JP2853497B2 - 光学的造形装置 - Google Patents
光学的造形装置Info
- Publication number
- JP2853497B2 JP2853497B2 JP5003203A JP320393A JP2853497B2 JP 2853497 B2 JP2853497 B2 JP 2853497B2 JP 5003203 A JP5003203 A JP 5003203A JP 320393 A JP320393 A JP 320393A JP 2853497 B2 JP2853497 B2 JP 2853497B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scanning
- information
- contour
- unit
- scan
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/30—Auxiliary operations or equipment
- B29C64/386—Data acquisition or data processing for additive manufacturing
- B29C64/393—Data acquisition or data processing for additive manufacturing for controlling or regulating additive manufacturing processes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/10—Processes of additive manufacturing
- B29C64/106—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
- B29C64/124—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified
- B29C64/129—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask
- B29C64/135—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask the energy source being concentrated, e.g. scanning lasers or focused light sources
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
- B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
- B33Y10/00—Processes of additive manufacturing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
- B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
- B33Y50/00—Data acquisition or data processing for additive manufacturing
- B33Y50/02—Data acquisition or data processing for additive manufacturing for controlling or regulating additive manufacturing processes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
脂などの光硬化性樹脂に光線を走査して照射することに
より所望の樹脂モデルを造形する光学的造形方法と光学
的造形装置に関し、特に、輪郭線で囲まれた閉じ領域を
高精度で造形する光学的造形方法と光学的造形装置に関
する。
槽の表面に対して、紫外線レーザをON/OFFしなが
ら走査し、これにより硬化した走査硬化層を順次積み上
げることにより、所望の樹脂モデルを造形することが試
みられている。かかる樹脂モデルは、例えば製品のマス
ターモデルとして利用されることから、造形するにあた
っては造形精度、層間接着性、および造形効率などを高
める必要がある。
ら紫外線を発生させ、ガルバノミラーおよびシャッター
などを有する光学系によって紫外線レーザのON/OF
Fと光線の走査方向を制御しながら、紫外線硬化性樹脂
液を収容した槽の表面に対して照射する。槽内には紫外
線レーザを遮断するとともに昇降可能なエレベータが設
けられており、樹脂液表面とエレベータとの間に介在す
る樹脂液が紫外線レーザによって硬化するようになって
いる。
レベータを上昇させておき、樹脂液表面とエレベータと
の間に介在する樹脂液を紫外線レーザによって硬化させ
て第1層目の走査硬化層を形成したのち、エレベータを
1層分だけ下降させて、第1層目と同様の手順で第2層
目の走査硬化層を第1層目の走査硬化層の上に形成す
る。以下同様にして、順次走査硬化層を積層(以下、堆
積ともいう)し、最終層目の走査硬化層の形成が終了す
るとエレベータを上昇させて、樹脂液からモデルを取り
