JP2781279B2 - Epoxy resin composition for encapsulating optical semiconductor elements - Google Patents

Epoxy resin composition for encapsulating optical semiconductor elements

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JP2781279B2
JP2781279B2 JP51590995A JP51590995A JP2781279B2 JP 2781279 B2 JP2781279 B2 JP 2781279B2 JP 51590995 A JP51590995 A JP 51590995A JP 51590995 A JP51590995 A JP 51590995A JP 2781279 B2 JP2781279 B2 JP 2781279B2
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JP
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epoxy resin
optical semiconductor
resin composition
component
semiconductor element
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JP51590995A
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Japanese (ja)
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忠昭 原田
伸二郎 上西
博克 神山
隆彦 丸橋
克実 嶋田
聡 谷川
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Nitto Denko Corp
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Nitto Denko Corp
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

技術分野 この発明は、離型性および透明性に優れた封止材料と
なりうる光半導体素子封止用エポキシ樹脂組成物に関す
るものである。 背景技術 従来から、受光素子および発光素子等の光半導体素子
の封止材料としては、透明性,耐湿性および耐熱性に優
れていなければならないという観点から、エポキシ樹脂
組成物が使用されている。 しかしながら、従来から用いられているエポキシ樹脂
組成物は、透明性には優れているが、光半導体素子とエ
ポキシ樹脂組成物を成型金型中でトランスファー成型し
光半導体装置化した場合、成型金型内から光半導体装置
を取り出す際の離型性が著しく悪くなるという問題を有
している。このため、離型時のストレスにより光半導体
装置が変形したり、パッケージにクラックが入ったり、
光半導体素子と封止樹脂とが剥離したり、また、金線ワ
イヤーが剥がれたりするというような様々な問題が生じ
る。このような問題の発生は、光半導体装置の各種寿命
試験を行うと顕著に判明するが、一般には、寿命試験に
供する前に光半導体装置の機能不良として判断され、不
良品として分別処理される。 このため、従来から公知の離型剤を封止材料であるエ
ポキシ樹脂組成物中に予め添加したりすることが検討さ
れている。この離型剤を添加したエポキシ樹脂組成物
は、離型剤の種類によっては光半導体素子封止用樹脂組
成物の重要な特性である透明性については優れた樹脂組
成物を製造することは可能であるが、この透明性ととも
に離型性においても優れたものは開発されていない。逆
に、離型剤の添加により離型性に優れた封止用樹脂組成
物を製造すれば、透明性が悪くなるという問題が生じ
る。このように、透明性と離型性の双方において優れた
封止用エポキシ樹脂組成物というものは未だ得られてい
ないのが実情である。 この発明は、このような事情に鑑みなされたもので、
トランスファー成型時に成型金型からの離型性に優れ、
しかも透明性にも優れた光半導体素子封止用エポキシ樹
脂組成物の提供をその目的とする。 発明の開示 上記の目的を達成するため、この発明の光半導体素子
封止用エポキシ樹脂組成物は、下記の(A)〜(C)成
分を含有するという構成をとる。 (A)エポキシ樹脂。 (B)硬化剤。 (C)下記の一般式(1)で表される化合物および一般
式(2)で表される化合物の少なくとも一方。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an epoxy resin composition for encapsulating an optical semiconductor element, which can be used as an encapsulating material having excellent releasability and transparency. BACKGROUND ART Conventionally, an epoxy resin composition has been used as a sealing material for an optical semiconductor element such as a light receiving element and a light emitting element from the viewpoint that transparency, moisture resistance and heat resistance must be excellent. However, the epoxy resin composition conventionally used is excellent in transparency, but when the optical semiconductor element and the epoxy resin composition are transferred and molded into an optical semiconductor device in a molding die, a molding die is formed. There is a problem that the mold releasability when taking out the optical semiconductor device from inside is significantly deteriorated. For this reason, the optical semiconductor device is deformed due to the stress at the time of release, cracks are generated in the package,
Various problems such as peeling of the optical semiconductor element and the sealing resin and peeling of the gold wire occur. The occurrence of such a problem becomes remarkable when various life tests of the optical semiconductor device are performed. However, in general, it is determined that the optical semiconductor device is malfunctioning before being subjected to the life test, and is separated as a defective product. . For this reason, it has been studied to add a known release agent to an epoxy resin composition as a sealing material in advance. Depending on the type of the release agent, the epoxy resin composition to which the release agent is added can produce a resin composition excellent in transparency, which is an important property of the resin composition for optical semiconductor element encapsulation. However, there has not been developed any material having both excellent transparency and releasability. Conversely, if a sealing resin composition having excellent releasability is produced by adding a release agent, there is a problem that transparency is deteriorated. As described above, an epoxy resin composition for encapsulation which is excellent in both transparency and releasability has not yet been obtained. The present invention has been made in view of such circumstances,
Excellent releasability from the mold during transfer molding,
Moreover, it is an object of the present invention to provide an epoxy resin composition for encapsulating an optical semiconductor element having excellent transparency. DISCLOSURE OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the epoxy resin composition for encapsulating an optical semiconductor device of the present invention has a configuration containing the following components (A) to (C). (A) Epoxy resin. (B) a curing agent. (C) At least one of a compound represented by the following general formula (1) and a compound represented by the following general formula (2).

