JP2761607B2 - Sensitive material processing equipment - Google Patents

Sensitive material processing equipment

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JP2761607B2
JP2761607B2 JP2327325A JP32732590A JP2761607B2 JP 2761607 B2 JP2761607 B2 JP 2761607B2 JP 2327325 A JP2327325 A JP 2327325A JP 32732590 A JP32732590 A JP 32732590A JP 2761607 B2 JP2761607 B2 JP 2761607B2
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processing
photosensitive material
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roller
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION 【産業上の利用分野】[Industrial applications]

本発明は、印画紙,ダイレクト製版用の感光紙もしく
はフィルムなどの銀塩タイプの感材を処理する感材処理
装置に関する。
The present invention relates to a photosensitive material processing apparatus for processing a silver salt type photosensitive material such as photographic paper, photosensitive paper for direct plate making, or a film.

【従来の技術】[Prior art]

従来、軽印刷用の刷版を直接製版する複写カメラで
は、露光した感材を静止現像液により処理していた。こ
うした用途に用いられる感材は、例えば耐水処理を施し
たベース(紙)の表面に、ハレーションを防止する層,
光に感じる銀塩乳剤層,銀などの物理現像核が分散した
ゼラチンを主体とする親水性の層などが形成されてい
る。乳剤層は光の照射を受けてその性質を変えるが、光
を受けた乳剤層では、現像液が作用しても還元した銀の
表面層への拡散は阻害される。一方、光の照射を受けな
かった乳剤層では、ハロゲン化銀が錯化されて表面層に
拡散し、そこで物理現像されて金属銀を析出し、感脂化
される。その後、安定化処理を行なって不感脂化処理を
施せば、金属銀の析出したところだけが親油性を示して
印刷インキが載るので、刷版が得られることになる。 こうした感材は、現像液などの処理液との反応が極め
て短時間に進むため、処理液中で短時間停止しただけで
も、あるいは処理液が波立つだけでも処理にむらができ
ることが知られている。従って、従来、大きな槽に大量
の処理液を満たし、静止現像液中を、波立たないように
感材をゆっくりと搬送する浸漬式現像処理を行なう装置
が用いられていたのである。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a copying camera for directly making a printing plate for light printing, an exposed photosensitive material is treated with a static developer. Sensitive materials used in such applications include, for example, a halation-preventing layer on the surface of a water-resistant base (paper).
A silver salt emulsion layer sensitive to light, a hydrophilic layer mainly composed of gelatin in which physical development nuclei such as silver are dispersed, and the like are formed. The emulsion layer changes its properties when irradiated with light, but the diffusion of reduced silver to the surface layer is inhibited in the emulsion layer which has been exposed to light even when a developer is applied. On the other hand, in the emulsion layer which has not been irradiated with light, the silver halide is complexed and diffuses into the surface layer, where it is physically developed to precipitate metallic silver and become sensitized. After that, if a stabilization treatment is performed and a desensitization treatment is performed, only the portion where the metallic silver is deposited shows lipophilicity and the printing ink is applied, so that a printing plate is obtained. It is known that such a photosensitive material can cause unevenness in processing even if the reaction with a processing solution such as a developing solution proceeds in an extremely short time, and even if the processing solution is simply stopped for a short time or the processing solution is wavy. I have. Therefore, conventionally, an apparatus for performing an immersion type developing process in which a large tank is filled with a large amount of a processing solution and the photosensitive material is slowly conveyed in a static developing solution so as not to undulate has been used.