出したのち、さらに最終的な硬化を行うために、図10
に示す如く、紫外線ランプ50などを用いてモデルW全
体に対して紫外線を長時間照射する。
ベータの同一移動ピッチ内における平面を「等高断面」
と称するが、この一つの等高断面には、目的とするモデ
ルWの立体形状に応じて、樹脂液を硬化させる領域と樹
脂液を硬化させない領域とが存在することになる。
紫外線ビームは、光学系によって走査方向に沿って走査
され、このとき、樹脂液を硬化させる領域では紫外線レ
ーザがON(実際にはシャッターAOMが開)、樹脂液
を硬化させない領域では紫外線レーザがOFF(実際に
はシャッターAOMが閉)となる。一つの走査線の走査
が終了すると、光学系を制御して走査ピッチ分だけ位相
させ、再び走査方向に沿って同様の走査が行われる。
ると、樹脂液によって光エネルギーが徐々に減少するこ
とから、微視的には、先端鋭利な照射領域(すなわち、
走査硬化層)を形成することになる。
形成されるが、走査硬化層を順次積層するにあたって
は、上層の走査硬化層を形成する際に、紫外線ビームを
下層にも照射されるような光線強度、すなわち、その等
高断面における硬化深さを積層厚より大きく制御し、各
層間の接着性を高めるようにしている。
断面における走査硬化層の形状が図11に示すような輪
郭線で囲まれた閉じ領域である場合、従来の造形方法で
は、まず図11に示す輪郭線OLを認識したのちに、図
12に示すように、点P0 を始点として輪郭線のある一
つの縁に沿って平行に走査し、この走査線の終点P1 ま
で走査すると、次に光学系を制御して走査ピッチ分だけ
位相させ、再び始点P2 から次の走査線に沿って同様の
走査を行なうようにしていた。
されるが、かかるラスター走査を利用した従来の光学的
造形方法では、紫外線ビームは微視的にはスポット状の
光線であるため、走査線の始点と終点における硬化領
域、すなわち、図12に示す縁OL2 ,OL3 において
は、輪郭線に沿った形状とならず、高精度のモデルを造
形する場合には問題があった。
場合には、紫外線ビームのスポット径を小さくして、さ
らに、走査ピッチを小さくする必要が生じ、造形時間が
長くなったり、あるいは始点と終点における位置制御が
より厳しくなるという問題があった。
鑑みてなされたものであり、輪郭線で囲まれた閉じ領域
を高精度で造形することを目的とする。
に、本発明の光学的造形装置は、光硬化性樹脂液を入れ
た光硬化性樹脂液槽と、前記光硬化性樹脂液を硬化させ
るのに適当な波長を含む光線を発生し、該光線を走査さ
せる光走査手段と、前記光硬化性樹脂液の表面に光線が
照射されたことにより生成する硬化樹脂を昇降させる昇
降手段と、前記光走査手段と前記昇降手段とを制御する
制御手段と、を備えた光学的造形装置において、前記制
御手段は、立体造形する少なくとも一部の立体造形情報
を記憶する立体造形情報記憶部と、前記昇降手段を動作
させない状態で前記光線を走査照射して形成される走査
硬化層に関する情報を、前記立体造形情報記憶部に記憶
されている立体情報の中から抽出する走査硬化層情報抽
出部と、前記走査硬化層情報抽出部より得られる走査硬
化層情報に基づいて走査硬化層の輪郭線位置を検出する
輪郭線検出部と、前記輪郭線検出部より得られる輪郭線
位置に対して、予め決められた距離だけ内側の位置を軌
跡情報として演算する輪郭硬化情報抽出部と 、前記輪郭
線検出部より得られる輪郭線位置に対して、予め決めら
れた距離だけ内側の閉じた領域を抽出する内域情報抽出
部と、を有し、前記走査硬化層の光線走査を、輪郭硬化
情報抽出部の抽出結果に基づいた走査と、前記内域情報
抽出部の抽出結果に基づいた走査とに分けて行うことを
特徴としている。
抽出部の抽出結果に基づいた走査をベクトル走査とし、
前記内域情報抽出部の抽出結果に基づいた走査をラスタ
ー走査とすることが好ましい。
化させるにあたり、輪郭線情報の抽出結果に基づいた走
査と、輪郭線の内域情報の抽出結果に基づいた走査とに
分けて行うことを特徴としており、特に、輪郭線に沿っ
たベクトル走査を行うとともに、輪郭線の内域はラスタ
ー走査としている。これらベクトル走査とラスター走査
との時間的先後は何れでも良いが、ベクトル走査にあた
っては、輪郭線から予め決められた距離(r1 )だけ内
側で走査し、またラスター走査にあたっても、輪郭線の
予め決められた距離(r2 )だけ内側で走査することが
好ましいといえる。
液を硬化させるのに適当な波長を含む光線を発生し、光
硬化性樹脂液槽に収容された光硬化性樹脂液に対して光
線を走査させる。一つの等高断面における走査を終了す
ると、光線が照射されたことにより生成する硬化樹脂を
昇降手段によって昇降させ、このような手順を繰り返す
ことにより、順次走査硬化層を積層する。
くとも一部の立体造形情報を記憶している立体造形情報
記憶部から、昇降手段を動作させない状態で光線を走査
照射して形成される走査硬化層に関する情報を走査硬化
層情報抽出部によって抽出する。
られる走査硬化層情報に基づいて、輪郭線検出部によっ
て、走査硬化層の輪郭線位置を検出したのち、この輪郭
線検出部より得られる輪郭線位置に対して、予め決めら
れた距離(r1 )だけ内側の位置を軌跡情報として輪郭
硬化情報抽出部にて演算する。この軌跡情報は光走査手
段に出力され、上述した輪郭線に沿ったベクトル走査が
