JP2783233B2 - LSI package - Google Patents

LSI package

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JP2783233B2
JP2783233B2 JP7354182A JP35418295A JP2783233B2 JP 2783233 B2 JP2783233 B2 JP 2783233B2 JP 7354182 A JP7354182 A JP 7354182A JP 35418295 A JP35418295 A JP 35418295A JP 2783233 B2 JP2783233 B2 JP 2783233B2
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JP
Japan
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lsi
hole
tape carrier
electrode
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孝行 須山
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Nippon Electric Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15312Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a pin array, e.g. PGA
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/14Structural association of two or more printed circuits
    • H05K1/141One or more single auxiliary printed circuits mounted on a main printed circuit, e.g. modules, adapters
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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    • H05K3/361Assembling flexible printed circuits with other printed circuits
    • H05K3/363Assembling flexible printed circuits with other printed circuits by soldering

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ピングリットアレ
イ又はボールグリッドアレイにLSIチップを実装した
LSIパッケージに関し、特に、LSIチップ及びピン
グリットアレイ等の接続端子の超高密度化(いわゆる超
多ピン化)を図ることができるLSIパッケージに関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an LSI package in which an LSI chip is mounted on a pinglit array or a ball grid array. The present invention relates to an LSI package capable of achieving the above.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、LSIパッケージにおける接
続端子の高密度化を図る好適な手段として、大規模集積
回路等のLSIチップを、ピングリッドアレイ又はボー
ルグリッドアレイに実装することが行なわれている。
2. Description of the Related Art Conventionally, an LSI chip such as a large-scale integrated circuit has been mounted on a pin grid array or a ball grid array as a suitable means for increasing the density of connection terminals in an LSI package. .

【0003】従来のLSIパッケージに用いられていた
ピングリッドアレイ(又はボールグリッドアレイ)は、
ガラス布基材エポキシ樹脂からなる絶縁基板の中央部
に、LSIチップを収納するためのデバイスホールを形
成するとともに、このデバイスホールの周縁に前記LS
Iチップの電極端子と対応する複数の電極パッドを形成
し、また、前記絶縁基板のデバイスホールを除いた全面
に、前記電極パッドと対応する複数のスルーホールを穿
設し、これらスルーホールにピン(又はボール)端子を
挿設し、前記電極パッドと前記スルーホールとを前記絶
縁基板の表面に形成したリードパターンにより接続した
構成となっていた。
A pin grid array (or ball grid array) used in a conventional LSI package is:
A device hole for accommodating an LSI chip is formed at the center of an insulating substrate made of a glass cloth base epoxy resin, and the LS is formed around the device hole.
A plurality of electrode pads corresponding to the electrode terminals of the I chip are formed, and a plurality of through holes corresponding to the electrode pads are formed on the entire surface of the insulating substrate excluding the device holes. (Or ball) terminals are inserted, and the electrode pads and the through holes are connected by a lead pattern formed on the surface of the insulating substrate.

【0004】そして、前記LSIチップの各電極端子と
前記ピングリッドアレイの各電極パッドをボンディング
ワイヤで接続し、LSIパッケージを形成していた。
[0004] Each electrode terminal of the LSI chip and each electrode pad of the pin grid array are connected by bonding wires to form an LSI package.

【0005】このようなピングリッドアレイ等を用いた
LSIパッケージによれば、接続端子の高密度化を図る
ことができるとともに、前記ピングリッドアレイ等のピ
ン端子等を介して、外部の実装基板に簡単に実装するこ
とができた。
According to the LSI package using such a pin grid array, it is possible to increase the density of connection terminals, and to connect to an external mounting substrate via the pin terminals of the pin grid array or the like. It was easy to implement.

【0006】なお、前記LSIチップの各電極端子と前
記ピングリッドアレイの各電極パッドをボンディングワ
イヤで接続する構成のLSIパッケージとしては、例え
ば、特開平4−123445号で提案されているものが
ある。
As an LSI package having a configuration in which each electrode terminal of the LSI chip and each electrode pad of the pin grid array are connected by bonding wires, for example, there is an LSI package proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-123445. .

【0007】一方、ピングリッドアレイ等を用いない従
来のLSIパッケージとして、有機絶縁フィルムに電極
パッドとリードパターンを形成したテープキャリア(T
AB:Tape Automated Bonding)に、LSIチップを実
装した構成のものがあった。
On the other hand, as a conventional LSI package which does not use a pin grid array or the like, a tape carrier (T.sub.T) in which electrode pads and lead patterns are formed on an organic insulating film.
AB: Tape Automated Bonding) has an LSI chip mounted.

【0008】このようなテープキャリアを用いたLSI
パッケージでは、前記有機絶縁フィルム上に前記電極パ
ッド及び前記リードパターンを安定した状態で形成する
ことができるので、前記電極パッド及び前記リードパタ
ーンを微細化することができ、また、パッケージの薄型
化を図ることができた。
LSI using such a tape carrier
In the package, since the electrode pads and the lead patterns can be formed on the organic insulating film in a stable state, the electrode pads and the lead patterns can be miniaturized, and the package can be made thinner. I was able to plan.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上述した従
来のピングリッドアレイ又はボールグリッドアレイを用
いたLSIパッケージでは、絶縁基板であるガラス布基
材エポキシ樹脂に直接、電極パッド及びリードパターン
を形成する構成としてあった。このガラス布基材エポキ
シ樹脂は、その材質及びパターンの製法等により、前記
リードパターンや前記電極パッドのピッチを微細化に限
界があった。このため、従来のピングリッドアレイ等を
用いたLSIパッケージでは、ピッチ500μm以下の
接続端子の超高密度化を図ることができないという問題
があった。
However, in the above-described LSI package using the conventional pin grid array or ball grid array, electrode pads and lead patterns are formed directly on a glass cloth base epoxy resin as an insulating substrate. There was a configuration. This glass cloth base epoxy resin has a limit in miniaturizing the pitch of the lead pattern and the electrode pad due to the material and the method of manufacturing the pattern. Therefore, in a conventional LSI package using a pin grid array or the like, there is a problem that it is not possible to achieve ultra-high density of connection terminals having a pitch of 500 μm or less.

