JP2815240B2 - 金属表面のレーザー加工方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、レーザー光の照射によ
って金属表面に微細な凹凸を密に形成する加工方法に関
するもので、例えば金属製装飾品、金属製家庭電化用
品、金属製工業用品等、種々の金属製品の表面の全体な
いし一部の模様等として虹色様あるいは玉虫色様といっ
た美麗な反射光沢を付与するのに利用される。

【０００２】

【従来の技術】レーザー光は位相が揃った定波長のコヒ
ーレントな光であってビームとしての指向性に優れてお
り、レンズにて収束して微小スポットに高エネルギーを
集中できることから、近年では金属の切断、穴あけ、溶
接等に多用されている。

【０００３】しかして、このようなレーザー光による従
来の金属加工は、いずれも加工用収束レンズの焦点位
置、つまりビームのエネルギー密度が最大となる位置で
の高熱を利用し、この焦点位置におけるスポット径で金
属を瞬間的に溶融・蒸発させるものである。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、本発明者等
は、金属表面に可視光の波長域に近い１μｍあるいはそ
れ以下の微細凹凸を密に形成した場合に、この凹凸表面
が回折格子と同様に作用して入射光を分光して反射する
ことから、虹色様あるいは玉虫色様といった美麗な反射
光沢を生じるという知見を得ている。

【０００５】しかるに、前記従来のレーザー光による加
工手段では、ビームが共振器より完全な平行光とし出射
されても回折による拡がりを生じると共に、光路を形成
する工学系の精度にも限界があり、集光レンズにより収
束可能な最小スポット径は一般的に数μｍ〜数１０μｍ
程度であることから、上記のような１μｍあるいはそれ
以下といった微細凹凸を金属表面に密に形成できなかっ
た。

【０００６】また仮に、共振器や工学系の精度的な改良
によって集光レンズによる焦点スポット径を充分に絞り
込めたとしても、従来の加工手段では個々の凹凸を一つ
ずつ形成していく必要があるため、加工に膨大な時間を
要することになり、到底実用的には採用できない。

【０００７】本発明は、上述の事情に鑑みて、従来のレ
ーザー光による加工手段とは異なって金属表面に密な微
細凹凸を容易に短時間で形成でき、金属表面の加飾手段
として実用的に優れたレーザー加工方法を提供すること
を目的としている。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る金属表面のレーザー加工方法は、金属
表面に空気中において直線偏光または楕円率０．３以下
の楕円偏光のパルスレーザー光を照射面での照射パルス
数が複数回となるように照射し、該金属表面にレーザー
光の干渉縞の強度分布に対応し微細凹凸を形成すること
を特徴とする構成を採用したものである。

【０００９】また本発明においては、上記のレーザー加
工方法において、金属表面に照射するパルスレーザー光
を直線偏光または楕円率０．３以下の楕円偏光のパルス
レーザー光に設定する手段として、レーザー共振器の内
部に組み込んだ直線偏光素子を利用する請求項２の構
成、一端面を入射角がブリュースター角をなすように設
定したレーザーロッドを使用する請求項３の構成、レー
ザー共振器から出射されたパルスレーザー光の光路中に
介装した直線偏光素子を利用する請求項４の構成、をそ
れぞれ好適態様としている。

【００１０】

【作用】レーザー光は周知の如くコヒーレントな光であ
って完全な可干渉性を有するため、同一振動数で一定の
位相差を有するビーム成分が重なった際に互いに干渉し
合い、照射面では両ビーム成分の位相傾斜分布に対応し
た明暗の干渉縞を示すことになる。

【００１１】従って、空気中において、レーザービーム
を集光レンズや凹面鏡等の収束手段で収束して被加工物
の金属表面に照射する際に、その照射位置を収束手段の
焦点よりも深浅一方向側にずれた位置に設定し、照射面
で干渉縞を生じさせた場合、該干渉縞の明部が金属を溶
融・蒸発させ得る充分なエネルギー密度を有して、且つ
暗部のエネルギー密度が上記溶融・蒸発に不充分であれ
ば、該金属表面に該干渉縞の明部を凹、暗部を凸とした
凹凸、つまり干渉縞の強度分布に対応した凹凸が形成さ
れることになる。