実行されることになるので、光線のスポット径や走査ピ
ッチを小さくしなくとも輪郭線近傍の造形精度がきわめ
て向上する。
より得られる輪郭線位置に対して、予め決められた距離
(r2 )だけ内側の閉じた領域に関する情報を抽出す
る。そして、この情報は光走査手段に出力され、その結
果、輪郭線で囲まれた閉じ領域内のラスター走査が実行
されることになる。
輪郭線に沿ったベクトル走査による走査硬化層とラスタ
ー走査による走査硬化層との重なり領域が小さくなるた
め、光硬化性樹脂液が硬化する際の収縮率が均一とな
り、得られるモデルの変形を抑制することが可能とな
る。
明する。まず最初に、図1を参照しながら本発明の一実
施例に係る光学的造形装置の構成について説明する。図
1は本発明の光学的造形装置の基本構成を示すブロック
図である。
脂液槽2を有しており、この槽内に収容される光硬化性
樹脂液1は光を照射することにより付加重合を生じて硬
化する材料である。例えば、スチレン、メタクリル酸メ
チル、酢酸ビニルなどのビニル単量体は、光照射によっ
て、光重合の開始剤が存在しなくとも、あるいは紫外線
を吸収する増感剤や色素の存在下で、重合を起す。
液1の種類は特に限定されず、未硬化では液体状であっ
て硬化することにより固化する樹脂であればよい。ま
た、照射する光LBについても特に限定されず、紫外線
の他にも、用いられる光硬化性樹脂1に応じた光を選択
すればよい。
るとともに硬化させた樹脂を載置する台座を有するエレ
ベータ4aが設けられており、このエレベータ4aは、
昇降器4bにより光硬化性樹脂液槽2内を昇降可能とな
っている。昇降器4bは、機械的にエレベータ4aを昇
降させる機能と、この昇降動作の制御を司る制御機能と
を備えている。昇降器4bに対する指令信号は、制御手
段5の一般制御部5aから与えられるが、光走査手段3
への、あるいは光走査手段3からの情報に基づいて、一
般制御部5aは昇降器4bに指令信号を出力する。
了したことを光走査手段3から検知すると、次の等高断
面の走査に移行するために、一般制御部5aから昇降器
4bに対して指令信号を出力し、これにより昇降器4b
はエレベータ4aを所定のピッチ(すなわち、このピッ
チがその等高断面における積層厚Tとなる)だけ下降さ
せる。
外線レーザなどの光線を発生させるレーザ発振器3a
と、このレーザ発振器3aで発生した光線を光硬化性樹
脂液の表面に対し所定の軌跡にしたがって走査させるた
めの光学系3bと、この光学系3bを制御するための光
学系コントローラ3cから構成されている。光学系3b
には、例えば光線を通過/遮断するためのシャッター器
(AOM)や光線の方向を変動させるための電圧印加器
およびガルバノミラーなどが設けられており、光線のO
N/OFF、光線強度の変更、光路の変更、光線の走査
速度の制御などを行う機能を有している。そして、この
光学系3bに対して、光学系コントローラ3cからは予
め教示された軌跡に応じた光走査条件に関する指令信号
が出力される。
は、基本的には一般制御部5aに予め入力された基本軌
跡データに基づくが、後述する立体造形情報記憶部5
b、走査硬化層情報抽出部5c、輪郭線検出部5d、輪
郭硬化情報抽出部5e、内域情報抽出部5fを介して、
光学系コントローラ3cに指令信号が出力され、細部の
光走査条件が変更される。
樹脂モデルに応じて、予め入力されたデータに基づい
て、昇降手段4と光走査手段3とを相互に関連付けなが
ら制御する一般制御部5aを有している。また、一般制
御部5a以外に、立体造形情報記憶部5b、走査硬化層
情報抽出部5c、輪郭線検出部5d、輪郭硬化情報抽出
部5e、内域情報抽出部5fが設けられている。
コントローラ3c、および制御手段5などの情報処理装
置は、それぞれ別体に構成した具体例として図1に表わ
しているが、これは、それぞれの機能を容易に理解する
ために記載したものであって、上述した各機能を備えて
いる限り、これらを任意の組み合せで組み合わせて情報
処理装置を構成してもよいことは勿論である。
b、走査硬化層情報抽出部5c、輪郭線検出部5d、輪
郭硬化情報抽出部5e、内域情報抽出部5fにおける各
処理手順について説明するが、この処理手順の基本的考
え方の理解を容易にするために、図11に示すように、
ある一つの等高断面内において輪郭線で囲まれた造形領
域を造形する具体例を説明する。
べきモデルWの立体形状に関する情報が格納されたメモ
リであり、モデルWの立体形状に関する全ての情報ある
いは、少なくとも造形領域が輪郭線で囲まれる全ての等
高断面の立体形状に関する情報が記憶されている。
情報記憶部5bに記憶されている立体情報のうち、ある
一つの等高断面における造形領域である走査硬化層に関
する情報のみを抽出する。つまり、一般制御部5aで
は、一つの等高断面における硬化領域と非硬化領域とを
識別して、これにより光学系における光のON/OFF
を制御するが、走査硬化層情報抽出部5cでは、硬化領
域に関する情報のみを選択して読み出し、これを以下の
造形方法の基礎情報とする。
部5cで抽出された硬化領域のみの情報を読み込んで、
この情報に基づき同一等高断面における硬化領域の輪郭
線OLを認識する。
5dで検出された本来の輪郭線OL以外に、図2に示す
ように、この本来の輪郭線OLから閉じ領域の内側に距
離r1 だけ隔てた別の輪郭線OLA を演算して求める。