【0010】また、前記LSIチップの各電極端子と前
記ピングリッドアレイの各電極パッドをボンディングワ
イヤで接続する構成としてあったので、接続端子を高密
度化するほどボンディングが困難になり、前記電極パッ
ドのピッチをせいぜい100μm程度にしか小さくする
ことができないという問題もあった。
In addition, since each electrode terminal of the LSI chip is connected to each electrode pad of the pin grid array by a bonding wire, bonding becomes more difficult as connection terminals are increased in density. There is also a problem that the pitch can be reduced to only about 100 μm at most.

【0011】ここで、ガラス布基材エポキシ樹脂の代わ
りに、セラミックによって前記絶縁基板を形成すれば、
前記リードパターン等のピッチを微細化することができ
るが、セラミック基板を用いるとピングリッドアレイ等
が高価になってしまうという問題があった。
Here, if the insulating substrate is formed of ceramic instead of the glass cloth base epoxy resin,
Although the pitch of the lead pattern and the like can be reduced, there is a problem that the use of a ceramic substrate makes the pin grid array and the like expensive.

【0012】一方、上述したテープキャリアを用いたL
SIパッケージは、前記テープキャリアが柔らかいので
平面性が悪く、また、前記テープキャリア上に形成した
前記リードパターン等によりある程度の定型性を有して
いるので、外部の実装基板との接続において前記テープ
キャリアを平面化することが極めて困難であった。この
ため、前記テープキャリアの前記実装基板への接続が難
しいという問題があり、この問題は接続端子を高密度化
するほど顕著化してしまった。
On the other hand, L using the above-described tape carrier
The SI package has poor flatness because the tape carrier is soft, and has a certain degree of regularity due to the lead pattern and the like formed on the tape carrier. It was extremely difficult to flatten the carrier. For this reason, there is a problem that it is difficult to connect the tape carrier to the mounting substrate, and this problem becomes more remarkable as the density of the connection terminals increases.

【0013】また、種々の電子部品を両面に実装した前
記実装基板へ、前記テープキャリアを直接実装する構成
となっていたので、前記テープキャリアを平坦化するた
めのサポートリングを効果的に用いることもできなかっ
た。
Further, since the tape carrier is directly mounted on the mounting board on which various electronic components are mounted on both sides, it is possible to effectively use a support ring for flattening the tape carrier. I couldn't do it either.

【0014】ここで、最近は、有機絶縁フィルムを利用
したテープボールグリッドアレイが実用化されている
が、このテープボールグリッドアレイをLSIパッケー
ジに用いた場合も、前記テープキャリアと同様の問題が
生じる。
Here, recently, a tape ball grid array using an organic insulating film has been put to practical use. However, when this tape ball grid array is used for an LSI package, the same problem as that of the tape carrier occurs. .

【0015】なお、特開平4−96240号では、図6
に示すように、LSIチップ101の各電極端子と、ピ
ングリッドアレイ110の各電極パッドとをTAB12
0によって接続した構成のLSIパッケージが提案され
ていた。このような構成によれば、LSIチップ101
の各電極端子と、ピングリッドアレイ110の各電極パ
ッドとの接続にボンディングワイヤを用いないので、接
続端子を高密度化することができた。
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-96240, FIG.
As shown in FIG. 3, each electrode terminal of the LSI chip 101 and each electrode pad of the pin grid array 110 are connected to the TAB 12.
An LSI package having a configuration connected by 0 has been proposed. According to such a configuration, the LSI chip 101
Since no bonding wire is used for connection between each of the electrode terminals and each of the electrode pads of the pin grid array 110, the density of the connection terminals can be increased.

【0016】しかし、ピングリッドアレイ110の絶縁
基板111上に直接、リードパターン111aや電極パ
ッド111bを形成する構成としてあったので、結局、
ピッチの微細化に限界があり、接続端子を超高密度化す
ることはできないという問題があった。
However, since the lead pattern 111a and the electrode pad 111b are formed directly on the insulating substrate 111 of the pin grid array 110, eventually,
There is a problem in that there is a limit to miniaturization of the pitch, and it is not possible to increase the density of the connection terminals.

【0017】また、特開平4−96257号では、図7
に示すように、LSIチップ201の中央に電極端子を
形成し、ピングリッドアレイ210の絶縁基板211上
のリードパターン211aを前記LSIチップ201の
中央まで延設した構成のLSIパッケージが提案されて
いた。そして、絶縁基板211上のリードパターン21
1aをLSIチップ201の中央まで延設する手段とし
て、絶縁基板211上にLSIチップ201を覆うフィ
ルム212を接着し、このフィルム212上にリードパ
ターン211aを形成する構成としてあった。
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-96257, FIG.
As shown in FIG. 1, an LSI package having a configuration in which an electrode terminal is formed at the center of an LSI chip 201 and a lead pattern 211a on an insulating substrate 211 of a pin grid array 210 is extended to the center of the LSI chip 201 has been proposed. . Then, the lead pattern 21 on the insulating substrate 211
As a means for extending 1a to the center of the LSI chip 201, a film 212 covering the LSI chip 201 is bonded on an insulating substrate 211, and a lead pattern 211a is formed on the film 212.

【0018】このような構成によれば、LSIチップ2
01の中央に電極端子を形成することができるので、接
続端子数を増大させることができ、また、絶縁基板21
1上のフィルム212にリードパターン211aを形成
することができるので、リードパターン211a等のピ
ッチを微細化することができた。
According to such a configuration, the LSI chip 2
01, the number of connection terminals can be increased.
Since the lead pattern 211a can be formed on the film 212 on the top one, the pitch of the lead pattern 211a and the like can be reduced.

