JP2833908B2 - 露光装置における位置決め装置 - Google Patents
露光装置における位置決め装置Info
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体基板及び液晶基
板等の被露光基板にパターンを転写する露光装置のパタ
ーンの寸法測定における露光装置におけるマーク位置決
め装置（以下端に位置決め装置と呼ぶ）に関する。
板等の被露光基板にパターンを転写する露光装置のパタ
ーンの寸法測定における露光装置におけるマーク位置決
め装置（以下端に位置決め装置と呼ぶ）に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の露光装置は、パターン転
写する前の準備操作として、まず、集光レンズを通して
ウェーハ上の合せマークに検出照明光（レーザ光）を照
射し、その反射光を再び集光レンズを通し検出光学系に
導き、入光された光電流による波形を一定のスライスレ
ベルで切ることにより合せマークの位置を決めるもので
ある。この場合、検出光学系に入光される光の取り込み
の方法によって明視野法と暗視野法とがある。ここでは
最も一般的な暗視野法における位置決め装置についての
み述べる。
写する前の準備操作として、まず、集光レンズを通して
ウェーハ上の合せマークに検出照明光（レーザ光）を照
射し、その反射光を再び集光レンズを通し検出光学系に
導き、入光された光電流による波形を一定のスライスレ
ベルで切ることにより合せマークの位置を決めるもので
ある。この場合、検出光学系に入光される光の取り込み
の方法によって明視野法と暗視野法とがある。ここでは
最も一般的な暗視野法における位置決め装置についての
み述べる。
【０００３】図５（ａ）及び（ｂ）は従来の一例を示す
位置決め装置のブロック図である。この位置決め装置
は、図５に示すように、検出照明光であるレーザ光２を
発生するレーザ発振器１と、被露光基板５より反射する
散乱光７，７ａを集光する集光レンズ４と、集光レンズ
４からの散乱光を９０°曲げて反射するハーフミラー３
と反射散乱光を透過する窓１６を有する空間フィルタ８
と、空間フィルタ８を透過した光を収束する検出レンズ
１１と収束された散乱光を捕捉する受光器２０と、受光
器２０より得られる光電流の波形を処理する波形処理部
２１と波形処理部２１の波形によりマークの位置を認識
して被露光基板５の移動を制御する制御部１４とを有し
ていた。
位置決め装置のブロック図である。この位置決め装置
は、図５に示すように、検出照明光であるレーザ光２を
発生するレーザ発振器１と、被露光基板５より反射する
散乱光７，７ａを集光する集光レンズ４と、集光レンズ
４からの散乱光を９０°曲げて反射するハーフミラー３
と反射散乱光を透過する窓１６を有する空間フィルタ８
と、空間フィルタ８を透過した光を収束する検出レンズ
１１と収束された散乱光を捕捉する受光器２０と、受光
器２０より得られる光電流の波形を処理する波形処理部
２１と波形処理部２１の波形によりマークの位置を認識
して被露光基板５の移動を制御する制御部１４とを有し
ていた。
【０００４】次に、この位置決め装置の動作を説明する
ためのフローチャート、図７（ａ）及び（ｂ）は受光さ
れる光信号を処理した例を示す図である。最初に図５
（ａ）と図６を参照して説明する。まず、ステップＡで
被露光基板５をステージに搭載する。次に、ステップＢ
でレーザ光２を被露光基板５に照射するとともに被露光
基板５とレーザ光２を相対的に動かし、走査を行なう。
このことにより位置決めマーク６ａの形状，サイズに応
じてレーザ光に応じてレーザ光２は、マーク６ａの段差
部と平坦部に応じて散乱又は反射される。そして、マー
ク６ａの段差部における散乱光７及び７ａは、再び集光
レンズ４を通った後、ハーフミラー３で右方向へ曲げら
れて、空間フィルタ８に到る。また、マーク６ａの平坦
部における正反射光９は暗視野信号検出の妨げとなるた