【化5】Embedded image

【化6】 すなわち、本発明者らは、透明性と離型性の双方とも
に優れた光半導体素子封止用のエポキシ樹脂組成物を得
るために一連の研究を重ねた。そして、封止樹脂の透明
性を損なうことなく良好な離型性を得る目的のもと様々
な化合物を用いて研究を重ねた結果、前記一般式(1)
で表される特定の化合物および一般式(2)で表される
特定の化合物の少なくとも一方〔(C)成分〕を用いる
と、透明性と離型性の双方ともに優れた光半導体素子封
止用のエポキシ樹脂組成物が得られることを見出しこの
発明に到達した。 特に、上記(C)成分の含有量を、光半導体素子封止
用エポキシ樹脂組成物全体の0.01〜15重量%(以下
「%」と略す)の範囲に設定することにより、ガラス転
移温度もしくは耐湿信頼性の低下を防止して充分な離型
性が得られるようになる。 この発明の光半導体素子封止用エポキシ樹脂組成物
は、エポキシ樹脂(A成分)と、硬化剤(B成分)と、
特定の化合物(C成分)および場合により硬化促進剤と
を用いて得られるものであって、通常、粉末状、もしく
はこの粉末状を打錠したタブレット状になっている。 上記エポキシ樹脂(A成分)としては、透明性に問題
がなければ特に限定するものではなく従来公知のエポキ
シ樹脂、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビ
スフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック
型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹
脂、脂環式エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレ
ート、ヒダントインエポキシ樹脂等の含窒素環エポキシ
樹脂、水添加ビスフェノールA型エポキシ樹脂、脂肪族
系エポキシ樹脂、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、
ビスフェノールS型エポキシ樹脂等があげられる。これ
らは単独でもしくは2種以上併せて用いられる。上記各
種エポキ樹脂のなかでも、光半導体素子封止後、封止樹
脂(硬化物)が変色しにくいという点から、ビスフェノ
ールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹
脂、脂環式エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレ
ートを用いることが好ましい。 上記エポキシ樹脂(A成分)とともに用いられる硬化
剤(B成分)としては、透明性に問題がなければ特に制
限するものではないが、封止樹脂の変色の度合いが少な
いという点から各種酸無水物を用いることが好ましい。
具体的には、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリ
メリット酸、無水パイロメリット酸、ヘキサヒドロ無水
フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジ
ック酸、無水ナジック酸、無水グルタル酸、メチルヘキ
サヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル
酸等があげられる。これらは単独でもしくは2種以上併
せて用 られる。そして、上記硬化剤のなかでも、無水
フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無
水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸を用いる
ことが好ましい。さらに、上記酸無水物系の硬化剤以外
に、従来公知のアミン類、フェノール類、または、ヘキ
サヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、メチルヘキ
サヒドロフタル酸等のカルボン酸類等の硬化剤を単独で
使用してもあるいは併用してもよい。 上記エポキシ樹脂(A成分)と硬化剤(B成分)の配
合割合は、例えば、硬化剤として酸無水物を用いる場
合、上記エポキシ樹脂中のエポキシ基1当量に対して酸
無水物における酸無水物当量を、0.5〜1.5となるよう設
定することが好ましい。特に好ましくは0.7〜1.2であ
る。すなわち、上記配合割合において、酸無水物当量が
0.5当量未満では、得られるエポキシ樹脂組成物の硬化
後の色相が悪くなり、逆に1.5当量を超えると、耐湿性
が低下する傾向がみられるからである。なお、硬化剤
(B成分)として、酸無水物以外に、前述のアミン類、
フェノール類、カルボン酸類等の硬化剤を単独で使用も
しくは併用する場合においても、その配合割合は、上記
酸無水物を使用した配合割合(当量比)に準ずる。 上記A成分およびB成分とともに用いられる特定の化
合物(C成分)は、下記の一般式(1)で表される化合
物および下記の一般式(2)で表される化合物の少なく
とも一方であり、これらを用いることにより、封止樹脂
の透明性を損なうことなく、トランスファー成型時に金
型からの光半導体装置の離型が容易にできるものであ
り、これら化合物を用いることがこの発明の特徴であ
る。
That is, the present inventors have conducted a series of studies in order to obtain an epoxy resin composition for encapsulating an optical semiconductor element which is excellent in both transparency and releasability. Then, as a result of repeated studies using various compounds for the purpose of obtaining good releasability without impairing the transparency of the sealing resin, as a result of the general formula (1)
When at least one of the specific compound represented by the formula (1) and the specific compound represented by the general formula (2) [component (C)] is used, the optical semiconductor element sealing excellent in both the transparency and the releasability. The present inventors have found that the epoxy resin composition of the present invention can be obtained, and have reached the present invention. In particular, by setting the content of the component (C) in the range of 0.01 to 15% by weight (hereinafter abbreviated as “%”) of the entire epoxy resin composition for encapsulating an optical semiconductor element, the glass transition temperature or the moisture resistance can be improved. A sufficient releasability can be obtained by preventing a decrease in reliability. The epoxy resin composition for encapsulating an optical semiconductor element of the present invention comprises: an epoxy resin (A component); a curing agent (B component);
It is obtained using a specific compound (component (C)) and optionally a curing accelerator, and is usually in the form of a powder or a tablet obtained by compressing the powder. The epoxy resin (A component) is not particularly limited as long as there is no problem in transparency, and conventionally known epoxy resins, for example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol Novolak type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, triglycidyl isocyanurate, nitrogen-containing ring epoxy resin such as hydantoin epoxy resin, water-added bisphenol A type epoxy resin, aliphatic epoxy resin, glycidyl ether type epoxy resin,
Bisphenol S type epoxy resin and the like can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more. Among the above various epoxy resins, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, triglycidyl are preferable since the sealing resin (cured product) is hardly discolored after the optical semiconductor element is sealed. It is preferred to use isocyanurates. The curing agent (component B) used together with the epoxy resin (component A) is not particularly limited as long as there is no problem in transparency, but various acid anhydrides are used because the degree of discoloration of the sealing resin is small. It is preferable to use
Specifically, phthalic anhydride, maleic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methylnadic anhydride, nadic anhydride, glutaric anhydride, methylhexahydroanhydride Examples include phthalic acid and methyltetrahydrophthalic anhydride. These may be used alone or in combination of two or more. Further, among the above curing agents, it is preferable to use phthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, and methylhexahydrophthalic anhydride. Further, in addition to the acid anhydride-based curing agent, a conventionally known curing agent such as amines, phenols, or carboxylic acids such as hexahydrophthalic acid, tetrahydrophthalic acid, and methylhexahydrophthalic acid is used alone. Or may be used in combination. The mixing ratio of the epoxy resin (A component) and the curing agent (B component) is, for example, when an acid anhydride is used as the curing agent, the acid anhydride in the acid anhydride is equivalent to 1 equivalent of the epoxy group in the epoxy resin. It is preferable to set the equivalent to be 0.5 to 1.5. Particularly preferably, it is 0.7 to 1.2. That is, in the above mixing ratio, the acid anhydride equivalent is
If the amount is less than 0.5 equivalent, the hue after curing of the obtained epoxy resin composition is deteriorated, while if it exceeds 1.5 equivalents, the moisture resistance tends to decrease. As the curing agent (component B), in addition to the acid anhydride, the amines described above,
Even when a curing agent such as a phenol or a carboxylic acid is used alone or in combination, the compounding ratio is based on the compounding ratio (equivalent ratio) using the above-mentioned acid anhydride. The specific compound (component C) used together with the component A and the component B is at least one of a compound represented by the following general formula (1) and a compound represented by the following general formula (2). By using the compound, the optical semiconductor device can be easily released from the mold at the time of transfer molding without impairing the transparency of the sealing resin. The use of these compounds is a feature of the present invention.

