JP2840022B2 - 温水循環処理装置 - Google Patents
温水循環処理装置Info
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- JP2840022B2 JP2840022B2 JP6064043A JP6404394A JP2840022B2 JP 2840022 B2 JP2840022 B2 JP 2840022B2 JP 6064043 A JP6064043 A JP 6064043A JP 6404394 A JP6404394 A JP 6404394A JP 2840022 B2 JP2840022 B2 JP 2840022B2
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Description
せ、温水を濾過、浄化、殺菌処理し、さらには加熱する
温水循環処理装置に関するものである。
内の温度を所定温度に維持し、かつ、温水内に存在する
人体からの老廃物を除去するものとして提案されてい
る。このため、この種の装置の本体ケース内には老廃物
を除去する浄化槽、温水を適温に維持し、殺菌する殺菌
灯及びヒータを収容した加熱殺菌槽及び循環ポンプ等の
温水処理部品を備えている。この温水処理部品の組付構
造として例えば、実開平4−103141号公報に示さ
れるような構成のものが知られている。すなわち、この
従来装置において、本体ケースには加熱殺菌槽がブラケ
ットを介して支持されている。浄化槽の上部開口には密
閉蓋が設けられ、密閉蓋には温水を殺菌するためのUV
ランプが取付けられている。そして、密閉蓋とUVラン
プとが共回りしないように、密閉蓋は前記ブラケットと
の係合により回転方向への移動が規制されてる。
側フレームに対し個々に固定され、各部品間が流路管で
接続されている。
循環処理装置においては、前者の場合UVランプを密閉
蓋に取付ける際、UVランプと密閉蓋とが共回りしない
ようにしたという点では優れているが、加熱殺菌槽を組
付けるのにブラケットが必要となる。また、UVランプ
を組付けるのに密閉蓋が必要となる。その結果、部品点
数が増加して製造コストが上昇するという問題があっ
た。さらに、ブラケットに対する密閉蓋のはめ込み作
業、密閉蓋に対するUVランプのはめ込み作業等、多く
の組付け作業を必要とするため、組付け作業時間が多く
取られ、組付け作業が面倒であった。
材の間には温水を循環するためのパイプを接続する必要
があり、温水処理部材と本体ケースとを同時に組付けた
後にパイプの配管を行わなければならない。このため、
本体ケースの狭い開口部を介してパイプを配管するた
め、パイプの連結作業が行い難いという問題があった。
されたものであって、その目的とするところは、部品点
数を削減によりコスト低減を図るとともに、温水処理部
材を容易に組付けることの可能な温水循環処理装置を提
供することにある。
めに請求項1に記載の発明において、基台に本体ケース
を設け、本体ケースは側部フレームと同側部フレームの
上部に組付けられる上部フレームとを含み、前記本体ケ
ース内に浴槽内の温水を循環させる循環ポンプ、温水を
浄化するための浄化槽、温水を加熱しかつ殺菌するため
の加熱殺菌槽等の温水処理部材を備えた温水循環処理装
置において、前記上部フレームに対して浄化槽及び加熱
殺菌槽を支持固定するとともに、基台に対して循環ポン
プを載置したことを要旨とするものである。
菌槽は上部フレームに吊下げ支持されていることを要旨
とするものである。
槽及び加熱殺菌槽を支持固定するので、浄化槽及び加熱
殺菌槽を上部フレームに容易に組付けることが可能とな
る。
殺菌槽は上部フレームに吊下げ支持されているので、浄
化槽及び加熱殺菌槽の下部を支持する部材は省略され、
装置全体の小型化が可能となる。
基づいて説明する。図1,図2に示すように、温水循環
処理装置1は家庭用の浴槽2付近に設置されている。温
水循環処理装置1の下部には基台3が設けられ、同基台
3の中央付近には吸水ポート4及び排水ポート5が形成
されている。吸水ポート4の下部には吸水管6の一端が
接続され、一方の排水ポート5の下部には排水管7の一
端が接続されている。両管6,7の他端は図15に示す