【発明が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the invention]

しかしながら、浸漬式現像を用いた装置では、大量の
処理液を処理槽にためておく必要があり、多数の感材の
処理等に伴う処理液の劣化や、通常のアルカリ性の現像
液の酸化による現像性能の変化が避けられられないとい
う問題があった。かといって、単に処理槽を小さくし貯
留する処理液の量を減らしたのでは、処理にムラを生じ
るなど従前の問題を回避できず、現実的な解決とはなら
ない。 また、大量の処理液を貯留する方式では、装置の使用
開始時に、処理液の温度を処理に適した温度まで昇温す
る、いわゆるウォームアップに時間を要するという問題
もあった。ウォームアップの時間を短縮しようとすれば
温度調整用のヒータ等を大電力のものにしなければなら
ない。 更に、大量の処理液を貯留する浸漬式現像では、処理
液のウォームアップに時間を要すること、スラッジが処
理槽の底面に堆積しヘドロ化することといった問題があ
った。ヘドロ化したスラッジは、処理槽内に搬入される
感材の搬送を阻害することがあり、現像ムラの原因とな
ることもあった。 本発明は上記問題点を解決し、必要な処理液の量の低
減を可能とすると共に、感材に処理液を均一に付与して
処理品質を向上することを目的としてなされた。 かかる目的を達成する本発明の構成について以下に説
明する。
However, in an apparatus using immersion type development, it is necessary to store a large amount of processing solution in the processing tank, and the processing solution is deteriorated due to the processing of a large number of photosensitive materials, and the oxidation of a normal alkaline developing solution There is a problem that a change in developing performance cannot be avoided. On the other hand, simply reducing the size of the processing tank and reducing the amount of processing liquid to be stored cannot prevent the conventional problems such as unevenness in processing, and cannot be a practical solution. In addition, in the method of storing a large amount of processing liquid, there is a problem in that the temperature of the processing liquid is raised to a temperature suitable for processing at the start of use of the apparatus, that is, it takes time to warm up. In order to shorten the warm-up time, a heater or the like for adjusting the temperature must have a large electric power. Further, in immersion development in which a large amount of processing liquid is stored, there are problems that it takes time to warm up the processing liquid, and sludge accumulates on the bottom of the processing tank and becomes sludge. The sludge that has turned into sludge may hinder the transport of the photosensitive material carried into the processing tank, and may cause uneven development. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, to reduce the amount of a required processing solution, and to improve the processing quality by uniformly applying the processing solution to a light-sensitive material. The configuration of the present invention that achieves the above object will be described below.

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

本発明の感材処理装置は、 印画紙,ダイレクト製版用の感光紙もしくはフィルム
などの、銀塩タイプの感材を処理する処理装置であっ
て、 前記感材用の処理液を貯留する処理槽と、 前記感材を該処理槽の処理液中に搬入する感材搬入手
段と、 前記処理槽に搬入される感材の幅方向に亘って設けら
れ、該処理槽に貯留された処理液に下部が浸漬する位置
に回動可能に軸支されたローラと、 該ローラとその幅方向に亘って外周に押し当てられた
部材との間に、新たな処理液を所定量供給して一旦貯留
する処理液供給手段と、 前記ローラを前記感材の搬入方向と同方向に回転し、
前記貯留された処理液を、回転するローラの表面に伴っ
て前記処理槽に供給する回転供給手段と を備えたことを要旨とする。
The photosensitive material processing apparatus of the present invention is a processing apparatus for processing a silver salt type photosensitive material such as a photographic paper, a photosensitive paper or a film for direct plate making, and a processing tank for storing the processing liquid for the photosensitive material. A photosensitive material carrying means for carrying the photosensitive material into the processing solution in the processing tank; and a photosensitive material carrying means provided over the width direction of the photosensitive material carried into the processing tank, and provided in the processing solution stored in the processing tank. A predetermined amount of new processing liquid is supplied and temporarily stored between a roller rotatably supported at a position where the lower portion is immersed and a member pressed against the outer periphery in the width direction of the roller. Processing liquid supply means to rotate the roller in the same direction as the direction in which the photosensitive material is carried in,
A rotation supply unit that supplies the stored processing liquid to the processing tank along with the surface of a rotating roller.

【作用】[Action]

上記構成を有する本発明の感材処理装置は、処理槽に
貯留された処理液中に、感材を、感材搬入手段により搬
入するが、この処理槽は、処理液供給手段により供給さ
れローラと部材との間に一旦貯留された新たな処理液
を、回転供給手段によって感材の搬入方向と同方向に回
転されるローラの表面に伴って供給する。ローラは、処
理槽に搬入される感材の幅方向に亘って、かつ処理槽に
貯留された処理液に下部が浸漬する位置に設けられてい
るから、、処理液は、ローラの回転に伴って、処理槽の
幅方向に亘って均一に供給され、感材の処理に供され
る。 また、処理槽に下部が浸漬されたローラの表面を、気
泡が個々に独立した単独気泡構造のスポンジ質とし、単
独気泡に保持した処理液を、ローラの回転に伴って処理
槽に供給する構成としても良い。 なお、本発明の感材処理装置で処理する感材として
は、製版用の銀塩系感光紙や製版用の銀塩系フィルムの
ほか、銀塩系の印画紙も対象となる。
The photosensitive material processing apparatus of the present invention having the above-described configuration is configured such that the photosensitive material is carried into the processing liquid stored in the processing tank by the photosensitive material carrying means. The new processing liquid once stored between the roller and the member is supplied along with the surface of the roller rotated in the same direction as the direction in which the photosensitive material is carried in by the rotation supply unit. Since the roller is provided at a position where the lower part is immersed in the processing liquid stored in the processing tank over the width direction of the photosensitive material carried into the processing tank, the processing liquid is generated as the roller rotates. Thus, it is supplied uniformly over the width direction of the processing tank, and is used for processing the photosensitive material. In addition, the surface of the roller, the lower part of which is immersed in the processing tank, is made of sponge having a single-cell structure in which bubbles are individually independent, and the processing liquid held in the single cells is supplied to the processing tank with the rotation of the roller. It is good. The photosensitive material to be processed by the photosensitive material processing apparatus of the present invention includes silver halide photosensitive paper for plate making, silver halide film for plate making, and silver halide photographic paper.