め、空間フィルタ８により遮断される。一方、散乱光１
０及び１０ａは、空間フィルタ８の窓１６を通過し、検
出レンズ１１を通って受光器２０に集められる。
ためのフローチャート、図７（ａ）及び（ｂ）は受光さ
れる光信号を処理した例を示す図である。最初に図５
（ａ）と図６を参照して説明する。まず、ステップＡで
被露光基板５をステージに搭載する。次に、ステップＢ
でレーザ光２を被露光基板５に照射するとともに被露光
基板５とレーザ光２を相対的に動かし、走査を行なう。
このことにより位置決めマーク６ａの形状，サイズに応
じてレーザ光に応じてレーザ光２は、マーク６ａの段差
部と平坦部に応じて散乱又は反射される。そして、マー
ク６ａの段差部における散乱光７及び７ａは、再び集光
レンズ４を通った後、ハーフミラー３で右方向へ曲げら
れて、空間フィルタ８に到る。また、マーク６ａの平坦
部における正反射光９は暗視野信号検出の妨げとなるた
め、空間フィルタ８により遮断される。一方、散乱光１
０及び１０ａは、空間フィルタ８の窓１６を通過し、検
出レンズ１１を通って受光器２０に集められる。
【０００５】次にステップＣで受光器２０により、光信
号から電気信号に変換された信号は、波形処理部２１に
て段差部での信号波形に形成される。図７はこの信号波
形の処理例を示す。受光器２０により、光信号から電気
信号に変換された信号の強度は、走査によって図７
（ａ）のように変化する。そしてこの信号強度のそれぞ
れ一番高いポイントＰ1,Ｐ2 を求める。次に走査開始か
らＰ1 迄の時間ｔ1 とＰ1からＰ2 迄の時間ｔ2 を求
め、図７（ｂ）のような位置決め信号を発生させる。最
後に位置決め信号がＨｉレベルにある部分の中心を、Ｔ
1 ＝Ｔ2 を満足するという条件から、位置決めに必要
な、走査開始点からマークの中心Ｐ3 迄の時間差ｘとし
て求める。この時走査は等速度で行なわれる為、ｘの時
間に速度をかけ算してやることにより、最終的な位置情
報が得られる。
号から電気信号に変換された信号は、波形処理部２１に
て段差部での信号波形に形成される。図７はこの信号波
形の処理例を示す。受光器２０により、光信号から電気
信号に変換された信号の強度は、走査によって図７
（ａ）のように変化する。そしてこの信号強度のそれぞ
れ一番高いポイントＰ1,Ｐ2 を求める。次に走査開始か
らＰ1 迄の時間ｔ1 とＰ1からＰ2 迄の時間ｔ2 を求
め、図７（ｂ）のような位置決め信号を発生させる。最
後に位置決め信号がＨｉレベルにある部分の中心を、Ｔ
1 ＝Ｔ2 を満足するという条件から、位置決めに必要
な、走査開始点からマークの中心Ｐ3 迄の時間差ｘとし
て求める。この時走査は等速度で行なわれる為、ｘの時
間に速度をかけ算してやることにより、最終的な位置情
報が得られる。
【０００６】ステップＤではこの位置情報に基づき、制
御部１４が位置を認識する。制御部１４は、ステップＥ
で、認識した位置迄ステージに指令して被露光基板５を
移動させ、位置決めを完了する。次に、ステップＦで露
光パターンを被露光基板５に転写し、ステップＧで露光
された被露光基板５を装置より外し、露光動作が完了す
る。 ここでは、説明簡単化のために、一方向のみの位
置決めについて説明したが、実際はＸ，Ｙ２方向同時に
前述の動作が行われた後、露光が行われる。同じよう
に、説明の簡単化のため、散乱光を検出する場合のみ説
明したがマークの回折光や反射光を利用する場合も同様
である。
御部１４が位置を認識する。制御部１４は、ステップＥ
で、認識した位置迄ステージに指令して被露光基板５を
移動させ、位置決めを完了する。次に、ステップＦで露
光パターンを被露光基板５に転写し、ステップＧで露光
された被露光基板５を装置より外し、露光動作が完了す
る。 ここでは、説明簡単化のために、一方向のみの位
置決めについて説明したが、実際はＸ，Ｙ２方向同時に
前述の動作が行われた後、露光が行われる。同じよう