【0019】しかし、このようなLSIパッケージで
は、前記絶縁基板上にフィルム212を接着してから両
者を貫通するスルーホール213を形成していたため、
フィルム212に形成されるスルーホール213aの径
が、常に絶縁基板211のスルーホール213bに挿設
されるピン端子214の径と同じであった。
However, in such an LSI package, a through hole 213 that penetrates the film 212 is formed after bonding the film 212 on the insulating substrate.
The diameter of the through-hole 213a formed in the film 212 was always the same as the diameter of the pin terminal 214 inserted into the through-hole 213b of the insulating substrate 211.

【0020】このように、フィルム212にピン端子2
14と同じ径のスルーホール213しか形成することが
できなかったので、接続端子を超高密度化しようとして
ピン端子214の数を増やすと、フィルム212上のス
ペースのスルーホール213aの占める割合が大きくな
り、リードパターン211aや電極パターンの形成スペ
ースを確保することができず、結局、接続端子の超高密
度化を図ることができないという問題があった。
As described above, the pin terminals 2 are attached to the film 212.
Since only the through-hole 213 having the same diameter as 14 could be formed, if the number of the pin terminals 214 was increased in order to increase the density of the connection terminals, the proportion of the space on the film 212 occupied by the through-holes 213a increased. As a result, a space for forming the lead pattern 211a and the electrode pattern cannot be secured, and as a result, there is a problem that it is not possible to achieve ultra-high density of connection terminals.

【0021】本発明は、上記問題点にかんがみてなされ
たものであり、LSIチップ及びピングリットアレイ又
はボールグリッドアレイの接続端子の超高密度化を図る
ことができるとともに、外部の実装基板への接続を容易
に行なうことができるLSIパッケージの提供を目的と
する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and can achieve ultra-high density of connection terminals of an LSI chip and a pinglit array or a ball grid array, and can be applied to an external mounting board. It is an object of the present invention to provide an LSI package capable of easily performing connection.

【0022】[0022]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1記載のLSIパッケージは、ピングリット
アレイの各ピン端子に対応する複数のスルーホールと、
各スルーホールのLSIチップを接続する側の開口部周
縁に形成した第一電極パッドと、各スルーホールの前記
ピングリッドアレイを接続する側の開口部周縁に形成し
た第二電極パッドと、前記第一電極パッドと同一面上に
形成され、前記第一電極パッドと前記LSIチップの電
極端子を接続するリードパターンとを有し、テープキャ
リアを介して前記LSIチップを前記ピングリットアレ
イの絶縁基板上に実装したLSIパッケージであって、
前記第一電極パッドの直径を小さくすることによって、
前記テープキャリアの前記スルーホール及び前記リード
パターンの形成面積を広くした構成としてある。
In order to achieve the above object, an LSI package according to claim 1 is provided with a pinglit.
A plurality of through holes corresponding to each pin terminal of the array,
Around the opening on the side where each through hole connects the LSI chip
The first electrode pad formed on the edge and the above of each through hole
Formed on the periphery of the opening to connect the pin grid array
The second electrode pad and the first electrode pad on the same surface.
Formed between the first electrode pad and the LSI chip.
And a lead pattern for connecting the pole terminals.
Insert the LSI chip through the rear
An LSI package mounted on an insulating substrate of
By reducing the diameter of the first electrode pad,
The through hole and the lead of the tape carrier
The configuration is such that the pattern formation area is widened .

【0023】このような構成によれば、前記第一電極パ
ッドの直径を小さくすることによって、前記テープキャ
リア上に形成される前記第一電極パッドの数を増大しつ
つ、前記リードパターンの形成面積を広く確保すること
ができるので、前記テープキャリアを介して接続される
前記LSIチップの電極端子と前記ピングリッドアレイ
のピン端子とを超高密度化することができる。
According to such a configuration, the first electrode
By reducing the diameter of the tape carrier,
The number of the first electrode pads formed on the rear is increased.
First, it is necessary to secure a large area for forming the lead pattern.
Can be connected via the tape carrier
Electrode terminals of the LSI chip and the pin grid array
And the pin terminals can be made ultra-high density.

【0024】請求項2記載のLSIパッケージは、ボー
ルグリットアレイの各ピン端子に対応する複数のスルー
ホールと、各スルーホールのLSIチップを接続する側
の開口部周縁に形成した第一電極パッドと、各スルーホ
ールの前記ピングリッドアレイを接続する側の開口部周
縁に形成した第二電極パッドと、前記第一電極パッドと
同一面上に形成され、前記第一電極パッドと前記LSI
チップの電極端子を接続するリードパターンとを有し、
テープキャリアを介して前記LSIチップを前記ボール
グリットアレイの絶縁基板上に実装したLSIパッケー
ジであって、前記第一電極パッドの直径を小さくするこ
とによって、前記テープキャリアの前記スルーホール及
び前記リードパターンの形成面積を広くした構成として
ある。
The LSI package according to claim 2, Bo
Multiple throughs corresponding to each pin terminal of the rugrid array
The side that connects the LSI chip to each hole
The first electrode pad formed around the opening
Around the opening on the side connecting the pin grid array
A second electrode pad formed on the edge, the first electrode pad and
The first electrode pad and the LSI formed on the same surface;
A lead pattern for connecting the electrode terminals of the chip,
The LSI chip is connected to the ball via a tape carrier.
LSI package mounted on grid array insulating substrate
The diameter of the first electrode pad is reduced.
And the through hole of the tape carrier and
And the area for forming the lead pattern is widened .

