JP2825529B2 - 渦巻きチューブ型の分離装置 - Google Patents

渦巻きチューブ型の分離装置

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JP2825529B2 JP1139380A JP13938089A JP2825529B2 JP 2825529 B2 JP2825529 B2 JP 2825529B2 JP 1139380 A JP1139380 A JP 1139380A JP 13938089 A JP13938089 A JP 13938089A JP 2825529 B2 JP2825529 B2 JP 2825529B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、粒子を含むガスの流れを処理する場合の使
用に適した、ガスから粒子を分離し清浄化するための分
離装置に関する。
本発明に関する種類の分離装置は、より明確には、そ
の作用のどの観点に重点が置かれているかによって、渦
巻きチューブ型の粒子回収装置または渦巻きチューブ型
のガス清浄化装置と呼ばれるが、本発明は主にガスの清
浄化、特に空気の清浄化を意図したものである。従って
便宜上、本明細書においては一般に渦巻きチューブ型の
ガス清浄化装置という語が使用されるが、本発明は粒子
の回収という観点も含んでいる。
本明細書においては便宜上「上流」および「下流」と
いう語が使用されているが、それらはガス清浄化装置中
のガスの流れの通常の方向に関して判断される。
より詳細には、本発明は、粒子を含むガスの流れを処
理する場合の使用に適した、粒子からガスを除去する、
またはガスから粒子を回収するための渦巻きチューブ型
のガス清浄化装置または粒子回収装置に関し、装置は、
使用時には上流端となる一方の端にある注入口を有する
外側の円形チューブ、チューブ中の注入口の下流に軸方
向に配置されている渦巻きまたは回転流の発生装置、渦
巻き発生装置の下流の分離域、分離域の下流にあるチュ
ーブの周囲(側壁)に向かう周囲排出域、分離域の下流
にあるチューブの中心の近くにある中心排出域、外側の
円形チューブ内に同軸に配置されて周囲排出域と中心排
出域とを分離する内側の円形抽出チューブ、および周囲
排出域の下流末端の近くにある予め定められた軸方向位
置にある外側の円形チューブ中の排出手段を含む。内側
の円形抽出チューブは、分離域の下流端に相当する予め
定められた軸方向位置に上流端を有し、前記上流端は前
記中心排出域の中心オリフィスの範囲を定め、下流端は
中心排出域用排出手段を備える。内側の円形抽出チュー
ブは、外側の円形チューブに対して排出手段の下流にあ
るガス清浄化装置の予め定められた軸方向位置で位置決
めされ、周囲排出域中に連続的な環状流路を与えるため
に、上流方向にカンチレバー式に延在する。
環状流路は周囲排出部分の環状オリフィスを含み、前
記排出手段の上流先端または各々の上流先端は、外側の
円形チューブの注入口の内径の少なくとも約25%、好適
には少なくとも約30%の予め定められた距離だけ環状オ
リフィスの下流に軸方向に間隔を置いて配置されてい
る。
外側の円形チューブ(以下、外側のチューブと記す)
に対する内側の円形抽出チューブ(以下、内側のチュー
ブと記す)の配置は、外側のチューブの下流末端にある
ソケット部および内側のチューブの相補的なスピゴット
部により、雄型−雌型式に、外側のチューブに対して内
側のチューブを配置することを含む。
外側のチューブに対する内側のチューブの配置は、外
側のチューブと内側のチューブのそれぞれの相補的な相
互に当接するチェッキング表面(ストッパー表面)によ
り、外側のチューブに対して内側のチューブを配置する
ことも含む。
排出手段は、外側のチューブの円周方向に間隔を置い
た位置で該外側のチューブを貫通する周囲ポートを含
む。この排出手段の形状は、外側のチューブの周囲が平
行である場合に有益な利用ができる。
そうでない場合には、排出手段は約90゜から約180゜
の角度で円周方向に連続的に延在して外側のチューブに
設けられた単一のポートである。前記ポートは約120゜
の角度で延在する。この排出手段の形状は、外側のチュ
ーブの直径が下流末端に近づくに従って増大する場合
に、有益に利用される。
ここで本発明を添付の図式的な図面に関する例により
説明する。図面は本発明による渦巻きチューブ型のガス
清浄化装置の2つの実施例を軸方向の断面で示す。
図面のうち第1図に関して、本発明による渦巻きチュ
ーブ型のガス清浄化装置は、全体として参照番号10で示
される。
