JP2847001B2 - Manufacturing method of solid electrolytic capacitor - Google Patents

Manufacturing method of solid electrolytic capacitor

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JP2847001B2 JP27170492A JP27170492A JP2847001B2 JP 2847001 B2 JP2847001 B2 JP 2847001B2 JP 27170492 A JP27170492 A JP 27170492A JP 27170492 A JP27170492 A JP 27170492A JP 2847001 B2 JP2847001 B2 JP 2847001B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は固体電解コンデンサの製
法に関する。さらに詳しくは、再化成処理の際に電解液
の浸透を良好ならしめ、酸化皮膜の修復を短時間で良好
に行う固体電解コンデンサの製法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a solid electrolytic capacitor. More specifically, the present invention relates to a method for manufacturing a solid electrolytic capacitor which makes it possible to improve the permeation of an electrolytic solution during re-chemical conversion treatment and to repair an oxide film satisfactorily in a short time.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、固体電解コンデンサは、以下の手
順で製造されている。まず、タンタル、アルミニウムま
たはニオブなどの金属焼結体の金属粉末の周囲に陽極酸
化により酸化皮膜を形成し、ついで硝酸マンガン水溶液
の熱分解により二酸化マンガン(MnO2 )層を形成す
る。これにより、図5に示されるように、金属焼結体内
部における個々の金属粉末またはその塊り11の周囲には
酸化皮膜3および二酸化マンガン層5が形成される。ま
た、それとともに図6に示されるように金属焼結体であ
るコンデンサ素子1全体の周囲にも二酸化マンガン層5
が形成される。つぎに再化成処理、すなわち再度陽極酸
化を行い、熱分解の際の酸化皮膜3の劣化部分を修復し
たあと、前記コンデンサ素子1の外周に電極取出しのた
めのグラファイト層9および銀層10からなる金属層を形
成して製造が完了する。
2. Description of the Related Art Conventionally, a solid electrolytic capacitor is manufactured by the following procedure. First, an oxide film is formed around the metal powder of a metal sintered body such as tantalum, aluminum, or niobium by anodic oxidation, and then a manganese dioxide (MnO 2 ) layer is formed by thermal decomposition of a manganese nitrate aqueous solution. Thereby, as shown in FIG. 5, oxide film 3 and manganese dioxide layer 5 are formed around individual metal powder or lump 11 thereof inside the metal sintered body. Further, as shown in FIG. 6, a manganese dioxide layer 5 is also formed around the entire capacitor element 1 which is a metal sintered body.
Is formed. Next, after re-chemical conversion treatment, that is, anodic oxidation is again performed to repair the deteriorated portion of the oxide film 3 during the thermal decomposition, the outer periphery of the capacitor element 1 is composed of a graphite layer 9 and a silver layer 10 for extracting an electrode. The metal layer is formed to complete the manufacture.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】叙上の製法では、再化
成処理の際、金属焼結体1内部へ充分に陽極酸化用の電
解液を浸透させることができないため、所定の通電処理
に時間がかかると共に、完全な酸化皮膜の修復がなされ
ず、充分な電気特性がえられない。すなわち、酸化皮膜
2の劣化部分が修復されていないと、漏れ電流(38%硫
酸内に素子を入れて18.3Vを印加したときのウエットリ
ークカレント、以下LCという)が大きくなり、またL
C値や耐圧のばらつきが大きくなり、固体電解コンデン
サの信頼性が低下する。図7には従来の製法で製造され
た固体電解コンデンサのLC値の分布が示されている。
In the above-mentioned production method, it is impossible to sufficiently infiltrate the electrolytic solution for anodic oxidation into the metal sintered body 1 at the time of re-chemical conversion treatment. However, the oxide film cannot be completely repaired, and sufficient electrical characteristics cannot be obtained. That is, if the deteriorated portion of the oxide film 2 is not repaired, the leak current (wet leak current when the element is put in 38% sulfuric acid and 18.3 V is applied, hereinafter referred to as LC) increases, and L
Variations in the C value and breakdown voltage increase, and the reliability of the solid electrolytic capacitor decreases. FIG. 7 shows a distribution of LC values of a solid electrolytic capacitor manufactured by a conventional manufacturing method.