【００１２】ここで、照射スポット内の干渉縞の明暗間
隔はレーザー光の照射波長とほぼ同程度となることか
ら、所要の波長域で発振するレーザーを選択することに
より、干渉縞に対応した微細凹凸を可視光の波長域に近
い１μｍ程度あるいはそれ以下といった微細な数百本も
の凹凸条（例えば中程度の出力を有するＹＡＧレーザー
加工機でも凹条として３００本程度）にて構成できる。
そして、この微細凹凸を有する金属表面は、回折格子と
同様に作用して入射光を分光して反射し、見る角度や入
射光の方向によって色合いが虹色様に多彩に変化する反
射光沢を示すことになる。

【００１３】しかして、上記微細凹凸の形成状況を観察
してみると、金属表面の定位置に干渉縞をなすパルスレ
ーザー光を照射した場合、該干渉縞に対応した微細凹凸
は徐々に形成されるのではなく、照射パルス数がある回
数に達した後に急速に形成されるのであり、それまでの
照射エネルギーは専ら微細凹凸形成の準備段階としての
表面性状の改変及び昇温に消費されることが判明してい
る。例えばステンレス綱では、照射パルス数がある回数
に達するまでは表面の加熱酸化が進むだけであるが、こ
の酸化に伴う変色によって熱吸収性が高まり、ある段階
で一挙に干渉縞に対応した微細凹凸が形成される。そし
て、一旦微細凹凸が形成されると、その表面は反射性が
強くなり、続いて照射されるパルスのエネルギーが反射
分散されることから、該微細凹凸は乱されにくい。

【００１４】従って、金属表面に対するパルスレーザー
光の照射位置を連続的に移動しても、その走査線上の金
属表面各部がレーザー光通過の最終に近い段階で上記微
細凹凸を生じるパルス数になるように、パルスの周波数
と走査速度を設定することにより、谷山の重なりによる
微細凹凸の不鮮明化ないし消失が回避され、走査線全体
を該微細凹凸にて構成できる。よって、このレーザー走
査線で描画することにより、金属表面にそれ自体が虹色
様に多彩に変化する反射光沢を生じる模様や図柄を自在
に施せる。なお、上記微細凹凸を生じるパルス数は、被
加工物である金属の種類つまり熱伝動率及び融点の違い
や、レーザー光のエネルギー密度等によって異なること
は言うまでもない。

【００１５】上記の多彩に変化する反射光沢を鮮明なも
のとするには上記微細凹凸を明瞭に形成する必要があ
り、そのために本発明においては、金属表面に照射する
レーザー光を前記のように直線偏光または楕円率０．３
以下の楕円偏光（以下、長楕円偏光と称する）のものと
する。すなわち、レーザー発振による本来のレーザ光は
非偏光であり、何らかの一次的又は二次的要因が加わる
ことによって直線偏光、楕円偏光、円偏光、ランダム偏
光等の偏光を生じるのであるが、本発明ではレーザ光を
積極的に上記の直線偏光または長楕円偏光のレーザ光と
して金属表面に照射する。これは、本発明者らの研究に
より、直線偏光に近いほど干渉縞が明瞭となってそれだ
け明瞭な微細凹凸を形成でき、逆に楕円率が大きくなる
ほど微細凹凸は不明瞭となり楕円率０．３を越える楕円
偏光では良好な微細凹凸とならず、円偏光やランダム偏
光及び非偏光等では該微細凹凸は形成不能であることが
判明したことに基づいている。なお、干渉縞の方向つま
り微細凹凸の凹凸条の方向は、偏光面の方向（長楕円偏
光では長軸方向）に直交している。