ように基台3の正面側壁を貫通して浴槽2内に延出さ
れ、浴槽2の内面に着脱可能に吸着された給排水ユニッ
ト8に接続されている。そして、浴槽2内の温水は給排
水ユニット8の図示しない吸入口を介して温水循環処理
装置1内へ吸水されるとともに、水循環処理装置1から
の温水が給排水ユニット8の図示しない流出口を介して
浴槽2内に排出される。
本体ケース9内には循環ポンプ10、温水処理部材とし
ての浄化槽11及び加熱殺菌槽12が設けられている。
浄化槽11内には袋状ネットに入れられた二層の浄化材
80,81が流通孔を有する仕切板82上に収納されて
いる。例えば、上層には敷武石からなる浄化材80を用
い、下層には麦飯石からなる浄化材81を用いている。
前記吸入ポート4の上部は流路管13を介して循環ポン
プ10の流入口10aに接続されている。循環ポンプ1
0の流出口10bは流入管14を介して浄化槽11の流
入口11aに接続されている。浄化槽11の流出口11
bは流路管15a,流量センサS及び二股流路管15b
を介して加熱殺菌槽12の流入口12a,12bに接続
されている。加熱殺菌槽12の流出口12cは流路管1
6a,16bを介して前記排水ポート5の上部に接続さ
れている。
を流れる温水の流量が検知され、所定量(本実施例では
流量センサSを通過する温水量が12リットル/分)以
下の場合、図示しない制御回路が温水循環処理装置1の
運転を停止するようになっている。また、循環ポンプ1
0は基台3の上面に形成された二股状をなすポンプ載置
台71に磁気遮蔽鉄板83及び防振体84を介装して上
載置され、ポンプ載置台71により循環ポンプ10は外
方へ移動規制される。
正面板17及び背面板18と、上部フレーム19とから
構成されている。正面板17及び背面板18は互いに対
向配置され、両板17,18上には上部フレーム19が
設けられている。図3に示すように、基台3の左右両端
には上方へ延びる連結部20が形成され、この連結部2
0には両側板17,18の下端がタッピンネジ21によ
り螺着されている。基台3の後部には上方へ延びるボス
部3aが形成され、同ボス部3aにはタッピンネジ21
により背面板18の下端縁が螺着されている。また、図
4に示すように、上部フレーム19の左右両端には下方
へ延びる連結部22が形成され、両側板17,18の下
端がタッピンネジ23により螺着されている。上部フレ
ーム19の後部には下方へ延びる複数のボス部19aが
形成され、同ボス部19aにはタッピンネジ23により
背面板18の上端縁が螺着されている。
面中央から右端にかけて段部19bが形成されている。
同段部19bの側部及び底部は本体ケース9と外部とを
連通する連通孔19cが開口されている。また、上部フ
レーム19には連通孔19cを覆うように蓋74が被せ
られ、蓋74と上部フレーム19とは一つのビス75に
て着脱可能に螺合されている。
側壁及び左右側壁には挿通孔72が形成され、未使用の
挿通孔72の開口部には抜き蓋73が連結されている。
すなわち、抜き蓋73の外縁には等間隔をおいて外方へ
延びる4本の腕部73a(一部のみ図示する)が形成さ
れ、腕部73aの先端は前記挿通孔72の内周面に一体
形成されている。そして、抜き蓋73を押圧することに
より、抜き蓋73と挿通孔72との連結が解除され、挿
通孔72が開口されるようになっている。
9の左端には平面円形状をなす挿入口24が形成されて
いる。この挿入口24の内周面には半径方向内方へ延び
る段部24aが形成されている。一方、前記浄化槽11
は有底円筒状に形成され、浄化槽11の上部開口部には
密閉蓋25がOリング85を介して螺合されている。ま
た、浄化槽11の上端外周には半径方向外方へ延びる係
合段部27が形成されている。そして、浄化槽11の係
合段部27と挿入口24の段部24aとは互いに係合さ
れた状態で、挿入口24の内周面と浄化槽11の外周面
とは接着剤により一体化されている。そして、浄化槽1
1は基台3の上面との間に僅かな隙間をもって、かつ同
槽11の下部に設けた水抜き管86を基台3の上面から
貫通した状態にて上部フレーム19に吊下げ支持されて
いる。また、前記水抜き管86には管口を開放あるいは
閉塞する栓体87が設けられている。
9の段部19bの裏面には円筒形状をなすリム28が一
