第２の1/4波長板274は共焦点
形の共振器の後に配置される。この1/4波長板274の軸は
第１の1/4波長板272の軸に逆平行であるため、これらの
組合せは偏光効果を有さない。このような構成は、散乱
ビーム216を起電として空洞220から出射されるビーム22
2の影響を受けることなく、透過した安定化ビーム253が
偏光ビームスプリッタ254によって安定化検出器256の方
向に反射されることを可能にする。共焦点形の共振器22
0のミラー236は約0.1％の透過率を有する極めて反射率
の高いミラーであり最良の検出条件を提供するものであ
る。安定化は検出器256の直流電圧出力と共振ピーク高
さの約1/2に対応する所定電圧値とを比較することによ
って容易に実行可能である。安定化ネットワーク258が
発生する補正信号は圧電プッシャ238に印加され、ミラ
ー234,236間の距離を変化させ、これによって空洞共振
周波数を変化させる。
本発明に基づいて得た代表的な周波数応答曲線を第６
図に示す。同図においてΔｖは最大の1/2の帯域幅であ
る。点線で示す曲線は、例えば米国特許第4,659,224号
などの従来技術に基づいて得た結果である。図示のよう
に、本発明はΔｖと（≒c/4e−Δｖ）との間で１平坦な
周波数応答を得ることが可能である。ここでｃは光速で
ありｅは空洞間隙およびミラー半径である。例えば第４
図および第５図に示す第２実施例の場合、１メートルの
長さの空洞220においてミラー234,236がほぼ100％およ
び94％（帯域幅≒1.5MHz）の反射を行えば、周波数応答
は1.5MHz〜73.5MHzの間で平坦である。ミラーの塗膜を
非吸収、非散乱とすることは現在の進歩した塗膜技術に
より可能であるが、この場合の計算によれば、応答性お
よびSN比は両実施例共に従来構成に較べて大きくなる。
第２実施例の場合、ミラー236が100％の反射（不透過）
を行うとすれば、信号の大きさは従来構成で得られるピ
ーク値の約４倍であり、光子雑音制限検出におけるZN比
は約２倍である。
図に示す。同図においてΔｖは最大の1/2の帯域幅であ
る。点線で示す曲線は、例えば米国特許第4,659,224号
などの従来技術に基づいて得た結果である。図示のよう
に、本発明はΔｖと（≒c/4e−Δｖ）との間で１平坦な
周波数応答を得ることが可能である。ここでｃは光速で
ありｅは空洞間隙およびミラー半径である。例えば第４
図および第５図に示す第２実施例の場合、１メートルの
長さの空洞220においてミラー234,236がほぼ100％およ
び94％（帯域幅≒1.5MHz）の反射を行えば、周波数応答
は1.5MHz〜73.5MHzの間で平坦である。ミラーの塗膜を
非吸収、非散乱とすることは現在の進歩した塗膜技術に
より可能であるが、この場合の計算によれば、応答性お
よびSN比は両実施例共に従来構成に較べて大きくなる。
第２実施例の場合、ミラー236が100％の反射（不透過）
を行うとすれば、信号の大きさは従来構成で得られるピ
ーク値の約４倍であり、光子雑音制限検出におけるZN比
は約２倍である。
位相共役ミラーは反射において光波を発生し、この光
波の波面は実質的に入射波の波面と一致することが知ら
れている。これら位相共役ミラーは一般に２つのレーザ
ビームによって光学的にポンピングされる非線形光学媒
質によって構成される。このようなミラーの良く知られ
ている特性として、光線を反射してその入射経路を再び
たどらせる性質がある。すなわち入射波の位相共役的な
コピー（反対波面を有する波）を反射する。位相共役は
各種材料における４波混合処理によって実現され、BaTi
O3およびBi12SiO20などの材料において効率的に実現さ
れる。これら材料は光による電荷の移動（光屈折効果）
を示す。一般にこれら光屈折材料における電荷の移動は
十分遅いので、これら材料は超音波周波数における光度
の変動に対して応答できない。これについてはR.A.フイ
ッシャー編集による「光学位相共役」（アカデミックプ
レス、ニューヨーク、1983）を参照できる。
波の波面は実質的に入射波の波面と一致することが知ら
れている。これら位相共役ミラーは一般に２つのレーザ
ビームによって光学的にポンピングされる非線形光学媒
質によって構成される。このようなミラーの良く知られ
ている特性として、光線を反射してその入射経路を再び
たどらせる性質がある。すなわち入射波の位相共役的な
コピー（反対波面を有する波）を反射する。位相共役は
各種材料における４波混合処理によって実現され、BaTi
O3およびBi12SiO20などの材料において効率的に実現さ
れる。これら材料は光による電荷の移動（光屈折効果）
を示す。一般にこれら光屈折材料における電荷の移動は
十分遅いので、これら材料は超音波周波数における光度
の変動に対して応答できない。これについてはR.A.フイ
ッシャー編集による「光学位相共役」（アカデミックプ