この別の輪郭線OLA が、後述する輪郭線に沿ったベク
トル走査の中心線を構成することになる。そのため、距
離r1 は紫外線ビームLBの半径(厳密には紫外線ビー
ムによる硬化円の半径)に等しく設定することが好まし
い。
検出部5dで検出された本来の輪郭線OLおよび輪郭硬
化情報抽出部5eで求められた別の輪郭線OLA 以外
に、図2に示すように、本来の輪郭線OLから閉じ領域
の内側に距離r2 だけ隔てたさらに別の輪郭線OLB を
演算して求める。このさらに別の輪郭線OLB が、後述
する閉じ領域におけるラスター走査の始点、終点あるい
は中心線を構成することになる。したがって、この距離
r2 は、紫外線ビームLBの半径(厳密には紫外線ビー
ムによる硬化円の半径)に等しい距離だけ、上述した別
の輪郭線OLA からさらに内側に設定することが好まし
い。
た輪郭線情報は、光学系コントローラ3cに出力される
が、この情報に基づく光LBの走査は、輪郭線に沿うベ
クトル走査としている。すなわち、図3に示すように、
始点・終点位置および走査方向については何ら限定され
ないが、輪郭線をなぞる走査としている。
じ領域に関する情報も光学系コントローラ3cに出力さ
れるが、この情報に基づく光LBの走査は、ある一つの
輪郭線に沿う同一方向の走査(単一方向走査と往復走査
の両者を含む意)、いわゆるラスター走査としている。
例に係る造形方法を示す平面図、図5は同実施例の制御
手段における処理手順を示すフローチャートである。従
来の光学的造形方法では、図12に示す如く、閉じ領域
の全体をラスター走査していたが、本実施例では、輪郭
線をベクトル走査とし、輪郭線の内域をラスター走査と
している。特に、図2〜図4に示す実施例では、ベクト
ル走査の中心線を本来の輪郭線OLより内側に距離r1
だけオフセットした別の輪郭線OLAとしている。加え
て、ラスター走査する始点と終点を本来の輪郭線OLよ
り内側に距離r2 だけオフセットしている。
光硬化性樹脂液1を硬化させるのに適当な波長を含む光
線LBを発生し、光硬化性樹脂液槽2に収容された光硬
化性樹脂液1に対して光線LBを走査させる。一つの等
高断面における走査を終了すると、光線LBが照射され
たことにより生成する硬化樹脂51を昇降手段4a,4
bによって昇降させ、このような手順を繰り返すことに
より、順次走査硬化層51を積層する。
くとも一部の立体造形情報を記憶している立体造形情報
記憶部5bから、エレベータ4aを動作させない状態で
光線LBを走査照射することにより形成される走査硬化
層51に関する情報を走査硬化層情報抽出部5cによっ
て抽出する。同時に、オフセット量r1 ,r2 を読み込
む(ステップ1,2)。
り得られる走査硬化層情報に基づいて、輪郭線検出部5
dによって、走査硬化層51の輪郭線位置OLを検出し
たのち、この輪郭線検出部5dより得られる輪郭線位置
OLに対して、予め決められた距離r1 だけ内側の位置
OLA を軌跡情報として輪郭硬化情報抽出部5eにて演
算する(ステップ3、図2)。この軌跡情報は光学系コ
ントローラ3cに出力され(ステップ6)、上述した輪
郭線に沿ったベクトル走査が実行されることになるので
(ステップ7、図3)、光線のスポット径や走査ピッチ
を小さくしなくとも輪郭線近傍の造形精度がきわめて向
上する。
出部5dより得られる輪郭線位置OLに対して、予め決
められた距離r2 だけ内側の閉じた領域に関する情報を
抽出する(ステップ4、図2)。そして、この情報は光
学系コントローラ3cに出力され(ステップ8)、その
結果、輪郭線で囲まれた閉じ領域内のラスター走査が実
行されることになる(ステップ9、図4)。
輪郭線に沿ったベクトル走査による走査硬化層とラスタ
ー走査による走査硬化層との重なり領域が小さくなるた
め、光硬化性樹脂液が硬化する際の収縮率が均一とな
り、得られるモデルの変形を抑制することが可能とな
る。
ことなく種々に改変することが可能である。例えば、光
照射により硬化する際の体積収縮率が小さい光硬化性樹
脂液に対しては、図6〜図9に示す光学的造形方法の如
く、輪郭線の内域をラスター走査する場合にオフセット
を省略することも可能である。図6〜図9は本発明の他
の実施例に係る光学的造形方法を示す平面図である。
線を本来の輪郭線OLより内側に距離r1 だけオフセッ
トした別の輪郭線OLA とし、ラスター走査する始点と
終点もこの別の輪郭線OLA を利用している。
る少なくとも一部の立体造形情報を記憶している立体造
形情報記憶部5bから、エレベータ4aを動作させない
状態で光線LBを走査照射することにより形成される走
査硬化層51に関する情報を走査硬化層情報抽出部5c
によって抽出し、同時に、オフセット量r1 を読み込む
(図6参照)。
り得られる走査硬化層情報に基づいて、輪郭線検出部5
dによって、走査硬化層51の輪郭線位置OLを検出し
たのち、この輪郭線検出部5dより得られる輪郭線位置
OLに対して、予め決められた距離r1 だけ内側の位置
OLA を軌跡情報として輪郭硬化情報抽出部5eにて演
算する(図7参照)。この軌跡情報は光学系コントロー
ラ3cに出力され、上述した第1の実施例と同様の手順
で輪郭線に沿ったベクトル走査が実行されることになる
ので(図8参照)、光線のスポット径や走査ピッチを小
さくしなくとも輪郭線近傍の造形精度がきわめて向上す
る。