【実施例】【Example】

以上説明した本発明の構成・作用を一層明らかにする
ために、以下本発明の感材処理装置の好適な実施例につ
いて説明する。第1図は、感材処理装置の一実施例であ
る現像処理装置の構成図、第2図はこの現像処理装置を
組み込んだスリット霧光式複写カメラ1を示す概略構成
図である。スリット露光式複写カメラ1は、原稿を複写
して軽印刷用の刷版を作成する装置である。 まず、第2図に従って、スリット露光式複写カメラ1
の全体構成について説明する。図示するように、このス
リット露光複写カメラ1は、筐体2内に後述する投影光
学系や現像処理装置を組み込んだものであり、筐体2の
上面に設けられたコンソールパネル4と、筐体2の上面
にそって水平方向(図における左右方向)に往復動可能
に構成された原稿ホルダ10と、シート状の感材PMを露光
位置に搬送する感材搬送装置20と、原稿ホルダ10内に保
持された原稿に光を照射すると共に原稿で反射された光
を感材PM上面に投影してこれを露光する投影光学系30
と、露光済みの感材PMの現像および安定化処理を行なう
現像処理装置40と、現像処理装置40から搬出された感材
PMを乾燥させる乾燥ユニット50と、種々のモータや後述
の電磁弁等の駆動制御を司る電子制御装置60とを備え
る。 コンソールパネル4は、露光条件の設定等を行なう各
種設定スイッチや、電源スイッチ,スタートスイッチ等
が設けられており、オペレータにより操作される。コン
ソールパネル4の各スイッチは、電位制御装置60に接続
されている。 原稿ホルダ10は、透明なガラス板で構成された原稿台
11と開閉自在に原稿カバー12とを備えており、原稿は原
稿台11と原稿カバー12との間に下向きに保持される。こ
の原稿ホルダ10は、筐体2に設けられたモータ13によ
り、スプロケット,チェーン,ベルト等の図示しない駆
動系を介して、水平方向に往復駆動され、露光用の照射
光源に対して原稿を搬送する。 感材搬送装置20は、第1の感材ロール21,第2の感材
ロール22の他、第1の感材ロール21からの感材送り出し
専用のローラ対23,第2の感光ロール22からの感材送り
出し専用のローラ対24及び各感材ロールからの感材送り
出しに共通して用いる2つのローラ対25,26を備えてお
り、必要に応じてどちらか一方の感材ロール21もしくは
22からシート状の感材PMを送り出す。本実施例では、感
材PMとして、シルバーマスター(製品名:三菱製紙株式
会社製、型式SLM−R2)を用いたが、銀塩系の製版用感
光紙であれば、スーパーマスター(製品名:アグファゲ
バルト社製、型式SPP)なども用いることができる。 第2図は、感材PMが、第1の感材ロール21から3組の
ローラ対23,25,26によって順次その下流に搬送されてい
る状態を示している。第2の感材ロール22の感材PMを用
いる場合には、上記ローラ対23に替わるローラ対24と2
組のローラ対25,26によって、感材PMが第2の感材ロー
ル22から搬送される。 なお、第1の感材ロール21または第2の感材ロール22
からの感材PMの送り出しは、原稿ホルダ10の水平方向移
動に同期して行なわれる。 こうして搬送された感材PMは、2組のローラ対25,26
の間に設定された露光位置にて露光され、この露光位置
における感材PMの裏面側に設けられた切断装置27によ
り、コンソールパネル4を用いて設定された寸法に切断
される。 感材PMを露光する投影光学系30は、原稿ホルダ10内に
保持された原稿の幅方向に亘って光を照射するための光
源31と、原稿からの反射光LBを反射する3つのミラー32
a,32b,32cからなるミラー群32と、露光位置の感材PM上
面に原稿の像を結像させる投影レンズ33と、感材PM上面
に投影される反射光LBの幅を制限するスリット34とを備
える。投影レンズ33とミラー群32を構成するミラー32b,
32cとは、傾斜台35上に取り付けられたミラー支持板36
およびレンズ支持台37にそれぞれ固定されており、この
投影光学系30における投影倍率は値1に設定されてい
る。なお、上記ミラー支持板36およびレンズ支持台37
は、投影倍率のアライメントの際に傾斜台35上でその位
置が調整され、アライメント完了後に傾斜台35に固定さ
れる。 光源31から原稿に向けて照射された光は原稿下面で反
射し、この反射光LBはミラー群32の各ミラーで順次反射
され、投影レンズ33とスリット34とを通過した後、感材
PMの感光面に結像される。従って、搬送されつつある感