レス、ニューヨーク、1983）を参照できる。
実質的に入射波と一致しかつ同一方向に伝播する波を
得るため、光線を位相共役ミラーに２度入射するか、２
つの位相共役ミラーに光線を送る必要がある。このよう
な２つの位相共役ミラーを内蔵する実施例を第７図に概
略的に示す。この実施例は第１図に示した実施例と類似
であるが、相違点は側波帯ストリッパ20およびミラー24
に代えて、ビームスプリッタ325と２つの位相共役ミラ
ー327,329を使用したことである。
得るため、光線を位相共役ミラーに２度入射するか、２
つの位相共役ミラーに光線を送る必要がある。このよう
な２つの位相共役ミラーを内蔵する実施例を第７図に概
略的に示す。この実施例は第１図に示した実施例と類似
であるが、相違点は側波帯ストリッパ20およびミラー24
に代えて、ビームスプリッタ325と２つの位相共役ミラ
ー327,329を使用したことである。
第７図は、散乱レーザビーム316（代表的にその中心
光線を示す）の経路を示す。散乱レーザビーム316はビ
ームスプリッタ318によって２つの部分316a,316bに分割
される。ビーム部分316bは測定ビームとして使用され
る。ビーム部分316aは側波帯ストリッパ320を通過し、
側波帯が分離され、側波帯のない基準ビーム322を出力
する。ビーム部分316aが側波帯ストリッパ320に進入す
ると、ビームスプリッタ325によってさらに２つのビー
ム部分316c,316dに分割される。ビーム部分316cは第１
の位相共役ミラー327に向かい、ビーム部分316dは別の
測定ビームを規定する。反射されたビーム部分317は側
波帯を有さず入射ビーム部分316cの位相共役的なコピー
であり、ビームスプリッタ325によって反射されて第２
の位相共役ミラー329に向かい、そこでさらに位相共役
される。このため反射されたビーム部分322の波面は、
散乱ビーム316の波面と一致すると共に、測定ビーム316
b,316dの波面とも一致する。ビーム部分322は基準ビー
ムとして働き、位相共役ミラー329からビームスプリッ
タ325に向かい、そこで測定ビーム316dと結合される。
次にこれらビーム316d,322はビームミキサ326に向か
い、そこで測定ビーム316bと結合する。この測定ビーム
316bはミラー328によって反射されビームミキサ326に到
達するものである。結合ビーム330は互いに干渉して光
信号を発生し、この光信号は光検出器322によって検出
される。
光線を示す）の経路を示す。散乱レーザビーム316はビ
ームスプリッタ318によって２つの部分316a,316bに分割
される。ビーム部分316bは測定ビームとして使用され
る。ビーム部分316aは側波帯ストリッパ320を通過し、
側波帯が分離され、側波帯のない基準ビーム322を出力
する。ビーム部分316aが側波帯ストリッパ320に進入す
ると、ビームスプリッタ325によってさらに２つのビー
ム部分316c,316dに分割される。ビーム部分316cは第１
の位相共役ミラー327に向かい、ビーム部分316dは別の
測定ビームを規定する。反射されたビーム部分317は側
波帯を有さず入射ビーム部分316cの位相共役的なコピー
であり、ビームスプリッタ325によって反射されて第２
の位相共役ミラー329に向かい、そこでさらに位相共役
される。このため反射されたビーム部分322の波面は、
散乱ビーム316の波面と一致すると共に、測定ビーム316
b,316dの波面とも一致する。ビーム部分322は基準ビー
ムとして働き、位相共役ミラー329からビームスプリッ
タ325に向かい、そこで測定ビーム316dと結合される。
次にこれらビーム316d,322はビームミキサ326に向か
い、そこで測定ビーム316bと結合する。この測定ビーム
316bはミラー328によって反射されビームミキサ326に到
達するものである。結合ビーム330は互いに干渉して光
信号を発生し、この光信号は光検出器322によって検出
される。
ミラー328は圧電プッシャ340に取り付けられており、
マッハ・ツェンダー干渉計構成のアームの一方の光路長
さを変化させる。このためビーム部分316d,316dの干渉
に起因する光振幅は、基準ビーム322の光振幅に対して
適切な位相差を有することができる。最適位相差はπ/2
または３π/2（直角条件）である。あるいは、側波帯ス
トリッパ320の位相を調整して所望の位相差を提供し、
これによってビームスプリッタ318とミラー328とビーム
ミキサ326とを省略することもできる。このような実施
例を第８図に概略的に示す。
マッハ・ツェンダー干渉計構成のアームの一方の光路長
さを変化させる。このためビーム部分316d,316dの干渉
に起因する光振幅は、基準ビーム322の光振幅に対して
適切な位相差を有することができる。最適位相差はπ/2