【化7】Embedded image

【化8】 上記式(1)中のY1は、水素原子、−RCOOH(Rは2
価の有機基)、−COR′または−R′(R′はいずれも
炭素数30以下のアルキル基)である。好ましくはY1とし
ては、水素原子、Rが炭素数30以下のアルキレン基であ
る−RCOOH、R′が炭素数1〜30のアルキル基である−C
OR′または−R′があげられる。 また、上記式(2)中のY2である金属原子としては、
例えば、亜鉛、カルシウム、バリウム、アルミニウム、
マグネシウム、鉛、カリウム、ナトリウム等があげられ
る。特に、透明性という点を考慮すると、Y2としてはカ
ルシウム、ナトリウム、亜鉛が好ましい。 そして、上記式(1)および式(2)の双方ともにお
いて、それぞれ、繰り返し数xは8〜200であって、か
つ繰り返し部分nにおいては、その部分nの重量割合
が、式(1)、式(2)で表される化合物全体のそれぞ
れ25〜95%の範囲に設定する必要がある。より好ましく
は、式(1)および式(2)とも繰り返し数xは13〜28
の正数であり、かつ繰り返し部分nの重量割合は35〜85
%である。特に好ましくは、式(1)および式(2)と
も繰り返し数xは17〜23の正数であり、かつ繰り返し部
分nの重量割合は45〜70%である。なお、上記繰り返し
数xは式(1)および式(2)で表される化合物がそれ
ぞれ数種類ある場合には、各化合物ごとの繰り返し数x
の平均値となる。また、上記繰り返し部分nの重量割合
(%)は、下記の式により算出される値である。 このようなことから、式(1)および式(2)で表さ
れる化合物は、それぞれ、平均分子量300〜30万の範囲
のものが用いられる。好ましくは平均分子量600〜12000
である。より好ましくは平均分子量900〜5000である。 そして、上記式(1)で表される化合物は、例えば、
高級アルコールにエチレンオキサイドを付加させること
により得ることができる。 上記式(1)および式(2)で表される化合物の少な
くとも一方(C成分)の配合量は、エポキシ樹脂組成物
全体の0.01〜15%の範囲に設定することが好ましく、よ
り好ましくは0.1〜5%である。そして、特に好ましく
は0.5〜3%である。すなわち、C成分の配合量が少な
過ぎると、トランスファー成型における成型金型からの
光半導体装置の充分な離型性が得られず、逆に多過ぎる
と、ガラス転移温度もしくは耐湿信頼性が低下するおそ
れがあるからである。 また、この発明に用いられる光半導体素子封止用のエ
ポキシ樹脂組成物には、上記A〜C成分以外に、透明性
を損なわない範囲内であれば必要に応じて従来から用い
られている硬化促進剤,染料,顔料,変性剤,酸化防止
剤,カップリング剤,離型剤等を適宜に配合することが
できる。 上記硬化促進剤としては、特に限定するものではなく
従来公知のもの、例えば、三級アミン類、イミダゾール
類、第四級アンモニウム塩および有機金属塩類、リン化
合物、1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−
7、およびこれらの誘導体等があげられる。これらは単
独でもしくは2種以上併せて用いられる。そして、上記
硬化促進剤のなかでも、三級アミン類、イミダゾール類
を用いることが好ましい。上記硬化促進剤の配合量は、
前記エポキシ樹脂(A成分)成分100重量部(以下
「部」と略す)に対して0.01〜8部の範囲に設定するこ
とが好ましく、より好ましくは0.1〜3部である。すな
わち、硬化促進剤の配合量が0.01部未満では、充分な硬
化促進効果が得られず、8部を超えると、封止樹脂(硬
化物)に変色がみられるおそれがあるからである。 上記変性剤としては、従来公知のグリコール類,シリ
コーン類等があげられる。 上記酸化防止剤としては、フェノール系化合物、アミ
ン系化合物、有機硫黄系化合物、ホスフィン系化合物等
の従来公知のものがあげられる。 上記カップリング剤としては、シラン系,チタネート
系等の従来公知のものがあげられる。 上記離型剤としては、ステアリン酸、ベヘン酸、モン
タン酸等の長鎖カルボン酸およびその金属塩、ステアリ
ルアルコール等の高級アルコール類、ステアリルビスア
マイド等のアミド類、カルナバ、リン酸エステル等のエ
ステル類、パラフィン系ワックス等の従来公知のものが
あげられる。これら離型剤の使用量は、一般には樹脂組
成物全体の3%以下とされるが、前述のように透明性を
損なわなければこれに限定するものではない。 なお、光分散性が必要な場合には、上記成分以外にさ
らに充填剤を配合してもよい。上記充填剤としては、石
英ガラス粉末,タルク,シリカ粉末,アルミナ粉末,炭
酸カルシウム等の無機質充填剤等があげられる。 このような成分を用いて構成される光半導体素子封止
用エポキシ樹脂組成物に関して、各成分の好適な組み合
わせとしては、その優れた透明性および離型性という観
点から、エポキシ樹脂(A成分)として、ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレー
ト、ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂
を、硬化剤(B成分)として、テトラヒドロ無水フタル
酸、無水フタル酸を、そして他の添加剤である硬化促進
剤として三級アミン類、イミダゾール類を用い、これら
各成分とともに前記式(1)、式(2)で表される化合
物(C成分)を用いる組み合わせがあげられる。この
際、前述のように、上記式(1)、式(2)中の繰り返
し数xは、13〜28の範囲の正数、また、繰り返し部分n
においては、その部分nの重量割合は化合物全体の35〜
85%の範囲が好ましい。 そして、上記好適な組み合わせのなかでも、特に好ま
しい組み合わせは、封止樹脂硬化物の変色がより生じに
くいという点から、エポキシ樹脂(A成分)として、ビ
スフェノールA型エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシ
アヌレートを、硬化剤(B成分)として、テトラヒドロ
無水フタル酸を、そして他の添加剤である硬化促進剤と
してイミダゾール類を用い、これら各成分とともに前記
式(1)、式(2)中の繰り返し数xが17〜23の範囲の
正数、また、繰り返し部分nにおいて、その部分nの重
量割合は化合物全体の45〜70%の範囲に設定された化合
物(C成分)を用いる組み合わせである。 この発明の光半導体素子封止用エポキシ樹脂組成物
は、例えばつぎのようにして製造することができる。す
なわち、上記A〜C成分および必要に応じて、硬化促進
剤,染料,顔料,変性剤,酸化防止剤,カップリング
剤,離型剤,充填剤等を所定の割合で配合する。そし
て、これを常法に準じてドライブレンド法または溶融ブ
レ 法を適宜採用して混合,混練する。ついで、冷却
・粉砕し、さらに必要に応 打錠することによりエポ
キシ樹脂組成物を製造することができる。 このようなエポキシ樹脂組成物を用いての光半導体素
子の封止は、特に限定するものではなく、例えばトラン
スファー成型等の公知のモールド方法により行うことが
できる。 このようにして得られる光半導体装置は、その封止樹
脂が透明性に優れ、しかもトランスファー成型時の離型
性にも優れていることから、従来のように離型性の悪さ
に起因する光半導体装置の悪影響が生じることもない。 なお、この発明において、封止樹脂である硬化物とし
ては、厚み1mmの硬化物において、分光光度計の測定に
より、波長600nmの光透過率が70%以上のものが好まし
く、特に好ましくは80%以上である。 発明を実施するための最良の形態 つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。 まず、実施例に先立って、下記の表1に示す化合物a
〜lを準備した。なお、化合物a〜iは前記一般式
(1)で表される化合物であって、末端のY1が水素原子
である化合物である。
Embedded image Y 1 in the above formula (1) is a hydrogen atom, —RCOOH (R is 2
Valent organic group), -COR 'or -R' (R 'is an alkyl group having 30 or less carbon atoms). Preferably, Y 1 is a hydrogen atom, -RCOOH in which R is an alkylene group having 30 or less carbon atoms, -C in which R 'is an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms.
OR 'or -R' is mentioned. Further, as the metal atom which is Y 2 in the above formula (2),