材PMの感光面には、原稿の幅方向に亘るスリット状画像
が投影される。感材PMの搬送は、原稿ホルダ10の水平方
向移動に同期しているので、原稿ホルダ10の水平方向の
移動が完了すると、原稿全体の露光が完了する。 なお、ローラ対26の下方側には、感材PMを一様に露光
するため複数個のLED38がライン状に設けられており、
このLED38を駆動して感材PMを照射することにより、縮
小して露光する際に原稿からの反射光LBでは露光できな
い感材PMの周辺部分を像形成不要部としてえ焼きとばし
ている。その後、感材PMは切断装置27によって切断され
る。 現像処理装置40は、投影光学系30の下方に設置されて
おり、導入ローラ41を介して導入される感材PMに対する
現像処理および安定化処理を行なうものである。この現
像処理装置40は、現像液を貯蔵する現像液メインタンク
42と安定化剤を貯蔵する安定化剤メインタンク43が装着
可能で、図示しないモータによりローラ等が一体に駆動
される処理ユニット44として構成され、筐体2内に収納
されている。現像処理装置40の構成の詳細については後
述する。 感材PMの搬送路に沿って現像処理装置40の下流には乾
燥ユニット50が配設されている。この乾燥ユニット50
は、現像処理装置40にて処理された感材PMを張力を掛け
つつ搬送する2組のローラ対51,52と、このローラ対51,
52間に設けられた搬送トレイ53と、この搬送トレイ53に
感材PMの搬送路を挟んで対向する位置に設けられた感材
乾燥用ヒータ54およびファン55と、筐体2の外部に取り
付けられ乾燥された感材PMを収納する外部トレイ56とを
備える。 従って、露光済みの感材PMは、現像処理装置40におけ
る現像・安定化処理を経て感材乾燥用ヒータ54により乾
燥され、筐体2外の外部トレイ56に送り出される。こう
して、原稿からオフセット印刷用の刷版が複製・作製さ
れる。 次に、感材PMへの現像・安定化処理を行なう現像処理
装置40について説明する。現像処理装置40の説明には、
その概略構成を示す第1図の他、斜視図(第3図,第4
図),断面図(第5図)を適宜援用する。 第1図に示すように、この現像処理装置40は、導入ロ
ーラ41から導入された露光積みの感光PMを現像液メイン
タンク42内の現像液を用いて現像する現像部70と、安定
化剤メインタンク43内の安定化剤を用いて現像済みの感
材PMに安定化処理を施しこれを乾燥ユニット50のローラ
対51に送り出す安定化処理部(以下、安定部と呼ぶ)72
とを備える。 現像部70は、現像液の供給系として、現像液メインタ
ンク42の他、この現像液メインタンク42が着脱されメイ
ンタンク42から現像液を受けて液面を一定に管理する液
面管理筒74と、液面管理筒74から導通管76を介して現像
液が流入する現像液シスターンタンク78と、現像液シス
ターンタンク78からの現像液の流出用の管路79を開閉す
る流入用電磁弁80と、現像液を吐出する現像液ノズル82
とを備えている。この現像液ノズル82には、絞り部(第
5図参照)が組み込まれており、流入用電磁弁80の開弁
期間におけ現像液ノズル82先端からの現像液吐出量を制
限している。現像液ノズル82先端からの現像液の吐出量
は、絞り部に加わる圧力、即ち液面管理筒74における液
面の高さと絞り部における径とによってほぼ定まる。本
実施例では、液面の高さを一定に保っているので、流入
用電磁弁80開弁時における現像液の流量は、現像液メイ
ンタンク42内の現像液の多寡にかかわらず一定に保たれ
る。 現像液シスターンタンク78には、その内部を液流入室
78aおよび液滞留室78bに区分けする仕切板84がタンクの
底から立設されており、液流入室78aには導通管76が開
口されている。一方、液滞留室78bの上面には、底面に
向けて挿入されたヒータ86と、タンク内の液量に応じて
上下動するフロート87を有し現像液シスターンタンク78
内の液量を検出するフロートセンサ88とが設けられてい
る。また、現像液シスターンタンク78の底部に連通され
た管路79の入り口には、流出する現像液からごみ等を除
去するメッシュフィルタ90が設けられている。 従って、現像液メインタンク42から導通管76を介して
流入した冷たい現像液は、まず液流入室78aに流入して
仕切板84上端を越え液滞留室78b上部に流れ込む。液滞
留室78b内の現像液はヒータ86により温められる。ヒー
タ86による現像液の温度は、後述する電子制御装置によ