抽出部5eより得られる軌跡情報をそのまま利用して、
輪郭線で囲まれた閉じ領域内のラスター走査を実行する
(図9参照)。この場合、輪郭線に沿うベクトル走査に
より硬化する走査硬化層とラスター走査による走査硬化
層とが一部において重なることとなるが、光収縮率が小
さい場合には硬化によるモデルの変形も問題とならない
ため、輪郭線の演算に要する時間を短縮できるという利
点がある。
理解を容易にするために記載されたものであって、これ
らの発明を限定するために記載されたものではない。し
たがって、上記の各実施例に開示された各要素は、本発
明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含
む趣旨である。例えば、輪郭線からのオフセット量r
1,r2の値は、上述した実施例にのみ何ら限定される
ことはなく、また、オフセットする輪郭線について部位
によってオフセット量を変化させることも可能である。
面層の造形領域を形成するにあたり、造形領域の輪郭線
に沿って光線を走査して硬化させるとともに、光線をラ
スター走査して輪郭線の内部の造形領域を硬化させるよ
うに構成しているので、造形される閉じ領域の端縁が全
て光線の走査方向に沿うこととなる。したがって、同一
等高断面における造形精度を高めることができる。
あたり、造形領域の輪郭線に沿って予め決められた距離
(r1 )だけ内側で光線を走査して硬化させるととも
に、輪郭線の予め決められた距離(r2 )だけ内側の造
形領域を光線をラスター走査して硬化させれば、重複し
て硬化させる領域を抑制することができ、その結果、硬
化収縮によるモデルの変形を防止することができる。
ック図である。
示す平面図である。
である。
ローチャートである。
を示す平面図である。
である。
る。
を積層したのち最終の硬化を行う工程を示す側面図であ
る。
図である。
Claims (2)
- 【請求項1】光硬化性樹脂液を入れた光硬化性樹脂液槽
と、 前記光硬化性樹脂液を硬化させるのに適切な波長を含む
光線を発生し、該光線を走査させる光走査手段と、 前記光硬化性樹脂液の表面に光線が照射されたことによ
り生成する硬化樹脂を昇降させる昇降手段と、 前記光走査手段と前記昇降手段とを制御する制御手段
と、を備えた光学的造形装置において、 前記制御手段は、 立体造形する少なくとも一部の立体造形情報を記憶する
立体造形情報記憶部と、 前記昇降手段を動作させない状態で前記光線を走査照射
して形成される走査硬化層に関する情報を、前記立体造
形情報記憶部に記憶されている立体情報の中から抽出す
る走査硬化層情報抽出部と、 前記走査硬化層情報抽出部より得られる走査硬化層情報
に基づいて走査硬化層の輪郭線位置を検出する輪郭線検
出部と、 前記輪郭線検出部より得られる輪郭線位置に対して、予
め決められた距離だけ内側の位置を軌跡情報として演算
する輪郭硬化情報抽出部と、 前記輪郭線検出部より得られる輪郭線位置に対して、予
め決められた距離だけ内側の閉じた領域を抽出する内域
情報抽出部と、を有し、 前記走査硬化層の光線走査を、輪郭硬化情報抽出部の抽
出結果に基づいた走査と、前記内域情報抽出部の抽出結
果に基づいた走査とに分けて行うことを特徴とする光学
的造形装置。 - 【請求項2】前記輪郭硬化情報抽出部の抽出結果に基づ
いた走査はベクトル走査であり、前記内域情報抽出部の
抽出結果に基づいた走査はラスター走査であることを特
徴とする請求項1に記載の光学的造形装置。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5003203A JP2853497B2 (ja) | 1993-01-12 | 1993-01-12 | 光学的造形装置 |
KR1019940000006A KR100277397B1 (ko) | 1993-01-12 | 1994-01-03 | 광학적 조형장치 |
EP94100061A EP0606839B1 (en) | 1993-01-12 | 1994-01-04 | Method of and apparatus for optically shaping photosetting resin |
DE69402331T DE69402331T2 (de) | 1993-01-12 | 1994-01-04 | Verfahren und Vorrichtung zur optischen Formung von fotohärtbarem Harz |
US08/180,318 US5496683A (en) | 1993-01-12 | 1994-01-12 | Method of and apparatus for optically shaping photo-setting resin |
US08/475,764 US5562929A (en) | 1993-01-12 | 1995-06-07 | Apparatus for optically shaping photo-setting resin |