体に形成されている。リム28の外側には同一円周上に
等間隔をおいて複数のボス部28aが形成されている。
また、前記加熱殺菌槽12の上端には周溝29が形成さ
れ、同周溝29内にはOリング30が嵌入されている。
周溝29の下方において、加熱殺菌槽12の上端外周に
はフランジ31が形成され、同フランジ31には等間隔
をおいて貫通孔31aが形成されている。そして、リム
28内に加熱殺菌槽12の上端が挿入された状態で、タ
ッピンネジ32が貫通孔31aを介して前記ボス部28
aに螺入され、上部フレーム19と加熱殺菌槽12とは
一体化されている。そして、加熱殺菌槽12は上部フレ
ーム19に吊下げ支持されている。
してのUVランプ33と、セラミックヒータ34とが設
けられている。前記UVランプ33の上部は上部フレー
ム19に形成された取付孔35を介して加熱殺菌槽12
内に挿入されている。図7に示すように、取付孔35の
下端にはUVランプ33の挿入をガイドするためのチャ
ンネル状をなすガイド板36が下方へ突出形成されてい
る。取付孔35の内周面には雌ネジ部35aが形成さ
れ、同雌ネジ部35aにはUVランプ33の上部が螺合
されている。また、UVランプ33の上部にはOリング
37が設けられ、このOリング37によりUVランプ3
3と上部フレーム19との間はシールされる。
の上端には加熱殺菌槽12の外部へ突出した電極取付金
具38が設けられている。この電極取付金具38の外周
面には複数(本実施例では4つ)の切欠面39が等間隔
をおいて形成されている。そして、このUVランプ33
を前記雌ネジ部35aに螺合する際には、図9に示すハ
ンドル40が用いられる。すなわち、このハンドル40
の把持部41の先端には平面略四角状をなす係合孔42
が形成され、同係合孔42は電極取付金具37に挿入可
能となっている。そして、係合孔42の内周面が前記切
欠面39に当接された状態で、ハンドル40を回動させ
ることによりUVランプ33を上部フレーム19に対し
締付固定できるようになっている。また、このハンドル
40は前記浄化槽11に対する密閉蓋25の螺合締付け
用としても使用できるように密閉蓋25の上面に設けた
複数個の突起25aに対し対角線上で嵌合するように係
合孔41a,41bが穿設されている。
管76が接続されている。この導体管76の外側部には
外方へ延びる接続突部76aが形成されている。接続突
部76aの先端にはアース線77の一端がビス78によ
り螺合接続され、アース線77の他端は図示しないアー
ス接続端子に接地されている。そして、UVランプ33
やセラミックヒータ34の劣化等により漏電した際、そ
の漏洩電流はアース線77を介してアース接続端子に流
れ込むようになっている。
らなる加熱殺菌槽12内には流入口12bを介してセラ
ミックヒータ34が遊挿されている。セラミックヒータ
34は細長円筒状に形成され、二股流路管15bからの
温水はセラミックヒータ34内に流入された際に加熱さ
れる。セラミックヒータ34の下部には電源用リード線
が内部へ挿入され、電源用リード線はセラミックヒータ
34内部に設けられた図示しないヒータ部に接続されて
いる。電源用リード線とセラミックヒータ34との接続
部にはシリコンゴムが粘着され、電源用リード線の電極
部の露出が防止されている。また、セラミックヒータ3
4内には図示しないサーミスタが埋設され、サーミスタ
信号線を介して図示しない制御回路に接続されている。
そして、前記サーミスタはセラミックヒータ34の温度
が所定以上の場合、制御回路が温水循環処理装置1の運
転を停止するようになっている。
2の底壁には下方へ延出された複数の位置決め棒43及
びボス部44が形成されている。位置決め棒43とボス
部44は交互に配置され、両者43,44は同一円周上
に所定間隔をおいて等間隔に位置されている。セラミッ
クヒータ34の下部にはフランジ45が固着され、同フ
ランジ45はセラミックヒータ34の下端から遊挿され
た押さえ金具46により支持されている。また、フラン
ジ45と流入口12bとの間にはシリコン樹脂からなる
パッキン47が設けられている。前記押さえ金具46は
皿状に形成され、その底部には複数の透孔48が形成さ
れている。そして、タッピンネジ49が透孔48を介し