り所定温度に管理される。所定温度に維持された現像液
は、流入用電磁弁80が開弁すると、現像液ノズル82から
流出する。 次に、感材PMの現像が実際に行なわれる現像処理槽96
まわりの概略構成と働きの概要とについて説明する。現
像部70に感材PMを導入する導入ローラ41の下方には、第
5図矢印X方向に回転して感材PMを送り込む入り口ロー
ラ対92が設けられ、更にその下方には、送り込まれた感
材PMに接して感材PMをガイドし、搬送に際して感材PMに
いわゆる腰を付けるフリーローラ94が配設されている。 現像処理槽96は、断面略U字形であり、第3図に示す
ように、感材PMの幅に応じた幅を有し、現像液の貯留部
95を形成している。この現像処理槽96内には、現像処理
槽96の幅方向に亘って、現像処理槽96の底面に若干の距
離を残した位置に現像液供給ローラ98が配設されてい
る。従って、現像処理槽96の貯留部95に現像液が貯留さ
れれば、現像液供給ローラ98の下部は現像液に一部浸漬
する。現像液供給ローラ98の表面はスポンジ質の材質で
形成されており、スポンジ質を構成する気泡は個々に独
立した気泡(単独気泡)とされている。現像液供給ロー
ラ98には、第4図に示すように、上部から滴下する現像
液を現像液供給ローラ98との間に一時的に貯留する現像
液一時貯留部100が組み付けられている。 また、現像処理槽96の底部には、第3図,第5図に示
すように、底部液溜め室101が形成されており、現像処
理槽96の底に開口された複数の連通講102により、現像
液が流入可能とされている。底部液溜め室101の内部に
は、現像液加熱用の棒状ヒータ103が2本配設されてい
る。底部液溜め室101の中央底部には、管路を開閉する
排出用電磁弁104を介してこの底部液溜め室101と導通し
使用済み現像液を廃液受けトレイ106に排出する現像液
排出管108が連設されている。 現像処理槽96の感材PMの搬送側には、安定部72に向け
て所定の仰角αを有するガイド板110が配置されてい
る。ガイド板110は、感材PMとの接触抵抗を小さくする
ために波板を用いて形成されており(第3図参照)、安
定部72の絞りローラ対109に向けた現像済み感材PMの進
入経路を形成する。ガイド板110の下面には、自己温度
調整機能を有する加熱用の面状ヒータ112が取着されて
いる。面状ヒータ112は、第3図に示すように、現像処
理槽96側に設けられた取付金具113や図示しない他の金
具により、ガイド板110に一体に固定されている。 現像処理槽96の詳細な構成について説明する。現像処
理槽96の貯留部95は、第3図に示すように、湾曲した周
面板120の両側面に略半月状の側面板122(図において、
向かって左側の側面板は省略されている)を各々接合・
固定することにより形成される。周面板120のガイド板1
10側のおよそ中央には、周面板120を貫通する貫通孔126
が設けられている。現像液が現像液ノズル82から供給さ
れて貯留部95の液量が増加すると、現像液はこの貫通孔
126から流出する。従って、貯留部95の現像液の液面
は、貫通孔126の高さに保持される。 なお、現像処理槽96直下の排出用電磁弁104には、第
1図に示すように、防滴カバー114が設けられ、現像処
理槽96やガイド板110から落下する現像液の付着を防止
している。 現像液一時貯留部100は、第4図および第5図にその
詳細を示すように、現像液供給ローラ98の両端面に当該
ローラの回転を許容して当接する2枚の端面板134と、
この端面板134を両端に固定した断面「フ」の字形状の
支持板136とを備える。また、支持板136を構成する上板
136a中央、現像液ノズル82の先端に対応した位置には、
液通過孔138が設けられ、一方、支持板136を構成する背
板136bには、現像液供給ローラ98に向けて付勢され、こ
のローラ98外側に当接するステンレス薄板の板ばね140
が設けられている。 液通過孔138の真下には、上板136aの前端中央からこ
の板ばね140に向けて、液受け板142が連接されている。
液受け板142の先端と板ばね140との間には、僅かな隙間
が設けられている。現像液供給ローラ98とその両端面に
当接された端面板134とローラ98外周面に当接された板
ばね140とで囲まれた部位は、現像液供給ローラ98がこ
の部位では上方に向けて回転していることも相俟って、
現像液ノズル82から滴下する現像液を一時的に溜め置く