または３π/2（直角条件）である。あるいは、側波帯ス
トリッパ320の位相を調整して所望の位相差を提供し、
これによってビームスプリッタ318とミラー328とビーム
ミキサ326とを省略することもできる。このような実施
例を第８図に概略的に示す。
第８図に示す実施例は、ビームスプリッタ325と、第
７図の実施例と同一の２つの位相共役ミラー327,329と
を含む。位相共役はミラー327において２つの対向伝播
ビーム331,333によってポンピングすることによって得
られると共に、ミラー329において２つの他の対向伝播
ビーム335,337によってポンピングすることによって得
られる。ビーム331,335は書込ビームを規定し、ビーム3
33,337は読取りビームを規定する。これら対向伝播ビー
ムは、工作物（図示せず）を照射するレーザから得ら
れ、拡張および／または集束されてミラー327,329の位
相共役媒質中において適切な大きさの相互作用を発生す
る。位相共役ミラー327,329は光学材料で形成され、２
つの光ビームの干渉効果に続く屈折率位相回折格子形成
に対して十分に遅い応答を有する。適切な応答時間は1m
s程度であるため、振動や空気の乱れによって発生する
位相変化は位相共役媒質によって追随され得る。このよ
うな応答時間は材料および相互作用するビームの光度を
適切に選択することによって得られる。
７図の実施例と同一の２つの位相共役ミラー327,329と
を含む。位相共役はミラー327において２つの対向伝播
ビーム331,333によってポンピングすることによって得
られると共に、ミラー329において２つの他の対向伝播
ビーム335,337によってポンピングすることによって得
られる。ビーム331,335は書込ビームを規定し、ビーム3
33,337は読取りビームを規定する。これら対向伝播ビー
ムは、工作物（図示せず）を照射するレーザから得ら
れ、拡張および／または集束されてミラー327,329の位
相共役媒質中において適切な大きさの相互作用を発生す
る。位相共役ミラー327,329は光学材料で形成され、２
つの光ビームの干渉効果に続く屈折率位相回折格子形成
に対して十分に遅い応答を有する。適切な応答時間は1m
s程度であるため、振動や空気の乱れによって発生する
位相変化は位相共役媒質によって追随され得る。このよ
うな応答時間は材料および相互作用するビームの光度を
適切に選択することによって得られる。
このシステムの動作は、散乱レーザビームに属する中
心光線316とスキュー光線316′との経路を追跡すること
によって理解できる。これら光線はビームスプリッタ32
5によって透過光線316a,316′ａと反射光線316b,316′
ｂとに分割される。これら光線のすべては側波帯を有す
る。光線316a,316′ａを含む透過ビームは、第１の位相
共役ミラー327において書込みビーム331と干渉し位相回
折格子を発生する。読取りビーム333はこの位相回折格
子によって散乱され反射位相共役ビームとなる。すなわ
ち反射光線317,317′は光線316a,316′ａの経路を再び
たどってビームスプリッタ325に向かい、そこでこれら
光線は第２の位相共役ミラー329の方向に反射される。
ミラー327の光屈折材料は十分に遅いので、光学的側波
帯は位相回折格子を発生できない。さらに、読取りビー
ム333はレーザ周波数のみなので、光線317,317′を含む
反射された位相共役ビームは側波帯を有さない。
心光線316とスキュー光線316′との経路を追跡すること
によって理解できる。これら光線はビームスプリッタ32
5によって透過光線316a,316′ａと反射光線316b,316′
ｂとに分割される。これら光線のすべては側波帯を有す
る。光線316a,316′ａを含む透過ビームは、第１の位相
共役ミラー327において書込みビーム331と干渉し位相回
折格子を発生する。読取りビーム333はこの位相回折格
子によって散乱され反射位相共役ビームとなる。すなわ
ち反射光線317,317′は光線316a,316′ａの経路を再び
たどってビームスプリッタ325に向かい、そこでこれら
光線は第２の位相共役ミラー329の方向に反射される。
ミラー327の光屈折材料は十分に遅いので、光学的側波
帯は位相回折格子を発生できない。さらに、読取りビー
ム333はレーザ周波数のみなので、光線317,317′を含む
反射された位相共役ビームは側波帯を有さない。
光線317,317′を含み側波帯を有さない反射ビーム
は、第２の位相共役ミラー329において書込みビーム335
と干渉し、他の位相回折格子を発生する。読取りビーム
337はレーザ周波数に対して周波数偏移される。RF周波
数（例えば40MHz）における周波数偏移はビームを音響
光学セルまたはブラッグセルを通すことによって簡単に
得ることができる。このため読取りビーム337は、周波