装置10は円筒形の外側のチューブ12を有し、チューブ
12は使用中に上流端となる一方の端部に注入口14を有す
る。
注入口14の下流の短い間隔を置いた位置には、渦巻き
発生域18中に位置している、全体として参照信号16で示
す渦巻き発生装置(以下、渦巻き発生器16と記す)があ
る。
渦巻き発生器16の下流には分離域20の範囲が定められ
る。使用時には、装置10を通る流れは、分離域20におい
て周囲方向外側の掃気流(scavenge flow stream)22と
中心の、または主要な流れ26とに分けられる。
分離域20の下流には、掃気流22が向かう周期方向外側
の掃気域24の範囲が定められる。掃気流は後に説明する
ように環状の掃気オリフィス29に向かって収縮される。
掃気域24と同軸で内側では、使用時に主要な流れ26の
向かう中心または主要な排出域28が設けられている。
掃気域24と中心排出域28とは、内側の円形抽出チュー
ブ(内側のチューブ)30によって分離され、該円形抽出
チューブ30の注入口は、分離域20の下流末端にある中心
オリフィス40の先端42により区画されている。円形抽出
チューブ30は、全体として外側に末広形になって外側の
チューブ12に接し、外側のチューブ12の、参照番号32で
示される予め定められた設置位置に設置される。内側の
チューブ30は、位置32において、同軸のスピゴット構造
34を形成し、該スピゴッド構造34は、必要ならばわずか
にテーパーをつけることができる。さらに位置32におい
ては外側のチューブ12の下流末端近くの内周は同軸のソ
ケット36を形成する。スピゴット構造34はソケット36中
に同軸きちんとはまり込む。スピゴット構造34のすぐ下
流にある円形抽出チューブ30の外周フランジのショルダ
ー38およびソケット36のすぐ下流にある、外側のチュー
ブの下流末端表面39は、外側のチューブに対して内側の
チューブを軸方向に位置決めするために相互に当接する
チェッキング構造(ストッパー構造)を形成する。
このように内側のチューブ30は接続構造(ストッパー
構造34およびソケット36)により外側のチューブ12に対
して固定され、かつ同軸に位置しているか、または中心
に配置されている。従って掃気域(周囲排出域)24への
注入口は、内側のチューブ30の先端の周りに同軸に区画
される。注入口は連続的な環状流路の一部を形成する。
環状流路が連続的であることの重要性は以下に説明す
る。
前記注入口の下流では、斜めの前面25を有する周囲リ
ング27が環状流路中に突出する。該リングのクラウンお
よび外側のチューブ12の内周は、環状の掃気オリフィス
29を形成する。周囲リング27は、内側のチューブ30と一
体になっており、その外周面から延在している。斜めの
前面25は、掃気流22を収縮するように掃気オリフィス29
に導く。掃気オリフィス29の下流の環状の掃気域24内に
は環状掃気室46が形成されている。外側のチューブ12の
壁にある円周方向に間隔を置いて配置されたポート48は
環状掃気室46から通じており、掃気流22の円周方向の排
出手段を形成する。ポート48の上流末端50は、掃気オリ
フィス29から、所定の間隔だけ下流に距たっていて、そ
の間隔は外側のチューブの内径の少なくとも25%であ
る。好適な実施例においては、その間隔は前記内径の約
30%である。
使用時、粒子を含むガスの流れは、注入口14から装置
10中に入る。渦巻き域18中には回転流が発生するが、こ
の渦巻き域18はガスよりも比重の重い粒子を回転流によ
り外側に移動させるものである。従って掃気流22は粒子
が豊富で、主流26は粒子が少ない、換言すれば、ガスが
粒子について清浄されたということで、そのためガス清
浄化装置という語が使用される。
掃気流22は周囲排出域(掃気域)24に流入し、掃気オ
リフィス29に流入する際に収縮し、さらに抽出室(環状
掃気室)46に入って、そこから周囲ポート48により排出
される。
粒子が減少され、すなわち清浄化された主流26は中心
排出域28に流入し、そこから排出される。
本発明による装置は、円形抽出チューブ30が前記の設
置構造により厳密かつ明確に同軸または同心に調節がで
きる。従って環状流路、特に掃気オリフィス29は連続的
でありまたは途切れがなく、それにより特に掃気流およ
び装置中の一般の流れの特徴が大いに強められる。
この点において、装置中の流れは強力な軸方向および
回転の成分を有することがわかる。流れの回転成分およ
びその結果として比較的重い粒子に作用する遠心力によ
り、粒子が装置の外囲方向に集中し、かつ装置の中心に
向かって減少する。このように装置の作用は流れの回転
成分次第である。発明者は例えばスポークのようないか