【００１６】金属表面に照射するレーザー光を上記の直
線偏光または長楕円偏光とする手段としては、レーザー
発振器から出射されるレーザー光自体を該偏光特性とす
る一次的手段、並びに該発振器から出射されたレーザー
光を二次的に直線偏光または長楕円偏光に変える手段が
ある。しかして前者の一次的手段としては、レーザー共
振器の内部に入射光がブリュースター角をなすように配
置した平行平面の透明板や偏光板の如き直線偏光素子を
組み込む方法や、レーザーロッドの一端面を軸方向に対
してブリュースター角をなす傾斜面に設定する方法等が
ある。また後者の二次的手段としては、レーザー光の光
路中に上記同様の直線偏光素子を介在させる方法があ
る。

【００１７】レ−ザー光の照射面で干渉縞を生じさせる
手段には特に制限はなく、例えば、ＴＥＭ₁₀モードやＴ
ＥＭ₂₀モードの如き低次のマルチモード発振を行うレー
ザー光源の明パターン成分相互を重ねる方法、単一のレ
ーザー光より分割された複数本のビームを重ねる方法、
レーザー共振器内または外部光学系においてレーザービ
ームの一部を横ずれ変位させて元のビーム成分と変位し
たビーム成分とを重ねる方法等がある。

【００１８】更に、既存のレーザー加工装置において
も、レーザー共振器や外部光学系を構成する各部材の寸
法精度及び配置位置、該共振器の作動条件等により、レ
ーザー光が自然に干渉光となっている場合がある。従っ
て、このような場合は、そのレーザー光をそのまま本発
明に利用できることは言うまでもない。その他、レーザ
ー光の照射面で生じる表面プラズマ波による干渉にて該
照射面で干渉縞を生じることも考えられる。但し、いず
れにおいても、干渉縞に対応した微細凹凸を明瞭に形成
する上で、レーザー光を収束して金属表面に照射させる
光収束手段の焦点よりも深浅一方向側にずれた位置に被
加工物の金属表面を配置させる必要がある。

【００１９】

【実施例】図１で示す本発明の第１実施例に用いるレー
ザー加工装置は、パルスレーザー共振器１から出射され
る直線偏光のパルスレーザー光２が、レンズ３ａ，３ｂ
を介して拡大された上で反射鏡４にて９０度方向転換
し、集光レンズ３ｃにて収束され、ＸＹテーブル５上に
載置された金属製被加工物６の表面に、該集光レンズ３
ｃの焦点よりも浅い位置で照射されるようになされてい
る。

【００２０】ここで、上記の直線偏光のパルスレーザー
光２は、波長が１μｍ程度で、ビーム成分２ａ，２ｂが
重なった干渉光からなり、被加工物６の表面で干渉縞を
生じるようにしている。

【００２１】上記構成においては、ＸＹテーブル５を一
定速度でＸ方向に移動させることにより、被加工物６の
表面を該干渉光２ａにて走査し、この１回の走査の終了
毎にＸＹテーブル５を所定距離だけＹ方向に移動させて
順次走査を繰り返し、該被加工物６の表面に走査線から
なる平行な線７を描画している。このＸ方向の走査速度
は、走査線上の定位置が複数回の照射パルスを受け、且
つ最終段階に近い照射パルスで照射面に生じる干渉縞の
各明部が溶融・蒸発して凹条を生じるように設定してい
る。

【００２２】従って、線７は、図２に示すように、照射
スポットの幅内に数十〜数百本の凹条８を有する微細凹
凸面より構成されたものとなる。しかして、各凹条８の
間隔及び深さは共にパルスレーザー光２の波長程度つま
り１μｍ程度であることから、微細凹凸面全体が回折格
子と同様に入射光を分光して反射し、各線７は入射光の
方向や見る角度によって反射光沢が虹色様に多彩に変化
する輝線として視認される。

