JP2779143B2 - Semiconductor wafer storage container - Google Patents

Semiconductor wafer storage container

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JP2779143B2
JP2779143B2 JP5844195A JP5844195A JP2779143B2 JP 2779143 B2 JP2779143 B2 JP 2779143B2 JP 5844195 A JP5844195 A JP 5844195A JP 5844195 A JP5844195 A JP 5844195A JP 2779143 B2 JP2779143 B2 JP 2779143B2
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wafer
semiconductor wafer
stretchable
film
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勤 鈴木
達明 廣畑
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Shin Etsu Polymer Co Ltd
Shin Etsu Handotai Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体ウェーハ(以下、
ウェーハとする)を損傷、汚染から防いで安全に輸送し
保管し取り扱うのに有用なウェーハ収納容器に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor wafer (hereinafter referred to as a semiconductor wafer).
The present invention relates to a wafer container that is useful for safely transporting, storing and handling while preventing damage and contamination.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体単結晶棒をスライスしたウェーハ
は集積回路を作るためにユーザーに向けて大量に輸送す
る場合が多く、このとき薄くて脆いウェーハを損傷、汚
染から守るために十分な配慮が必要とされる。そこでウ
ェーハ収納容器として、例えば、特開昭48-21466号、実
開昭52−148043号および同58−175627号各公報に記載の
ように、容器本体の内側面に複数枚のウェーハを一定間
隔で分離配列するためのガイド手段を設けると共に、ウ
ェーハと容器本体および/または蓋体との間にフォーム
板、弾性緩衝板またはゴム状弾性棒状体等を、ガイド手
段を横切る方向に設けたものが提案された。これらの収
納容器は構造的に簡単な反面、外部の振動等によるウェ
ーハの損傷、汚染に対して完全なものとはいえず、また
ウェーハの収納容器への挿脱の自動化が困難である。
2. Description of the Related Art Wafers obtained by slicing semiconductor single crystal rods are often transported in large quantities to users in order to make integrated circuits. At this time, sufficient care must be taken to protect thin and brittle wafers from damage and contamination. Needed. Therefore, as a wafer container, for example, as described in JP-A-48-21466, JP-A-52-148043 and JP-A-58-175627, a plurality of wafers are placed on the inner surface of the container body at regular intervals. In addition to providing a guide means for separating and arranging by means of, a foam plate, an elastic buffer plate, a rubber-like elastic rod-like body or the like is provided between the wafer and the container body and / or the lid in a direction crossing the guide means. was suggested. Although these storage containers are structurally simple, they cannot be said to be completely resistant to wafer damage and contamination due to external vibrations and the like, and it is difficult to automatically insert and remove wafers from the storage container.