【0004】すなわち、50個のサンプルを測定した結
果、LC値の平均値は270.6 nAで、その分布は±23.6
nAと広がっていた。
That is, as a result of measuring 50 samples, the average value of the LC values was 270.6 nA, and the distribution was ± 23.6 nA.
It was spreading as nA.

【0005】本発明の目的は、かかる問題を解消し、再
化成処理の際に、電解液を焼結体内へ迅速に浸透させ、
短時間で良好な酸化皮膜を修復する固体電解コンデンサ
の製法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve such a problem and to allow an electrolytic solution to rapidly penetrate into a sintered body during re-chemical conversion treatment.
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a solid electrolytic capacitor that can repair a good oxide film in a short time.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の第1の態様にお
ける固体電解コンデンサの製法は、(a)金属粉末を成
形して焼結することによってコンデンサ素子を形成し、
(b)前記金属粉末およびコンデンサ素子の周囲に陽極
酸化により酸化皮膜を形成し、(c)該酸化皮膜上に二
酸化マンガン層を形成し、(d)該二酸化マンガン層が
形成されたコンデンサ素子を熱湯でボイリングし、
(e)再度陽極酸化により酸化皮膜を修復する再化成処
理をし、(f)前記コンデンサ素子の周囲に金属層を形
成することを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a solid electrolytic capacitor, comprising: (a) forming a capacitor element by molding and sintering a metal powder;
(B) forming an oxide film by anodic oxidation around the metal powder and the capacitor element; (c) forming a manganese dioxide layer on the oxide film; and (d) forming a capacitor element having the manganese dioxide layer formed thereon. Boil in hot water,
(E) Re-chemical treatment for repairing the oxide film by anodic oxidation again, and (f) forming a metal layer around the capacitor element.

【0007】また、本発明の第2の態様における固体電
解コンデンサの製法は、(a)金属粉末を成形して焼結
することによってコンデンサ素子を形成し、(b)前記
金属粉末およびコンデンサ素子の周囲に陽極酸化により
酸化皮膜を形成し、(c)該酸化皮膜上に二酸化マンガ
ン層を形成し、(e′)該二酸化マンガン層が形成され
たコンデンサ素子を浸透助剤が添加された電解液で陽極
酸化して酸化皮膜を修復する再化成処理をし、(f)前
記コンデンサ素子の周囲に金属層を形成することを特徴
とする。
The method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to the second aspect of the present invention comprises the steps of: (a) forming a capacitor element by molding and sintering a metal powder; and (b) forming a capacitor element of the metal powder and the capacitor element. Forming an oxide film on the periphery thereof by anodic oxidation; (c) forming a manganese dioxide layer on the oxide film; and (e ′) an electrolytic solution containing a permeation aid added to the capacitor element having the manganese dioxide layer formed thereon. (F) forming a metal layer around the capacitor element.

【0008】また、本発明の第3の態様における固体電
解コンデンサの製法は、(a)金属粉末を成形して焼結
することによって、コンデンサ素子を形成し、(b)前
記金属粉末およびコンデンサ素子の周囲に陽極酸化によ
り酸化皮膜を形成し、(c)該酸化皮膜上に二酸化マン
ガン層を形成し、(e″)該二酸化マンカマン層が形成
されたコンデンサ素子を真空下で電解液に浸漬し、陽極
酸化して酸化皮膜を修復する再化成処理をし、(f)前
記コンデンサ素子の周囲に金属層を形成することを特徴
とする。
In a third aspect of the present invention, a method for manufacturing a solid electrolytic capacitor includes the steps of (a) forming a capacitor element by molding and sintering a metal powder; (C) forming a manganese dioxide layer on the oxide film, and (e ″) immersing the capacitor element with the formed mankaman dioxide layer in an electrolytic solution under vacuum. And (f) forming a metal layer around the capacitor element.

【0009】前記各々の方法において、二酸化マンガン
層の形成から再化成処理までの工程を2回以上繰り返す
ことが好ましい。
In each of the above methods, it is preferable that the steps from the formation of the manganese dioxide layer to the re-chemical conversion treatment are repeated twice or more.