に、説明の簡単化のため、散乱光を検出する場合のみ説
明したがマークの回折光や反射光を利用する場合も同様
である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】前述した従来の位置決
め装置では、マークの形状が変わると、散乱光７，７ａ
が図５（ｂ）のように空間フィルタ８により遮断され受
光器２０に届かなかったり、届いても十分な光強度が得
られず以下の問題が発生していた。（１）十分な散乱光
が得られず位置決めができない。（２）得られた散乱光
の光強度分布が判然とせず、位置決め信号のＳ／Ｎ比が
劣化し、測定精度が悪化したり、位置決めに時間がかか
る。（３）位置決め精度悪化により、作業の失敗ややり
直しが多い。
め装置では、マークの形状が変わると、散乱光７，７ａ
が図５（ｂ）のように空間フィルタ８により遮断され受
光器２０に届かなかったり、届いても十分な光強度が得
られず以下の問題が発生していた。（１）十分な散乱光
が得られず位置決めができない。（２）得られた散乱光
の光強度分布が判然とせず、位置決め信号のＳ／Ｎ比が
劣化し、測定精度が悪化したり、位置決めに時間がかか
る。（３）位置決め精度悪化により、作業の失敗ややり
直しが多い。
【０００８】本発明の目的は、かかる問題を解消すべ
く、マーク形状が変っても位置を認識し、精度良く位置
決めできる露光装置における位置決め装置を提供するこ
とである。
く、マーク形状が変っても位置を認識し、精度良く位置
決めできる露光装置における位置決め装置を提供するこ
とである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、被露光
基板に形成される位置決め用マークに集光される光を投
光する投光手段と、前記マークの平坦部からの正反射光
を遮断するとともに前記マークの段差部からの全散乱光
あるいは全回折光のみ通過させる大きさの窓を有する空
間フィルタと、空間フィルタ通過後の前記散乱光または
前記回折光を入光して画像信号を出力する画像センサ
と、この画像センサの画像信号として生ずる前記マーク
の両側の該段差部における２つの光強度分布のそれぞれ
のピークの波形が互いに対称であるか否かを判定し、こ
の判定により２つの前記ピークの位置の中間点を前記マ
ーク位置とする画像処理部を備える位置決め装置であ
る。
基板に形成される位置決め用マークに集光される光を投
光する投光手段と、前記マークの平坦部からの正反射光
を遮断するとともに前記マークの段差部からの全散乱光
あるいは全回折光のみ通過させる大きさの窓を有する空
間フィルタと、空間フィルタ通過後の前記散乱光または
前記回折光を入光して画像信号を出力する画像センサ
と、この画像センサの画像信号として生ずる前記マーク
の両側の該段差部における２つの光強度分布のそれぞれ
のピークの波形が互いに対称であるか否かを判定し、こ
の判定により２つの前記ピークの位置の中間点を前記マ
ーク位置とする画像処理部を備える位置決め装置であ
る。
【００１０】
【実施例】次に本発明について図面を参照して露光装置
の例で説明する。
の例で説明する。
【００１１】図１（ａ）及び（ｂ）ならびに図２は本発
明における位置決め装置の一実施例を示すブロック図、
図３は図１の位置決め装置の動作を説明するためのフロ
ーチャートである。この位置決め装置は、図１及び図２
に示すように、マーク６ａ，６ｂ及び６ｃというように
その形状及び寸法が多少変化しても正反射光のみ遮断
し、マーク段差部からの散乱光を全て通過させるのに十
分な大きさの窓を持つ空間フィルタ８ａと、この空間フ
ィルタ８ａを通過散乱光を入光して画像信号を出力する
画像センサ１２と、この画像信号である光強度分布の２
つのピークの波形が互いに対称であるか否かを判定し、
判定が良であれば２つのピークの位置の中間を前記マー
クの位置とする画像処理部１３とを備えている。
明における位置決め装置の一実施例を示すブロック図、