数偏移ビームをミラー329から反射させる。このビーム
は入射ビームの位相共役コピーである。すなわち、反射
光線322,322′は光線317,317′の経路を再びたどってビ
ームスプリッタ325に向かう。このビームスプリッタ325
は、光線316b,316′ｂに重なり合った光線322,322′を
透過させるので、両光線間に干渉が生ずる。従って、ビ
ームスプリッタ325によって直接反射され側波帯を含み
光線316b,316′ｂを含むビームと、２つの位相共役ミラ
ーによって発生され光線322,322′を含む側波帯の無い
周波数偏移基準ビームとの間に干渉が起こる。これら両
ビームは互いに実質的に一致する波面を有する。このた
め、この構成によっても大きな集光領域が得られる。結
合された光線330,330′は光検出器332で受信される。光
検出器332は、表面過渡挙動に比例して位相変調される
オフセット周波数（例えば40MHz）において電気信号を
提供する。例えば1987年１月６日に発行された米国特許
第4,633,715号「超音波変位を測定するためのレーザヘ
テロダイン干渉計方法およびシステム」に開示されてい
るシステムを使用する電子復調によって、前記表面過渡
挙動に比例する信号が得られる。
は、第２の位相共役ミラー329において書込みビーム335
と干渉し、他の位相回折格子を発生する。読取りビーム
337はレーザ周波数に対して周波数偏移される。RF周波
数（例えば40MHz）における周波数偏移はビームを音響
光学セルまたはブラッグセルを通すことによって簡単に
得ることができる。このため読取りビーム337は、周波
数偏移ビームをミラー329から反射させる。このビーム
は入射ビームの位相共役コピーである。すなわち、反射
光線322,322′は光線317,317′の経路を再びたどってビ
ームスプリッタ325に向かう。このビームスプリッタ325
は、光線316b,316′ｂに重なり合った光線322,322′を
透過させるので、両光線間に干渉が生ずる。従って、ビ
ームスプリッタ325によって直接反射され側波帯を含み
光線316b,316′ｂを含むビームと、２つの位相共役ミラ
ーによって発生され光線322,322′を含む側波帯の無い
周波数偏移基準ビームとの間に干渉が起こる。これら両
ビームは互いに実質的に一致する波面を有する。このた
め、この構成によっても大きな集光領域が得られる。結
合された光線330,330′は光検出器332で受信される。光
検出器332は、表面過渡挙動に比例して位相変調される
オフセット周波数（例えば40MHz）において電気信号を
提供する。例えば1987年１月６日に発行された米国特許
第4,633,715号「超音波変位を測定するためのレーザヘ
テロダイン干渉計方法およびシステム」に開示されてい
るシステムを使用する電子復調によって、前記表面過渡
挙動に比例する信号が得られる。
位相共役ミラー329によって反射されるビームは、ビ
ームスプリッタ325によっても反射され、位相共役ミラ
ー327に向かう。このビームは高周波数において周波数
偏移されているので、このビームはビーム331,333との
干渉によって位相回折格子を発生しない。この理由は光
学材料の応答が遅いからである。従ってこの場合、２つ
の位相共役ミラー327,329とビームスプリッタ325とは共
振器を形成しない。
ームスプリッタ325によっても反射され、位相共役ミラ
ー327に向かう。このビームは高周波数において周波数
偏移されているので、このビームはビーム331,333との
干渉によって位相回折格子を発生しない。この理由は光
学材料の応答が遅いからである。従ってこの場合、２つ
の位相共役ミラー327,329とビームスプリッタ325とは共
振器を形成しない。
このような構成において検出帯域幅は、低周波数側に
おいて、位相共役材料の応答時間と電子復調回路の低周
波数カットオフによって制限される。実際には100Hz〜1
0KHzの下限を得ることができる。高周波数側においては
オフセット周波数によって制限される。このオフセット
周波数は実際には現在市販されているブラッグセルによ
って1GHzまで極めて高くすることができる。従ってこの
構成は大きな集光領域を提供し、1MHzをかなり下回る周
波数までの広い周波数帯域幅を提供するので、従来考え
られてきた構成よりもはるかに改良された構成である。
おいて、位相共役材料の応答時間と電子復調回路の低周
波数カットオフによって制限される。実際には100Hz〜1
0KHzの下限を得ることができる。高周波数側においては
オフセット周波数によって制限される。このオフセット
周波数は実際には現在市販されているブラッグセルによ
って1GHzまで極めて高くすることができる。従ってこの
構成は大きな集光領域を提供し、1MHzをかなり下回る周
波数までの広い周波数帯域幅を提供するので、従来考え