【0025】このような構成によれば、前記第一電極パ
ッドの直径を小さくすることによって、前記テープキャ
リア上に形成される前記第一電極パッドの数を増大しつ
つ、前記リードパターンの形成面積を広く確保すること
ができるので、前記テープキャリアを介して接続される
前記LSIチップの電極端子と、前記ボールグリッドア
レイのボール端子とを超高密度化することができる。
According to such a structure, the first electrode
By reducing the diameter of the tape carrier,
The number of the first electrode pads formed on the rear is increased.
First, it is necessary to secure a large area for forming the lead pattern.
Can be connected via the tape carrier
An electrode terminal of the LSI chip and the ball grid electrode;
The ball terminals of the ray can be made ultra-high density.

【0026】請求項3記載のLSIパッケージは、ピン
グリットアレイの各ピン端子に対応する複数のスルーホ
ールと、各スルーホールのLSIチップを接続する側の
開口部周縁に形成した第一電極パッドと、各スルーホー
ルの前記ピングリッドアレイを接続する側の開口部周縁
に形成した第二電極パッドと、前記第一電極パッドと同
一面上に形成され、前記第一電極パッドと前記LSIチ
ップの電極端子を接続するリードパターンとを有し、テ
ープキャリアを介して前記LSIチップを前記ピングリ
ットアレイの絶縁基板上に実装したLSIパッケージで
あって、前記テープキャリアに形成した前記スルーホー
ルの、前記第一電極パッド側の開口径のみを小さくする
ことにより、前記第一電極パッドの直径を小さくする
成としてある。
The LSI package according to claim 3, wherein the pin
Multiple through holes corresponding to each pin terminal of the grid array
To the LSI chip of each through hole
The first electrode pad formed on the periphery of the opening and each through hole
Of the opening on the side connecting the pin grid array
A second electrode pad formed at the same time as the first electrode pad.
The first electrode pad and the LSI chip are formed on one surface.
And a lead pattern for connecting the electrode terminals of the chip.
The LSI chip via the loop carrier
LSI package mounted on an insulating substrate of a chip array
And the through hoe formed on the tape carrier.
Only the opening diameter on the first electrode pad side of the
Thereby, the diameter of the first electrode pad is reduced .

【0027】請求項4記載のLSIパッケージは、ボー
ルグリットアレイの各ピン端子に対応する複数のスルー
ホールと、各スルーホールのLSIチップを接続する側
の開口部周縁に形成した第一電極パッドと、各スルーホ
ールの前記ピングリッドアレイを接続する側の開口部周
縁に形成した第二電極パッドと、前記第一電極パッドと
同一面上に形成され、前記第一電極パッドと前記LSI
チップの電極端子を接続するリードパターンとを有し、
テープキャリアを介して前記LSIチップを前記ボール
グリットアレイの絶縁基板上に実装したLSIパッケー
ジであって、前記テープキャリアに形成した前記スルー
ホールの、前記第一電極パッド側の開口径のみを小さく
することにより、前記第一電極パッドの直径を小さくす
構成としてある。
The LSI package according to claim 4, Bo
Multiple throughs corresponding to each pin terminal of the rugrid array
The side that connects the LSI chip to each hole
The first electrode pad formed around the opening
Around the opening on the side connecting the pin grid array
A second electrode pad formed on the edge, the first electrode pad and
The first electrode pad and the LSI formed on the same surface;
A lead pattern for connecting the electrode terminals of the chip,
The LSI chip is connected to the ball via a tape carrier.
LSI package mounted on grid array insulating substrate
The through formed in the tape carrier
Only the opening diameter of the hole on the first electrode pad side is reduced.
By doing so, the diameter of the first electrode pad is reduced.
That it is constituted.

【0028】このような請求項3及び4の構成によれ
ば、前記テープキャリアに形成した前記スルーホールの
前記第二電極パッド側の開口径を大きくすることができ
るので、前記テープキャリアの前記スルーホールに入る
半田の量が多くなり、良好な接続を行なうことができ
る。
According to the third and fourth aspects of the present invention, the diameter of the through hole formed in the tape carrier on the side of the second electrode pad can be increased. The amount of solder entering the hole is increased, and a good connection can be made.

【0029】 請求項5記載のLSIパッケージは、前記
絶縁基板を多層にして内部に電源層とGND層を形成す
るとともに、これら電源層とGND層に接続されるチッ
プコンデンサを設けた構成としてある。
According to a fifth aspect of the present invention, the power supply layer and the GND layer are formed inside the multilayered insulating substrate, and a chip capacitor connected to the power supply layer and the GND layer is provided.

【0030】 このような構成によれば、接続端子の高密
度化を図った本LSIパッケージを高速動作させた場合
でも、多くの信号線が同時動作したときの電源電圧の変
動によって発生するGNDノイズを、前記チップコンデ
ンサにより抑制することができる。
According to this structure, the LSI package which attained high density of connection terminals even when at high speed operation, GND noise generated by variations in power supply voltage when many signal lines and operated simultaneously Can be suppressed by the chip capacitor.

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】以下、本発明のLSIパッケージ
の実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of an LSI package according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0032】 まず、本発明の第一の実施形態に係るLS
Iパッケージについて説明する。図1は本発明の第一実
施形態に係るLSIパッケージを示す斜視図であり、ま
た、図2は上記LSIパッケージの部分側面断面図であ
る。
Firstly, LS according to the first embodiment of the present invention
The I package will be described. FIG. 1 is a perspective view showing an LSI package according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a partial side sectional view of the LSI package.