KR1019980047078A KR100308894B1 (ko) | 1993-01-12 | 1998-11-04 | 광학적조형방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5003203A JP2853497B2 (ja) | 1993-01-12 | 1993-01-12 | 光学的造形装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP03338498A Division JP3653385B2 (ja) | 1998-02-16 | 1998-02-16 | 光学的造形方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06206260A JPH06206260A (ja) | 1994-07-26 |
JP2853497B2 true JP2853497B2 (ja) | 1999-02-03 |
Family
ID=11550884
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5003203A Expired - Lifetime JP2853497B2 (ja) | 1993-01-12 | 1993-01-12 | 光学的造形装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5496683A (ja) |
EP (1) | EP0606839B1 (ja) |
JP (1) | JP2853497B2 (ja) |
KR (2) | KR100277397B1 (ja) |
DE (1) | DE69402331T2 (ja) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4309524C2 (de) * | 1993-03-24 | 1998-05-20 | Eos Electro Optical Syst | Verfahren zum Herstellen eines dreidimensionalen Objekts |
JP3431387B2 (ja) * | 1996-03-14 | 2003-07-28 | 株式会社東芝 | 露光強度分布表示方法とマスクパターン編集装置 |
US5979606A (en) * | 1997-12-23 | 1999-11-09 | Sony Corporation | Conveyor elevator |
DE10165113B3 (de) * | 2000-03-15 | 2019-11-21 | Realizer Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Formkörpers |
US6730256B1 (en) | 2000-08-04 | 2004-05-04 | Massachusetts Institute Of Technology | Stereolithographic patterning with interlayer surface modifications |
US6777170B1 (en) * | 2000-08-04 | 2004-08-17 | Massachusetts Institute Of Technology | Stereolithographic patterning by variable dose light delivery |
US6833234B1 (en) * | 2000-08-04 | 2004-12-21 | Massachusetts Institute Of Technology | Stereolithographic patterning with variable size exposure areas |
US6699424B2 (en) | 2001-06-29 | 2004-03-02 | 3D Systems, Inc. | Method for forming three-dimensional objects |
US7261542B2 (en) * | 2004-03-18 | 2007-08-28 | Desktop Factory, Inc. | Apparatus for three dimensional printing using image layers |
US7862886B2 (en) * | 2005-08-12 | 2011-01-04 | Fujifilm Corporation | Optical film, antireflection film, processes for producing the same, and polarizing plate and display employing the same |
GB201016169D0 (en) * | 2010-09-27 | 2010-11-10 | Materialise Nv | Method for reducing differential shrinkage in stereolithography |
JP5993224B2 (ja) * | 2012-06-18 | 2016-09-14 | ローランドディー.ジー.株式会社 | 三次元造形装置 |
FR2992877B1 (fr) * | 2012-07-06 | 2015-07-03 | Phenix Systems | Procede de pilotage de faisceau laser pour fabrication d'objets tridimensionnels par couches superposees. |