られてきた構成よりもはるかに改良された構成である。
本実施例の変更例として、読取りビーム337から周波
数オフセットを除去する方法があるが、その位相を制御
するにあたっては、例えば圧電プッシャに取り付けたミ
ラーからそのビームを反射させ、２つの位相共役ミラー
とビームスプリッタとからなる構成が該ビームスプリッ
タから直接反射されるビームに直角で側波帯の無いビー
ムを与えるようにしている。あるいは、ビーム331′,33
3,335の位相を制御することもできる。この位相安定化
を実施する適切な方法は、散乱ビームとレーザから直接
に得られる安定化ビームとを混合し、この混合ビームを
ビームスプリッタと位相共役ミラーとの組合せに送るこ
とである。前記安定化ビームは出力側の安定化検出器に
よって受信され、例えば偏光ビームスプリッタ等によっ
て散乱ビームから弁別される。この安定化ビームを利用
する安定化構成としては、超音波検出用２波ホモダイン
干渉計に使用される既知の安定化構成がある。この構成
は1986年９月のIEEE超音波、強誘電体および周波数制御
会報、第UFFC−33巻、第485〜449ページの「超音波の光
学的検出」に説明されている。最も簡単な構成は、読取
りビーム337を反射する圧電プッシャを振動させ、直角
位相に対応する（すなわち縞のゼロ交差に対応する）安
定化検出器出力電圧を求めることである。この電圧を電
子安定化ネットワークの基準電圧として利用し、前記圧
電プッシャの位置を制御する。これは第３図においてマ
ッハ・ツェンダー構成に対して使用した安定化構成と類
似である。
数オフセットを除去する方法があるが、その位相を制御
するにあたっては、例えば圧電プッシャに取り付けたミ
ラーからそのビームを反射させ、２つの位相共役ミラー
とビームスプリッタとからなる構成が該ビームスプリッ
タから直接反射されるビームに直角で側波帯の無いビー
ムを与えるようにしている。あるいは、ビーム331′,33
3,335の位相を制御することもできる。この位相安定化
を実施する適切な方法は、散乱ビームとレーザから直接
に得られる安定化ビームとを混合し、この混合ビームを
ビームスプリッタと位相共役ミラーとの組合せに送るこ
とである。前記安定化ビームは出力側の安定化検出器に
よって受信され、例えば偏光ビームスプリッタ等によっ
て散乱ビームから弁別される。この安定化ビームを利用
する安定化構成としては、超音波検出用２波ホモダイン
干渉計に使用される既知の安定化構成がある。この構成
は1986年９月のIEEE超音波、強誘電体および周波数制御
会報、第UFFC−33巻、第485〜449ページの「超音波の光
学的検出」に説明されている。最も簡単な構成は、読取
りビーム337を反射する圧電プッシャを振動させ、直角
位相に対応する（すなわち縞のゼロ交差に対応する）安
定化検出器出力電圧を求めることである。この電圧を電
子安定化ネットワークの基準電圧として利用し、前記圧
電プッシャの位置を制御する。これは第３図においてマ
ッハ・ツェンダー構成に対して使用した安定化構成と類
似である。
直角条件であるため、２つの位相共役ミラー327,329
間の共振は避けられる。またこの場合、検出帯域幅は信
号検出器周波数カットオフによって高い周波数の方向に
制限されるだけである。
間の共振は避けられる。またこの場合、検出帯域幅は信
号検出器周波数カットオフによって高い周波数の方向に
制限されるだけである。
以上説明してきた方法およびシステムは固定表面の過
渡運動を検出するために主として使用されることを前提
としているが、これらはレーザ源と受信体との間の気体
経路または空気経路に作用する濃度変動や圧力変動を検
出するためにも使用できる。前記した光学的検出技術は
特にこれら変動の高周波成分を検出するために有用であ
る。
渡運動を検出するために主として使用されることを前提
としているが、これらはレーザ源と受信体との間の気体
経路または空気経路に作用する濃度変動や圧力変動を検
出するためにも使用できる。前記した光学的検出技術は
特にこれら変動の高周波成分を検出するために有用であ
る。
第１図は、本発明の原理を説明する概略図、 第２図は、マッハ・ツェンダー型２波干渉計に光学的に
結合した共焦点形の共振器を透過モードにおいて側波帯
ストリッパとして使用する構成を示す概略図、 第３図は、第２図に示した干渉計構成を内蔵する本発明
の第１実施例を示す概略図、 第４図は、外部干渉計構成を有さない共焦点形の共振器
を反射モードにおいて側波帯ストリッパとして使用する
構成を示す概略図、 第５図は、第４図に示した光学構成を内蔵する本発明の
第２実施例を示す概略図、 第６図は、本発明により代表的に得られる周波数応答を
示すグラフ、 第７図は、２つの位相共役ミラーとマッハ・ツェンダー
干渉計構成とを内蔵する本発明の第３実施例を示す概略
図、および 第８図は、１つのビームスプリッタと２つの位相共役ミ