【0010】[0010]

【作用】本発明の第1の態様によれば、再化成処理の前
処理として金属焼結体を熱湯に浸漬することにより、あ
らかじめ水分を金属焼結体内部の細孔に浸透させてお
き、そののちに電解液に浸漬して再化成処理を行ってい
るため、前記水分と陽極酸化用の電解液とが混合作用で
置換され、短時間で電解液が焼結体内部の細孔内に浸透
する。その結果、酸化皮膜の修復も短時間で、しかも良
好な状態で行うことができる。
According to the first aspect of the present invention, the metal sintered body is immersed in hot water as a pretreatment of the re-chemical conversion treatment, so that moisture is allowed to penetrate into the pores inside the metal sintered body in advance. After that, since the re-chemical conversion treatment is performed by immersion in the electrolytic solution, the water and the electrolytic solution for anodic oxidation are replaced by a mixing action, and the electrolytic solution is introduced into the pores inside the sintered body in a short time. Penetrate. As a result, the oxide film can be repaired in a short time and in a good condition.

【0011】また、本発明の第2の態様によれば、陽極
酸化用の電解液に浸透助剤を添加することにより、金属
焼結体の表面張力を下げることができるため、金属焼結
体内部の細孔への前記電解液の浸透を促進させることが
できる。
According to the second aspect of the present invention, the surface tension of the metal sintered body can be reduced by adding a penetration aid to the electrolyte for anodic oxidation. The penetration of the electrolyte into the internal pores can be promoted.

【0012】また、本発明の第3の態様によれば、真空
中で金属焼結体を前記電解液に浸漬して陽極酸化を行う
ことにより、細孔内の気泡および陽極酸化の際発生し表
面に生成される水素の気泡を除去することができる。そ
の結果、電解液の浸透が容易となり、良好な通電状態が
えられ、酸化皮膜の修復が短時間で良好に行える。
Further, according to the third aspect of the present invention, by immersing the metal sintered body in the electrolytic solution in a vacuum and performing anodic oxidation, bubbles in the pores and the anodic oxidation are generated. Hydrogen bubbles generated on the surface can be removed. As a result, permeation of the electrolyte is facilitated, a good energized state is obtained, and the oxide film can be satisfactorily repaired in a short time.

【0013】[0013]

【実施例】つぎに図面を参照しながら本発明について説
明する。図1は本発明の第1の態様におけるタンタル電
解コンデンサの製造工程の一実施例を示す説明図、図2
は、図1の工程における化成処理から再化成処理までの
工程を示すフローチャート、図3は図1の工程の途中に
おけるタンタル電解コンデンサの再化成処理時間に対す
るLC値の変化を示すグラフ、図4は図1の工程によっ
てえられたタンタル電解コンデンサのLC値の分布を示
すグラフである。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. FIG. 1 is an explanatory view showing one embodiment of a manufacturing process of the tantalum electrolytic capacitor according to the first embodiment of the present invention, and FIG.
Is a flowchart showing steps from the chemical conversion treatment to the re-chemical conversion treatment in the step of FIG. 1, FIG. 3 is a graph showing a change in LC value with respect to the time of the chemical conversion treatment of the tantalum electrolytic capacitor in the middle of the step of FIG. 1, and FIG. 2 is a graph showing a distribution of LC values of the tantalum electrolytic capacitor obtained by the process of FIG.

【0014】実施例1 まず、金属粉末を成形して焼結することにより、コンデ
ンサ素子1を形成する(図1(a)参照)。具体例とし
ては、タンタル粉末を一辺1mm程度の直方体状に成形
し、その上面から内部にワイヤ2を埋め込んだのち、焼
結してコンデンサ素子1を形成する。
Embodiment 1 First, a capacitor element 1 is formed by molding and sintering a metal powder (see FIG. 1A). As a specific example, a tantalum powder is formed into a rectangular parallelepiped shape having a side of about 1 mm, a wire 2 is embedded in the inside from the upper surface, and then sintered to form the capacitor element 1.