FR2994885B1 (fr) * | 2012-08-29 | 2014-08-29 | Carpyz | Machines pour la fabrication de produits circulaires par addition couche par couche |
CN105163929B (zh) | 2013-05-03 | 2017-05-10 | 联合工艺公司 | 消除次表面孔隙度的方法 |
JP6030597B2 (ja) * | 2014-04-04 | 2016-11-24 | 株式会社松浦機械製作所 | 三次元造形装置及び三次元形状造形物の製造方法 |
DE102017110241A1 (de) * | 2017-05-11 | 2018-11-15 | Nanoscribe Gmbh | Verfahren zum Erzeugen einer 3D-Struktur mittels Laserlithographie sowie Computerprogrammprodukt |
US10518356B2 (en) | 2018-02-05 | 2019-12-31 | General Electric Company | Methods and apparatus for generating additive manufacturing scan paths using thermal and strain modeling |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4961154A (en) * | 1986-06-03 | 1990-10-02 | Scitex Corporation Ltd. | Three dimensional modelling apparatus |
US5059359A (en) * | 1988-04-18 | 1991-10-22 | 3 D Systems, Inc. | Methods and apparatus for production of three-dimensional objects by stereolithography |
JP2715527B2 (ja) * | 1989-03-14 | 1998-02-18 | ソニー株式会社 | 立体形状形成方法 |
JPH0624773B2 (ja) * | 1989-07-07 | 1994-04-06 | 三井造船株式会社 | 光学的造形法 |
US5071337A (en) * | 1990-02-15 | 1991-12-10 | Quadrax Corporation | Apparatus for forming a solid three-dimensional article from a liquid medium |
JPH0773884B2 (ja) * | 1990-05-02 | 1995-08-09 | 三菱商事株式会社 | 光固化造形装置 |
JPH0745196B2 (ja) * | 1990-11-02 | 1995-05-17 | 三菱商事株式会社 | 光固化造形装置 |
US5460758A (en) * | 1990-12-21 | 1995-10-24 | Eos Gmbh Electro Optical Systems | Method and apparatus for production of a three-dimensional object |
JPH06114948A (ja) * | 1992-10-01 | 1994-04-26 | Shiimetsuto Kk | 未硬化液排出口付光硬化造形物とその造形法 |
-
1993
- 1993-01-12 JP JP5003203A patent/JP2853497B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-01-03 KR KR1019940000006A patent/KR100277397B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-01-04 EP EP94100061A patent/EP0606839B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-01-04 DE DE69402331T patent/DE69402331T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-01-12 US US08/180,318 patent/US5496683A/en not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-06-07 US US08/475,764 patent/US5562929A/en not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-11-04 KR KR1019980047078A patent/KR100308894B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69402331D1 (de) | 1997-05-07 |