For example, zinc, calcium, barium, aluminum,
Examples include magnesium, lead, potassium, and sodium. Particularly, considering transparency, calcium, sodium and zinc are preferable as Y 2 . In each of the above formulas (1) and (2), the number of repetitions x is 8 to 200, and in the repetition portion n, the weight ratio of the portion n is expressed by the formula (1), It is necessary to set each of the compounds represented by the formula (2) in the range of 25 to 95%. More preferably, both the formulas (1) and (2) have a repeating number x of 13 to 28.
And the weight ratio of the repeating portion n is 35 to 85
%. Particularly preferably, in formulas (1) and (2), the repetition number x is a positive number of 17 to 23, and the weight ratio of the repetition portion n is 45 to 70%. In addition, when there are several types of the compounds represented by the formulas (1) and (2), the number of repetitions x is the number of repetitions x for each compound.
The average value of The weight ratio (%) of the repeating portion n is a value calculated by the following equation. For these reasons, the compounds represented by the formulas (1) and (2) each have an average molecular weight of 300 to 300,000. Preferably an average molecular weight of 600 to 12000
It is. More preferably, the average molecular weight is 900-5000. The compound represented by the above formula (1) is, for example,
It can be obtained by adding ethylene oxide to a higher alcohol. The compounding amount of at least one of the compounds represented by the formulas (1) and (2) (component (C)) is preferably set in the range of 0.01 to 15%, more preferably 0.1 to 15% of the entire epoxy resin composition. ~ 5%. And especially preferably, it is 0.5-3%. That is, if the amount of the component C is too small, sufficient releasability of the optical semiconductor device from the molding die in transfer molding cannot be obtained. Conversely, if the amount is too large, the glass transition temperature or moisture resistance reliability decreases. This is because there is a fear. In addition, the epoxy resin composition for encapsulating an optical semiconductor element used in the present invention may further include, in addition to the above-mentioned components A to C, a conventionally used curing agent as long as the transparency is not impaired. Accelerators, dyes, pigments, modifiers, antioxidants, coupling agents, release agents, and the like can be appropriately compounded. The curing accelerator is not particularly limited and is a conventionally known one such as tertiary amines, imidazoles, quaternary ammonium salts and organic metal salts, phosphorus compounds, 1,8-diaza-bicyclo (5 , 4,0) Undecene
7 and their derivatives. These may be used alone or in combination of two or more. And, among the above-mentioned curing accelerators, it is preferable to use tertiary amines and imidazoles. The compounding amount of the curing accelerator is
It is preferably set in the range of 0.01 to 8 parts, more preferably 0.1 to 3 parts, based on 100 parts by weight (hereinafter abbreviated as "part") of the epoxy resin (A component) component. That is, if the compounding amount of the curing accelerator is less than 0.01 part, a sufficient curing promoting effect cannot be obtained, and if it exceeds 8 parts, the sealing resin (cured product) may be discolored. Examples of the modifier include conventionally known glycols and silicones. Examples of the antioxidant include phenol compounds, amine compounds, organic sulfur compounds, and phosphine compounds. Examples of the coupling agent include silane compounds, titanate compounds, and the like. Examples of the release agent include long-chain carboxylic acids such as stearic acid, behenic acid and montanic acid and metal salts thereof, higher alcohols such