【0015】つぎに、前記金属粉末およびコンデンサ素
子1の周囲に酸化皮膜3を形成する(図1(b)参
照)。具体例としては、コンデンサ素子1を0.1 重量%
(以下、単に%と表示する)リン酸水溶液4に浸漬し、
50〜100 Vで、2〜3時間の陽極酸化を行うことによ
り、陽極素子の表面およびその内部の金属粉末の表面、
ならびにワイヤ2の一部表面に酸化皮膜3、すなわち五
酸化タンタル(Ta2 5 )膜を形成する。
Next, an oxide film 3 is formed around the metal powder and the capacitor element 1 (see FIG. 1B). As a specific example, 0.1% by weight of the capacitor element 1 is used.
Immersed in an aqueous phosphoric acid solution 4 (hereinafter simply referred to as%),
By performing anodic oxidation at 50 to 100 V for 2 to 3 hours, the surface of the anode element and the surface of
Further, an oxide film 3, that is, a tantalum pentoxide (Ta 2 O 5 ) film is formed on a part of the surface of the wire 2.

【0016】つぎに、前記酸化皮膜3上に二酸化マンガ
ン層5を形成する(図1(c)、(d)参照)。この二
酸化マンガン層5の形成法は、硝酸マンガン水溶液を含
浸させたのち、熱分解により形成する(内装二酸化マン
ガン層)。またコンデンサ素子1の外周壁にも外部応力
緩和のため、電解MnO2 の微粒子を分散させた硝酸マ
ンガン水溶液に含浸させて加熱分解させ、二酸化マンガ
ン層を形成する(外装二酸化マンガン層)。具体例とし
ては、コンデンサ素子を洗浄、乾燥したのちに素子内部
に比重1.4 の硝酸マンガン水溶液を含浸させ、そののち
熱分解として、80℃で15分間保持させたのち、230 ℃で
10分間の本分解を行う。この分解温度を2段階に分けて
行うのは、80℃で表面張力を下げることによって焼結体
内部まで硝酸マンガン水溶液を浸透させ、しかるのちに
230 ℃でMnO2 に分解させるためであり、それによっ
てMnO2 のコートを良くするためである。しかしなが
ら、必ずしも必須でない。
Next, a manganese dioxide layer 5 is formed on the oxide film 3 (see FIGS. 1C and 1D). The manganese dioxide layer 5 is formed by impregnating with a manganese nitrate aqueous solution and then thermally decomposing (interior manganese dioxide layer). In order to relieve external stress, the outer peripheral wall of the capacitor element 1 is also impregnated with an aqueous solution of manganese nitrate in which fine particles of electrolytic MnO 2 are dispersed and thermally decomposed to form a manganese dioxide layer (exterior manganese dioxide layer). As a specific example, after washing and drying the capacitor element, the element is impregnated with an aqueous solution of manganese nitrate having a specific gravity of 1.4, and then is held at 80 ° C for 15 minutes as thermal decomposition, and then at 230 ° C.
Perform the main decomposition for 10 minutes. The decomposition temperature is divided into two stages by lowering the surface tension at 80 ° C to allow the manganese nitrate aqueous solution to penetrate inside the sintered body, and then
This is for decomposing into MnO 2 at 230 ° C., thereby improving the coating of MnO 2 . However, it is not essential.

【0017】つぎにコンデンサ素子をボイリングしたの
ち、再化成を行う。具体例としては90〜100 ℃の熱湯に
コンデンサ素子を浸漬し、約10分間程度ボイリングす
る。このボイリングは焼結体内部へ液を浸透させること
を目的として行う。ついで再化成処理として0.1 %リン
酸水溶液にコンデンサ素子を浸漬し、25〜50Vで約5分
間陽極酸化を行う。この含浸−熱分解−ボイリング−再
化成の一連の処理を7回繰り返して二酸化マンガン層を
形成させると共に酸化皮膜の修復を行う。そののち、電
解二酸化マンガンの微細粒子(平均0.2 μm)を硝酸マ
ンガン水溶液に混合した液にコンデンサ素子を浸漬し、
約230 ℃で分解させて外装二酸化マンガン層を形成す
る。
Next, after the capacitor element is boiled, re-formation is performed. As a specific example, the capacitor element is immersed in hot water at 90 to 100 ° C. and boiled for about 10 minutes. This boiling is performed for the purpose of infiltrating the liquid into the inside of the sintered body. Next, as a re-chemical treatment, the capacitor element is immersed in a 0.1% phosphoric acid aqueous solution and anodized at 25 to 50 V for about 5 minutes. This series of treatments of impregnation-pyrolysis-boiling-rechemical formation is repeated seven times to form a manganese dioxide layer and to repair the oxide film. After that, the capacitor element is immersed in a solution in which electrolytic manganese dioxide fine particles (average 0.2 μm) are mixed with manganese nitrate aqueous solution,
Decomposes at about 230 ° C to form an outer manganese dioxide layer.