【0003】このため、最近は図に示されるような構
造の収納容器、すなわち収納する多数のウェーハWを周
側縁で支持するひだ状の側壁aを備えた内箱bと、内箱
bの内側底部に装着されてウェーハWの下縁を支持する
下部緩衝板(受け台)cと、内箱bを所定の場所に収容
・係止する容器本体dと、パッキンeを介して容器本体
dと係合し、この上面を被覆すると共に、内面に装着さ
れた上部緩衝板(ウェーハ抑え)fにより内箱bに収納
されたウェーハWの上縁を保持する蓋体gとからなるも
のが広く使用されるようになってきている。
For this reason, recently, a storage container having a structure as shown in FIG. 4 , that is, an inner box b having a pleated side wall a for supporting a large number of wafers W to be stored at a peripheral edge, and an inner box b A lower buffer plate (cradle) c mounted on the inner bottom of the container W to support the lower edge of the wafer W, a container body d for housing and locking the inner box b in a predetermined place, and a container body via a packing e and a cover g that covers the upper surface of the wafer W and holds the upper edge of the wafer W stored in the inner box b by the upper buffer plate (wafer restraint) f mounted on the inner surface. It is becoming widely used.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記緩衝板には、上記
のほか円筒状、衝立状、三角柱状、蛇腹状等、種々の形
状のものが提案されているが、いずれもウェーハの直径
方向にかかる振動・衝撃に対しては緩衝能力を発揮する
ものの、ウェーハの厚み方向にかかる振動・衝撃に対し
ては不完全で、ウェーハの破損や微粒子の生成を抑制で
きず、ウェーハの清浄性を保持しながら安全に輸送する
には不十分であった。また、ウェーハの形状には、基準
位置を示す方式として、頂部の一部にだけ切り欠きのあ
るノッチ式と、上部がフラットになったオリフラ式とが
あるため、上部緩衝板の形状によっては両方式の保持力
に差が生じ、一方では満足しても他方ではウェーハの回
転やガタつきによる発塵汚染が生ずるという問題があっ
た。
In addition to the above, various shapes such as a cylindrical shape, a screen shape, a triangular prism shape, a bellows shape and the like have been proposed for the cushioning plate. Demonstrates buffering capacity against such vibrations and shocks, but is incomplete with respect to vibrations and shocks in the thickness direction of the wafer, preventing damage to the wafer and generation of fine particles and maintaining the cleanliness of the wafer However, it was insufficient for safe transportation. In addition, as a method of indicating a reference position, there are a notch type having a cutout only at a part of a top portion and an orientation flat type having a flat upper portion. There is a problem in that a difference occurs in the holding power of the methods, and even if one is satisfied, on the other hand, dust contamination due to rotation or rattling of the wafer occurs.

【0005】 したがって、本発明の目的は、ウェーハの
形状が変わっても保持力や作業性に影響を与えることが
なく、輸送中に受けるあらゆる方向からの振動・衝撃を
吸収してウェーハの清浄性を保持しながら安全に輸送す
ることのできる、ウェーハ収納容器を提供するものであ
る。
It is therefore an object of the present invention, without affecting the retention and workability even change the shape of the wafer, the wafer cleanliness to absorb vibration and impact from any direction experienced during transport It is intended to provide a wafer container which can be transported safely while holding the wafer.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
の解決のため鋭意研究の結果、半導体ウェーハ収納容器
を構成する上蓋と容体のそれぞれに、ウェーハを汚染か
ら守って保持固定するのに十分な強度、伸度を有する材
料からなる伸縮性膜を設け、半導体ウェーハを周縁部で
保持するようにすれば、輸送中に受けるあらゆる方向か
らの振動、衝撃を吸収してウェーハを破損や汚染から保
護し、安全に輸送できることを見出し、本発明に到達し
たものである。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have found that a wafer is held and fixed to each of a top lid and a container constituting a semiconductor wafer storage container while protecting the wafer from contamination. If a stretchable film made of a material with sufficient strength and elongation is provided and the semiconductor wafer is held at the peripheral edge, vibration and shock from all directions received during transportation can be absorbed and the wafer damaged or damaged. They have found that they can be protected from contamination and can be transported safely and arrived at the present invention.

【0007】 すなわち、本発明によるウェーハ収納容器
は、上蓋と容体とがそれぞれの開口縁で係合・閉止する
ウェーハ収納容器であって、上蓋と容体のそれぞれのウ
ェーハの幅方向の内側壁間に伸縮性膜を張設し、この2
枚の伸縮性膜によりウェーハの周側縁を上下両方向から
保持してウェーハを収納可能としてなることを特徴とす
る。
Namely, the wafer carrier according to the invention, the upper lid and the container body is engaged and closed in each of the opening edge
A wafer storage container, each of the upper lid and the container
A stretchable film is stretched between inner walls in the width direction of the wafer.
The peripheral edge of the wafer from both directions
It is characterized by being able to hold and store wafers
You.

【0008】[0008] また、上記と同様のウェーハ収納容器の、Also, for the same wafer storage container as above,
同様に張設された2枚の伸縮性膜の間に、ウェーハを収The wafer is collected between the two stretched films in the same manner.
納する内箱、ウェーハの上縁または下縁を支持する上部Inner box, upper part supporting upper or lower edge of wafer
緩衝板または下部緩衝板の内の少なくとも1個の部材をAt least one member of the buffer plate or the lower buffer plate
配設し、これと共にウェーハを収納可能としてなることTo be able to accommodate wafers
を特徴とする。It is characterized by.