as stearyl alcohol, amides such as stearyl bisamide, esters such as carnauba and phosphate esters. And conventionally known paraffin waxes. The amount of the release agent used is generally 3% or less of the whole resin composition, but is not limited thereto as long as the transparency is not impaired as described above. If light dispersibility is required, a filler may be further added in addition to the above components. Examples of the filler include silica glass powder, talc, silica powder, alumina powder, and inorganic fillers such as calcium carbonate. With respect to the epoxy resin composition for encapsulating an optical semiconductor element constituted by using such components, a preferable combination of the components is an epoxy resin (component A) from the viewpoint of its excellent transparency and releasability. Bisphenol A type epoxy resin, triglycidyl isocyanurate, novolak type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, as curing agent (component B), tetrahydrophthalic anhydride, phthalic anhydride, and other additives. Tertiary amines and imidazoles are used as curing accelerators, and combinations of these compounds with the compounds represented by the formulas (1) and (2) (component (C)) can be given. At this time, as described above, the number of repetitions x in the above equations (1) and (2) is a positive number in the range of 13 to 28, and the repetition part n
In the above, the weight ratio of the part n is 35 to
A range of 85% is preferred. Among the above preferred combinations, a particularly preferred combination is a bisphenol A type epoxy resin and triglycidyl isocyanurate as the epoxy resin (A component) in that the discoloration of the sealing resin cured product is less likely to occur. Tetrahydrophthalic anhydride is used as a curing agent (component B), and imidazoles are used as a curing accelerator as another additive, and the number of repetitions x in the above formulas (1) and (2) together with these components is Positive numbers in the range of 17 to 23, and in the repeating portion n, a combination using the compound (component C) in which the weight ratio of the portion n is set in the range of 45 to 70% of the whole compound. The epoxy resin composition for encapsulating an optical semiconductor element of the present invention can be produced, for example, as follows. That is, the above components A to C and, if necessary, a curing accelerator, a dye, a pigment, a modifier, an antioxidant, a coupling agent, a release agent, a filler, and the like are mixed in a predetermined ratio. Then, this is mixed and kneaded by appropriately employing a dry blending method or a melt-blurring method according to a conventional method. Subsequently, the epoxy resin composition can be manufactured by cooling, pulverizing, and, if necessary, tableting. The sealing of the optical semiconductor device using such an epoxy resin composition is not particularly limited, and can be performed by a known molding method such as transfer molding. The optical semiconductor device obtained in this manner has excellent transparency due to its sealing resin, and also has excellent mold releasability during transfer molding. There is no adverse effect on the semiconductor device. In the present invention, the cured product as the sealing resin is preferably a cured product having a thickness of 1 mm and having a light transmittance of 70% or more at a wavelength of 600 nm as measured by a spectrophotometer, particularly preferably 80%. That is all. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Next, examples will be described together with comparative examples. First, prior to Examples, compounds a shown in Table 1 below were prepared.
~ L was prepared. Compounds a to i are compounds represented by the above general formula (1), in which terminal Y 1 is a hydrogen atom.