図３は図１の位置決め装置の動作を説明するためのフロ
ーチャートである。この位置決め装置は、図１及び図２
に示すように、マーク６ａ，６ｂ及び６ｃというように
その形状及び寸法が多少変化しても正反射光のみ遮断
し、マーク段差部からの散乱光を全て通過させるのに十
分な大きさの窓を持つ空間フィルタ８ａと、この空間フ
ィルタ８ａを通過散乱光を入光して画像信号を出力する
画像センサ１２と、この画像信号である光強度分布の２
つのピークの波形が互いに対称であるか否かを判定し、
判定が良であれば２つのピークの位置の中間を前記マー
クの位置とする画像処理部１３とを備えている。
【００１２】次に、この位置決め装置の動作を図１
（ａ）及び図３を参照して説明する。まず、図３のステ
ップＡで図１（ａ）の被露光基板５をステージに搭載す
る。次に、ステップＢで、図１（ａ）のレーザ発振器１
から発生されたレーザ光２は矢印の方向へ進みハーフミ
ラー３と集光レンズ４を通って被露光基板５にきざまれ
たマーク６ａに到る。この状態でレーザ光２または被露
光基板５を図の左右方向へ移動（走査）させると、マー
ク６ａの形状，サイズに応じて、レーザ光は散乱され
る。散乱光７及び７ａは再び集光レンズ４を通った後、
ハーフミラー３で右方向へ曲げられた後、空間フィルタ
８ａに到る。ここで、正反射光９は暗視野信号検出の妨
げとなるために空間フィルタ８ａにより遮光される。一
方、散乱光１０および１０ａは空間フィルタ８ａの窓１
６を通過し、検出レンズ１１を通って画像センサ１２に
集められる。画像センサ１２により面における画像信号
に変換される。次に、ステップＣで画像処理部１３にて
画像信号における段差部以外からの光の信号が除去さ
れ、２つのピーク値をもつ波形に形成される。次に、ス
テップＨ及びＩで段差部におけるピーク値が基準ピーク
値と比較されるとともにここで示すピーク波形が互いに
対称であるか否かを判定する。もし、信号強度及び波形
の対称性のいずれかがあらかじめ定められている基準を
満足しなければ、ステップＣで画像信号のフィルタリン
グ条件を変換する処理を行ない、再びＨからＩのステッ
プをくりかえす。Ｈ，Ｉのステップの条件が満足される
とステップＤ以降は従来と同じ様に位置を認識し、被露
光基板５を所定の位置迄移動させ露光を行なった後、被
露光基板５を取外すという作業が行なわれる。
（ａ）及び図３を参照して説明する。まず、図３のステ
ップＡで図１（ａ）の被露光基板５をステージに搭載す
る。次に、ステップＢで、図１（ａ）のレーザ発振器１
から発生されたレーザ光２は矢印の方向へ進みハーフミ
ラー３と集光レンズ４を通って被露光基板５にきざまれ
たマーク６ａに到る。この状態でレーザ光２または被露
光基板５を図の左右方向へ移動（走査）させると、マー
ク６ａの形状，サイズに応じて、レーザ光は散乱され
る。散乱光７及び７ａは再び集光レンズ４を通った後、
ハーフミラー３で右方向へ曲げられた後、空間フィルタ
８ａに到る。ここで、正反射光９は暗視野信号検出の妨
げとなるために空間フィルタ８ａにより遮光される。一
方、散乱光１０および１０ａは空間フィルタ８ａの窓１
６を通過し、検出レンズ１１を通って画像センサ１２に
集められる。画像センサ１２により面における画像信号
に変換される。次に、ステップＣで画像処理部１３にて
画像信号における段差部以外からの光の信号が除去さ
れ、２つのピーク値をもつ波形に形成される。次に、ス
テップＨ及びＩで段差部におけるピーク値が基準ピーク
値と比較されるとともにここで示すピーク波形が互いに
対称であるか否かを判定する。もし、信号強度及び波形
の対称性のいずれかがあらかじめ定められている基準を
満足しなければ、ステップＣで画像信号のフィルタリン
グ条件を変換する処理を行ない、再びＨからＩのステッ
プをくりかえす。Ｈ，Ｉのステップの条件が満足される
とステップＤ以降は従来と同じ様に位置を認識し、被露
光基板５を所定の位置迄移動させ露光を行なった後、被