【0009】[0009] さらに、上記と同様のウェーハ収納容器でFurthermore, the same wafer storage container as above
あって、上蓋と容体のそれぞれのウェーハの幅方向の内In the width direction of each wafer of the upper lid and the container
側壁間に伸縮性膜の張設された枠体を配設し、それぞれArrange frames with stretchable films stretched between the side walls, each
の枠体の伸縮性膜によりウェーハの周側縁を上下両方向The upper and lower sides of the peripheral edge of the wafer by the elastic film of the frame
から保持してウェーハを収納可能としてなることを特徴The feature is that the wafer can be stored by holding from the
とする。And

【0010】以下、本発明のウェーハ収納容器の一実施
態様を示した図1(a)〜(b)に基づいて説明する。
このウェーハ収納容器は上蓋1と容体2とから構成さ
れ、上蓋1と容体2それぞれの開口周縁互いに係合
・閉止できるようになっている。上蓋1と容体2のそれ
ぞれの幅方向の内側壁間の適宜の位置、図では開口端部
には、伸縮性膜3a、3bが上下に張設され、この2枚
の伸縮性膜3a、3bでウェーハWの周側縁を上下両方
向から保持してウェーハWを収納可能としている。これ
は構造も簡単で、特に1枚入り等、少数のウェーハを収
納する容器として適している。
[0010] Hereinafter, will be described with reference to FIG. 1 illustrating an embodiment of a wafer carrier of the present invention (a) ~ (b).
The wafer carrier consists upper cover 1 and the container body 2 which is adapted to the upper cover 1 and the container body 2 can engage, it closed with respect to each other with the opening peripheral edge. Top lid 1 and container 2
Appropriate position between the inner walls in the width direction, open end in the figure
, Stretchable films 3a, 3b are stretched up and down.
The upper and lower peripheral edges of the wafer W with the elastic films 3a and 3b
The wafer W can be stored while being held from the front. this
Has a simple structure, especially for a small number of wafers
Suitable as a container for storing.

【0011】本発明のウェーハ収納容器では、従来のウ
ェーハ収納容器に用いられる既存部品への伸縮性膜の応
用例として、上蓋1または容体2の内部に伸縮性膜
介してウェーハWの周縁を支持する既存部品、すなわ
ち多数のウェーハを周側縁で支持するひだ状の側壁を備
えた内箱、内箱の底部に装着されてウェーハの下縁を支
持する下部緩衝板(受け台)および上蓋1の裏面に装着
されて内箱bに収納されたウェーハの上縁を保持する上
部緩衝板(ウェーハ抑え)を配設することもできる。
In the wafer container of the present invention, as an application example of an elastic film to an existing part used in a conventional wafer container, a peripheral portion of a wafer W is provided inside an upper lid 1 or a container 2 via an elastic film 3. Existing parts that support the side edges , i.e.
Equipped with pleated side walls that support a large number of wafers at the peripheral edge
Inner box, attached to the bottom of the inner box to support the lower edge of the wafer
Attached to the lower cushion plate (cradle) to be held and the back of the upper lid 1
To hold the upper edge of the wafer stored in the inner box b
A partial buffer plate (wafer holding) can be provided.