【0033】本実施形態のLSIパッケージは、リード
パターン及びスルーホール等を形成したテープキャリア
を介して、LSIチップとピングリッドアレイを接続し
た構成としてあり、また、前記テープキャリアの各スル
ーホールの前記LSIチップを接続する側の開口部周縁
に形成した電極パッド(第一電極パッド)の面積を狭く
した構成としてある。
The LSI package of the present embodiment has a configuration in which an LSI chip and a pin grid array are connected via a tape carrier on which a lead pattern and a through hole are formed. The configuration is such that the area of the electrode pad (first electrode pad) formed on the periphery of the opening on the side to which the LSI chip is connected is reduced.

【0034】図1及び図2において、1はLSIチップ
であり、外形寸法が17.5mm×17.5mmものを
用いている。このLSIチップ1の周縁部には、約80
0個の電極端子(図示せず)が約80μmのピッチで形
成してある。
In FIGS. 1 and 2, reference numeral 1 denotes an LSI chip having an outer dimension of 17.5 mm × 17.5 mm. Around the periphery of the LSI chip 1, about 80
Zero electrode terminals (not shown) are formed at a pitch of about 80 μm.

【0035】10はテープキャリアであり、肉厚50μ
mのポリイミドフィルムからなる。テープキャリア10
に用いる有機絶縁フィルムは、耐熱性を有し、かつ寸法
安定性が良好で、表面に形成したプリント配線との密着
強度が高いことを要する。
Reference numeral 10 denotes a tape carrier having a thickness of 50 μm.
m of a polyimide film. Tape carrier 10
It is necessary that the organic insulating film used for (1) has heat resistance, good dimensional stability, and high adhesion strength to the printed wiring formed on the surface.

【0036】このテープキャリア10の中央には、LS
Iチップ1を実装するためのデバイスホール10aが形
成してある。このデバイスホール10aの周縁には、図
2に示すように、LSIチップ1の各電極端子に対応す
る約800個の電極パッド11が形成してある。
In the center of the tape carrier 10, LS
A device hole 10a for mounting the I chip 1 is formed. As shown in FIG. 2, about 800 electrode pads 11 corresponding to each electrode terminal of the LSI chip 1 are formed on the periphery of the device hole 10a.

【0037】図1において、テープキャリア10のデバ
イスホール10aを除く全体には、後述するピングリッ
トアレイ20の各スルーホール22に対応する約800
個のスルーホール12が正方格子状に穿設してある。な
お、図1では、テープキャリアの全面に形成したスルー
ホール,配線パターン等を一部省略してある。
In FIG. 1, the entirety of the tape carrier 10 except for the device holes 10a has about 800 holes corresponding to the through holes 22 of the pinglit array 20 described later.
The individual through holes 12 are formed in a square lattice shape. In FIG. 1, through holes, wiring patterns, and the like formed on the entire surface of the tape carrier are partially omitted.

【0038】図2において、各スルーホール12のテー
プキャリア10表面側(LSIチップ1を接続する側)
の開口部周縁には、第一電極パッド12aが形成してあ
り、また、各スルーホール12のテープキャリア10裏
面側(ピングリッドアレイ20を接続する側)の開口部
周縁には、第二電極パッド12bが形成してある。
In FIG. 2, the surface side of the tape carrier 10 of each through hole 12 (the side to which the LSI chip 1 is connected)
A first electrode pad 12a is formed on the periphery of the opening, and a second electrode pad 12a is formed on the periphery of the opening of the through hole 12 on the back side of the tape carrier 10 (the side connecting the pin grid array 20). A pad 12b is formed.

【0039】さらに、テープキャリア10表面側には、
各電極パッド11と各第一電極パッド12aをそれぞれ
接続するリードパターン13が形成してある。
Further, on the tape carrier 10 surface side,
A lead pattern 13 that connects each electrode pad 11 and each first electrode pad 12a is formed.

【0040】ここで、図3は本LSIパッケージにおけ
るテープキャリアのスルーホールと、ピングリットアレ
イのスルーホールを示す部分拡大図である。
FIG. 3 is a partially enlarged view showing a through hole of a tape carrier and a through hole of a pinlit array in the present LSI package.

【0041】本実施形態では、図3に示すように、テー
プキャリア10のスルーホール12の直径を、ピングリ
ットアレイ20のスルーホール22の直径より小さくし
てある。また、スルーホール12の第一電極パッド12
aの直径L1を、第二電極パッド12b(スルーホール
22の電極パッド)の直径L2より小さくした構成とし
てある。
In this embodiment, as shown in FIG. 3, the diameter of the through hole 12 of the tape carrier 10 is smaller than the diameter of the through hole 22 of the pinglit array 20. Also, the first electrode pad 12 of the through hole 12
The diameter L1 of a is smaller than the diameter L2 of the second electrode pad 12b (the electrode pad of the through hole 22).

【0042】これにより、テープキャリア10に形成さ
れるスルーホール12の数を増大させつつ、第一及び第
二電極パッド12a,12b及びリードパターン13の
形成面積を広く確保することができる。
Thus, while increasing the number of through holes 12 formed in the tape carrier 10, a large area for forming the first and second electrode pads 12a and 12b and the lead pattern 13 can be secured.

【0043】なお、テープキャリア10の電極パッド1
1,スルーホール12,第一及び第二電極パッド12
a,12b及びリードパターン13を除く全体は、半田
によるショートを防止するため、ソルダレジストをコー
トしてある。
The electrode pad 1 of the tape carrier 10
1, through hole 12, first and second electrode pads 12
The whole except a, 12b and the lead pattern 13 is coated with a solder resist in order to prevent short circuit due to solder.

【0044】また、LSIチップ1の各電極端子と、テ
ープキャリア10の各電極パッド11とをTABテープ
30を介して互いに接続し、これらLSIチップ1とT
ABテープ30とをシリコン等の封止樹脂31により封
止してある。これにより、LSIチップ1とテープキャ
リア10とは、テープキャリアパッケージを形成する。
Each electrode terminal of the LSI chip 1 and each electrode pad 11 of the tape carrier 10 are connected to each other via a TAB tape 30.
The AB tape 30 is sealed with a sealing resin 31 such as silicon. Thus, the LSI chip 1 and the tape carrier 10 form a tape carrier package.