ことができる。この部位を、液溜まり部143と呼ぶ。 なお、液受け板142は、現像液を現像液供給ローラ98
の軸方向に効率良く広げる役割をはたしているが、液受
け板142がなくとも、現像液は液溜まり部143に一旦溜ま
るから、現像液供給ローラ98の軸方向に広がることに変
わりはない。 現像液ノズル82から滴下する現像液は、第4図および
第5図に示すように、液通過孔138を通過して液受け板1
42に至り、液受け板142両端や板ばね140との間に形成さ
れた僅かな隙間から板ばね140表面に沿って流れ落ち
る。つまり、現像液供給ローラ98の軸線方向に沿って広
がりつつ液溜まり部143に至り、ここに一時的に貯留さ
れる。液溜まり部143に貯留された現像液の一部は、現
像液供給ローラ98表面の単独気泡層における個々の気泡
に、現像液供給ローラ98の軸方向に均一に保持され、現
像液供給ローラ98の第5図矢印Y方向への回転に伴って
汲み出される。 現像液供給ローラ98は、その下部が現像処理槽96に貯
留された現像液に浸漬しているから、現像液供給ローラ
98の回転に伴って汲み出された新たな現像液は、既に貯
留されている現像液中に供給される。新たな現像液は、
現像処理槽96における感材PMの搬入側にムラなく拡散す
ることになる。現像液が供給されて貯留部95内の現像液
が増加すると、新たに供給された現像液に相当する量か
ら感材PMの搬出に伴って失われる現像液分を除いた量の
現像液(旧現像液)が、周面板120の貫通孔126から外部
に流れ出て、現像処理槽96内の現像液の量はバランスす
る。 現像液は、底部液溜め室101にも流れ込んでおり、こ
こに内蔵された2本の棒状ヒータ103により加熱され
る。加熱された現像液は、連通孔102を介して貯留部95
との間で対流する。棒状ヒータ103の通電が温度検出器
によって検出された現像液温度によりフィードバック制
御されていることも相俟って、現像処理槽96内の現像液
は、極めて短時間に昇温され所定の温度に維持される。 感材PMが現像処理槽96の現像液の貯留部95を通過すれ
ば、感材PMの現像処理に伴い、スラッジが現像液中に混
入する。こうしたスラッジは、貯留部95から底部液溜め
室101に流入し、排出用電磁弁104が開弁されると、現像
液と共に、現像液排出管108を介して廃液受けトレイ106
に排出される。 次に感材PMに搬送について説明する。入り口ローラ対
92により送り込まれた露光済みの感材PMは、フリーロー
ラ94によりガイドされつつ貯留部95に進入し、周面板12
0の内周面にそって貯留部95内を通過する。貯留部95内
に通過する間に、上述したように現像液供給ローラ98の
気泡層から拡散した新たな現像液を中心に、現像処理槽
96に貯留された現像液に反応し、感材PMに対する現像処
理が開始される。感材PMは、現像液供給ローラ98と周面
板120との間隙を抜けて貯留部95を通過した後、傾斜し
たガイド板110上面に沿って安定部72の入り口に設けら
れた絞りローラ対109に向けて送り出される。ガイド板1
10上の雰囲気温度は、温度制御機能を有する面状ヒータ
112による加熱によって所定の温度近傍となっているか
ら、ガイド板110上を搬送されている間にも、感材PM表
面に付着している現像液により感材PMの現像処理は継続
する。感材PMの表面に付着している現像液は、絞りロー
ラ対109により絞り取られ除去される。 次に、安定化剤による感材PMの安定化系である安定部
72について、第1図を用いて説明する。 なお、上記した現像部70と同一の部材または同一の機
能を有する部材については、その説明を省略し、現像部
70における説明に用いた符号(数値)に補助符号Aを付
加して表わすこととする。 安定部72は、安定化剤の供給系として、上記現像部70
の現像液供給系と同様に、安定化剤メインタンク43,こ
の安定化剤メインタンク43が着脱される液面管理筒74A,
仕切板84Aを内部に立設した安定化剤シスターンタンク7
8A,液面管理筒74Aと安定化剤シスターンタンク78Aとを
導通する導通管76A,流入用電磁弁80Aを介装した安定化
剤ノズル82A等を備える。安定化剤シスターンタンク78A
内には、現像液シスターンタンク78と同様、フロート87
Aを有するフロートセンサ88A,メッシュフィルタ90Aも備
えられている。流入用電磁弁80Aと安定化剤ノズル82Aと
を介して安定化剤シスターンタンク78Aから安定化剤が
流出すると、その分だけ導通管76Aから安定化剤が流入
する。 安定部72の他の構成部品について、感材PMの搬送に沿