【００２３】図３〜５はパルスレーザー共振器１の構成
例を示す。図３の共振器１ａは、反射鏡９ａ，９ｂ間の
同軸線上に、Ｑスイッチ１０、入射角がブリュースター
角をなすように設定した平行平面の透明板１１、レーザ
ー媒質のロッド１２が配置され、該ロッド１２の近傍に
励起ランプ１３が設置されている。図４の共振器１ｂ
は、上記透明板１１の代わりに偏光プリズムの如き偏光
板１４が設置されている以外は共振器１ｂと同様構成で
ある。また、図５の共振器１ｃでは、上記の透明板１１
や偏光板１４を設けていない代わりに、ロッド１２の一
端側を入射角がブリュースター角をなすように設定した
テーパー面１２ａとしており、該一端側の反射鏡９ｂを
該ブリュースター角に対応した角度に設定している。

【００２４】これら共振器１ａ，１ｂ，１ｃは、それぞ
れ透明板１１、偏光板１４、テーパー面１２ａの偏光作
用により、いずれも出力側の反射鏡９ａより直線偏光の
レーザー光２が出射される。

【００２５】Ｑスイッチ１０としては、一方向型及び二
方向型の超音波Ｑスイッチ、ポッケルスセルＱスイッ
チ、カールセルＱスイッチ等が使用される。また、図示
では反射鏡９ａ，９ｂを共に平面型としているが、凹面
型や凸面型としてもよいことは言うまでもない。

【００２６】なお、レーザー光２を積極的に干渉光とす
る手段としては、Ｑスイッチ１０に印加する超音波信号
あるいは電圧をＯＮ／ＯＦＦスイッチングのＯＦＦ時つ
まりレーザー発振時にも該レーザー発振を停止させない
程度に残す方法がある。即ち、上記のレーザー発振時に
残留する超音波信号あるいは電圧により、発振中のレー
ザー光の一部がずらされて変位し、元のビーム成分２ａ
と横ずれ変位したビーム成分２ｂとが重なって干渉した
レーザー光２が共振器１より出射される。

【００２７】図６及び図７は共振器１の外部の光路中に
直線偏光素子を配置した第２実施例を示す。この場合、
共振器１から出射されるレーザー光２は楕円率が０．３
より大きい楕円偏光またはランダム偏光であるが、図６
では入射角がブリュースター角をなすように設定した平
行平面の透明板１１により、図７では偏光板１４によ
り、それぞれ透過光が直線偏光成分のみとなり、前記第
１実施例と同様の加工が施せる。なお、これら透明板１
１や偏光板１４の如き直線偏光素子は、共振器１から収
束手段（例えば図１における集光レンズ３ｃ）に至る光
路のどの位置に配置してもよい。

【００２８】図８は共振器１から出射されるレーザー光
２を共振器１外で干渉光に変換するようにした第３実施
例のレーザー加工装置を示す。この加工装置では、第１
実施例（図１）における反射鏡３ｃの位置に、背面の全
反射面１５ａと表面の一部反射面１５ｂとを有する二重
反射鏡１５が配置されており、共振器１は前記図３〜図
５の共振器１ａ，１ｂ，１ｃのように内部に直線偏光手
段を有するものである。しかして、共振器１から出射さ
れる直線偏光のレーザー光２は、レンズ３ａ，３ｂを介
して拡大された上で、二重反射鏡１５の両反射面１５
ａ，１５ｂにて反射し、この反射された二つのビーム成
分２ａ，２ｂが重なって干渉光として集光レンズ３ｃに
入り、収束されて金属製被加工物６の表面に該集光レン
ズ３ｃの焦点よりも浅い位置で照射され、該表面に第１
実施例と同様に微細凹凸を形成する。