て前記ボス部44に螺着され、この螺着により押さえ金
具46は上方へ押さえ付けられている。また、タッピン
ネジ49が挿通されない透孔48からは、押さえ金具4
6内に水滴等が溜まらないように水抜きされる。なお、
押さえ金具46とフランジ45との間にはアスベスト製
のシート50が介在され、このシート50によりセラミ
ックヒータ12の熱がタッピンネジ49に伝熱されるの
を抑制している。
ッピンネジ49のうち何れか一つにはアース線58の一
端が接続され、アース線58の他端は循環ポンプ10の
上端に設けられた端子Pに接続されている。この端子P
は図示しないアース接続端子に接地されている。そし
て、セラミックヒータ34が劣化等により漏電した際、
漏洩電流はアース線58を介してアース接続端子に流れ
込むようになっている。前記端子Pは循環ポンプ10を
介して温水循環処理装置1内における加熱殺菌槽12の
上流側の漏電防止アース点を構成している。
2内にはステンレス製の円筒状をなす反射鏡51が挿入
されている。そして、前記UVランプ33から照射され
る紫外線は反射鏡51の内周面にて反射され、殺菌加熱
槽12全体に照射される。すなわち、UVランプ33の
紫外線はセラミックヒータ34の外周面全体に照射可能
となっている。反射鏡51の上部には温水の流通孔52
と、後記する水温センサ57が挿通されるセンサ取付孔
53とが形成されている。また、反射鏡51の下端には
切欠部54が形成されている。この切欠部54は殺菌加
熱槽12の内周面から中心方向へ延びる位置決め突部5
5に係入されている。この係入により反射鏡51の移動
が規制される。
へ延びる取付筒56が形成され、同取付筒56内には水
温センサ57が挿入されている。この水温センサ57は
前記反射鏡51のセンサ挿通孔53を介して殺菌加熱槽
12内に突出されている。そして、水温センサ57によ
り温水の異常を検出した際には、図示しないコントロー
ラがブレーカを作動させ、電源の供給を停止するように
なっている。
9の正面板17の裏面には温水循環処理装置1全体を制
御する制御回路が設けられた基板59がタッピンネジ6
0にて固定されている。この基板59の上部には商用周
波数(50Hzもしくは60Hz)を切り換え可能な周
波数切換スイッチ61が設けられている。また、基板5
9の上部にはエルボ状をなす支持金具62が貫通支持さ
れ、同支持金具62の先端にはソケット63がタッピン
ネジ64により締付固定されている。ソケット63には
前記UVランプ33を点灯させるグローランプ65が着
脱可能に取着されている。
された防水カバー66がタッピンネジ67により締付固
定され、同防水カバー66により前記基板59が覆われ
ている。前記防水カバー66の中央付近には凹部66a
が形成されている。この凹部66aにより防水カバー6
6と前記循環ポンプ10とが干渉しないように回避され
ている。また、前記防水カバー66は基板1に対する装
着部品を収容するための大部屋90と小部屋91とから
構成されており、大部屋90に対応する基板59の板面
にはグローランプ65、ソケット63等の大物部品が、
また、小部屋91に対応する基板59の板面には傾斜セ
ンサK等の小物部品が集中配置されている。このように
配置することにより、本体ケース9内のスペースの大半
を占める循環ポンプ10、浄化槽11、加熱殺菌槽12
の隙間を有効利用でき本体ケース9の幅寸法を必要最小
限に抑えることができる。
をなす開口部68が形成され、同開口部68の上部には
図1に示すように上部フレーム19の連通孔19cが位
置されている。開口部68付近には前記周波数切換スイ
ッチ61及びグローランプ65が配置されている。開口
部68はゴム製からなるキャップ69にて着脱可能に塞
がれている。キャップ69の裏面には係合溝70が形成
され、係合溝70内は開口部68の周縁部が係合可能と
なっている。そして、キャップ69を開口部68から取
り外した状態で、開口部68を介して前記周波数切換ス
イッチ61を操作できるとともに、ソケット63からグ
ローランプ65を着脱できるようになっている。なお、
基板59の前方における正面板17の前面には操作パネ
ル92が取着されている。
を簡単に説明すると、浄化槽11、加熱殺菌槽12とを
一体化した上部フレーム19、基台3、背面板18とを