【表1】 また、上記化合物a〜l以外に、下記の表2に示す化
合物m〜oを準備した。上記化合物m〜oは前記一般式
(1)で表される化合物である。
Table 1 In addition to the above-mentioned compounds al, compounds mo shown in Table 2 below were prepared. The compounds mo are compounds represented by the general formula (1).

【表2】 さらに、上記化合物a〜o以外に、下記の表3に示す
化合物p〜rを準備した。上記化合物p〜rは前記一般
式(2)で表される化合物である。
Further, in addition to the above compounds a to o, compounds pr shown in Table 3 below were prepared. The compounds p to r are compounds represented by the general formula (2).

【表3】 そして、下記に示すエポキシ樹脂A〜D、硬化剤E〜
G、硬化促進剤H,I、酸化防止剤J〜Lを準備した。 〔エポキシ樹脂A〕 ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量65
0、融点83℃) 〔エポキシ樹脂B〕 トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート
(エポキシ当量100、融点110℃) 〔エポキシ樹脂C〕 クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量
215、軟化点92℃) 〔エポキシ樹脂D〕 下記の一般式(3)で表される脂環式エポキシ樹脂
(エポキシ当量187、軟化点73℃)
Table 3 Epoxy resins A to D and curing agents E to
G, curing accelerators H and I, and antioxidants J to L were prepared. [Epoxy resin A] Bisphenol A type epoxy resin (Epoxy equivalent 65
0, melting point 83 ° C) [Epoxy resin B] Tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate (epoxy equivalent 100, melting point 110 ° C) [Epoxy resin C] Cresol novolac type epoxy resin (epoxy equivalent
215, softening point 92 ° C) [Epoxy resin D] Alicyclic epoxy resin represented by the following general formula (3) (epoxy equivalent 187, softening point 73 ° C)

【化9】 〔硬化剤E〕 テトラヒドロ無水フタル酸 〔硬化剤F〕 ジアミノジフェニルメタン 〔硬化剤G〕 フェノールノボラック樹脂(水酸基当量105、軟化点7
2℃) 〔硬化促進剤H〕 2−エチル−4−メチルイミダゾール 〔硬化促進剤I〕 ジメチルベンジルアミン 〔硬化防止剤J〕 下記に示す構造式(4)で表される2,6−ジ−tert−
ブチル−ハイドロトルエン。
[Curing agent E] Tetrahydrophthalic anhydride [Curing agent F] Diaminodiphenylmethane [Curing agent G] Phenol novolak resin (hydroxyl equivalent 105, softening point 7
[Curing accelerator H] 2-Ethyl-4-methylimidazole [Curing accelerator I] Dimethylbenzylamine [Curing inhibitor J] 2,6-di- represented by the following structural formula (4) tert-
Butyl-hydrotoluene.

【化10】 〔酸化防止剤K〕 下記に示す構造式(5)で表されるトリフェニルホス
ファイト。
Embedded image [Antioxidant K] Triphenyl phosphite represented by the following structural formula (5).

【化11】 〔酸化防止剤L〕 9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナン
トレン−10−オキサイド
Embedded image [Antioxidant L] 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide

【実施例1〜27、比較例1〜6】 後記の表4〜表8に示す各成分を、同表に示す割合で
配合し、ミキシングロール機で溶融混練(80〜130℃)
を行い、熟成した後、室温で冷却して粉砕することによ
り目的とする粉末状のエポキシ樹脂組成物を得た。
Examples 1 to 27 and Comparative Examples 1 to 6 The components shown in Tables 4 to 8 below are blended in the proportions shown in the table, and are melt-kneaded (80 to 130 ° C.) by a mixing roll machine.
After aging, the mixture was cooled at room temperature and pulverized to obtain a desired powdery epoxy resin composition.

【表4】[Table 4]

【表5】[Table 5]

【表6】[Table 6]

【表7】[Table 7]

【表8】 前記のように、実施例および比較例によって得られた
粉末状のエポキシ樹脂組成物を用い、光半導体素子をト
ランスファー成型(成型条件:150℃×4分間)し、さら
に、150℃×3時間の条件でアフターキュアすることに
より光半導体装置を製造した。このようにして得られた
光半導体装置において、トランスファー成型の成型用金
型からの離型性を評価した。上記離型性の評価は、メラ
ミン樹脂(日本カーバイト社製、ニカレットECRグレー
AA)にてクリーニング成型後、トランスファー成型に
て連続成型し、4ショット目に得られた光半導体装置に
ついて、イジェクターピンのみの作動により金型内(キ
ャビティー)から光半導体装置(パッケージサイズ:19.
8mm×13.9mm×厚み2.8mm)を取り出すことができたもの
を◎、イジェクターピンの作動とエアーの吹きつけによ
り金型内から光半導体装置を取り出すことができたもの
を○、イジェクターピンの作動およびエアーの吹きつけ
等で光半導体装置を取り出すことができず、機械的な力
を加えて光半導体装置を取り出したため、パッケージに
変形,われが生じたものを×として評価し、後記の表9
〜表13に示した。 さらに、上記各エポキシ樹脂組成物を用い、厚み1mm
の硬化物を成型した〔硬化条件:150℃×4分間+150℃
×3時間(アフターキュア)〕。これについて、波長60
0nmにおける光透過率を分光光度計(島津製作所社製、U
V−3101PC)を用いて測定した。その結果を後記の表9
〜表13に併せて示す。
[Table 8] As described above, the optical semiconductor device was subjected to transfer molding (molding condition: 150 ° C × 4 minutes) using the powdery epoxy resin compositions obtained in Examples and Comparative Examples, and further to 150 ° C. The optical semiconductor device was manufactured by performing after-curing under the condition of × 3 hours. In the optical semiconductor device thus obtained, the releasability from the transfer mold was evaluated. The above-mentioned releasability was evaluated using a melamine resin (Nikaret ECR Gray, manufactured by Nippon Carbide Co., Ltd.).
AA), after cleaning molding, continuous molding by transfer molding, and for the optical semiconductor device obtained in the fourth shot, the optical semiconductor device (package size: 19) from the mold (cavity) by operating only the ejector pin. .
8 mm x 13.9 mm x 2.8 mm thick) was extracted from the mold by the operation of the ejector pin and the air blown, and the ejector pin was activated by the ejection of the optical semiconductor device from the mold. In addition, the optical semiconductor device could not be taken out by blowing air or the like, and the optical semiconductor device was taken out by applying a mechanical force.
To Table 13. Furthermore, using each of the above epoxy resin compositions, a thickness of 1 mm
[Curing conditions: 150 ° C x 4 minutes + 150 ° C
× 3 hours (after cure)]. About this, wavelength 60
The light transmittance at 0 nm is measured using a spectrophotometer (Shimadzu Corporation, U
V-3101PC). The results are shown in Table 9 below.
To Table 13 together.