【0012】(a)は上蓋1および容体2の開口縁
にそれぞれ伸縮性膜a、bを張設した後、ウェーハ
Wを収納した内箱11を、容体2の伸縮性膜b面より、
これを介して押し込み、上蓋1をすることで、ウェーハ
Wの周側縁を伸縮性膜、3b上下両方向から抑え
て保持するようにしたものである。なお、この内箱11は
幅方向の縦断面が椀状をしていて、その内側壁にはウェ
ーハWの配列方向に多数のひだが互いに対称に設けられ
ていて、それぞれの隣接するひだ間に各ウェーハWをそ
の左右両側縁で個別に収容・支持し得る構造になってい
る。
[0012] FIG. 2 (a) upper cover 1 and after stretched stretch film 3 a, 3 b, respectively the opening edge of the container body 2, the inner box 11 housing the wafer W, stretchable film 3 receptor 2 From side b,
By pushing in through this, the upper lid 1 is closed, and the peripheral edge of the wafer W is suppressed by the elastic films 3 a and 3 b from both the upper and lower directions.
It is those you so that you retain Te. In addition, this inner box 11
The vertical cross section in the width direction is bowl-shaped, and
-Many folds are provided symmetrically to each other in the arrangement direction of
Each wafer W between adjacent folds.
Structure that can be individually housed and supported on both left and right edges of
You.

【0013】(b)は同様の上蓋1に上部緩衝板12
を、容体2にウェーハWを収納した内箱3を、それぞれ
伸縮性膜a、bを介して押し込み、ウェーハWの上
面に上部緩衝板12を載置した後、容体2に上蓋1をする
ことで、ウェーハWの周縁を上部緩衝板12と内箱11
介して伸縮性膜a、bで上下両方向から保持するよ
うにしたものである。
FIG . 2 (b) shows a similar upper cover 1 with an upper buffer plate 12
The inner box 3 containing the wafer W in the container 2 is pushed through the elastic films 3 a and 3 b, respectively ,
After placing the upper buffer plate 12 to the plane, by the upper lid 1 on condition 2, the peripheral edge of the wafer W in the upper buffer plate via the 1 2 and inner box 11 stretchable film 3 a, 3 b It is designed to be held from both upper and lower directions .

【0014】図示されていないが、図(a)で用いた
のと同じ上蓋1および/または容体2に、ウェーハWと
前述した上部緩衝板および/または下部緩衝板を、伸縮
性膜aおよび/またはbを介して押し込み、容体2
に上蓋1をすることで、ウェーハWの周縁を上部緩
衝板および/または下部緩衝板を介して伸縮性膜
a、bで上下両方向から保持するようにすることもで
きる。
Although not shown, FIG.2Used in (a)
In the same top lid 1 and / or container 2 as
Extend the upper and / or lower shock absorber
Membrane3a and / or3b through the b
The upper lid 1 is placed on the periphery of the wafer W.~ sideThe edge,Upper loose
Via the impact board and / or the lower shock absorber,Stretchable membrane3
a,3in bHold from both upper and lower directionsYou can also do
Wear.

【0015】このほか、容器にウェーハを個別に収納す
る方式として、図(a)に示す細長い枠20に伸縮性膜
を張った緩衝板21を、上蓋1および容体2のそれぞれ
の両側壁に取り付け、この2個の緩衝板21a、21bの伸
縮性膜a、b間にウェーハWを介在させて保持する
こともできる[図(b)参照]。図(c)〜(d)
は細長い枠の側面形状をウェーハWと近似する曲率の半
円部分を備えた旭日状や三角形状とした緩衝板22、23を
用いた場合であり、これによればウェーハWに対し局部
的にストレスをかけることなく外周にわたって比較的均
一な荷重で保持することができる。このような枠20をウ
ェーハの厚み方向に必要数、重積・整列させた構造の緩
衝板24[図(e)参照]を用いれば、同時に多くのウ
ェーハを収納することもできる。
[0015] As a method of this addition, individually housed wafers in a container, stretch film to an elongated frame 20 shown in FIG. 3 (a)
The buffer plate 21 stretched 3, attached to the respective side walls of the upper cover 1 and the container body 2, the two buffer plate 21a, is interposed wafer W between stretch film 3 a, 3 b and 21b holds [See FIG. 3 (b)]. Fig. 3 (c)-(d)
Is a case in which buffer plates 22 and 23 each having a semicircular portion having a curvature approximating that of the wafer W are used as the side surfaces of the elongated frame. A relatively uniform load can be maintained over the outer periphery without applying stress. Required number of such frame 20 in the thickness direction of the wafer, by using the buffer plate 24 of the stacking-the aligned structure [FIG. 3 (e) Reference may also be stored a number of wafers simultaneously.