タッピンネジ21,23で固定し、その後、基台3に循
環ポンプ10を載置し、各流路管及び電気配線を行い、
基板59、防水カバー66を取付けた正面板17を装着
して完成する。従って、前記温水処理部品の個々での組
付けはなく、タッピンネジ21,23の締付けにて全て
の組付けを完了でき、部品点数の簡素化及び組立て時間
の大幅な短縮が図れる。
理装置1の作用及び効果について説明する。まず、温水
循環処理装置1の組立てついて説明する。温水循環処理
装置1の製造時において、上部フレーム19の挿入口2
4から浄化槽11を挿入し、浄化槽11の係合段部27
と挿入口24の段部24aを係合した状態で両者19,
11を接着する。また、上部フレーム19のリム28に
加熱殺菌槽12の上端を係入した状態でタッピンネジ3
2にて両者19,12を連結する。さらに、上部フレー
ム19の取付孔35にUVランプ33を挿入し、取付孔
35の雌ネジ部35aにUVランプ33の上端を螺合す
る。このように組付けられた浄化槽11の流出口11b
と加熱殺菌槽の流入口12a,12bとの間に流路管1
5a、流量センサS及び二股流路管15bを組付ける。
ッピンネジ21の螺入により組付けておく。この状態
で、浄化槽11及び加熱殺菌槽12をポンプ載置台71
の両側位置に配置し、上部フレーム19と背面板18の
上端縁とをタッピンネジ23の螺入により組付ける。次
いで、循環ポンプ10をポンプ載置台71に載置し、こ
の流入口10aと吸水ポート4の上部とを流路管13に
て接続し、流出口10aと浄化槽11の流入口11aと
を流路管14にて接続する。また、加熱殺菌槽12の流
出口12cと排水ポート5の上部とを流路管16にて接
続する。
を配置させ、正面板17の上端を上部フレーム19の連
結部20にタッピンネジ21の螺合により組付ける。な
お、吸水ポート4の下部には吸水管6の一端を接続し、
排水ポート5の下部には排水管7の一端を接続する。そ
して、両管6,7の他端を基台3正面の挿通孔72を介
して浴槽2内へ延出させる。
加熱殺菌槽12及びUVランプ33を一体に組付ける
際、従来技術と異なり、両槽11,12を組付けるため
のブラケットやUVランプ33を取付けるための密閉蓋
が用いられない。このため本実施例では前記従来技術で
必要となったブラケットや密閉蓋を省略することができ
るとともに、組付け作業工数を少なくすることができ
る。この結果、製造コストを低減するすることができ
る。
菌槽12等の部品を同時に組付ける必要がない。このた
め、正面板17を組付けることなく、本体ケース9の正
面を開口した状態で流路管13〜16の配管作業を行う
ことができる。この結果、広い開口部を介して容易に配
管作業を行える。
部フレーム19に吊下げ支持構造とした。このため、両
槽11,12の下部を支持するための支持部材を省略で
きて、基台3の上面と浄化槽11との間の間隔を極力狭
くすることができる。よって、本体ケース9の内部構造
の簡素化を図れるため温水循環処理装置1全体の軽量化
を図ることができるとともに、温水循環処理装置1の上
下方向の幅が狭くなるので、温水循環処理装置1の上下
方向の小型化を図ることができる。
熱殺菌槽12の上端との間にはOリング30を設けたの
で、加熱殺菌槽12から温水が漏れたりするのを防止す
ることができる。同じく、リム28とUVランプ33と
の間にはOリング37を設けたので、加熱殺菌槽12か
ら温水が漏れたりするのを防止することができる。
明する。温水循環処理装置1を駆動する際、循環ポンプ
10の作動により浴槽2内の温水は給排水ユニット8、
吸水管6、流路管13を介して循環ポンプ10に流入さ
れる。同循環ポンプ10からの温水は流路管14を介し
て浄化槽11内に流入され、浄化槽11内で温水中に含
まれる老廃物が浄化される。浄化槽11からの温水は流
路管15a、流量センサS及び二股流路管15bの一方
の流出口から加熱殺菌槽12内に流入される。また、温
水は二股流路管15bの他方の流出口からセラミックヒ
ータ34の内部を介して加熱殺菌槽12内に流入され
る。温水はセラミックヒータ34の内部を通過する際に
加熱される。
ランプ33から放射される紫外線により殺菌される。こ
の紫外線は反射鏡51の内周面に反射されて、温水ばか