【表9】[Table 9]

【表10】[Table 10]

【表11】[Table 11]

【表12】[Table 12]

【表13】 上記の表9〜表13の結果から、全ての実施例品は光透
過率が高く、しかも離型性に優れたものであった。この
ことから、実施例品は透明性および離型性の双方におい
て優れたものであることがわかる。これに対して、比較
例1〜3品および比較例5品は、離型性は良好であった
ものの、光透過率が非常に悪かった。さらに、比較例4
および6品は光透過率が高かったものの、離型性が非常
に悪かった。このように、比較例品は、光透過率もしく
は離型性のいずれか一方の結果が良好であり、もう一方
の結果が悪く、双方とも満足のいくものではなかった。 産業上の利用可能性 以上のように、この発明の光半導体素子封止用エポキ
シ樹脂組成物は、前記一般式(1)で表される特定の化
合物および一般式(2)で表される特定の化合物の少な
くとも一方(C成分)を含有するものである。このた
め、このエポキシ樹脂組成物による封止樹脂は高い透明
性が保持されたまま、トランスファー成型等の成型金型
内からの離型性にも優れた封止材料となる。 特に、上記(C)成分の含有量を、光半導体素子封止
用エポキシ樹脂組成物全体の0.01〜15%の範囲に設定す
ることにより、ガラス転移温度もしくは耐湿信頼性の低
下を防止するとともに充分な離型性が得られる。 したがって、このエポキシ樹脂組成物を用いて光半導
体素子を封止すると、離型性の悪さに起因して生じる欠
点から不良品として処理されることもなく信頼性に優れ
た光半導体装置が得られる。
[Table 13] From the results in Tables 9 to 13, all the products of Examples were high in light transmittance and excellent in releasability. From this, it can be seen that the products of Examples are excellent in both transparency and mold release properties. On the other hand, the products of Comparative Examples 1 to 3 and the product of Comparative Example 5 had good releasability, but very poor light transmittance. Further, Comparative Example 4
And 6 products had high light transmittance, but very poor releasability. As described above, in the comparative example, either one of the results of the light transmittance and the releasability was good, and the other result was bad, and both were not satisfactory. INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, the epoxy resin composition for encapsulating an optical semiconductor element of the present invention has a specific compound represented by the general formula (1) and a specific compound represented by the general formula (2). At least one of the compounds (C component). For this reason, the sealing resin made of the epoxy resin composition becomes a sealing material having excellent releasability from a molding die such as transfer molding while maintaining high transparency. In particular, by setting the content of the component (C) in the range of 0.01 to 15% of the entire epoxy resin composition for encapsulating an optical semiconductor element, it is possible to prevent a decrease in the glass transition temperature or the moisture resistance reliability and sufficiently High releasability. Therefore, when an optical semiconductor element is sealed using this epoxy resin composition, an optical semiconductor device having excellent reliability can be obtained without being treated as a defective product due to a defect caused by poor releasability. .

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01L 23/31 (72)発明者 丸橋 隆彦 大阪府茨城市下穂積1丁目1番2号 日 東電工株式会社内 (72)発明者 嶋田 克実 大阪府茨城市下穂積1丁目1番2号 日 東電工株式会社内 (72)発明者 谷川 聡 大阪府茨城市下穂積1丁目1番2号 日 東電工株式会社内 (56)参考文献 特開 平6−228281(JP,A) 特開 平4−142070(JP,A) 特開 平3−94454(JP,A) 特開 平1−247414(JP,A) 特開 昭62−283616(JP,A) 特開 昭58−84820(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C08L 63/00 - 63/10 C08L 23/26 C08L 71/02 H01L 23/29──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification symbol FI H01L 23/31 (72) Inventor Takahiko Maruhashi 1-2-1, Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka Nitto Denko Corporation (72) Inventor Katsumi Shimada 1-1-2 Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka Nippon Tenko Corporation (72) Inventor Satoshi Tanigawa 1-2-1, Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka Nippon Tenko Corporation (56) References JP-A-6-228281 (JP, A) JP-A-4-142070 (JP, A) JP-A-3-94454 (JP, A) JP-A-1-247414 (JP, A) JP-A Sho 62 -283616 (JP, A) JP-A-58-84820 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) C08L 63/00-63/10 C08L 23/26 C08L 71/02 H01L 23/29