【0045】前記ピングリットアレイ20は、ガラス布
基材エポキシ樹脂からなる絶縁基板21に、テープキャ
リア10の各スルーホール12と対応する約800個の
前記スルーホール22をピッチ1.27mmで正方格子
状に穿設し、各スルーホール22のそれぞれに直径0.
46mmのピン端子23を挿設した構成としてある。
The pinglit array 20 is formed by forming approximately 800 through holes 22 corresponding to the through holes 12 of the tape carrier 10 on an insulating substrate 21 made of a glass cloth base epoxy resin at a pitch of 1.27 mm in a square lattice. And each of the through holes 22 has a diameter of 0.
The configuration is such that a 46 mm pin terminal 23 is inserted.

【0046】また、絶縁基板21の表面側には、スルー
ホール22に連続する電極パッド22aのみが形成して
ある。このようなピングリットアレイ20は、絶縁基板
21の表面に電極パッド22aのみを形成し、リードパ
ターン等を形成しない構成となっているので、リードパ
ターン等の形成スペースを考慮することなく、スルーホ
ール22(ピン端子23)を極めて高密度に設けてあ
る。
On the front side of the insulating substrate 21, only the electrode pads 22a connected to the through holes 22 are formed. Since such a pinglit array 20 has a configuration in which only the electrode pads 22a are formed on the surface of the insulating substrate 21 and no lead pattern or the like is formed, the through hole can be formed without considering the space for forming the lead pattern or the like. 22 (pin terminals 23) are provided at a very high density.

【0047】さらに、図2に示すように、各スルーホー
ル22の電極パッド22a上には、高融点の半田バンプ
24が形成してある。なお、図2の半田バンプ24はリ
フローハンダ付け後の状態を示す。
Further, as shown in FIG. 2, high melting point solder bumps 24 are formed on the electrode pads 22a of the through holes 22. Note that the solder bumps 24 in FIG. 2 show a state after reflow soldering.

【0048】上述したLSIチップ1とテープキャリア
10からなるテープキャリアパッケージを、ピングリッ
トアレイ20の絶縁基板21上に載置するとともに、テ
ープキャリア10のスルーホール12と絶縁基板21上
の半田バンプ24を位置決めし、これらを200℃以上
の高温でリフロー半田付けすると、図1に示す本LSI
パッケージが形成される。
The above-described tape carrier package including the LSI chip 1 and the tape carrier 10 is mounted on the insulating substrate 21 of the pinglit array 20, and the through holes 12 of the tape carrier 10 and the solder bumps 24 on the insulating substrate 21 are provided. After reflow soldering at a high temperature of 200 ° C. or more, the LSI shown in FIG.
A package is formed.

【0049】なお、テープキャリア10の平面度が悪い
場合は、テープキャリア10のスルーホール12と絶縁
基板21上の半田バンプ24を位置決めした後、これら
テープキャリア10と絶縁基板21とを二つのサポート
リングで上下から挟み込み、これらサポートリングの押
圧力によりテープキャリア10を平坦化する。
When the flatness of the tape carrier 10 is poor, after positioning the through holes 12 of the tape carrier 10 and the solder bumps 24 on the insulating substrate 21, the tape carrier 10 and the insulating substrate 21 are supported by two supports. The tape carrier 10 is sandwiched from above and below by a ring, and the tape carrier 10 is flattened by the pressing force of these support rings.

【0050】ここで、テープキャリア10側を押圧する
前記サポートリングには、LSIチップ1に対応する孔
を形成するとともに、絶縁基板21側を押圧する前記サ
ポートリングには、各ピン端子23に対応する孔をする
ことが好ましい。
Here, a hole corresponding to the LSI chip 1 is formed in the support ring pressing the tape carrier 10 side, and the support ring pressing the insulating substrate 21 side corresponds to each pin terminal 23. It is preferable to make holes.

【0051】このような構成からなる二つのサポートリ
ングを用いることによって、テープキャリア10を効果
的に押圧することができるとともに、各ピン端子23の
破損を防止することができる。
By using the two support rings having such a configuration, the tape carrier 10 can be effectively pressed and the pin terminals 23 can be prevented from being damaged.

【0052】上述した本実施形態のLSIパッケージに
よれば、テープキャリア10上にリードパターン13等
を形成する構成としてあるので、これらリードパターン
13等のピッチを微細化することができ、接続端子の高
密度化を図ることができる。
According to the above-described LSI package of the present embodiment, since the lead patterns 13 and the like are formed on the tape carrier 10, the pitch of the lead patterns 13 and the like can be reduced, and the connection terminals Higher density can be achieved.

【0053】また、LSIチップ1をピングリットアレ
イ20の絶縁基板21上に実装した構成としてあるの
で、接続端子の高密度化を図った場合でも、LSIパッ
ケージを外部の実装基板に簡単に接続することができ
る。
Further, since the LSI chip 1 is mounted on the insulating substrate 21 of the pinglit array 20, the LSI package can be easily connected to an external mounting substrate even when the density of connection terminals is increased. be able to.

【0054】さらに、第一電極パッド12aの直径を小
さくすることによって、テープキャリア10におけるリ
ードパターン13の形成面積を広く確保しつつ、スルー
ホール12の数を増大させることができるので、このテ
ープキャリア10を介して接続されるLSIチップ1の
前記電極端子と、ピングリッドアレイ20のピン端子2
3とを超高密度化することができる。
Further, by reducing the diameter of the first electrode pad 12a, it is possible to increase the number of through holes 12 while securing a large area for forming the lead pattern 13 in the tape carrier 10. 10 and the electrode terminals of the LSI chip 1 connected via the
3 can be made ultra-high density.