ラーとを使用し、マッハ・ツェンダー干渉計構成を使用
しない構成を示す概略図である。 10……レーザビーム、12……レーザ源、 14……材料表面、 16……散乱レーザビーム、 18……ビームスプリッタ、 20……側波帯ストリッパ、 22……基準ビーム、24,28……ミラー、 26……ビームミキサ、30……結合ビーム、 32……光電検出器。
結合した共焦点形の共振器を透過モードにおいて側波帯
ストリッパとして使用する構成を示す概略図、 第３図は、第２図に示した干渉計構成を内蔵する本発明
の第１実施例を示す概略図、 第４図は、外部干渉計構成を有さない共焦点形の共振器
を反射モードにおいて側波帯ストリッパとして使用する
構成を示す概略図、 第５図は、第４図に示した光学構成を内蔵する本発明の
第２実施例を示す概略図、 第６図は、本発明により代表的に得られる周波数応答を
示すグラフ、 第７図は、２つの位相共役ミラーとマッハ・ツェンダー
干渉計構成とを内蔵する本発明の第３実施例を示す概略
図、および 第８図は、１つのビームスプリッタと２つの位相共役ミ
ラーとを使用し、マッハ・ツェンダー干渉計構成を使用
しない構成を示す概略図である。 10……レーザビーム、12……レーザ源、 14……材料表面、 16……散乱レーザビーム、 18……ビームスプリッタ、 20……側波帯ストリッパ、 22……基準ビーム、24,28……ミラー、 26……ビームミキサ、30……結合ビーム、 32……光電検出器。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G01H 9/00 G01P 3/36 G01B 11/00
Claims (32)
- 【請求項１】（ａ）所定周波数を有するレーザビームを
対象表面に送って散乱させることにより、前記所定周波
数に中心ピークがあり該中心ピークの両側に側波帯があ
る光学的スペクトルを有し光学的波面を規定する散乱レ
ーザビームを発生させ、 （ｂ）前記表面で散乱したレーザビームに対し、前記散
乱レーザビームから導出され前記散乱ビームの波面と実
質的に整合する光学的波面を有すると共に、前記所定周
波数に単一のピークがあり側波帯が無い光学的スペクト
ルを有する基準ビームを干渉させることにより光信号を
得、 （ｃ）前記光信号を検出し前記表面における過渡運動を
表示する電気信号に変換する各段階を具備する、散乱表
面から過渡運動を光学的に検出する方法。 - 【請求項２】前記段階（ｂ）において、前記散乱レーザ
ビームを分割して各々が前記中心ピークと前記側波帯と
を含んだ光学的スペクトルを有する第１および第２の散
乱ビーム部分を形成し、前記第２の散乱ビーム部分から
側波帯を取り除くことにより前記基準ビームを規定する
側波帯の無いビーム部分を得、前記第１の散乱ビーム部
分と前記基準ビームとを結合して両者を干渉させること
により前記光信号を得る各段階を具備する、請求項１に
記載の方法。 - 【請求項３】前記第２の散乱ビーム部分から側波帯を取
り除くため、反射側と透過側とを有する光共振器に前記
第２の散乱ビーム部分を通過させ、前記所定周波数に単
一のピークがあり側波帯が無い光学的スペクトルを有す
るビーム部分を前記透過側から得る、請求項２に記載の
方法。 - 【請求項４】前記光共振器はマッハ・ツェンダー構成の
２波干渉計内に光学的に一体化した共焦点形の共振器で
あり、該干渉計構成が２つの光学的アームを有し、ビー
ム分割手段とビーム混合手段とを含み、前記ビーム混合
手段からの重ね合わせ光線を提供する、請求項３に記載
の方法。 - 【請求項５】前記散乱レーザビームがビームスプリッタ
によって前記第１および第２の散乱ビーム部分に分割さ
れ、前記第１の散乱ビーム部分が第１のミラーによって
ビームミキサ方向に反射され、前記第２の散乱ビーム部
分が前記共焦点形の共振器を通過し、前記共焦点形の共
振器の透過側から出射されるビーム部分が第２のミラー
によって前記ビームミキサ方向に反射されると共に該ビ
ームミキサにおいて前記第１のミラーによって反射され
た前記第１の散乱ビーム部分と結合される、請求項４に
記載の方法。 - 【請求項６】前記共焦点形の共振器が前記所定周波数に
調整される空洞共振周波数を有し、前記マッハ・ツェン
ダー構成が中央縞のゼロ交差レベルに調整される光路差
を有する、請求項４に記載の方法。 - 【請求項７】前記共焦点形の共振器の空洞共振周波数及
び前記マッハ・ツェンダー構成の光路差は位相変調され
た安定化ビームにより調整され、前記安定化ビームは前
記レーザビームから導かれ、かつ前記マッハ・ツェンダ
ー構成に入力される散乱レーザビームと混合される、請
求項６に記載の方法。 - 【請求項８】前記段階（ｂ）は前記散乱レーザビームを
光共振器に送ることにより実施され、前記光共振器は前
記散乱レーザが進入する反射側とその反対側に透過側を