って簡略に説明する。現像部70のガイド板110の上端に
位置された絞りローラ対109を通過した感材PMは、感材P
Mの搬送路に沿って配置されたガイドカバー144およびフ
リーローラ146にガイドされて、安定化処理槽96Aへと搬
入される。安定化処理槽96Aの入口には、感材PMにいわ
ゆる腰を付けるフリーローラ94Aが設けられている。安
定化剤の貯留部95Aを形成する安定化処理96Aには、現像
処理槽96と同様、スポンジ質の安定化剤供給ローラ98A
と、この安定化剤供給ローラ98Aとで安定化剤の液溜ま
り部143Aを形成する安定化剤一時貯留部100Aが設けら
れ、貯留部95Aの感材PMの搬入側に安定化剤を供給す
る。一方、安定化処理槽96Aの底には、現像処理槽96と
同様、底部液溜め室101Aが設けられている。防滴カバー
114A付の排出用電磁弁104Aが開弁されたとき、使用済み
の安定化剤は、安定化剤排出管108Aを介して、底部液溜
め室108Aを介して、底部液溜め室101Aから廃液受けトレ
イ106Aに排出される。なお、安定化剤は温度管理を行な
う必要がないことから、底部液溜め室101Aにヒータは設
けられていない。 感材PMの搬送路に沿った安定化処理槽96Aの下流に
は、安定化済み感材PMの進入経路を形成するガイド板11
0Aが安定化処理槽96Aから上方に向けて傾斜して配置さ
れており、ガイド板110Aの上端には、第1図矢印Z方向
に回転して安定化済み感材PMを乾燥ユニット50(第2図
参照)のローラ対51に向けて搬送しつつ感材表面から余
分な安定化剤を絞り取る絞りローラ対109Aが配設されて
いる。なお、安定化剤供給ローラ98Aおよび各絞りロー
ラ対109,109Aは、既述した現像処理槽96の各ローラと共
通の駆動源により駆動され、同期して回転されている。 第1図矢印Z方向に回転して現像および安定化済みの
感材PMを搬送しつつ感材PMの表面から余分な現像液およ
び安定化剤を絞り取る各絞りローラ対109,109Aは、図示
するように、個々のローラの中心を通る平面がローラの
中心を通る鉛直面から図示反時計方向に角度βだけ傾斜
して設けられている。従って、この絞りローラ対109,10
9Aに感材PMが挟み込まれると、絞りローラ対109,109A部
分での感材PMの搬送方向は、角度βに対応した角度だけ
下向きとなる。この結果、絞られた現像液もしくは安定
化剤は、感材PMの通過中は感材PMと絞りローラ対109,10
9Aとの間に留まり、感材PMの側に垂れてくるといったこ
とがない。 感材PM搬送中、各絞りローラ対109,109Aに留まる現像
液もしくは安定化剤は、感材PMの切断後端面が絞りロー
ラ対109もしくは109Aを通過すると同時に、絞りローラ
対109,109Aにおける下側のローラ表面を伝わって、各絞
りローラ対109,109A下方に配設された右側絞り液収集板
152または左側絞り液収集板154上に落下し、廃液受けト
レイ106A内に流入する。 各絞りローラ対109,109Aには、各々2個のスクレーパ
150が、その先端がローラ外周に当接する位置に設けら
れている。スクレーパ150は、ローラ表面に傷を付けな
いためにおよびスクレーパ150自身の長寿命化を図るた
めに、先端を滑らかに研磨したステンレス板あるいは先
端をプラスチックで覆ったステンレス板等の耐触性およ
び弾性を有する材質で構成されている。スクレーパ150
の先端を覆うプラスチックとしては、弗素樹脂,ポリエ
ステル,塩化ビニル等の処理液に対する耐薬品性と耐摩
耗性とを有する材料を用いることができる。スクレーパ
150により掻き落とされたスラッジや廃液は、右側絞り
液収集板152および左側絞り液収集板154上に落下し、廃
液受けトレイ106Aに回収される。なお、現像部70と安定
部72の各廃液受けトレイ106,106Aには、廃液タンク156
を至る配管158が設けられており、各トレイ106,106Aに
集められた廃液は、配管158を介して最終的には廃液タ
ンク156に回収される。 以上のように構成された安定部72では、現像部70から
送り込まれる現像済みの感材PMは、絞りローラ対109に
より、付着した現像液を絞り取られ、フリーローラ94A
等によりガイドされつつ貯留部95Aに搬入される。感材P
Mが、貯留部95Aの安定化剤中に入ると安定化処理が開始
され、貯留部95Aを通過した後、ガイド板110A上面にそ
って搬送される間も安定化の処理は進行する。絞りロー
