JP2783086B2 - 半導体レーザ装置および光接続装置 - Google Patents

半導体レーザ装置および光接続装置

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光を用いて情報の伝送を
行うための光接続装置と、光接続装置に用いる面発光型
の半導体レーザ装置とに関する。
【0002】
【従来の技術】面発光型のレーザ装置は2次元アレイ集
積化が可能なため、光接続用のデバイスとして有効であ
る。
【0003】従来の半導体レーザ装置について図を用い
て説明する。
【0004】図5は従来の面発光型の半導体レーザ装置
の斜視図である。
【0005】図5において、従来の面発光型の半導体レ
ーザ装置は基板1上に第1のミラー層2、活性層3、第
2のミラー層4を順次積層して構成してあり、層の断面
方向の形状は正方形となっている。第1、第2のミラー
層2,4の間で共振器が構成される。横方向の光の閉じ
込めは、例えば、全体をメサエッチングすることで実現
することが出来る。
【0006】このような面発光型のレーザ装置は光検出
器としても機能するため、2つのレーザを光学的に結合
することで、光情報の送信,受信を行う光接続装置を実
現することが出来る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】この従来の反動体レー
ザ装置は、発行と受光の両方に用いた場合に、一般的に
発光動作では発熱によって発振波長が長波側に移動する
という問題点がある。また、受光側の素子も共振器を形
成しているため、共振波長からずれると光検出器感度が
大きく低下するという問題点がある。従って、同一半導
体レーザ装置を用いた光接続では、発光側の波長が受光
素子の最適波長より長波側にずれることになり、十分な
検出信号が得られなくなる。
【0008】本発明の目的は、このような問題点の生じ
ることのない半導体レーザ装置および光接続装置を提供
することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本第1の発明の半導体レ
ーザ装置は、半導体基板上に第1の反射ミラー層,活性
層および第2の反射ミラー層を順次積層して構成した垂
直型の共振器を備える半導体レーザ装置において、前記
共振器は層方向の断面形状を長方形とし、前記活性層は
クラット層と量子井戸層とを含んで構成し、前記量子井
戸層は複数の分子の化合物で構成され、又、前記共振器
の短波長側の発光モードの利得が長波長側の発光モード
の利得に比べて高くなるように、前記複数の分子の化合
率が調整されて化合され、且つ前記量子井戸層の厚さが
調整されて形成ている。
【0010】本第2の発明の光接続装置は、本第1の発
明の半導体レーザ装置の間を光学的に接続する光接続装
置において、一方の半導体レーザ装置の出射光の偏光を
90度回転した後、他方の半導体レーザ装置に入射させ
る変換手段を有している。
【0011】
【作用】本発明の作用を図によって説明する。
【0012】本発明の半導体レーザ装置では、半導体レ
ーザから出射するレーザ光の波長が直交する2つの偏光
成分間で異なるような構造となっている。仮にS偏光と
P偏光と名付けると、図3に示すように両者では波長に
差がある。このような波長差は共振器構造に非対称性を
導入することで実現できる。例えば図1に示すように層
方向での断面が長方形となるように、辺aの長さと辺b
の長さを変えればよい。この波長差は、図3に示す受光
状態(a)と発光状態(b)における波長の移動量にほ
ぼ等しくなるように設定する。実際の発光動作では、利
得の大きい側のモードが主に発光するため、短波長側の
モードが発光するように活性層のピークを図3(b)の
様に設定する。このような設定を行った半導体レーザ装
置では、発光波長と受光波長が一致しているため光接続
用デバイスとしての用途が広くなる。
【0013】本第2の発明の光接続装置は、上記のよう
な設定を行った半導体レーザ装置を使用して構成され
る。図4に示すように一方の半導体レーザ装置10から
の出射光は1/2波長板12で90度偏光方向を回転し
て反対側の半導体レーザ装置10の入射光となる。従っ
て、出射光は常にS偏光で、入射光は常にP偏光とする
ことが出来る。1/2波長板12を使用せずに、片方の
半導体レーザ装置10を光軸に対して90度回転させて
設置してもよい。
【0014】このように、本発明の使用すれば、同一の
素子間で効率のよい光情報伝送を実現することが出来
る。
【0015】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
【0016】図1は本第1の半導体レーザ装置の第1の
実施例を示す斜視図である。
【0017】図1において本第1の実施例はGaAsの
基板1上に、AlASとGaASとからなる第1のミラ
ー層2、AlGaAaのクラッド層とInGaAsの量
子井戸層とからなる活性層3、AlAsとGaAsとか
らなる第2のミラー層4を順次積層し、メサエッチング
により共振器を構成する。
【0018】本第1の実施例の共振器の断面の形状を長
方形(b〉a)とすることにより、2つの直交偏光モー
ド間で共振波長が異なる構成が得られる。例えば断面形
状を6×3μmとすれば0.4nm程度の波長差が生じ
る。活性層3の構造は短波長側の偏光モードの利得が高
くなるように設定されている。In0.2 Ga0.8 Asで
10nmの量子井戸層を用いれば約950nmの発振波
長となる。具体的な発振波長は、活性層の成長条件によ
って異なるが、短波側の利得を高くするためには、In
の割合を減少させるか、量子井戸層を10mmより薄く
形成すればよい。 図2は本第1の発明の半導体レーザ
装置の第2の実施例を示す斜視図である。 図2におい
て、本第2の実施例は基盤1上に、第1のミラー層2、
活性層3、第2のミラー層4を順次積層し、メサエッチ
ングにより共振器を構成し、且つメサエッチした側面の
2方向に金属層や光ドープ層などの光損失層5を形成し
ている。
【0019】この第2の実施例では、光損失層5に平行
な電界成分を持つ偏光方向のモードの損失が増加するた
め、発振が抑制される。従って、光損失層5に直交する
方向の偏光成分を持つモードが短波長側になるように共
振器形状が設定されている。例えば、辺bが辺aより長
くなるような長方形の断面形状を形成するばよい。
【0020】また、共振器断面形状は長方形でなく楕円
形でも同様な波長差を実現可能である。さらに、活性層
3はAlGaAsのバルク層としてAlとGaの混品比
で波長を制御してもよい。
【0021】半導体レーザ装置の層構造は、単純なpn
構造でなく、pnpnのサイリスタ構造を有するもので
もよい。
【0022】図4は本第2の発明の光接続装置の一実施
例を示す図である。
【0023】図4において、本実施例は上述の第1の実
施例の半導体レーザ装置10aの出射光が2つの結合レ
ンズ11a,11bによって反射側の半導体レーザ装置
10bに光学的に結合されて構成している。光学系中に
設置された1/2波長板12は透過光の偏光方向を90
度回転させる。従って、S偏光出射光はP偏光として入
射することになる。
【0024】以上の説明では、単体の半導体レーザ装置
を用いているが、アレイ型半導体レーザ装置においても
同様の効果を得ることが出来る。
【0025】
【発明の効果】以上説明したように本第1の発明は、半
導体基板上に第1の反射ミラー層,活性層および第2の
反射ミラー層と順次積層して構成した垂直型の共振器を
備える半導体レーザ装置において、共振器は層方向の断
面形状を長方形とし、活性層はクロッド層と量子井戸層
とを含んで構成し、量子井戸層は複数の分子の化合物で
構成され、又、共振器の短波長側の発光モードの利得が
長波長側の発光モードの利得に比べて高くなるように、
複数の分子の化合率が調整されて化合され、且つ量子井
戸層の厚さが調整されて化合され、且つ量子井戸層の厚
さが調整されて形成されていることにより、直交する2
方向の偏光モード間で相異なる発振波長を得ることがで
きる効果がある。
【0026】又、本第2の発明は、本第1の発明の半導
体レーザ装置を用いて、一方の半導体レーザ装置の出射
光の偏光を90度回転した後、他方の半導体レーザ装置
に入射させる変換手段を有することにより、光結合効率
を高めることができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本第1の発明の半導体レーザ装置の第1の実施
例を示す斜視図である。
【図2】本第1の発明の半導体レーザ装置の第2の実施
例を示す斜視図である。
【図3】発振器の発振発長と利得との関係を示す特性図
で、(a)は受光の場合を示す図(b)は発光の場合を
示す図である。
【図4】本第2の発明の光接続装置の一実施例を示す図
である。
【図5】従来の半導体レーザ装置の一例を示す図であ
る。
【符号の説明】
1 基板 2 第1のミラー層 3 活性層 4 第2のミラー層 5 光損失層 10,10a,10b 半導体レーザ装置 11a,11b 結合レンズ 12 1/2波長板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01S 3/18 H01L 33/00 H01L 31/14