【0016】図1〜図に示した各態様を要約すれば次
の通りである。 1)上蓋および容体の各々の側壁間に伸縮性膜が
れ、2枚の伸縮性膜の間に半導体ウェーハを収納可能
とした半導体ウェーハ収納容器(図)。 2)半導体ウェーハ、内箱、上部緩衝板および下部緩
衝板の内の少なくとも1個の部材と共に収納可能とした
上記1)記載の半導体ウェーハ収納容器(図)。 3)上蓋および容体の各々の側壁間に長方形状の枠体が
取り付けられ、枠体の少なくとも両側に伸縮性膜が張
設されて、2枚の伸縮性膜の間に半導体ウェーハ を収納
可能とした半導体ウェーハ収納容器(図b)。 4)長方形状の枠体が、半導体ウェーハと近似する曲率
の半円部を備えた旭日状の側面形状を呈する上記)記
載の半導体ウェーハ収納容器(図c)。 5)長方形状の枠体が、V字状の側面形状を呈する上記
)記載の半導体ウェーハ収納容器(図d)。 6)長方形状の枠体が、多数整列して柵状を呈し、各細
溝に伸縮性膜が張設されている上記)記載の半導体ウ
ェーハ収納容器(図e)。
The embodiments shown in FIGS. 1 to 3 are summarized as follows. 1) stretch film stretched between the inner side wall of each of the upper lid and condition
Is, the semiconductor wafer can be accommodated between the two stretchable film
And the semiconductor wafer storage container (Figure 1). 2) The semiconductor wafer container described in 1) above (FIG. 2 ) in which the semiconductor wafer can be stored together with at least one member of the inner box, the upper buffer plate, and the lower buffer plate. 3) A rectangular frame is attached between the side walls of the upper lid and the container, and an elastic film is stretched on at least both sides of both frames, and the semiconductor wafer is stored between the two elastic films.
Possible and the semiconductor wafer storage container (Fig. 3 b). 4) rectangular frame body, the 4 exhibits Rising Sun-like side shape having a semicircular portion of curvature approximate to the semiconductor wafer), wherein the semiconductor wafer storage container (Fig. 3 c). 5) The rectangular frame has a V-shaped side shape.
4), wherein the semiconductor wafer storage container (Figure 3 d). 6) rectangular frame body exhibits a palisade and many aligned, the 4 stretchable film to each thin groove is stretched), wherein the semiconductor wafer storage container (FIG. 3 e).

【0017】これらの本発明で使用される伸縮性膜の材
質としては、例えば、PE、PP、セルロースアセテー
ト、フッ化エチレン、ポリカーボネート、ナイロン、ポ
リビニルアルコール、塩化ビニル、ポリスチレン、アイ
オノマー、ポリイミド、ポリウレタン等の熱可塑性プラ
スチック材料、シリコーンゴムをはじめとする各種ゴム
材料等の熱硬化性プラスチック材料等が挙げられる。こ
れらの内では、長時間の保持による変形や歪みが少ない
ものとして、特にウレタン、アイオノマーの膜(フィル
ム)が好ましい。これらは透明性もあるので、上蓋や容
体も透明材料とすれば、収納するウェーハを外部から透
視することもできる。また、外部からの振動、衝撃を吸
収するのに十分な柔軟性と強度を満たすための機械的特
性として、引っ張り強さが 100kg/cm2以上、とくには 3
00kg/cm2以上、破断伸びが 100%以上、とくには 300%
以上、引き裂き伝播が 10gm/25μm 以上、とくには 30g
m/25μm 以上、引き裂き強さが1kg/mm 以上、とくには
10kg/mm 以上、耐折強さが1,000 回以上、とくには10,0
00回以上のものが望ましい。
Examples of the material of the stretchable film used in the present invention include PE, PP, cellulose acetate, ethylene fluoride, polycarbonate, nylon, polyvinyl alcohol, vinyl chloride, polystyrene, ionomer, polyimide, polyurethane and the like. And thermoplastic materials such as various rubber materials such as silicone rubber. Among these, urethane and ionomer films (films) are particularly preferable because they are less likely to be deformed or distorted by holding for a long time. Since these are also transparent, if the upper lid and the container are made of a transparent material, the stored wafer can be seen through from the outside. In addition, as a mechanical property to satisfy the flexibility and strength enough to absorb external vibrations and shocks, the tensile strength is 100 kg / cm 2 or more, especially 3
00kg / cm 2 or more, elongation at break 100% or more, especially 300%
More than 10gm / 25μm, especially 30g
m / 25μm or more, tear strength 1kg / mm or more, especially
10 kg / mm or more, bending strength 1,000 times or more, especially 10,000
More than 00 times are desirable.

