JP2817174B2 - 半導体レーザ - Google Patents

半導体レーザ

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は情報処理用の高密度光記録に用いる半導体レ
ーザに関するものである。
〔従来の技術〕
単色性とコヒーレンシーの高いレーザ光を用いた光記
録においてその記録密度を高めるためにはできる限り短
い波長の発振光が必要である。従来、室温CW発振できる
最短波長の限界としてはAlGaInP系による640nmが得られ
ている(Erectronics Let.vol.23(1987)p.1327)。こ
れよりさらに短いコヒーレント光源としてはプロトン交
換法を用いたLiNbO3導波路による第2高調波素子を半導
体レーザと組み合わせたものがあり(応用物理vol.56
(1987)p.1637)、420nmの光が得られている。
〔発明が解決しようとする課題〕
半導体レーザから出射されるレーザ光を導波路型の第
2高周波素子に結合させる場合、高い変換効率を得るた
めには非常に高い工作精度が必要であり、量産には不向
きである。また、整った出力光を得るほどに工作精度を
上げることは事実上困難である。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は組立て工程を全く必要としないで、モノリシ
ックに成長した半導体結晶を第2高調波素子に用いた半
導体レーザであり、ブリュリアンゾーン中のΓ点におけ
る第1伝導帯と第2の伝導帯のエネルギー差が第1伝導
帯と第1価電子帯のエネルギー差にほぼ等しい半導体混
晶層から成る第2高調波発生層を、発光に与る活性層を
含む多層構造と、この多層構造の積層面に垂直な一対の
端面とで成る共振器の内部に持つことを特徴とした構成
である。
〔作用〕
本発明の半導体レーザの中で主要な役割を果たす第2
高調波発生層(以下SHG層と略す)を成している半導体
混晶のエネルギーバンドを第2図に、吸収スペクトルを
第3図に示す。以下、これらの図を参照しながら本発明
の作用を説明する。該SHG層のエネルギーバンドは第2
図に示すように第2伝導帯3と第1伝導帯2のエネルギ
ー差が第1伝導帯2と第1価電子帯1のエネルギー差に
ほぼ等しく、ともにhνである。半導体レーザが発振し
ている時、共振器内にある該SHG層においてエネルギー
hνの光子密度が非常に高くなるため第1価電子帯の電
子はエネルギーhνの光子を2ケ吸収して第2伝導帯3
へ共鳴励起される。
第3図(a)はレーザ発振していない時のSHG層の吸
収スペクトルを示す。共振器内でレーザ発振が始まり、
前述の如く2光子共鳴励起が充分に増大すると第2伝導
帯3と第1価電子帯1の間で光励起による反転分布が生
じ、第2高調波5が得られる。この時のSHG層の吸収ス
ペクトルを第3図(b)に示す。また、基本波発振強度
の注入電流依存性および第2高調波光強度の基本波光強
度依存性をそれぞれ第4図(a),(b)に示す。
本発明は上述のSHG層が、活性層を含む多層構造と共
に同一基板上にモノリシックに形成されるので組立作業
が不要となり、結合効率、変換効率の高いSHG層を備え
た半導体レーザが容易に得られる。
〔実施例〕 第1図に本発明の実施例を示す。両ヘキ開面で構成さ
れる共振器は電流注入領域22と第2の高調波発生領域23
から成る。電流注入領域22はn型クラッド層11とp型ク
ラッド層13とでクラッド層よりも禁制帯幅の狭い活性層
12を挟んだ通常のダブルヘテロ(DH)構造であり、電流
注入による第1伝導帯−第1価電子帯間の反転分布が基
本波hνのゲインを与え、共振器内にレーザ発振を起せ
る。第2高調波発生領域23には前述の半導体混晶層で成
る第2高調波発生層16が設けられており、エネルギーh
νの基本波4により2光子励起されてエネルギー2hνの
第2高調波5を発生する。レーザ素子出力光としては基
本波4と第2高調波5の混在光が得られる。
第5図に第2高調波発生層となる半導体混晶材料の設
計例を示す。横軸は該3元混晶材料の混晶比xを示す。
両端x=0,x=1はそれぞれ2元化合物半導体AC,BCであ
る。縦軸は第1価電子帯エネルギーを基準としたエネル
ギーを示す。図中、混晶比x=xcの時にEC2−EC1=EC1
−EVが成り立ち、第2高調波発生層に適する。
〔発明の効果〕
本発明によれば、緑・青・紫などの短波長領域で室温
CW動作可能な半導体レーザを得ることができる。
第2高調波の波長は基本波の1/2となるため、光記録
読出し用光源として用いた場合、4倍の記録密度の情報
を読出すことが可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例を示す図、第2図は第2高調波
発生層のバンド構造を示す図、第3図は第2高調波発生
層の吸収スペクトルを示す図、第4図は基本波光強度お
よび第2高調波光強度を示す図、第5図は第2高調波発
生層となる半導体混晶材料の設計例を示す図である。 図中、1は第1価電子帯、2は第1伝導帯、3は第2伝
導帯、4は基本波、5は第2高調波、12は活性層、16は
第2高調波発生層を示す。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】発光に与る活性層を含む多層構造と、この
    多層構造の積層面に垂直な一対の出射端面とで成る共振
    器内に、ブリュリアンゾーン中のΓ点における第1伝導
    帯と第2伝導帯のエネルギー差が第1伝導帯の第1価電
    子帯のエネルギー差にほぼ等しい半導体混晶層を持つこ
    とを特徴とした半導体レーザ。
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