Claims (10)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】下記の(A)〜(C)成分を含有する光半
導体素子封止用エポキシ樹脂組成物。 (A)エポキシ樹脂。 (B)硬化剤。 (C)下記の一般式(1)で表される化合物および一般
式(2)で表される化合物の少なくとも一方。
An epoxy resin composition for encapsulating an optical semiconductor device, comprising the following components (A) to (C): (A) Epoxy resin. (B) a curing agent. (C) At least one of a compound represented by the following general formula (1) and a compound represented by the following general formula (2).
【請求項2】式(1)、式(2)において、繰り返し数
xが13〜28の正数であり、かつ、繰り返し部分nの重量
割合が化合物全体の35〜85重量%である請求項1記載の
光半導体素子封止用エポキシ樹脂組成物。
2. In the formulas (1) and (2), the number of repetitions x is a positive number of 13 to 28, and the weight ratio of the repeating portion n is 35 to 85% by weight of the whole compound. 2. The epoxy resin composition for sealing an optical semiconductor element according to 1.
【請求項3】式(1)、式(2)において、繰り返し数
xが17〜23の正数であり、かつ、繰り返し部分nの重量
割合が化合物全体の45〜70重量%である請求項1記載の
光半導体素子封止用エポキシ樹脂組成物。
3. In the formulas (1) and (2), the number of repetitions x is a positive number of 17 to 23, and the weight ratio of the repetition portion n is 45 to 70% by weight of the whole compound. 2. The epoxy resin composition for sealing an optical semiconductor element according to 1.
【請求項4】(C)成分の含有量が、光半導体素子封止
用エポキシ樹脂組成物全体の0.01〜15重量%の範囲に設
定されている請求項1〜3のいずれか一項に記載の光半
導体素子封止用エポキシ樹脂組成物。
4. The composition according to claim 1, wherein the content of the component (C) is set in the range of 0.01 to 15% by weight of the whole epoxy resin composition for encapsulating an optical semiconductor element. An epoxy resin composition for encapsulating an optical semiconductor element.
【請求項5】(C)成分の含有量が、光半導体素子封止
用エポキシ樹脂組成物全体の0.1〜5重量%の範囲に設
定されている請求項1〜3のいずれか一項に記載の光半
導体素子封止用エポキシ樹脂組成物。
5. The content according to claim 1, wherein the content of the component (C) is set in the range of 0.1 to 5% by weight of the entire epoxy resin composition for encapsulating an optical semiconductor element. An epoxy resin composition for encapsulating an optical semiconductor element.
【請求項6】(C)成分の含有量が、光半導体素子封止
用エポキシ樹脂組成物全体の0.5〜3重量%の範囲に設
定されている請求項1〜3のいずれか一項に記載の光半
導体素子封止用エポキシ樹脂組成物。
6. The method according to claim 1, wherein the content of the component (C) is set in a range of 0.5 to 3% by weight of the whole epoxy resin composition for encapsulating an optical semiconductor element. An epoxy resin composition for encapsulating an optical semiconductor element.
【請求項7】(A)成分が、ビスフェノールA型エポキ
シ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート、ノボラック
型エポキシ樹脂および脂環式エポキシ樹脂からなる群か
ら選ばれた少なくとも一つのエポキシ樹脂であり、
(B)成分が、テトラヒドロ無水フタル酸および無水フ
タル酸の少なくとも一方であり、(C)成分が、式
(1)および式(2)で表される化合物の少なくとも一
方であるとともに、上記式(1)および式(2)におい
て、繰り返し数xが13〜28の正数であって、繰り返し部
分nの重量割合が化合物全体の35〜85重量%であり、さ
らに、上記(A)〜(C)成分とともに、三級アミン類
およびイミダゾール類の少なくとも一方からなる硬化促
進剤が配合されている請求項1〜6のいずれか一項に記
載の光半導体素子封止用エポキシ樹脂組成物。
7. The component (A) is at least one epoxy resin selected from the group consisting of bisphenol A type epoxy resin, triglycidyl isocyanurate, novolak type epoxy resin and alicyclic epoxy resin,
The component (B) is at least one of tetrahydrophthalic anhydride and phthalic anhydride, the component (C) is at least one of the compounds represented by the formulas (1) and (2), and In 1) and formula (2), the number of repetitions x is a positive number of 13 to 28, the weight ratio of the repeating portion n is 35 to 85% by weight of the whole compound, and the above (A) to (C) The epoxy resin composition for encapsulating an optical semiconductor element according to any one of claims 1 to 6, further comprising a curing accelerator comprising at least one of a tertiary amine and an imidazole together with the component.
【請求項8】(A)成分が、ビスフェノールA型エポキ
シ樹脂およびトリグリシジルイソシアヌレートの少なく
とも一方であり、(B)成分がテトラヒドロ無水フタル
酸であり、(C)成分が、式(1)および式(2)で表
される化合物の少なくとも一方であるとともに、上記式
(1)および式(2)において、繰り返し数xが17〜23
の正数であって、繰り返し部分nの重量割合が化合物全
体の45〜70重量%であり、さらに、上記(A)〜(C)
成分とともに、硬化促進剤としてイミダゾール類が配合
されている請求項1〜6のいずれか一項に記載の光半導
体素子封止用エポキシ樹脂組成物。
8. The component (A) is at least one of a bisphenol A type epoxy resin and triglycidyl isocyanurate, the component (B) is tetrahydrophthalic anhydride, and the component (C) is a compound represented by the formula (1) or (2). In addition to at least one of the compounds represented by the formula (2), in the above formulas (1) and (2), the number of repetitions x is 17 to 23.
Wherein the weight ratio of the repeating portion n is 45 to 70% by weight of the whole compound, and further the above (A) to (C)
The epoxy resin composition for encapsulating an optical semiconductor element according to any one of claims 1 to 6, further comprising an imidazole as a curing accelerator together with the component.
【請求項9】下記の(A)〜(C)成分を含有するエポ
キシ樹脂組成物を用いて光半導体素子を封止してなる光
半導体装置。 (A)エポキシ樹脂。 (B)硬化剤。 (C)下記の一般式(1)で表される化合物および一般
式(2)で表される化合物の少なくとも一方。
9. An optical semiconductor device comprising an optical semiconductor element encapsulated with an epoxy resin composition containing the following components (A) to (C). (A) Epoxy resin. (B) a curing agent. (C) At least one of a compound represented by the following general formula (1) and a compound represented by the following general formula (2).
【請求項10】(C)成分の含有量が、エポキシ樹脂組
成物全体の0.01〜15重量%の範囲に設定されている請求
項9記載の光半導体装置。
10. The optical semiconductor device according to claim 9, wherein the content of the component (C) is set in a range of 0.01 to 15% by weight of the whole epoxy resin composition.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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