【0018】ここで、引っ張り強さが 100kg/cm2未満の
ものでは、ウェーハを直接保持したり、内箱等の構成部
分を介して保持する場合に、それらの保持力や荷重が伸
膜の強度を超えて破断する恐れがある。破断伸びが
100%未満のものでは、ウェーハや構成部品を保持する
際に、十分な伸びのストロークが得られないために接触
面積が減り、保持が不十分となったり、外部から受ける
振動や衝撃を十分に吸収することができない。また、引
き裂き伝播が 10gm/25μm 未満では何らかの原因で伸縮
膜に亀裂が生じた場合にウェーハを支える保持力や構
成部品を支持する荷重によって亀裂が伝播し、収納する
ウェーハを破壊する恐れがある。引き裂き強さが1kg/m
m 未満では、例えばウェーハのエッジ等鋭利な部分に接
した場合に伸縮亀裂を生じてしまうし、耐折強さ
が 1,000回未満では繰り返しの使用に対しての実用性が
低い。
In the case where the wafer has a tensile strength of less than 100 kg / cm 2 , when the wafer is held directly or through a component such as an inner box, the holding force and the load of the elastic film are reduced . There is a risk of breaking beyond the strength of Elongation at break
If it is less than 100%, when holding a wafer or component parts, it is not possible to obtain a sufficient elongation stroke, so the contact area will decrease, holding will be insufficient, and sufficient vibration and shock received from the outside Cannot be absorbed. If the tear propagation is less than 10gm / 25μm, it will expand or contract for some reason.
When a crack occurs in the conductive film, the crack propagates due to a holding force for supporting the wafer or a load for supporting the components, and there is a possibility that the stored wafer may be broken. 1 kg / m tear strength
It is less than m, for example to thereby crack the stretch film when in contact with the edge or the like sharp edges of the wafer, folding endurance is low utility against repeated use is less than 1,000 times.

【0019】伸縮性膜の製造に当たっては、材料の純度
をできるだけ高め、ウェーハに与える影響を最小にする
のが望ましい。伸縮性膜の成膜には、押出し、キャステ
ィング、ブロー、延伸等のいずれの方法でもよい。伸縮
性膜の容器の各構成部品における固定方法としては、熱
溶着や超音波溶着のほか、接着剤の使用、各種の機械的
方法等が挙げられる。伸縮性膜の緊張度はウェーハまた
は構成部品の装着に際して受ける荷重に応じて調整され
る。より大きな荷重が必要とされるときは、伸縮性膜に
細孔を穿ち、伸縮性膜内外のガスの流通を保ったり、伸
縮性膜を介する一方の領域に加圧流体を挿入する等の手
段を講ずることもできる。本発明のウェーハ収納容器に
用いられる伸縮性膜以外の上蓋、容体等の構成部材は、
内外圧の変化や衝撃等に対応できるよう、必要に応じて
リブを備えた強靭な構造体とし、その製作には内容物が
透視可能なポリカーボネート、ポリプロピレンまたはア
クリル等の樹脂からなる剛性の高い材質のものが一般に
採用される。
In producing a stretchable film, it is desirable to increase the purity of the material as much as possible and to minimize the effect on the wafer. For forming the stretchable film, any method such as extrusion, casting, blowing, and stretching may be used. Examples of a method for fixing the elastic film to each component of the container include heat welding and ultrasonic welding, use of an adhesive, various mechanical methods, and the like. The degree of tension of the stretchable film is adjusted according to the load received when mounting the wafer or the component. When a larger load is required, a means such as perforating the elastic membrane with pores to maintain the flow of gas inside and outside the elastic membrane or inserting a pressurized fluid into one area through the elastic membrane is used. Can also be taken. The upper lid other than the stretchable film used for the wafer container of the present invention, components such as containers,
A rigid structure with ribs as necessary to respond to changes in internal and external pressures, impacts, etc., and a highly rigid material made of resin such as polycarbonate, polypropylene, or acrylic, whose contents are transparent. Are generally adopted.