【００２９】なお、上記の二重反射鏡１５の代わりに、
表面で一部反射を行うと共に背面を反射不能とした部分
透過鏡と、その背面側に近接して配置した全反射鏡とを
用いても、同様に横ずれによる干渉光を生じさせること
ができる。また、超音波Ｑスイッチと同様な構造の素子
を光路に介在させて弱い超音波信号を印加しても、干渉
光を生じさせることが可能である。その他、プリズムと
反射鏡の組み合わせ、部分透過鏡と全反射鏡の組み合わ
せ等により、一本のレーザービームを２本に分割し、こ
れら分割されたビーム同士を干渉させてもよい。

【００３０】図９は、共振器１から出射されるレーザー
光２が二つの明パターン成分２ｃ，２ｄを含むＴＥＭ₁₀
モードのものである場合に、これを共振器１外で干渉光
に変換するようにした第４実施例のレーザー加工装置を
示す。この加工装置では、集光レンズ３ｃによる収束光
がシリンドリカルレンズ１６を透過して、光束が細長く
変形することにより、前記の二つの明パターン成分２
ｃ，２ｄが重なって干渉光を生じる設定している。しか
して、図示ではその干渉光が集光レンズ３ｃの焦点より
も深い位置で金属製被加工物６の表面に照射されるよう
にしているが、同焦点よりも浅い位置で照射されるよう
にしてもよい。

【００３１】なお、レーザー光２を被加工物６の表面に
照射する手段としては、例示したＸＹテーブル５に限ら
ず、ＸＹの各方向変位を担う２枚の回動鏡を組み合わせ
たＸＹスキャナー等でレーザー光２側を変位させるよう
にしてもよい。更に、収束手段の光軸方向（Ｚ方向）の
焦点位置を変位させる焦点変位手段を設けることによ
り、曲面状等の三次元形状の金属表面に対しても照射面
のＺ方向位置に応じて焦点位置を変化させ、照射面のエ
ネルギー密度を一定に維持して均一な微細凹凸を形成す
ることができる。

【００３２】この焦点変位手段としては、必ずしも収束
手段自体を移動させる必要はなく、光路に介在するレン
ズのいずれかを光軸方向に変位させるものであればよ
い。しかして、焦点変位操作は、被加工物の表面形状を
予め測定し、その測定結果を制御系に入力して数値制御
により自動的にレンズの光軸方向変位を行うようにすれ
ばよく、例えば従来のレーザー加工に使用されているＺ
スキャナー（Ｄｙｎａｍｉｃ Ｆｏｃｕｓ）を利用でき
る。

【００３３】因に、前記第１実施例の方法において、二
方向型の超音波Ｑスイッチと直線偏光素子としての透明
板（図３の１１）とを内蔵したＹＡＧレーザー共振器を
使用し、焦点距離２０ｃｍの集光レンズ３ｃによって、
発振波長１．０６μｍ、パルス幅１００ｎｍ、繰り返し
周波数１ＫＨ_Z 、平均出力５００ｍＷの条件で直線偏光
のレーザー光をステンレス綱の表面に干渉縞を生じるよ
うに照射して微細凹凸を形成する場合、照射位置を該集
光レンズ３ｃの焦点より深浅両方向の３．５〜１１．０
ｍｍの範囲に設定した時に虹色様の反射光沢を生じる上
記微細凹凸が形成でき、特に該焦点より浅い方向（上
方）の６．０〜７．５ｍｍの範囲で最も鮮明な色合いの
反射光沢を生じる明瞭な微細凹凸が形成できた。その照
射スポットの径は５０〜１５０μｍ程度であり、そのス
ポット内に形成される凹条８の数は５０〜１５０本程度
であった。そして、連続走査つまりＸＹテーブル５をＸ
方向に移動させながら連続照射した場合には、走査線上
の各位置に照射パルスが５０〜１５０回程度当たった段
階で微細凹凸を生じることが判明した。