【0055】なお、本実施形態のLSIパッケージで
は、図3に示すように、テープキャリア10のスルーホ
ール12の直径を均一に小さくすることにより、第一電
極パッド12aの直径L1を微細化しているが、これに
限らず、図4に示すように、スルーホール12の第一電
極パッド12a側の開口径のみを小さくしても、第一電
極パッド12aの直径L1を微細化することができる。
In the LSI package of this embodiment, as shown in FIG. 3, the diameter L1 of the first electrode pad 12a is reduced by uniformly reducing the diameter of the through hole 12 of the tape carrier 10. However, the diameter L1 of the first electrode pad 12a can be reduced even if only the opening diameter of the through hole 12 on the first electrode pad 12a side is reduced as shown in FIG.

【0056】このような構成とした場合は、スルーホー
ル12の第二電極パッド12b側の開口径を大きくする
ことができるので、スルーホール12に入る半田バンプ
24の量が多くなり、良好な接続を行なうことができ
る。
In the case of such a configuration, the opening diameter of the through hole 12 on the second electrode pad 12b side can be increased, so that the amount of the solder bump 24 entering the through hole 12 increases, resulting in a good connection. Can be performed.

【0057】次に、本発明の第二の実施形態に係るLS
Iパッケージについて、図5を参照しつつ説明する。図
5は本発明の第二の実施形態に係るLSIパッケージを
示す部分側面断面図である。
Next, the LS according to the second embodiment of the present invention will be described.
The I package will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a partial side sectional view showing an LSI package according to the second embodiment of the present invention.

【0058】図5において、本実施形態のLSIパッケ
ージは、ピングリットアレイ20の絶縁基板21を多層
にして内部に電源層21aとGND層21bを形成する
とともに、これら電源層21aとGND層21bに接続
されるチップコンデンサ25を設けた構成としてある。
Referring to FIG. 5, the LSI package of the present embodiment has a power supply layer 21a and a GND layer 21b formed inside a multi-layered insulating substrate 21 of a pinglit array 20, and the power supply layer 21a and the GND layer 21b are The configuration is such that a chip capacitor 25 to be connected is provided.

【0059】このような構成からなる本実施形態のLS
Iパッケージによれば、接続端子の高密度化を図った本
LSIパッケージを高速動作させた場合でも、多くの信
号線が同時動作したときの電源電圧の変動によって発生
するGNDノイズを、チップコンデンサ25により抑制
することができる。
The LS of this embodiment having such a configuration
According to the I package, even when the present LSI package with a high connection terminal density is operated at a high speed, the GND noise generated by the fluctuation of the power supply voltage when many signal lines are operated at the same time is reduced by the chip capacitor 25. Can be suppressed.

【0060】なお、上述した第一及び第二実施形態は、
いずれも、本発明のLSIパッケージをピングリッドア
レイ20に応用したものであるが、これに限らず、本発
明のLSIパッケージをボールグリッドアレイに応用し
ても、各実施形態と同様の効果を得ることができる。
Note that the first and second embodiments described above
In each case, the LSI package of the present invention is applied to the pin grid array 20. However, the present invention is not limited to this, and the same effect as in each embodiment can be obtained by applying the LSI package of the present invention to a ball grid array. be able to.

【0061】[0061]

【発明の効果】以上のように、本発明のLSIパッケー
ジによれば、LSIチップ及びピングリットアレイ又は
ボールグリッドアレイの接続端子の超高密度化を図るこ
とができるとともに、当該LSIパッケージを外部の実
装基板に容易に接続することができる。
As described above, according to the LSI package of the present invention, the connection density of the connection terminals of the LSI chip and the pinlit array or the ball grid array can be increased, and the LSI package can be connected to an external device. It can be easily connected to the mounting board.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第一実施形態に係るLSIパッケージ
を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an LSI package according to a first embodiment of the present invention.

【図2】上記LSIパッケージの部分側面断面図であ
る。
FIG. 2 is a partial side sectional view of the LSI package.

【図3】上記LSIパッケージにおけるテープキャリア
のスルーホールと、ピングリットアレイのスルーホール
を示す部分拡大図である。
FIG. 3 is a partially enlarged view showing through holes of a tape carrier and through holes of a pinglit array in the LSI package.

【図4】上記LSIパッケージの変形例を示す部分拡大
図である。
FIG. 4 is a partially enlarged view showing a modification of the LSI package.

【図5】本発明の第二実施形態に係るLSIパッケージ
の部分側面断面図である。
FIG. 5 is a partial side sectional view of an LSI package according to a second embodiment of the present invention.

【図6】従来のLSIパッケージを示す側面断面図であ
る。
FIG. 6 is a side sectional view showing a conventional LSI package.

【図7】その他の従来のLSIパッケージを示す側面断
面図である。
FIG. 7 is a side sectional view showing another conventional LSI package.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 LSIチップ 10 テープキャリア 10a デバイスホール 12,22 スルーホール 12a 第一電極パッド 12b 第二電極パッド 20 ピングリッドアレイ 21 絶縁基板 23 ピン端子 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 LSI chip 10 Tape carrier 10a Device hole 12, 22 Through hole 12a First electrode pad 12b Second electrode pad 20 Pin grid array 21 Insulating substrate 23 Pin terminal

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 21/60 311 H01L 23/12──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) H01L 21/60 311 H01L 23/12