【0020】[0020]

【作用】本発明のウェーハ収納容器によれば、 伸縮性膜が、すべての方向の衝撃、振動を吸収するサ
スペンションの機能を果たし、ウェーハを安全に保持、
固定する。また、ウェーハと面接触となるため、ウェー
ハと伸縮膜との相対的移動が少なくなるほかウェーハ
との接触面積が増加する。このため、単位面積当たりの
接触圧力が低下して凝集・摩耗が抑制され、微粒子の発
生量が低減する。 伸縮性膜はウェーハやその他の部品のどの部分の形状
にも追随するため、複雑な寸法、形状設計が不要な上、
位置決めが容易である。
According to the wafer container of the present invention, the stretchable film functions as a suspension absorbing shocks and vibrations in all directions, and holds the wafer safely.
Fix it. Further, since the wafer surface contact, the contact area with the other wafer relative movement between the wafer and the elastic membrane is reduced is increased. For this reason, the contact pressure per unit area is reduced, aggregation and wear are suppressed, and the amount of generated fine particles is reduced. Since the stretchable film follows the shape of any part of the wafer or other parts, complicated dimensions and shape design are not required.
Positioning is easy.

【0021】[0021]

【発明の効果】本発明のウェーハ収納容器は、 伸縮性膜でウェーハを直接保持する構造としたことに
より、輸送中に受けるあらゆる方向からの振動・衝撃を
吸収してウェーハを破損や汚染から保護し、安全に輸送
できる。 ウェーハを伸縮膜により直接接触保持するため、ウ
ェーハ収納時の伸縮膜とウェーハとの相対的移動によ
る微粒子の発生を最小限に抑え、汚染の低減に寄与す
る。 ノッチ式ウェーハ、オリフラ式ウェーハの別なく、比
較的簡単な構造でウェーハを確実に保持・固定・輸送す
ることができる。 外部からの振動、衝撃に対する抵抗力が大きいため、
外部包装を簡略化することが可能となり、輸送コストの
低減に寄与する。
The wafer container of the present invention has a structure in which the wafer is directly held by the stretchable film, thereby absorbing vibrations and shocks from all directions received during transportation and protecting the wafer from damage and contamination. And can be transported safely. To direct contact holding the wafer by the expansion and contraction film, to minimize particle generation due to the relative movement between the elastic film and the wafer during wafer housing, contributing to a reduction in pollution. The wafer can be securely held, fixed, and transported with a relatively simple structure regardless of the notch type wafer and the orientation flat type wafer. Because of high resistance to external vibration and shock,
External packaging can be simplified, contributing to a reduction in transportation costs.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のウェーハ収納容器の一実施態様に係
り、図(a)は縦断面図、図(b)は図(a)のB−B
線における横断面図である。
Engaged to one embodiment of the wafer carrier of the present invention; FIG
(A) is a longitudinal sectional view, and (b) is BB in FIG.
It is a cross-sectional view in a line.

【図2】それぞれ本発明のウェーハ収納容器の異なる実
施態様に係り、図(a)および図(b)は縦断面図であ
る。
2 (a) and 2 (b) are longitudinal sectional views according to different embodiments of the wafer storage container of the present invention, respectively.