【0018】ついで、前記コンテンサ素子1の周囲に金
属層を形成する(図1(e)参照)。具体例としては、
グラファイト分散液またはそのペースト内にコンデンサ
素子1を上面が漬からない程度の深さで浸漬し、焼成し
てグラファイト層9を電極下地層として形成する。さら
に、えられたコンデンサ素子を銀含有液またはそのペー
スト内に上面が漬からない程度の深さで浸漬したのち、
乾燥して銀層10を電極外層として形成する。前記電極下
地層となるグラファイト層9および電極外層となる銀層
10からなる金属層は、コンデンサの一方の電極となる部
分である。このばあい、銀層10に代えてNiメッキ層を
電極外層に採用することもできる。なお、他方の電極は
ワイヤ2である。
Next, a metal layer is formed around the content element 1 (see FIG. 1E). As a specific example,
The capacitor element 1 is immersed in a graphite dispersion or a paste thereof to such a depth that the upper surface is not immersed, and baked to form the graphite layer 9 as an electrode underlayer. Furthermore, after immersing the obtained capacitor element in a silver-containing liquid or its paste at a depth such that the upper surface is not immersed,
After drying, the silver layer 10 is formed as an outer electrode layer. The graphite layer 9 serving as the electrode underlayer and the silver layer serving as the electrode outer layer
The metal layer made of 10 is a portion to be one electrode of the capacitor. In this case, instead of the silver layer 10, a Ni plating layer may be employed as the outer electrode layer. The other electrode is a wire 2.

【0019】ついで、陽極、陰極双方の外部リード端子
を接続し、エポキシ樹脂を用いて外装を行う(図示せ
ず)。
Next, the external lead terminals of both the anode and the cathode are connected, and the package is made using an epoxy resin (not shown).

【0020】つぎに、図3のグラフを用いて本実施例に
よる再化成時間を従来の製法のばあいと比較する。図3
は再化成処理時間に対するLC値(素子2000個を並列に
つないだときの値)の変化を示したもので、A1は本実
施例の方法による1回目の再化成処理時間に対するLC
値の変化で、A2は本実施例の方法により、20分間の1
回目の再化成処理を行なったのち、2回目の再化成処理
の時間に対するLC値の変化を示している。またB1、
B2は従来の製法による1回目、2回目の再化成処理の
時間に対するLC値の変化を同様に示したものである。
なお印加電圧は25Vである。その結果、同じ再化成処理
の時間であれば、本製法では従来の製法に比べてLC値
を低く抑えることができ、また同じLC値をうるために
は短時間の再化成処理時間で達成できることがわかる。
したがって、ある基準のLC値以下のコンデンサを製造
するばあい、本製法では短時間の再化成処理で同じ品質
のコンデンサを製造することができる。
Next, using the graph of FIG. 3, the re-formation time according to the present embodiment is compared with the case of the conventional production method. FIG.
Shows the change of the LC value (the value when 2,000 elements are connected in parallel) with respect to the re-formation processing time, and A1 shows the LC value with respect to the first re-formation processing time by the method of this embodiment.
In the change of the value, A2 is 1 minute for 20 minutes according to the method of the present embodiment.
The graph shows the change in the LC value with respect to the time of the second re-chemical conversion treatment after the second re-chemical conversion treatment. B1,
B2 similarly shows the change of the LC value with respect to the time of the first and second re-chemical conversion treatments by the conventional production method.
The applied voltage is 25V. As a result, if the same chemical conversion treatment time is used, the LC value of the present production method can be suppressed lower than that of the conventional production method, and in order to obtain the same LC value, it can be achieved in a short time of the chemical conversion treatment. I understand.
Therefore, when a capacitor having a LC value equal to or less than a certain reference value is manufactured, in the present manufacturing method, a capacitor of the same quality can be manufactured by a short re-chemical conversion treatment.