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ピングリットアレイの各ピン端子に対応
する複数のスルーホールと、各スルーホールのLSIチ
ップを接続する側の開口部周縁に形成した第一電極パッ
ドと、各スルーホールの前記ピングリッドアレイを接続
する側の開口部周縁に形成した第二電極パッドと、前記
第一電極パッドと同一面上に形成され、前記第一電極パ
ッドと前記LSIチップの電極端子を接続するリードパ
ターンとを有し、テープキャリアを介して前記LSIチ
ップを前記ピングリットアレイの絶縁基板上に実装した
LSIパッケージであって、 前記第一電極パッドの直径を小さくすることによって、
前記テープキャリアの前記スルーホール及び前記リード
パターンの形成面積を広くしたことを特徴とするのLS
Iパッケージ。
1. Corresponds to each pin terminal of a pinglit array
Multiple through holes and the LSI chip of each through hole
The first electrode pad formed around the opening on the side where the
And the pin grid array of each through hole
A second electrode pad formed on the periphery of the opening on the side of
The first electrode pad is formed on the same surface as the first electrode pad.
Lead and a lead pad for connecting an electrode terminal of the LSI chip
The LSI chip via a tape carrier.
Was mounted on the insulating substrate of the Pinglit array
An LSI package, wherein the diameter of the first electrode pad is reduced,
The through hole and the lead of the tape carrier
LS characterized by widening the pattern formation area
I package.
【請求項2】 ボールグリットアレイの各ピン端子に対
応する複数のスルーホールと、各スルーホールのLSI
チップを接続する側の開口部周縁に形成した第一電極パ
ッドと、各スルーホールの前記ピングリッドアレイを接
続する側の開口部周縁に形成した第二電極パッドと、前
記第一電極パッドと同一面上に形成され、前記第一電極
パッドと前記LSIチップの電極端子を接続するリード
パターンとを有し、テープキャリアを介して前記LSI
チップを前記ボールグリットアレイの絶縁基板上に実装
したLSIパッケージであって、 前記第一電極パッドの直径を小さくすることによって、
前記テープキャリアの前記スルーホール及び前記リード
パターンの形成面積を広くしたことを特徴とするのLS
Iパッケージ。
2. The method according to claim 1 , wherein each pin terminal of the ball grid array is
Corresponding multiple through holes and LSI of each through hole
The first electrode pad formed on the periphery of the opening on the side where the chip is connected
And the pin grid array of each through hole.
A second electrode pad formed on the periphery of the opening on the connecting side;
Forming the first electrode on the same surface as the first electrode pad;
Leads for connecting pads and electrode terminals of the LSI chip
And the LSI via a tape carrier.
Chip mounted on the insulating substrate of the ball grid array
LSI package, wherein the diameter of the first electrode pad is reduced,
The through hole and the lead of the tape carrier
LS characterized by widening the pattern formation area
I package.
【請求項3】 ピングリットアレイの各ピン端子に対応
する複数のスルーホールと、各スルーホールのLSIチ
ップを接続する側の開口部周縁に形成した第一電極パッ
ドと、各スルーホールの前記ピングリッドアレイを接続
する側の開口部周縁に形成した第二電極パッドと、前記
第一電極パッドと同一面上に形成され、前記第一電極パ
ッドと前記LSIチップの電極端子を接続するリードパ
ターンとを有し、テープキャリアを介して前記LSIチ
ップを前記ピングリットアレイの絶縁基板上に実装した
LSIパッケージであって、 前記テープキャリアに形成した前記スルーホールの、前
記第一電極パッド側の 開口径のみを小さくすることによ
り、前記第一電極パッドの直径を小さくすることを特徴
としたLSIパッケージ。
3. Corresponding to each pin terminal of a pinglit array
Multiple through holes and the LSI chip of each through hole
The first electrode pad formed around the opening on the side where the
And the pin grid array of each through hole
A second electrode pad formed on the periphery of the opening on the side of
The first electrode pad is formed on the same surface as the first electrode pad.
Lead and a lead pad for connecting an electrode terminal of the LSI chip
The LSI chip via a tape carrier.
Was mounted on the insulating substrate of the Pinglit array
An LSI package, wherein said through hole is formed in said tape carrier;
By reducing only the opening diameter on the first electrode pad side
And reducing the diameter of the first electrode pad.
LSI package.
【請求項4】 ボールグリットアレイの各ピン端子に対
応する複数のスルーホールと、各スルーホールのLSI
チップを接続する側の開口部周縁に形成した第一電極パ
ッドと、各スルーホールの前記ピングリッドアレイを接
続する側の開口部周縁に形成した第二電極パッドと、前
記第一電極パッドと同一面上に形成され、前記第一電極
パッドと前記LSIチップの電極端子を接続するリード
パターンとを有し、テープキャリアを介して前記LSI
チップを前記ボールグリットアレイの絶縁基板上に実装
したLSIパッケージであって、 前記テープキャリアに形成した前記スルーホールの、前
記第一電極パッド側の開口径のみを小さくすることによ
り、前記第一電極パッドの直径を小さくすることを特徴
としたLSIパッケージ。
4. Each pin terminal of the ball grid array is connected to
Corresponding multiple through holes and LSI of each through hole
The first electrode pad formed on the periphery of the opening on the side where the chip is connected
And the pin grid array of each through hole.
A second electrode pad formed on the periphery of the opening on the connecting side;
Forming the first electrode on the same surface as the first electrode pad;
Leads for connecting pads and electrode terminals of the LSI chip
And the LSI via a tape carrier.
Chip mounted on the insulating substrate of the ball grid array
An LSI package, wherein said through hole formed in said tape carrier is located in front of said through hole.
By reducing only the opening diameter on the first electrode pad side
And reducing the diameter of the first electrode pad.
LSI package.
【請求項5】 前記絶縁基板を多層にして内部に電源層
とGND層を形成するとともに、これら電源層とGND
層に接続されるチップコンデンサを設けた請求項1,
2,3又は4記載のLSIパッケージ。
5. A power supply layer and a GND layer are formed inside by making the insulating substrate a multilayer, and the power supply layer and the GND layer are formed.
A chip capacitor connected to a layer is provided.
An LSI package according to 2, 3, or 4.
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