なる障害物も流れの回転成分に悪影響を与えることを既
に証明している。換言すれば、環状流路を連続的にする
ことにより、排出部分中の流れの回転成分が維持され、
それにより流れの障害物を有する他の装置に比較して装
置の作用を強化する。
さらに発明者は、回転流が流れの障害物を「上流で認
識」することを熟知している。従って、流れの障害物が
存在すると、流れの障害物の上流の流れも悪影響を受け
る。そのため、発明者が既に知っている他の清浄化装置
のように、掃気域24への注入口または掃気域24のオリフ
ィスの近くに流れの障害物が存在すると、流れの回転成
分、およびそれにより装置の作用が分離域中で悪影響を
受ける。
前記「上流の流れの認識」により、装置の作用に重要
な流域であるオリフィス29の下流の予め定められた最小
の距離に排出手段48を(より詳細には上流末端50を)有
することに限度が生ずる。従って環状掃気オリフィスを
対称または連続的にするために、掃気流の排出ポートを
環状の掃気オリフィスの下流の予め定められた最短距離
の位置に配置することが有益である。そのように間隔を
最小にすることによって排出ポートの中間の柱状物また
はランド部分のような流れの障害物が、掃気オリフィス
を通る流れに影響を与えることが防がれる。
発明者は、前記特徴によって装置を通る流れが完全に
対称または連続的となるため、主流中の粒子量の減少度
が高まることを証明した。
また発明者は、ACコースダスト(AC coarsedust)を
用いた試験において、従来技術の装置に比較して本発明
による装置の主流中の10ミクロン以上の粒子は5〜10倍
少なくなることを発見した。
外側のチューブの内径が18mm、全長が60mm、渦巻き発
生域の長さが20mm、渦巻きの角度が180゜、および中心
オリフィスの内径が10mmであり、また主流26中における
圧力降下の合計が標準水位計で3.8インチ(約0.96kPa)
かつ空気の流れが毎秒4.4グラムで作用する第1図の一
般的な形状の試験標本において、ACコースダストの場
合、ダスト除去の質量効率の合計は約98%であり、掃気
流が約6%〜14%、一般には10%で前記効率が生じた。
10ミクロン以上の粒子を除去する場合の質量効率は99.7
%であった。大粒の部分ほど摩耗または浸食にとって特
に有害であることが認められるので、大きな粒子を十分
に分離することが重要である。
図面のうち第2図に関しては、本発明によるガス清浄
化装置の別の実施例が一般に参照番号110で示される。
装置110は一般に第1図の装置10に似ており、同様の特
徴を有するものは同様の数字で示している。装置110の
詳細は説明せず、装置10との2つの違いを特に述べる。
まず、装置10は、平行な外周をもち、バッテリーまた
はアレイ中で使用される場合にパッキング密度が高くな
りやすいが、装置110の外径は下流末端に向かって増大
する。直径は、角度123によって示されているように外
側の円形チューブ112がまず、末広形になることによっ
て増大する。チューブの末広形の部分は112.1で示さ
れ、分離域120の先の環状オリフィス129の軸方向位置ま
で延在する。
直径はまた、初めの末広形のすぐ下流の別の末広形ま
たはディフューザ域によりさらに増大する。ディフュー
ザ域はディフューザ壁部112.2により区画される。
角度113は一般に約5゜であり、換言すれば初めの末
広形の夾角は一般に10゜である。
ディフューザ部分112.2の夾角は約20〜50゜で、便宜
上は約30゜である。
第2の違いは、装置10が複数の円周方向に間隔を置い
て配置されている排出部分(排出手段)48を有するのに
対し、装置110は約120゜の角度を含む単一の連続的な排
出部分148を有することである。
出願者は推測に束縛されるものではないが、外側の周
囲部分中の流れの回転成分は、第2図の排出手段によっ
てより良く維持されると思われる。
試験は、周囲排出域(掃気域)を通る流れを100%
「削除」する場合、換言すれば流れがほぼ全くない場合
に粒子はそれにもかかわらず、第2図の排出手段の形状
において、かなりの程度まで維持できる相当な回転速度
成分を有し、それにより分離効率が良くなることを示し
ている。
末広形の夾角が7゜、外側のチューブの内径が18mm、
全長が60mm、渦巻き発生域の長さが20mm、渦巻きの角度
が180゜、および中心オリフィスの内径が10mmであり、
また圧力降下の合計が標準水位計で4インチ(約1kPa)
かつ空気の流れが毎秒4.6グラムで作用する第2図の一
般的な形状の試験標本において、ACコースダストの場
合、ダスト除去の質量効率の合計は約97%であり、100