露光基板５を取外すという作業が行なわれる。
【００１３】図１（ｂ）及び図２はマークの段差部角度
が急傾斜となったり、左右で非対称になった場合の例を
示す。いずれの場合も位置決めに必要な散乱光１０，１
０ａが十分広い窓１６を通って画像センサ１２に届くた
め、前述のＣ〜ＪのステップをＨ，Ｉの条件が満足され
る迄くりかえせば、図１（ａ）の場合と同じ動作をし、
位置を求めることができる。
が急傾斜となったり、左右で非対称になった場合の例を
示す。いずれの場合も位置決めに必要な散乱光１０，１
０ａが十分広い窓１６を通って画像センサ１２に届くた
め、前述のＣ〜ＪのステップをＨ，Ｉの条件が満足され
る迄くりかえせば、図１（ａ）の場合と同じ動作をし、
位置を求めることができる。
【００１４】図４（ａ）〜（ｃ）は画像処理例を説明す
るための画像検出エリアを示す図である。次に、以上の
ところ迄の説明を簡単にするために省略していた画像処
理の方法について改めて図４（ａ），（ｂ），（ｃ）の
例を使って説明する。図４（ａ）は図１（ａ）のマーク
の場合で、画像センサ１２の出力信号強度の分布を表わ
している。この図４（ａ）からわかるようにマーク６ａ
からの散乱光１０，１０ａは、画像センサ１２の上下２
ケ所に図４（ａ）のように結像する。従って、前述のス
テップＣで説明したように通常は１８，１８ａに示すエ
リア以外の信号を除去することにより、位置決めに必要
な信号を成形する。また、図１（ａ），（ｂ）及び図２
からわかるように本装置においてはマーク６ａ，６ｂ，
６ｃの形状や寸法等が多少変化しても散乱光１０，１０
ａを取り込めるように、空間フィルタ８ａの窓は従来の
方式に比べ十分に大きくなっている。そのため、本来位
置決めに必要な信号以外の迷光も画像センサ１２に到達
してしまう。しかし、いずれにしても画像信号として図
４（ａ）〜（ｃ）の画像検出エリア１９内に入るので上
述したステップＣで不必要な信号は除去処理してしまう
ので問題ないが、全くピーク値か検出されない場合は、
これは、マークがあらかじめ粗位置に置かれていないこ
とになる。このような場合は、被露光基板の粗位置設定
を行ってから、再びこの位置決め装置でマーク位置を求
める。
るための画像検出エリアを示す図である。次に、以上の
ところ迄の説明を簡単にするために省略していた画像処
理の方法について改めて図４（ａ），（ｂ），（ｃ）の
例を使って説明する。図４（ａ）は図１（ａ）のマーク
の場合で、画像センサ１２の出力信号強度の分布を表わ
している。この図４（ａ）からわかるようにマーク６ａ
からの散乱光１０，１０ａは、画像センサ１２の上下２
ケ所に図４（ａ）のように結像する。従って、前述のス
テップＣで説明したように通常は１８，１８ａに示すエ
リア以外の信号を除去することにより、位置決めに必要
な信号を成形する。また、図１（ａ），（ｂ）及び図２
からわかるように本装置においてはマーク６ａ，６ｂ，
６ｃの形状や寸法等が多少変化しても散乱光１０，１０
ａを取り込めるように、空間フィルタ８ａの窓は従来の
方式に比べ十分に大きくなっている。そのため、本来位
置決めに必要な信号以外の迷光も画像センサ１２に到達
してしまう。しかし、いずれにしても画像信号として図
４（ａ）〜（ｃ）の画像検出エリア１９内に入るので上
述したステップＣで不必要な信号は除去処理してしまう
ので問題ないが、全くピーク値か検出されない場合は、
これは、マークがあらかじめ粗位置に置かれていないこ
とになる。このような場合は、被露光基板の粗位置設定
を行ってから、再びこの位置決め装置でマーク位置を求
める。
【００１５】
【発明の効果】以上に説明したように本発明は、位置決
め用のマークからの正反射光を除外して全散乱光を通過
できる窓を有する空間フィルタ８ａと、通過する散乱光
を入光し、光強度分布の画像出力をする画像センサと、
その画像信号の強度分布よりピーク値を抽出して、その
