JP2844964B2 - El表示装置の製造方法 - Google Patents

El表示装置の製造方法

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真弓 井上
浩二 松永
富造 松岡
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、薄型で表示の視認性が
優れ、例えばOA機器などの端末ディスプレイとして最
適であるEL表示装置の製造方法に関し、更に詳しくは
発光特性が長期にわたって安定なEL表示装置の製造方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来よりEL素子をX−Yマトリックス
構成にした薄膜EL表示装置が知られている。一般に、
このEL表示装置は第1誘電体層/蛍光体層/第2誘電
体層の積層薄膜の両面に水平方向電極群と垂直方向電極
群とを互いに直交するように配置し、それぞれの電極群
に接続された給電線により、切り換え装置を通して信号
を加えて両電極の交点部分の蛍光体層を発光させ(この
交点の発光部分面を絵素と称する)、発光した絵素の組
合せによって文字、記号、図形等を表示させるものであ
る。
【0003】上記EL表示装置は通常ガラス製の透光性
基板上に、スズをドープした酸化インジウム(以下IT
Oと略称する)からなる透明な平行電極群を形成し、そ
の上に第1誘電体層、蛍光体層、第2誘電体層を順次形
成し、さらにその上に、一般にAl金属からなる背面平
行電極群を前記透明電極群に直交する配置で積層して作
製する。
【0004】また、EL表示装置を湿気から保護し、薄
膜層間剥離を防止することによる長寿命化を目的とした
パッシベーションを、絶縁油やゼオライトでの封止、も
しくはAl23膜のような化学的に安定な薄膜で覆うと
いった構成で行なう。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の従
来の構成では、背面電極のパターニング、及びパッシベ
ーションといった、製造プロセスにおいて工程が多くな
るという問題点を有していた。
【0006】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、背面電極のパターニングとパッシベーションを陽極
酸化によって行い、耐環境性に優れ、化学的に安定な酸
化物によるバックパッシベーション膜で覆われたEL表
示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明のEL表示装置の製造方法は、背面電極と同じ
金属の金属薄膜を2回陽極酸化を行なうことにより背面
電極と酸化物薄膜とを形成することを特徴とするもので
ある。
【0008】
【作用】この方法によって、製造プロセスにおける工程
を減らし、容易に耐環境性に優れ、化学的に安定な酸化
物薄膜によるバックパッシベーション膜で覆われたEL
表示装置を製造することができる。
【0009】
【実施例】以下本発明の一実施例について、図面を参照
しながら説明する。
【0010】(図1)は本発明の一実施例による製造法
によって得られたバックパッシベーション膜を用いたE
L表示装置の基本構成断面図である。また、(図2)は
本発明の一実施例によるバックパッシベーション膜を用
いたEL表示装置の製造方法を説明するための断面図で
ある。(図1)および(図2)において、1は陽極酸化
物薄膜(バックパッシベーション膜)、2はポーラスタ
イプ陽極酸化膜、3はバリヤータイプ陽極酸化膜、4は
背面電極、5は背面電極用材料、6はマスク、7は第2
誘電体層、8は蛍光体層、9は第1誘電体層、10は透
明電極、11はガラス基板である。
【0011】(図2)(a)に示すように、ガラス基板
11上に合金ターゲットを用いてITO薄膜を直流スパ
ッタ法で形成し、ホトリソグラフィ技術によりストライ
プ状に加工し、透明電極10とした。第1誘電体層9は
SiONとし、Siターゲットを用いて窒素と一酸化窒
素の混合ガス中で、反応性スパッタ法により200nm
の厚さに形成した。その上にEB蒸着法でZnS:Mn
を用いた蛍光体層8を450nmの厚さに形成した。発
光センターのMnの含量は0.8原子%にした。蛍光体
層8形成後、輝度アップのため真空雰囲気中で550
℃、1時間の熱処理を行なった。そして第2誘電体層7
を蛍光体層8の上に200〜400nmの厚さに形成し
た。薄膜材料、及び製膜方法は第1誘電体層9の時と同
じである。最後に背面電極用材料5としてAlを、下地
積層膜を覆い隠すように膜厚150nm製膜する。
【0012】次に、(図2)(b)に示すようにこの背
面電極用材料5の背面電極部分の上にレジスト等により
マスク6を作製し、第1の陽極酸化として、背面電極部
分以外を陽極酸化しポーラスタイプAl23陽極酸化膜
2を製膜する。この時、pH=2の酸性の陽極酸化液
(例えば3%クエン酸水溶液)を用い、ウォーターバス
により溶液温度を50℃に保ち、膜厚が約200nmと
なるように電圧140Vを印加し陽極酸化を行う。
【0013】次に、(図2)(c)に示すようにマスク
6を取り除きpH=6〜7の中性の陽極酸化液(例えば
3%ほう酸アンモニウム水溶液:エチレングリコール=
1:9)を用いて第2の陽極酸化を行ない、マスク6に
より隠されていた部分とポーラスタイプAl23陽極酸
化膜2の一部をバリヤータイプAl23陽極酸化膜3と
し、背面電極4のまわりに約75nm(電圧値約50
V)得る。これにより、(図1)に示すような構造の、
バックパッシベーション膜1(Al23)により保護さ
れたEL表示装置を製造することができる。
【0014】この方法によって製膜された酸化物薄膜
緻密であり、膜厚斑が無い等といった優れた特性を有し
ている。さらにAl23 は化学的にも非常に安定な薄
膜である。その結果、EL表示装置の湿気による特性の
劣化を、このバックパッシベーション膜1を用いること
によって防ぐことができる。ここで、(図2)(b)に
おけるポーラスタイプ陽極酸化膜2の代わりにバリヤー
タイプ陽極酸化膜を用いても同様のEL表示装置が得ら
れる。また、この効果は普遍的なものであり、バックパ
ッシベーション膜に用いられる薄膜材料を、Ta25
TiO2等、陽極酸化によって製膜が可能な材料とする
ことにより、同様の効果を示す優れたEL表示装置が実
現できる。
【0015】さらに、(図1)に示すようなバックパッ
シベーション膜を用いたEL表示装置を製造して動作を
確認した。蛍光体層には硫化物を用いたEL表示装置を
製造した。上記のようなバックパッシベーション膜を用
いることにより、(図3)に示すような長時間駆動にお
いても従来の方法のパッシベーションによるEL表示装
置と変わらない安定な特性を示すEL表示装置ができ
た。
【0016】
【発明の効果】以上のように本発明は、背面電極となる
金属と同じ金属層を2回陽極酸化して背面電極と酸化物
薄膜とを形成するという方法であり、これによりプロセ
スが簡素化され、耐環境性に優れた化学的に安定な酸化
物薄膜によるバックパッシベーション膜を製膜し、薄膜
層間剥離を防止できる優れたEL表示装置を実現できる
ものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例による製造方法によって得ら
れたバックパッシベーション膜を用いたEL表示装置の
基本構成断面図
【図2】本発明の一実施例によるEL表示装置の製造方
法を説明するための断面図
【図3】本発明の一実施例による製造方法によって得ら
れたEL表示装置の動作説明のための寿命特性図
【符号の説明】
1 陽極酸化物薄膜(バックパッシベーション膜) 2 ポーラスタイプ陽極酸化膜 3 バリヤータイプ陽極酸化膜 4 背面電極 5 背面電極用材料 6 マスク 7 第2誘電体層 8 蛍光体層 9 第1誘電体層 10 透明電極 11 ガラス基板
フロントページの続き (72)発明者 松岡 富造 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (56)参考文献 特開 平1−195696(JP,A) 特開 昭64−59791(JP,A) 特開 昭64−43995(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H05B 33/22 H05B 33/10 H05B 33/26