KR940018189A (ko) | 1994-08-16 |
KR100308894B1 (ko) | 2002-09-27 |
JPH06206260A (ja) | 1994-07-26 |
DE69402331T2 (de) | 1997-11-06 |
US5496683A (en) | 1996-03-05 |
KR100277397B1 (ko) | 2001-01-15 |
EP0606839B1 (en) | 1997-04-02 |
US5562929A (en) | 1996-10-08 |
EP0606839A1 (en) | 1994-07-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2853497B2 (ja) | 光学的造形装置 | |
EP0388129B1 (en) | Method and apparatus for producing three-dimensional objects | |
JP2805674B2 (ja) | 光学的造形方法および光学的造形装置 | |
JPH0757532B2 (ja) | 三次元形状の形成方法 | |
JP2000280359A (ja) | 歪みの少ない三次元物体をステレオリソグラフィーで形成する方法および装置 | |
JP3218769B2 (ja) | 光学的造形方法 | |
JP3422039B2 (ja) | 光学的造形方法および光学的造形装置 | |
US20210260819A1 (en) | Systems, apparatuses, and methods for manufacturing three dimensional objects via continuously curing photopolymers, utilising a vessel containing an interface fluid | |
JP3653385B2 (ja) | 光学的造形方法 | |
JP3173212B2 (ja) | 光学的造形方法および光学的造形装置 | |
JP3458593B2 (ja) | 三次元形状の形成方法 | |
JP3173196B2 (ja) | 光学的造形方法および光学的造形装置 | |
JPH0224121A (ja) | 光学的造形法 | |
KR20040102531A (ko) | 마이크로 광 조형 방법 및 장치 | |
JP2671534B2 (ja) | 三次元形状の形成方法 | |
JP3458437B2 (ja) | 光学的造形方法および光学的造形装置 | |
JP3170832B2 (ja) | 光学的造形方法 | |
JPH05169551A (ja) | 立体像形成方法 | |
JPH08276500A (ja) | 光学的造形方法および描画データ作成方法および光学的造形装置 | |
JP2001225391A (ja) | 光学的造形方法および光学的造形装置 | |
JP2001315214A (ja) | 光造形法、光造形装置及び光造形プログラムを記録した記録媒体 | |
JP3721477B2 (ja) | 光造形法 | |
JPS6232009A (ja) | 立体形状の形成方法 | |
JP3444740B2 (ja) | 三次元物体を製造する装置および方法 | |
RU2145924C1 (ru) | Полимерный трехмерный объект сложной формы, составленный из слоев, способ изготовления полимерного трехмерного объекта и устройство для его осуществления |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071120 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081120 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091120 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091120 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101120 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111120 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121120 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121120 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131120 Year of fee payment: 15 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131120 Year of fee payment: 15 |