%の削除、すなわち掃気流が全くない場合に前記効率が
生じた。
同じ標本に関して、90%の削除で作用する場合、主流
中の圧力降下の合計は標準水位計で4インチ(約1kP
a)、空気の流れは毎秒4.6グラムであり、分離効率は98
%以上であった。
両試験はACコースダストで行った。
発明者は、本発明に関する種類の分離装置の多数の態
様に創意に富む貢献をした。本発明はそのような1つの
態様、すなわち外側の周囲域に連続的な流れを与えるこ
とに重点を置いている。本発明の特徴は、やはり本発明
者が出願中の特許において強調している特徴とともに、
多数の長所をもたらした。以下において、本発明が大い
に貢献したそれらの長所を特に説明する。本発明の特徴
のみが、必ずしも前記長所の唯一の要因ではないことが
わかる。
本発明の装置の重要な長所は、他の公知の装置と比較
して、分離効率が上がったことである。
約18mm程度の呼び径の、一般に第1図の形状をした比
較的小さな装置に関して、例えばヘリコプターのような
航空機におけるタービンにとって有害な作用条件をシュ
ミレートした条件下で、標準化された濃度の粒子を用い
た試験を行った。現在使用可能な、前記種類のタービン
において使用される分離装置が最高95%の粒子除去値を
出し、換言すれば、特定の試験に関しては5%以上の粒
子が、タービンが取り入れた気流中に残ったのとは対照
的に、本発明による分離装置は97%〜98%の粒子除去率
を出し、換言すれば注入された気流に約3%〜2%の粒
子しか残らなかったのである。
分離効率の重要性は、大型タービンのブレードの耐用
年数に対する分離効率の影響を考えれば、理解できる。
注入システムの分離効率が94%から95%に上昇すれ
ば、耐用年数は2倍になり、さらに97%に上昇すれば、
耐用年数はその2倍になる。従って現在の94%から(本
発明により得られる)97%に効率を上げると、耐用年数
は4倍に増加する。
工業用サイクロンを使用した大気汚染防止の出願中の
出願者が調整した粒子除去効率は約30%〜約50%まで様
々である。そのような性能の悪さの主な要因は、サイク
ロンが特定の応用の不適当なためである。同じ条件下
で、本発明による一般に第2図の、注入口の呼び径が概
して100mmである分離装置を使用した場合の粒子除去率
は約80%〜約90%であった。換言すれば、粒子による大
気汚染の度合は、従来装置を用いた場合のわずか約30%
(悪い場合)または20%(良い場合)であった。
さらに本発明による装置は、7ミクロン末端の粒子を
除去する場合、従来のサイクロンよりも効果的である。
このことは、鼻毛のような人間の生来の防護力が7ミク
ロン未満の粒子に対して大きく低下することを考える
と、特に重要である。さらに人間の肺の肺胞の断面が一
般に約7ミクロンであるため7ミクロン未満の粒子に対
して特に影響を受けやすい。
本発明による分離装置は、比較的低密度の粒子を除去
する場合に従来のサイクロンより優れている。
本発明の別の主な利点は、作用範囲が広いことであ
る。発明者は、周囲排出域に流れの障害物がないことに
より流れが安定することを発見した。このことは、流れ
の容量および動作圧力について作用範囲が広いことを要
求される応用においてとりわけ有益である。このように
呼び径の小さな(18mm)本発明による分離装置は、与え
られた最小の分離効率に関して、発明者が試験をした公
知の装置よりも作用範囲が広いことがわかっている。
さらに別の主な長所は、分離装置、特に工業利用のた
めの一般に第2図の実施例のような装置は、周囲排出域
中の100%削除、すなわちガス粒がほぼ全くない条件下
で使用できることである。その結果、処理すべきガスの
流れが全くないため、粒子のみを除去すればよいので、
掃気流の処理が大幅に単純化される。
また、大気汚染防止に適した分離装置に関して、従来
装置よりもコンパクトであるという主な利点も発見され
た。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本発明による渦巻きチューブ型のガ
ス静浄化装置の2つの実施例を軸方向の断面で示す。 10……渦巻きチューブ型のガス静浄化装置、(渦巻きチ