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体基板上に第1の反射ミラー層,活
    性層および第2の反射ミラー層を順次積層して構成した
    垂直型の共振器を備える半導体レーザ装置において、前
    記共振器は層方向の断面形状を長方形とし、前記活性層
    はクラット層と量子井戸層とを含んで構成し、前記量子
    井戸層は複数の分子の化合物で構成され、又、前記共振
    器の短波長側の発光モードの利得が長波長側の発光モー
    ドの利得に比べて高くなるように、前記複数の分子の化
    合率が調整されて化合され、且つ前記量子井戸層の厚さ
    が調整されて形成されていることを特徴とする半導体レ
    ーザ装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載した半導体レーザ装置の
    間を光学的に接続する光接続装置において、一方の半導
    体レーザ装置の出射光の偏光を90度回転した後、他方
    の半導体レーザ装置に入射させる変換手段を有すること
    を特徴とする光接続装置。
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Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6174749B1 (en) 1998-05-13 2001-01-16 The Regents Of The University Of California Fabrication of multiple-wavelength vertical-cavity opto-electronic device arrays
US7286585B2 (en) 1998-12-21 2007-10-23 Finisar Corporation Low temperature grown layers with migration enhanced epitaxy adjacent to an InGaAsN(Sb) based active region
US20030219917A1 (en) * 1998-12-21 2003-11-27 Johnson Ralph H. System and method using migration enhanced epitaxy for flattening active layers and the mechanical stabilization of quantum wells associated with vertical cavity surface emitting lasers
US6975660B2 (en) 2001-12-27 2005-12-13 Finisar Corporation Vertical cavity surface emitting laser including indium and antimony in the active region
US7435660B2 (en) * 1998-12-21 2008-10-14 Finisar Corporation Migration enhanced epitaxy fabrication of active regions having quantum wells
US7167495B2 (en) 1998-12-21 2007-01-23 Finisar Corporation Use of GaAs extended barrier layers between active regions containing nitrogen and AlGaAs confining layers
US7408964B2 (en) 2001-12-20 2008-08-05 Finisar Corporation Vertical cavity surface emitting laser including indium and nitrogen in the active region
US7257143B2 (en) * 1998-12-21 2007-08-14 Finisar Corporation Multicomponent barrier layers in quantum well active regions to enhance confinement and speed
US7058112B2 (en) 2001-12-27 2006-06-06 Finisar Corporation Indium free vertical cavity surface emitting laser
US6922426B2 (en) 2001-12-20 2005-07-26 Finisar Corporation Vertical cavity surface emitting laser including indium in the active region
US7095770B2 (en) 2001-12-20 2006-08-22 Finisar Corporation Vertical cavity surface emitting laser including indium, antimony and nitrogen in the active region
JP2002353563A (ja) * 2001-05-24 2002-12-06 Rohm Co Ltd 半導体発光素子およびその製法
US7295586B2 (en) 2002-02-21 2007-11-13 Finisar Corporation Carbon doped GaAsSb suitable for use in tunnel junctions of long-wavelength VCSELs
US6822995B2 (en) * 2002-02-21 2004-11-23 Finisar Corporation GaAs/AI(Ga)As distributed bragg reflector on InP
US20040179566A1 (en) * 2003-03-11 2004-09-16 Aharon El-Bahar Multi-color stacked semiconductor lasers
CN1559939A (zh) * 2004-03-10 2005-01-05 沈阳戴维国际机电设备有限公司 循环流化燃烧法处理污水处理厂污泥的方法
US7860143B2 (en) * 2004-04-30 2010-12-28 Finisar Corporation Metal-assisted DBRs for thermal management in VCSELs
US7860137B2 (en) 2004-10-01 2010-12-28 Finisar Corporation Vertical cavity surface emitting laser with undoped top mirror
CN101432936B (zh) 2004-10-01 2011-02-02 菲尼萨公司 具有多顶侧接触的垂直腔面发射激光器