【００３４】図１０は、上記発振条件においてステンレ
ス綱の表面に対するレーザー光の照射位置を該集光レン
ズ３ｃの焦点より浅い方向（上方）７ｍｍに設定した場
合の、超音波Ｑスイッチの周波数とレーザー光の走査速
度つまりＸＹテーブル５のＸ方向移動速度との関係を示
す。図中の各周波数に対応した縦線は虹色様の反射光沢
を生じる微細凹凸が形成可能な走査速度範囲であり、そ
の縦線上の丸点の走査速度で最も鮮明な色合いの反射光
沢が得られている。なお、レーザーの励起能力上、超音
波Ｑスイッチの周波数が５ＫＨ_Z を越えて高くなるほど
上記反射光沢の明るさが減少し、７ＫＨ_Z 以上の周波数
では微細凹凸の形成可能な走査速度範囲は０．５ｍｍ／
分以下と非常に狭くなった。

【００３５】なお、上述のような連続走査による微細凹
凸の線状パターンとする以外に、微細凹凸のレーザース
ポットを一定間隔で並べて虹色様の反射光沢を生じる模
様あるいは光沢面を形成することも可能である。また、
２枚の１／４波長板を介在させて一方を回転させること
により、干渉縞の縞方向つまり微細凹凸の溝方向を変化
させることも可能である。

【００３６】特にＴＥＭ₁₀、ＴＥＭ₂₀のような明パター
ン成分が横並びに配置する発振モードのレーザー光を用
いて連続走査で微細凹凸を形成する際、微細凹凸の生成
に最も関与する走査方向の後部側のビーム強度を均一に
して明瞭な凹凸を得る上で、走査方向を該明パターン成
分の並び方向に設定することが望ましいが、描画のため
に走査方向の変化を必要とする場合がある。このような
場合、上記の２枚の１／４波長板を用いて像を回転さ
せ、常に走査方向を該明パターン成分の並び方向に設定
することができる。

【００３７】本発明に使用するレーザー共振器は、パル
スレーザー光を出射できるものであればよく、前記のＹ
ＡＧレーザー以外にルビーレーザーやガラスレーザーの
如き固体レーザー、炭酸ガスレーザーやエキシマレーザ
ーの如きガスレーザーも使用できるが、発振モードがＴ
ＥＭ₀₀、ＴＥＭ₀₁、ＴＥＭ₁₀、ＴＥＭ₂₀のように単純で
コヒーレンス性のよいものが望ましい。また、前記実施
例では直線偏光のレーザー光を用いているが、長楕円偏
光のレーザー光も利用可能である。更に共振器から出射
したレーザー光を収束手段に導く光路の構成は、例示し
た以外に種々設計変更可能である。

【００３８】

【発明の効果】本発明のレーザー加工方法によれば、レ
ーザー光を利用して空気中において金属表面に１μｍ程
度あるいはそれ以下といった極めて微細で密な凹凸を容
易に且つ短時間で形成可能であり、しかも該微細凹凸部
をレーザー光の走査によって連続的に線状に形成して様
々な模様パターンを自在に描画できるから、各種の金属
製品に該微細凹凸に基づき反射光沢の色合いが見る角度
や入射光の方向によって虹色様に多彩に変化する独特の
装飾を効率よく安価に施せる。

【００３９】しかも、本発明においては、レーザー光と
して直線偏光又は長楕円偏光のパルスレーザー光を用い
ることから、上記微細凹凸を明瞭に形成でき、これによ
って上記の虹色様の反射光沢の色合いが非常に鮮明なも
のとなり、極めて美麗な装飾を提供できる。

【００４０】また、本発明の加工方法における偏光設定
手段として、レーザー共振器の内部に組み込まれた直線
偏光素子を採用する請求項２の構成、一端面を入射角が
ブリュースター角をなすように設定したレーザーロッド
を採用する請求項３の構成、レーザー共振器から出射さ
れたパルスレーザー光の光路中に介装した直線偏光素子
を採用する請求項４の構成をそれぞれ採用すれば、上記
微細凹凸の形成に好適な直線偏光ないし長楕円偏光のレ
ーザー光を容易に且つ確実に得られるという利点があ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１実施例に用いるレーザー加工装
置の概略構造図。