りでなくセラミックヒータ34の外周面全体にも照射さ
れる。そして、加熱殺菌槽12からの温水は流路管1
6、排水管7及び給排水ユニット8から浴槽2内へ流出
される。
の外周付近に反射鏡51を設けたので、UVランプ33
からの紫外線はセラミックヒータ34に直接照射される
ばかりでなく、反射鏡51に反射して直接照射されない
部分にも間接的に照射される。この結果、紫外線はセラ
ミックヒータ34の外周面全体に照射することができる
ので、セラミックヒータ34に老廃物が付着するのを確
実に防止できる。さらに、老廃物の付着防止によりセラ
ミックヒータ34の加熱効率が低下するのを防止できる
ので、ランニングコストの上昇を防止できる。
3のグローランプ65を取り替えたり、周波数切換スイ
ッチ61の切換えについて説明する。まず、ビス75を
螺退して蓋74を上部フレーム19から取り外す。続い
て、上部フレーム19の連通孔19cを介してキャップ
69を開口部68から防水カバー66を取外す。そし
て、防水カバー66の開口部68を介してグローランプ
65を取り外したり、周波数切換スイッチ61を切換え
操作して所望の商用周波数に切り換える。上記作業が終
了後、キャップ69の係合溝70を開口部68の周縁に
係入し、開口部68をキャップ69により塞ぐ。さら
に、上部フレーム19に蓋74を被せた後、ビス75を
螺入して上部フレーム19に蓋74を装着する。
正面板17を取外した後、複数のタッピンネジ67を螺
退して防水カバー66をわざわざ正面板17から取り外
す作業を必要としない。このため、本実施例では従来技
術で必要であった防水カバーや正面板17を取外すこと
なく、蓋74を取外す作業のみでグローランプ65を取
り替えたり、周波数切換スイッチ61を切換え操作を容
易に行うことができる。
板3に接続されている複数のリード線(図示しない)
や、前記アース線58等が本体ケース9の外部へ露出す
ることがない。そのため、リード線やアース線58等が
他の部品に絡んだりすることなく、スムーズにグローラ
ンプ65を取り替えたり、周波数切換スイッチ61を切
換え操作できる。
ランプ34が漏電した場合について説明する。セラミッ
クヒータ34が劣化等により加熱殺菌槽12の外部で漏
電した際、漏洩電流はアース線58から循環ポンプ10
の外郭部を介して図示しないアース接続端子に流れ込
む。このため、メンテナンス等により、正面板17を取
外した場合等にセラミックヒータ34が加熱殺菌槽12
の外部で漏電しても確実に地絡させることができて、よ
り一層の安全を図ることができる。また、セラミックヒ
ータ34もしくはUVランプ34が劣化等により加熱殺
菌槽12の内部で漏電した際、漏洩電流は導電管76、
アース線77を介して図示しないアース接続端子に流れ
込む。このため、UVランプ33もしくはセラミックヒ
ータ34が加熱殺菌槽12の内部で漏電しても確実に地
絡させることができて、より一層の安全を図ることがで
きる。
とはなく、本発明の趣旨から逸脱しない範囲で以下のよ
うに適宜変更してもよい。 (1)上記実施例において反射鏡51はステンレス製の
もの使用したが、ステンレスよりもさらに反射性のよい
反射ガラス等を用いてもよい。
に形成し、この反射鏡51内周部にUVランプ33の基
端及びセラミックヒータ34の基端を固定してもよい。
また、反射鏡51を有底凹面状に形成し、この反射鏡5
1を加熱殺菌槽の下部へ配置してもよい。そして、反射
鏡51の底部からセラミックヒータ34を貫通し、同セ
ラミックヒータ34の上部にUVランプ33を設けても
よい。これらの構成にすれば、反射鏡51にて反射され
た紫外線はとくにUVランプ33の下部付近に照射さ
れ、より一層セラミックヒータ34に対して紫外線が照
射され易くなる。
蓋74とはタッピンネジ75にて螺合したが、上部フレ
ーム19と蓋74との間にはヒンジを設け、蓋74を回
動可能な構成にしてもよい。この構成にすれば、上部フ
レーム19から蓋74を取り外すことなく、容易にグロ
ーランプ65を取り替えたり、周波数切換スイッチ61
を切換え操作することができる。
された蓋に変更し、この蓋と防水カバー66との間には
ヒンジを設け、開口部68を蓋にて開閉可能な構成にし
てもよい。また、開口部68の周縁には係合溝を形成