ピーク値の中間点をマーク位置とする画像処理部とを設
けることによって、位置決めマークの形状や寸法が変っ
ても、十分な光強度を吸収しマーク位置を精度よく位置
決めできる位置決め装置が得られるという効果がある。
め用のマークからの正反射光を除外して全散乱光を通過
できる窓を有する空間フィルタ８ａと、通過する散乱光
を入光し、光強度分布の画像出力をする画像センサと、
その画像信号の強度分布よりピーク値を抽出して、その
ピーク値の中間点をマーク位置とする画像処理部とを設
けることによって、位置決めマークの形状や寸法が変っ
ても、十分な光強度を吸収しマーク位置を精度よく位置
決めできる位置決め装置が得られるという効果がある。
【図１】本発明の一実施例を示す位置決め装置のブロッ
ク図である。
ク図である。
【図２】本発明の一実施例を示す位置決め装置のブロッ
ク図である。
ク図である。
【図３】図１及び図２の位置決め装置の動作を説明する
ためのフローチャートである。
ためのフローチャートである。
【図４】画像処理例を説明するための画像検出エリアを
示す図である。
示す図である。
【図５】従来の一例を示す位置決め装置のブロック図で
ある。
ある。
【図６】図５の位置決め装置の動作を説明するためのフ
ローチャートである。
ローチャートである。
【図７】受光される光信号を処理した例を示す図であ
る。
る。
１ レーザ発振器 ２ レーザ光 ３ ハーフミラー ４ 集光レンズ ５ 被露光基板 ６ａ，６ｂ，６ｃ マーク ７，７ａ，１０，１０ａ 散乱光 ８，８ａ 空間フィルタ ９ 正反射光 １１ 検出レンズ １２ 画像センサ １３ 画像処理部 １４ 制御部 １５ ドライバ １６ 窓 １７，１７ａ 散乱光があたっているエリア １８，１８ａ フィルタリングエリア １９ 画像検出エリア
Claims (1)
- 【請求項１】 被露光基板に形成される位置決め用マー
クに集光される光を投光する投光手段と、前記マークの
平坦部からの正反射光を遮断するとともに前記マークの
段差部からの全散乱光あるいは全回折光のみ通過させる
大きさの窓を有する空間フィルタと、空間フィルタ通過
後の前記散乱光または前記回折光を入光して画像信号を
出力する画像センサと、この画像センサの画像信号とし
て生ずる前記マークの両側の該段差部における２つの光
強度分布のそれぞれのピークの波形が互いに対称である
か否かを判定し、この判定により２つの前記ピークの位
置の中間点を前記マーク位置とする画像処理部を備える
ことを特徴とする位置決め装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4046502A JP2833908B2 (ja) | 1992-03-04 | 1992-03-04 | 露光装置における位置決め装置 |
| US08/026,486 US5446542A (en) | 1992-03-04 | 1993-03-04 | Mark position determining apparatus for use in exposure system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4046502A JP2833908B2 (ja) | 1992-03-04 | 1992-03-04 | 露光装置における位置決め装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05249699A JPH05249699A (ja) | 1993-09-28 |
| JP2833908B2 true JP2833908B2 (ja) | 1998-12-09 |
Family
ID=12749023
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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