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63318195A (ja) * 1987-06-19 1988-12-27 Agency Of Ind Science & Technol 横方向埋め込み型面発光レ−ザ
JP2570357B2 (ja) * 1988-02-02 1997-01-08 富士通株式会社 半導体発光装置
US5023944A (en) * 1989-09-05 1991-06-11 General Dynamics Corp./Electronics Division Optical resonator structures
JPH03225886A (ja) * 1990-01-30 1991-10-04 Nec Corp 面発光半導体レーザアレイ
JPH03283479A (ja) * 1990-03-30 1991-12-13 Hitachi Ltd 半導体レーザ装置
US5029176A (en) * 1990-05-11 1991-07-02 Bell Communications Research, Inc. Monolithic multiple-wavelength laser array
US5086430A (en) * 1990-12-14 1992-02-04 Bell Communications Research, Inc. Phase-locked array of reflectivity-modulated surface-emitting lasers

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
1991年(平成3年)秋季応物学会予稿集 11P−ZM−5

Also Published As

Publication number Publication date
EP0595469A1 (en) 1994-05-04
JPH06112591A (ja) 1994-04-22
EP0595469B1 (en) 1996-03-20
DE69301893D1 (de) 1996-04-25
US5365540A (en) 1994-11-15
DE69301893T2 (de) 1996-09-05

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