ューブ型分離装置) 12……外側のチューブ、 14……注入口、 16……渦巻き発生器、 18……渦巻き発生域、 20……分離域、 22……掃気流、 24……周囲排出域または、掃気域、 25……斜めの前面、 26……主流、 27……周囲リング、 28……中心排出域、 29……掃気オリフィス、 30……内側の円形抽出チューブ、 34……スピゴット構造、 36……ソケット、 38……周囲フランジのショルダー、 39……外側のチューブの下流末端表面、 40……中心オリフィス、 46……環状掃気室、 48……ポート、(排出手段) 50……中心オリフィス40の上流末端、 110……渦巻きチューブ型のガス清浄化装置、 112……外側の円形チューブ、 113……角度、 112.1……チューブの末広形の部分、 112.2……ディフューザ壁部、 120……分離域、 129……環状オリフィス、 148……排出域。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ピエール デ ヴィラース 南アフリカ共和国 トランスヴァール プロヴィンス ハートビースポール シ ョエマンスヴィール クイパー ストリ ート 118 (72)発明者 マーテイン コルネリス ヴァン ディ ッケン 南アフリカ共和国 トランスヴァール プロヴィンス プレトリア マガリース クリュン オンガーズ ストリート 165 (56)参考文献 特公 昭54−4106(JP,B2) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B01D 45/12 B04C 3/00

Claims (12)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】粒子を含むガスを清浄にし、または該ガス
    から粒子を回収するために、粒子を含むガスの流れを処
    理する場合の使用に適したガス清浄用または粒子回収用
    の渦巻きチューブ型分離装置であって、 使用中に上流端となる一方の末端にガスの注入口を有す
    る外側の円形チューブと、 該注入口の下流のチューブ部分に軸方向に配置されてい
    る渦巻きまたは回転流の発生装置と、 渦巻き発生装置の下流の分離域と、 分離域の下流にあるチューブの周囲の近くにある周囲排
    出域と、 分離域の下流にあるチューブの中心軸の近くにある中心
    排出域と、 周囲排出域と中心排出域とを分離するために外側の円形
    チューブ内に同軸に配置され、前記分離域の下流端に対
    応する軸方向の所定の位置に上流端を有し、該上流端は
    前記中心排出域に対する中心オリフイスを画成し、下流
    端は中心排出域用の排出手段を備えている内側の円形抽
    出チューブと、 周囲排出域の下流端の近くの軸方向の所定の位置で外側
    の円形チューブを貫通する排出手段を有し、 内側の円形抽出チューブと外側の円形チューブとを固
    く、かつ、同軸に相対位置決めするために内側の円形抽
    出チューブと外側の円形チューブとの間に環状に延び、
    かつ、周囲排出域の下流側境界を形成すると共に内側の
    円形抽出チューブを上流方向へカンチレバー式に支持す
    るように軸方向位置が定められている同軸位置決め構造
    と、 内側の円形抽出チューブの上流端の空間的に下流に内側
    の円形抽出チューブから半径方向外方に延び、それぞ
    れ、流れが狭くなる収束部分と環状の掃気オリフィスと
    流れが広がる発散部分とを周囲排出域に形成する、順
    に、末広がりに発散する環状前面と環状のクラウンと先
    細りに収束する環状面とをもつ周囲リングを有し、 前記分離域、周囲排出域の上流部分および中心排出域の
    上流部分の境界を定める壁は連続かつ円筒形であり、前
    記分離域、周囲排出域の上流部分および中心排出域の上
    流部分は周方向に途切れない構造をもつ、 渦巻きチューブ型分離装置。
  2. 【請求項2】前記排出手段の上流先端は、外側の円形チ
    ューブの注入口の内径の少なくとも約25%の予め定めら
    れた距離だけ環状の掃気オリフィスから軸方向下流に間
    隔を置いて配置されている、請求項1記載の装置。
  3. 【請求項3】前記排出手段は、該外側の円形チューブを
    貫通する周囲ポートを含み、該周囲ポートは、円周方向
    に相互に間隔を置いて配置され、かつ、該外側の円形チ
    ューブの注入口における内径の約30%だけ環状の掃気オ
    リフィスの下流に、かつ、掃気オリフィスから間隔を置
    いて位置している、請求項2に記載の装置。
  4. 【請求項4】前記予め定められた距離は外側の円形チュ
    ーブの注入口における内径の約30%である請求項2に記
    載の装置。
  5. 【請求項5】内側の円形抽出チューブは基本的に外側の
    円形チューブの直径に発散して末広形を形成し、該未広
    形は位置決め構造を形成し、外側の円形チューブに対す
    る内側の円形抽出チューブの配置は、外側の円形チュー