【0021】また、本製法によって製造されるコンデン
サおよび従来の製法によって製造されるコンデンサ(再
化成処理の時間および回数は同じ)の50個のサンプルに
よるそれぞれのLC値を比較したばあい、それぞれ図4
に示される分布となる。なお、図4では、例として7回
の再化成処理をしたのちのLC値を採用している。図4
のLC値分布を比較すると、本製法のばあいLC値の平
均が 206.5nA,分布幅が24.5nAであるのに対し、従
来の製法のばあいLC値の平均が 270.6nA,分布幅が
47.1nAであり、本製法のばあいでは、LC値の絶対値
が小さいと共に、ばらつきが非常に小さくなっているこ
とがわかる。
Further, when the LC values of 50 samples of the capacitor manufactured by the present manufacturing method and the capacitor manufactured by the conventional manufacturing method (the time and the number of times of re-chemical conversion treatment are the same) are compared, the respective figures are as follows. 4
Is obtained. In FIG. 4, the LC value after performing the re-chemical treatment seven times is adopted as an example. FIG.
Comparing the LC value distributions of this method, the average of the LC value is 206.5 nA and the distribution width is 24.5 nA in the case of this production method, whereas the average of the LC value is 270.6 nA and the distribution width is in the case of the conventional production method.
47.1 nA, which indicates that in the case of this production method, the absolute value of the LC value is small and the dispersion is very small.

【0022】実施例2 本実施例は本発明の第2の態様の一実施例であり、一連
の製造工程は実施例1と同じであるが、再化成処理工程
での前処理のボイリング行わないで、再化成処理液とし
て、0.1 %リン酸水溶液に浸透助剤としてエチルアルコ
ール、エチレングリコール、メチルアルコール、ポリオ
キシエチレンソルビタンエステルなどを少量添加した電
解液を用いて陽極酸化を行うものである。陽極酸化の時
間は約5分間で、前記実施例1と同様に含浸−熱分解−
再化成を7回繰り返し二酸化マンガン層の形成および酸
化皮膜の修復を行う。このように浸透助剤を添加するこ
とにより、金属焼結体の表面張力を下げることができ、
電解液の浸透を促進させることができ、酸化皮膜の修復
を確実に行える。
Embodiment 2 This embodiment is an embodiment of the second aspect of the present invention, and a series of manufacturing steps are the same as those in Embodiment 1, except that the pretreatment in the re-chemical conversion step is not performed. Anodization is carried out using an electrolytic solution obtained by adding a small amount of ethyl alcohol, ethylene glycol, methyl alcohol, polyoxyethylene sorbitan ester or the like as a penetration aid to a 0.1% phosphoric acid aqueous solution as a re-chemical conversion treatment solution. The anodizing time was about 5 minutes, and the impregnation-pyrolysis-
Re-formation is repeated seven times to form a manganese dioxide layer and repair the oxide film. By adding the penetration aid in this way, the surface tension of the metal sintered body can be reduced,
The penetration of the electrolyte can be promoted, and the oxide film can be surely repaired.

【0023】この製法でえられたコンデンサは、50個の
サンプルで、LC値の平均が218.5nAであり、分布幅
は26.3nAであった。
The capacitors obtained by this method had an average LC value of 218.5 nA and a distribution width of 26.3 nA in 50 samples.

【0024】なお、本実施例では前記実施例1のボイリ
ングを行わなかったが、ボイリングの前処理と共に本実
施例の浸透助剤添加を併用することにより相乗の効果が
えられる。
In this embodiment, the boiling in the first embodiment is not performed, but a synergistic effect can be obtained by using the pre-treatment of the boiling together with the addition of the penetration aid of the present embodiment.