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ガラス基板上に透明電極、第1誘電体
    層、蛍光体層、第2誘電体層、背面電極となる金属と同
    じ金属層を順次積層し、次いで前記金属層を所定のパタ
    ーンにマスクした後第1の陽極酸化を行ない、続いて
    記マスクを除去した後第2の陽極酸化を行なうことを特
    徴とするEL表示装置の製造方法。
  2. 【請求項2】 第1の陽極酸化が酸性溶液中で行なわ
    れ、第2の陽極酸化が中性溶液中で行なわれることを特
    徴とする請求項1記載のEL表示装置の製造方法。
  3. 【請求項3】 陽極酸化物薄膜が、アルミニウム、タン
    タルまたはチタンの酸化物薄膜であることを特徴とする
    請求項1記載のEL表示装置の製造方法。
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KR100621862B1 (ko) * 2001-09-21 2006-09-13 엘지전자 주식회사 일렉트로 루미네센스 표시패널의 패키징 케이스
KR100447499B1 (ko) * 2002-05-07 2004-09-07 주식회사 엘리아테크 유기 전계 발광 디스플레이 및 그의 제조방법
KR100707602B1 (ko) 2005-10-20 2007-04-13 삼성에스디아이 주식회사 유기 전계 발광 표시장치 및 그의 제조방법
KR20100087542A (ko) 2009-01-28 2010-08-05 삼성전자주식회사 유전체막이 코팅된 탄소 섬유 및 이를 포함하는 섬유형 발광 소자

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