    ブの下流末端にあるソケット部および内側の円形抽出チ
    ューブの相補的なスピゴット部により、雄型一雌型式に
    外側の円形チューブに対して内側の円形抽出チューブを
    同心的に配置することを含む、請求項1に記載の装置。
  6. 【請求項6】外側の円形チューブに対する内側の円形抽
    出チューブの位置設定は、外側の円形チューブと内側の
    円形抽出チューブのそれぞれの相互に当接する相補的な
    チェッキング表面による、外側の円形チューブに対する
    内側の円形抽出チューブの位置設定を含む、請求項5に
    記載の装置。
  7. 【請求項7】排出手段は、外側の円形チューブを貫通す
    る少なくとも1つのポートを有し、半径方向に開いて軸
    方向および周の一部分に沿って延びる排出手段の形状を
    有し、前記外側の円形チューブに対する内側の円形抽出
    チューブの設定位置は、排出手段の下流端の下流の、該
    下流端に近接した位置にあり、周囲流路の半径方向の幅
    は、排出手段の軸方向範囲に亙って、軸方向に進むに従
    って減少する、請求項5に記載の装置。
  8. 【請求項8】外側の円形チューブは、軸方向に環状オリ
    フィスと排出手段の上流端との間の部分に末広形の部分
    を有し、前記排出手段は外側の円形チューブに単一のポ
    ートを備え、該ポートは約90゜ないし約180゜の角度で
    円周方向に連続的に延在する請求項1に記載の装置。
  9. 【請求項9】前記ポートは約120゜の角度で延在する、
    請求項8記載の装置。
  10. 【請求項10】前記周囲排出域と中心排出域の前記上流
    部分は、周囲排出域に形成された流れが広がる発散部分
    を越して下流に延びている、請求項1に記載の装置。
  11. 【請求項11】粒子を含むガスを清浄にし、または該ガ
    スから粒子を回収するために、粒子を含むガスの流れを
    処理する場合の使用に適したガス清浄用または粒子回収
    用の渦巻きチューブ型分離装置であって、 使用中に上流端となる一方の末端にガスの注入口を有す
    る外側の円形チューブと、 該注入口と下流のチューブ部分に軸方向に配置されてい
    る渦巻きまたは回転流の発生装置と、 渦巻き発生装置の下流の分離域と、 分離域の下流にあるチューブの周囲の近くにある周囲排
    出域と、 分離域の下流にあるチューブの中心軸の近くにある中心
    排出域と、 周囲排出域と中心排出域とを分離するために外側の円形
    チューブ内に同軸に配置され、前記分離域の下流端に対
    応する軸方向の所定の位置に上流端を有し、該上流端は
    前記中心排出域に対する中心オリフイスを画成し、下流
    端は中心排出域用の排出手段を備えている内側の円形抽
    出チューブと、 周囲排出域の下流端の近くの軸方向の所定の位置で外側
    の円形チューブを貫通する排出手段を有し、 内側の円形抽出チューブと外側の円形チューブとを固
    く、かつ、同軸に所定の設定位置に相対位置決めするた
    めに内側の円形抽出チューブと外側の円形チューブとの
    間に環状に延び、かつ、周囲排出域の下流側境界を形成
    すると共に内側の円形抽出チューブを上流方向へカンチ
    レバー式に支持するように軸方向位置が定められている
    同軸位置決め構造とを有し、 前記排出手段は前記外側の円形チューブを貫通して、半
    径方向に露出していて周囲の一部分に沿って軸方向に延
    び、上流端と下流端とを有する少なくとも1つのポート
    を有し、前記少なくとも1つのポートの前記上流端は前
    記周囲排出域への入り口の下流に所定距離だけ該入り口
    から距離を隔てており、前記内側の円形抽出チューブは
    所定の長さをもち、かつ、周囲の一部分に沿って軸方向
    に延びるポートに近接した位置において前記長さの所定
    部分に沿って末広形であり、前記周囲排出域は前記周囲
    の一部分に沿って軸方向に延びるポートに近接した位置
    において前記内側の円形抽出チューブの前記所定の長さ
    の前記所定部分に沿って次第に狭く収縮している渦巻き
    チューブ型分離装置。
  12. 【請求項12】前記外側の円形チューブに対する内側の
    円形抽出チューブの前記設定位置は、排出手段の下流端
    の下流で該下流端に近接している請求項11に記載の装
    置。
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