【0025】実施例3 本実施例は本発明の第3の態様の一実施例であり、一連
の製造工程は実施例1と同じであるが、再化成処理工程
での前処理のボイリングを行わないで、再化成処理の陽
極酸化を真空下で0.1 %リン酸水溶液に浸漬して約5分
間行う。このように真空状態にすることにより、陽極酸
化のときに発生する水素は積極的に除去されるため、電
解液が内部に浸透し易く、陽極酸化を確実に、早く行う
ことができる。なお真空度としては100Torr 以下がとく
に好ましい。
Embodiment 3 This embodiment is an embodiment of the third aspect of the present invention, and a series of manufacturing steps is the same as that of Embodiment 1, but the pre-processing boiling in the re-chemical conversion step is performed. Instead, the anodization of the re-chemical conversion treatment is performed by immersing in a 0.1% phosphoric acid aqueous solution under vacuum for about 5 minutes. By setting the vacuum state as described above, hydrogen generated at the time of anodic oxidation is positively removed, so that the electrolyte easily permeates into the inside, and anodic oxidation can be performed reliably and quickly. The degree of vacuum is particularly preferably 100 Torr or less.

【0026】この製法で製造されたコンデンサは、LC
値の平均が198.5 nAであり、分布の幅は21.4nAであ
った。
The capacitor manufactured by this method is LC
The average of the values was 198.5 nA and the width of the distribution was 21.4 nA.

【0027】なお、本実施例では前記実施例1や実施例
2のボイリングや浸透助剤の添加を併用しない例を示し
たが、これらの1または2を併用することにより、相乗
の効果がえられる。
In this embodiment, an example is shown in which the boiling and the addition of the penetration aid of the above-mentioned Embodiments 1 and 2 are not used together. However, by using these 1 or 2 together, a synergistic effect can be obtained. Can be

【0028】なお、叙上の実施例1〜3ではコンデンサ
素子としてタンタル粉末を焼結体したタンタル固体電解
コンデンサの例を示したが、他のアルミニウム、ニオブ
などの金属材料を使用した固体電解コンデンサにも適用
できることはいうまでもない。さらに前記各実施例では
再化成処理の繰返しを7回の例で説明したが、再化成処
理時間との兼ねあいで、繰返し回数は限定されない。
In the first to third embodiments, a tantalum solid electrolytic capacitor obtained by sintering tantalum powder is shown as an example of a capacitor element. However, a solid electrolytic capacitor using another metal material such as aluminum or niobium is shown. Needless to say, it can be applied to Furthermore, in each of the above embodiments, the repetition of the re-formation treatment was described as an example of seven times, but the number of repetitions is not limited in consideration of the re-formation treatment time.

【0029】[0029]

【発明の効果】本発明によれば、陽極酸化用の電解液の
浸透を促進させているため、短い再化成処理時間で良好
な酸化皮膜の修復を行うことができる。その結果LC値
の低下およびLC値や耐圧のばらつきを小さくすること
ができ、高性能で、品質が安定した、信頼性が高い固体
電界コンデンサがえられる。
According to the present invention, since the penetration of the electrolytic solution for anodic oxidation is promoted, the oxide film can be satisfactorily repaired in a short re-chemical conversion time. As a result, a decrease in LC value and a variation in LC value and breakdown voltage can be reduced, and a high-performance, stable-quality, high-reliability solid electrolytic capacitor can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の態様におけるタンタル電解コン
デンサの製造工程の一実施例を示す説明図である。
FIG. 1 is an explanatory view showing one embodiment of a manufacturing process of a tantalum electrolytic capacitor according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1の工程における化成処理工程から再化成処
理工程までの工程を示すフローチャートである。
FIG. 2 is a flowchart showing steps from a chemical conversion treatment step to a re-chemical conversion treatment step in the step of FIG.

【図3】図1の工程の途中におけるタンタル電解コンデ
ンサの再化成処理時間に対するLC値の変化を示すグラ
フである。
FIG. 3 is a graph showing a change in LC value with respect to a re-chemical conversion treatment time of a tantalum electrolytic capacitor during the process of FIG.

【図4】図1の工程によってえられたタンタル電解コン
デンサのLC値の分布を示すグラフである。
FIG. 4 is a graph showing a distribution of LC values of the tantalum electrolytic capacitor obtained by the process of FIG.

【図5】タンタル電解コンデンサのコンデンサ素子の金
属粉末の断面説明図である。
FIG. 5 is an explanatory sectional view of a metal powder of a capacitor element of a tantalum electrolytic capacitor.

【図6】タンタル電解コンデンサのコンデンサ素子の断
面説明図である。
FIG. 6 is an explanatory sectional view of a capacitor element of a tantalum electrolytic capacitor.