【図3】図(a)は本発明のウェーハ収納容器における
部材の一例についての平面図、図(b)〜(d)はそれ
ぞれ本発明のウェーハ収納容器の他の異なる実施態様に
ついての縦断面図、図(e)はさらに他の異なる部材に
ついての平面図である。
FIG. 3A is a plan view of an example of a member in a wafer storage container of the present invention, and FIGS. 3B to 3D are longitudinal cross-sectional views of another different embodiment of the wafer storage container of the present invention, respectively. FIG. 7 (e) is a plan view of still another different member.

【図4】従来のウェーハ収納容器の一例を示す分解斜視
図である。
FIG. 4 is an exploded perspective view showing an example of a conventional wafer storage container.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1‥上蓋、 2‥容体、
3‥伸縮性膜、 11‥ 内箱、 12‥上部緩衝板、
20‥枠、 21、22、23、24‥緩衝板、 W‥ウェー
ハ。
1 ‥ lid, 2 ‥ container,
3 ‥ stretchable membrane, 11 ‥ inner box, 1 2 ‥ upper cushion plate,
20mm frame, 21, 22, 23, 24mm buffer plate, W wafer.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭55−18053(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 21/68 B65D 85/86────────────────────────────────────────────────── (5) References JP-A-55-18053 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) H01L 21/68 B65D 85/86

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】上蓋と容体とがそれぞれの開口縁で係合・An upper cover and a container are engaged with each other at their opening edges.
閉止する半導体ウェーハ収納容器であって、上蓋と容体A semiconductor wafer container to be closed, comprising a top lid and a container.
のそれぞれの半導体ウェーハの幅方向の内側壁間に伸縮Between the inner walls in the width direction of each semiconductor wafer
性膜を張設し、この2枚の伸縮性膜により半導体ウェーA stretchable film is stretched and the semiconductor stretch is formed by these two stretchable films.
ハの周側縁を上下両方向から保持して半導体ウェーハをHold the peripheral edge of c from both upper and lower directions
収納可能としてなることを特徴とする半導体ウェーハ収Semiconductor wafer storage characterized by being able to be stored
納容器。Container.
【請求項2】上蓋と容体とをそれぞれの開口縁で係合・
閉止する半導体ウェーハ収納容器であって、上蓋と容体
のそれぞれの半導体ウェーハの幅方向の内側壁間に伸縮
性膜を張設し、この2枚の伸縮性膜の間に、半導体ウェ
ーハを収納する内箱、半導体ウェーハの上縁または下縁
を支持する上部緩衝板または下部緩衝板の内の少なくと
も1個の部材を配設し、これと共に半導体ウェーハを収
納可能としてなることを特徴とする半導体ウェーハ収納
容器。
2. An upper cover and a container are engaged at respective opening edges.
A semiconductor wafer container to be closed, comprising a top lid and a container.
Between the inner walls in the width direction of each semiconductor wafer
A stretchable film is stretched, and a semiconductor wafer is placed between the two stretchable films.
Inner box for storing wafers, upper or lower edge of semiconductor wafer
Support at least one of the upper and lower buffer plates
Also arranges one member and collects the semiconductor wafer with it.
Semiconductor wafer storage characterized by being able to be stored
container.
【請求項3】上蓋と容体とをそれぞれの開口縁で係合・3. An upper cover and a container are engaged with each other at their opening edges.
閉止する半導体ウェーハ収納容器であって、上蓋と容体A semiconductor wafer container to be closed, comprising a top lid and a container.
のそれぞれの半導体ウェーハの幅方向の内側壁間に伸縮Between the inner walls in the width direction of each semiconductor wafer
性膜の張設された枠体を配設し、それぞれの枠体の伸縮The frames with stretchable membranes are arranged, and the expansion and contraction of each frame
性膜により半導体ウェーハの周側縁を上下両方向から保The peripheral edge of the semiconductor wafer is maintained from both directions by the conductive film.
持して半導体ウェーハを収納可能としてなることを特徴The feature is that the semiconductor wafer can be stored by holding
とする半導体ウェーハ収納容器。Semiconductor wafer storage container.
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