有し、前記光共振器に進入した前記散乱ビームは前記中
心ピークと前記側波帯を持つ反射ピーク部分のスペクト
ラムに分割され、前記透過ビームは前記基準ビームを規
定する側波帯の無いビーム部分として前記光共振器の反
射側から出射され、前記基準ビームは前記反射ビーム部
分と結合して互いに干渉することにより前記光信号を提
供する、請求項１に記載の方法。 - 【請求項９】前記光共振器が共焦点形の共振器である、
請求項８に記載の方法。 - 【請求項１０】前記共焦点形の共振器が２つの傾斜を有
する空洞共振透過ピークを呈すると共に、同一の半径を
有し両半径に等しい距離だけ互いに間隔を置いた第１お
よび第２の可動凹面ミラーを備え、前記第１および第２
のミラーを相対的に移動させ両ミラー間の間隔を変化さ
せることによって前記空洞共振透過ピークの周波数位置
を変化させる、請求項９に記載の方法。 - 【請求項１１】前記空洞共振透過ピークを前記所定周波
数に対して調整することにより前記所定周波数を前記空
洞共振透過ピークの一方の傾斜に位置させる、請求項10
に記載の方法。 - 【請求項１２】前記第２の散乱ビーム部分から側波帯を
取り除くため、該第２の散乱ビーム部分を第１の位相共
役ミラーに送りそこで反射させ、反射されたビーム部分
を第２の位相共役ミラーに送りそこで反射させ、これに
よって前記基準ビームを規定する側波帯の無い反射ビー
ム部分を提供し、前記第１および第２の位相共役ミラー
が光干渉に続く屈折率位相回折格子の形成の遅い材料か
らなる、請求項２に記載の方法。 - 【請求項１３】前記第２の位相共役ミラーが前記レーザ
ビームから得られる書込みビームおよび読取りビームに
よってポンピングされ、前記読取りビームが前記所定周
波数に対してオフセット周波数だけ周波数偏移され、こ
れによって前記電気信号を前記オフセット周波数におい
て変化させると共に該電気信号に前記過渡運動を代表す
る位相変調を有させる、請求項12に記載の方法。 - 【請求項１４】前記第１および第２の位相共役ミラーの
各々を前記レーザビームから得られる書込みビームと読
取ビームとによってポンピングすることにより前記読取
および書込みビームの一方の位相を制御し、これによっ
て前記第１の散乱ビーム部分に対して直角であり前記基
準ビームを規定するビームを提供する、請求項12に記載
の方法。 - 【請求項１５】所定周波数を有するレーザビームを発生
しそれを対象表面に送って散乱させることにより、前記
所定周波数に中心ピークがあり該中心ピークの両側に側
波帯がある光学的スペクトルを有し光学的波面を規定す
る散乱レーザビームを発生させるレーザ発生源手段と、 前記散乱レーザビームから、該散乱ビームの波面と実質
的に一致する光学的波面を有すると共に前記所定周波数
に単一のピークがあり側波帯が無い光学的スペクトルを
有する基準ビームを提供し、前記散乱レーザビームと前
記基準ビームとを干渉させて光信号を提供する光学的組
立体手段と、 前記光信号を検出し変換することにより前記表面におけ
る過渡運動を代表する電気信号を提供する検出器手段と
を具備する、散乱表面から過渡運動を光学的に検出する
装置。 - 【請求項１６】前記光学的組立体が、前記散乱レーザビ
ームを分割して各々が前記中心ピークと前記側波帯とを
含んだ光学的スペクトルを有する第１および第２の散乱
ビーム部分を形成するビーム分割手段と、前記第２の散
乱ビーム部分から側波帯を取り除くことにより前記基準
ビームを規定する側波帯の無いビーム部分を提供する側
波帯除去手段と、前記第１の散乱ビーム部分と前記基準
ビームとを結合して両者を干渉させることにより前記光
信号を提供するビーム混合手段とを備える、請求項15に
記載の装置。 - 【請求項１７】前記側波帯除去手段が反射側と透過側と
を有する光共振器を備える、請求項16に記載の装置。 - 【請求項１８】前記光共振器が空洞共振周波数を有する
共焦点形の共振器であり、該共焦点形の共振器がマッハ
・ツェンダー構成の２波干渉計内に光学的に一体化さ
れ、該干渉計構成が２つの光学的アームと前記ビーム分
割手段と前記ビーム混合手段とを含み、該ビーム分割手
段と該ビーム混合手段とが前記ビーム混合手段からの重
ね合わせ光線を提供するように配置された、請求項17に
記載の装置。 - 【請求項１９】前記干渉計が、前記第１の散乱ビーム部
分を前記ビーム混合手段方向に反射する第１のミラー
と、前記共焦点形の共振器の透過側から出射する基準ビ
ームを前記ビーム混合手段方向に反射する第２のミラー
とをさらに備える、請求項18に記載の装置。 - 【請求項２０】前記第１および第２のミラーが相対的に
移動可能であり、この移動によって前記干渉計アームの
光路長さを変化させることができる、請求項19に記載の
装置。 - 【請求項２１】前記共焦点形の共振器が同一の半径を有
し両半径に等しい距離だけ互いに間隔を置いた一対の凹