し、同係合溝に開口部68を開閉可能な摺動蓋を係入し
てもよい。この構成にすれば、キャップ69等と異な
り、紛失したりすることがない。また、より一層容易に
グローランプ65を取り替えたり、周波数切換スイッチ
61を切換え操作することができる。
61は本体ケース9の内部に設けたが、本体ケース9の
外側壁もしくは基台3の外側壁に設けてもよい。この構
成にすれば、容易に操作することができる。
7を基板3の正面から浴槽2内へ延出させた。これ以外
にも、図16に示すように、左端の抜け蓋73を抜取
り、挿通孔73を開口させ、吸水管6及び排水管7を基
板3の左側から引き出すことも可能である。また、図1
7に示すように、右端の抜け蓋73を抜取り、挿通孔7
3を開口させ、吸水管6及び排水管7を基板3の右側か
ら引き出すことも可能である。よって、温水循環処理装
置1の配置状況に応じて、吸水管6及び排水管7を変更
できるので、柔軟に配管をすることがでる。
明によれば、浄化槽及び加熱殺菌槽を上部フレームに対
し容易に組付けることができるという優れた効果を奏す
る。
び加熱殺菌槽の下部を支持する部材を省略できるので、
装置全体を小型化することができるという優れた効果を
奏する。
示す正面図である。
視図である。
のみの断面図である。
のみの断面図である。
る。
ある。
る。
である。
…背面フレーム(側部フレーム)、19…上部フレー
ム、11…浄化槽(温水処理部材)、12…加熱殺菌槽
(温水処理部材)、33…UVランプ(温水処理部材)
Claims (2)
- 【請求項1】基台に本体ケースを設け、本体ケースは側
部フレームと同側部フレームの上部に組付けられる上部
フレームとを含み、前記本体ケース内に浴槽内の温水を
循環させる循環ポンプ、温水を浄化するための浄化槽、
温水を加熱しかつ殺菌するための加熱殺菌槽等の温水処
理部材を備えた温水循環処理装置において、 前記上部フレームに対して浄化槽及び加熱殺菌槽を支持
固定するとともに、基台に対して循環ポンプを載置した
ことを特徴とする温水循環処理装置。 - 【請求項2】前記浄化槽及び加熱殺菌槽は上部フレーム
に吊下げ支持されていることを特徴とする請求項1に記
載の温水循環処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6064043A JP2840022B2 (ja) | 1994-03-31 | 1994-03-31 | 温水循環処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6064043A JP2840022B2 (ja) | 1994-03-31 | 1994-03-31 | 温水循環処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07265618A JPH07265618A (ja) | 1995-10-17 |
JP2840022B2 true JP2840022B2 (ja) | 1998-12-24 |
Family
ID=13246694
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6064043A Expired - Fee Related JP2840022B2 (ja) | 1994-03-31 | 1994-03-31 | 温水循環処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2840022B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011137603A (ja) * | 2009-12-28 | 2011-07-14 | Daikin Industries Ltd | 温水制御ユニット |
-
1994
- 1994-03-31 JP JP6064043A patent/JP2840022B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07265618A (ja) | 1995-10-17 |
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