【図7】従来の製法による固体電解コンデンサのLC値
の分布を示すグラフである。
FIG. 7 is a graph showing a distribution of LC values of a solid electrolytic capacitor manufactured by a conventional method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 コンデンサ素子 3 酸化皮膜 5 二酸化マンガン層 9 グラファイト層 10 銀層 Reference Signs List 1 capacitor element 3 oxide film 5 manganese dioxide layer 9 graphite layer 10 silver layer

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 (a)金属粉末を成形して焼結すること
によってコンデンサ素子を形成し、(b)前記金属粉末
およびコンデンサ素子の周囲に陽極酸化により酸化皮膜
を形成し、(c)該酸化皮膜上に二酸化マンガン層を形
成し、(d)該二酸化マンガン層が形成されたコンデン
サ素子を熱湯でボイリングし、(e)再度陽極酸化によ
り酸化皮膜を修復する再化成処理をし、(f)前記コン
デンサ素子の周囲に金属層を形成することを特徴とする
固体電解コンデンサの製法。
(A) forming a capacitor element by molding and sintering a metal powder; (b) forming an oxide film by anodic oxidation around the metal powder and the capacitor element; Forming a manganese dioxide layer on the oxide film; (d) boiling the capacitor element with the manganese dioxide layer formed thereon with hot water; A) a method of manufacturing a solid electrolytic capacitor, wherein a metal layer is formed around the capacitor element;
【請求項2】 前記(c)〜(e)の工程を2回以上繰
り返してなる請求項1記載の製法。
2. The method according to claim 1, wherein the steps (c) to (e) are repeated two or more times.
【請求項3】 (a)金属粉末を成形して焼結すること
によってコンデンサ素子を形成し、(b)前記金属粉末
およびコンデンサ素子の周囲に陽極酸化により酸化皮膜
を形成し、(c)該酸化皮膜上に二酸化マンガン層を形
成し、(e′)該二酸化マンガン層が形成されたコンデ
ンサ素子を浸透助剤が添加された電解液で陽極酸化して
酸化皮膜を修復する再化成処理をし、(f)前記コンデ
ンサ素子の周囲に金属層を形成することを特徴とする固
体電解コンデンサの製法。
(A) forming a capacitor element by molding and sintering the metal powder; (b) forming an oxide film by anodic oxidation around the metal powder and the capacitor element; A manganese dioxide layer is formed on the oxide film, and (e ') the capacitor element on which the manganese dioxide layer is formed is subjected to anodizing with an electrolytic solution to which a penetration aid has been added to perform a re-chemical conversion treatment to repair the oxide film. (F) A method of manufacturing a solid electrolytic capacitor, comprising forming a metal layer around the capacitor element.
【請求項4】 前記(c)と(e′)の工程を2回以上
繰り返してなる請求項3記載の製法。
4. The method according to claim 3, wherein the steps (c) and (e ′) are repeated at least twice.
【請求項5】 (a)金属粉末を成形して焼結すること
によってコンデンサ素子を形成し、(b)前記金属粉末
およびコンデンサ素子の周囲に陽極酸化により酸化皮膜
を形成し、(c)該酸化皮膜上に二酸化マンガン層を形
成し、(e″)該二酸化マンガン層が形成されたコンデ
ンサ素子を真空下で電解液に浸漬し、陽極酸化して酸化
皮膜を修復する再化成処理をし、(f)前記コンデンサ
素子の周囲に金属層を形成することを特徴とする固体電
解コンデンサの製法。
5. A capacitor element is formed by molding and sintering a metal powder, and (b) forming an oxide film by anodic oxidation around the metal powder and the capacitor element. Forming a manganese dioxide layer on the oxide film, (e ″) immersing the capacitor element with the manganese dioxide layer formed in an electrolytic solution under vacuum, performing anodizing, and performing a re-chemical treatment to repair the oxide film; (F) A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor, comprising forming a metal layer around the capacitor element.
【請求項6】 前記(c)と(e″)の工程を2回以上
繰り返してなる請求項5記載の製法。
6. The method according to claim 5, wherein the steps (c) and (e ″) are repeated at least twice.
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