面ミラーを備え、該ミラーが相対的に移動可能であり、
この移動によって両ミラー間の間隔を変化させることに
より前記空洞共振周波数を変化させることができる、請
求項18に記載の装置。 - 【請求項２２】前記共焦点形の共振器の空洞共振周波数
を前記所定周波数に調整する第１の安定化調整手段と、
前記マッハ・ツェンダー構成を中央縞のゼロ交差レベル
に調整する第２の安定化調整手段とをさらに含む、請求
項21に記載の装置。 - 【請求項２３】前記光学的組立体手段が前記散乱レーザ
ビームを受ける反射側とその反対側の透過膜とを有する
光共振器を備える、請求項15に記載の装置。 - 【請求項２４】前記光共振器が共焦点形の共振器であ
る、請求項23に記載の装置。 - 【請求項２５】前記共焦点形の共振器が同一の半径を有
し両半径に等しい距離だけ互いに間隔を置いた第１およ
び第２の凹面ミラーを備え、前記第１のミラーがビーム
分割・混合手段を画成して前記散乱レーザビームを分割
して各々が前記中心ピークと前記側波帯とを含んだ光学
的スペクトルを有する反射ビーム部分と透過ビーム部分
とを形成し、前記第１のミラーを透過して前記共焦点形
の共振器に進入したビーム部分が、前記共焦点形の共振
器内で多重反射し、かつ前記基準ビームを規定する側波
帯の無いビーム部分として前記共焦点形の共振器の反射
側から出射し、前記反射ビーム部分と前記基準ビームと
を結合して両者を干渉させることにより前記光信号を提
供する、請求項24に記載の装置。 - 【請求項２６】前記共焦点形の共振器と光学的に結合さ
れ、前記散乱レーザビームを前記共焦点形の共振器方向
に透過すると共に、前記共焦点形の共振器の反射側から
出射される組合せビームを前記検出器手段方向に反射す
るための偏光ビームスプリッタをさらに備える、請求項
25に記載の装置。 - 【請求項２７】前記共焦点形の共振器が２つの傾斜を有
する空洞共振透過ピークを示し、前記第１および第２の
ミラーが相対的に移動可能であり、この移動によって両
ミラー間の間隔を変化させることにより前記空洞共振透
過ピークの周波数位置を変化させる、請求項25に記載の
装置。 - 【請求項２８】前記空洞共振透過ピークを前記所定周波
数に対して調整することにより前記所定周波数を前記空
洞共振透過ピークの一方の傾斜に位置させる安定化調整
手段をさらに備える、請求項27に記載の装置。 - 【請求項２９】前記側波帯除去手段が部分透過ミラーと
光干渉に続く屈折率位相回折格子の形成が遅い材料から
なる第１および第２の位相共役ミラーとを備え、前記第
１の位相共役ミラーが前記第２の散乱ビーム部分を前記
部分透過ミラー方向に反射し次に該部分透過ミラーが当
該ビーム部分を前記第２の位相共役ミラー方向に反射す
ることにより前記基準ビームを規定する側波帯の無い反
射ビーム部分を提供するように前記部分透過ミラーと前
記第１および第２の位相共役ミラーとを相対的に配置し
た、請求項16に記載の装置。 - 【請求項３０】前記光学的組立体手段がビームスプリッ
タと光干渉に続く屈折率位相回折格子の形成が遅い材料
からなる第１および第２の位相共役ミラーとを備え、該
ビームスプリッタと該第１および第２の位相共役ミラー
とを相対的に配置することにより、前記ビームスプリッ
タが前記散乱レーザビームを分割して各々が前記中心ピ
ークと前記側波帯とを含んだ光学的スペクトルを有する
第１および第２の散乱ビーム部分を形成し、前記第１の
位相共役ミラーが前記第２の散乱ビーム部分を前記ビー
ムスプリッタ方向に反射し返し、次に該ビームスプリッ
タが当該ビーム部分を前記第２の位相共役ミラー方向に
反射し、これによって前記基準ビームを規定する側波帯
の無い反射ビーム部分を提供し、前記ビームスプリッタ
を透過した前記基準ビームと前記第１の散乱ビーム部分
とを結合し両者を干渉させて前記光信号を提供するよう
にした、請求項15に記載の装置。 - 【請求項３１】前記第２の位相共役ミラーが前記レーザ
ビームから得られる書込みビームおよび読取りビームに
よってポンピングされ、前記装置が周波数偏移手段をさ
らに含み、該周波数偏移手段が前記読取りビームを前記
所定周波数に対してオフセット周波数だけ周波数偏移さ
せ、これによって前記電気信号を前記オフセット周波数
において変化させ該電気信号に前記過渡運動を代表する
位相変調を有させる、請求項29または30に記載の装置。 - 【請求項３２】前記第１および第２の位相共役ミラーの
各々が前記レーザビームから得られる書込みビームと読
取りビームとによってポンピングされ、前記装置が前記
読取りおよび書込みビームの一方の位相を制御する手段
をさらに含み、これによって前記第１の散乱ビーム部分
に対して直角であり前記基準ビームを規定するビームを
提供する、請求項30に記載の装置。
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