【図２】 同装置によって金属表面に形成された微細凹
凸の拡大平面図。

【図３】 同装置におけるレーザー共振器の一構成例を
示す概略構造図。

【図４】 同装置におけるレーザー共振器の一構成例を
示す概略構造図。

【図５】 同装置におけるレーザー共振器の一構成例を
示す概略構造図。

【図６】 同装置におけるレーザー共振器外の光路に直
線偏光素子を介在した一構成例を示す概略構造図。

【図７】 同装置におけるレーザー共振器外の光路に直
線偏光素子を介在した一構成例を示す概略構造図。

【図８】 本発明の第２実施例に用いるレーザー加工装
置の概略構造図。

【図９】 本発明の第３実施例に用いるレーザー加工装
置の概略構造図。

【図１０】 上記第１実施例においてＹＡＧレーザー共
振器を用いた場合のレーザー光の走査による微細凹凸の
形成可能範囲を示す、レーザー走査速度と超音波Ｑスイ
ッチの周波数との相関図。

【符号の説明】

１，１ａ，１ｂ，１ｃ…レーザー共振器、２…パルスレ
ーザー光、３ｃ…集光レンズ（収束手段）、５…ＸＹテ
ーブル（ＸＹ方向変位手段）、６…金属製被加工物、７
…レーザー走査線、８…凹条（微細凹凸）、１１…入射
光がブリュースター角をなすように配置した平行平面の
透明板（直線偏光素子）、１２…レーザー媒質のロッド
（レーザーロッド）、１２ａ…一端面（入射角をブリュ
ースター角に設定した一端側）、１４…偏光板（直線偏
光素子）。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森脇 耕介 大阪府堺市晴美台３丁２−12−104 (72)発明者 大島 市郎 兵庫県尼崎市常光寺１丁目９番１号 大 阪富士工業株式会社内 (72)発明者 大島 時彦 兵庫県尼崎市常光寺１丁目９番１号 大 阪富士工業株式会社内 (72)発明者 平田 繁一 兵庫県尼崎市常光寺１丁目９番１号 大 阪富士工業株式会社内 (72)発明者 岡野 良和 兵庫県尼崎市常光寺１丁目９番１号 大 阪富士工業株式会社内 (56)参考文献 特開 平２−263589（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−165428（ＪＰ，Ａ) 「プレス技術」Ｖｏｌ．23，Ｎｏ. ６，（1985−５)

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 金属表面に空気中において直線偏光また
   は楕円率０．３以下の楕円偏光のパルスレーザー光を照
   射面での照射パルス数が複数回となるように照射し、該
   金属表面にレーザー光の干渉縞の強度分布に対応した微
   細凹凸を形成することを特徴とする金属表面のレーザー
   加工方法。
2. 【請求項２】 レーザー共振器の内部に組み込んだ直線
   偏光素子により、金属表面に照射するパルスレーザー光
   を直線偏光または楕円率０．３以下の楕円偏光のパルス
   レーザー光に設定する請求項１記載の金属表面のレーザ
   ー加工方法。
3. 【請求項３】 一端側の入射角をブリュースター角に設
   定したレーザーロッドの使用により、金属表面に照射す
   るパルスレーザー光を直線偏光または楕円率０．３以下
   の楕円偏光のパルスレーザー光に設定する請求項１記載
   の金属表面のレーザー加工方法。
4. 【請求項４】 レーザー共振器から出射されたパルスレ
   ーザー光の光路中に介装した直線偏光素子により、金属
   表面に照射するパルスレーザー光を直線偏光または楕円
   率０．３以下の楕円偏光のパルスレーザー光に設定する
   請求項１記載の金属表面のレーザー加工方法。