ラ対109Aを通過する際、感材PM上面からは余分な安定化
剤が絞り取られ、その後、感材PMは、ローラ対51によっ
て乾燥ユニット50に搬送される。 次に、現像液シスターンタンク78等における温度管理
や現像液供給ローラ98等の駆動制御等を司る電子制御装
置60について、第6図に示すブロック図を用いて説明す
る。 第6図に示すように、電子制御装置60は、周知のCPU1
62,ROM164,RAM166や複数の自走式タイマカウンタを内蔵
したタイマ168等を中心に算述論理演算回路として構成
され、これらとコモンバス170を介して相互に接続され
た露光用出力ポート172,現像用入力ポート174,現像用出
力ポート176等の入出力インタフェースを備える。ま
た、電子制御装置60のコモンバス170には、底部液溜め
室101に連通した貯留部95内の現像液および現像液シス
ターンタンク78内の現像液の温度調整を行なう温度調整
回路178と、オペレータが各種の設定等を行なうコンソ
ールパネル4とが接続されている。 露光用出力ポート172には、原稿ホルダ10の駆動用の
モータ13と、感材PMを切断するための切断装置27と、原
稿ホルダ10内の原稿に光を照射するための光源31と、第
1の感材ロール21または第2の感材ロール22から感材PM
を送り出すためのモータ28と、感材PMを一様に露光する
ためのLED38と、安定化済み感材を乾燥するための乾燥
ユニット50とが接続されている。 一方、現像用入力ポート174には、現像液シスターン
タンク78内のフロートセンサ88と安定化剤シスターンタ
ンク78A内のフロートセンサ88Aとが接続されており、現
像用出力ポート176には、処理ユニット44の各ローラを
同期して駆動する駆動モータ180と、現像液ノズル82に
設けられた流入用電磁弁80と、安定化剤ノズル82Aに設
けられた流入用電磁弁80Aと、現像液排出管108に設けら
れた排出用電磁弁104と、安定化剤排出管108Aに設けら
れた排出用電磁弁104Aと、ガイド板110の近傍雰囲気を
ある程度の温度に加熱するための面状ヒータ112とが接
続されている。 また、温度調整回路178には、現像液シスターンタン
ク78内に設置されたヒータ86及びこのタンク内の液温を
検出する温度センサ85と、底部液溜め室101内に設置さ
れた2本の棒状ヒータ103およびこの液溜め室101内の液
温を検出する温度センサ103aとが接続されている。この
温度調整回路178は、貯留部95内の現像液および現像液
シスターンタンク78内の現像液の液温をそれぞれ所定温
度範囲に維持するように上記各ヒータを加熱制御し、液
温が所定温度範囲内に維持されているか否かを示す信号
をCPU162に出力する。 次に、電子制御装置60が実行する処理について、フロ
ーチャートを用いて説明する。実施例のスリット露光式
複写カメラ1が実行する処理は、電源投入時に実行され
る初期処理ルーチン、露光・現像可能な状態となるまで
待機する待機処理ルーチン、感材PMの露光と現像とを行
なう露光・現像処理ルーチンに分けることができる。第
7図は初期処理ルーチンを示すフローチャート、第8図
は待機処理ルーチンを示すフローチャート、第9図は露
光現像処理ルーチンを示すフローチャートである。 本実施例のスリット露光式複写カメラ1に電源が投入
されると、電子制御装置60は、まず第7図に示す初期処
理ルーチンを実行する。この処理は、スリット露光式複
写カメラの移用開始時に一度だけ実行される処理であ
る。 本ルーチンが開始されると、まず排出用電磁弁104,10
4Aを開弁する処理を行ない(ステップS10)、現像処理
槽96および安定化処理槽96A(以下、必要に応じて、両
者をまとめて処理槽96とも呼ぶ)に残存する現像液もし
くは安定化剤(以下、必要に応じて、両者をまとめて処
理液とも呼ぶ)がすべて排出されるのに十分な排出時間
だけ待機する(ステップS20)。処理槽96に貯留される
処理液の量は定まっているから、排出時間を予め設定し
ておくことは容易である。 排出時間待機してから排出用電磁弁104,104Aを閉弁し
た後(ステップS30)、次に流入用電磁弁80,80Aを開弁
する処理を行ない(ステップS40)、更に現像用出力ポ
ート176を介して駆動モータ180の運動を開始する処理を
行なう(ステップS50)。流入用電磁弁80,80Aが開弁す
ると、現像液シスターンタンク78および安定化剤シスタ
ーンタンク78Aから処理液が現像液ノズル82,安定化剤ノ
ズル82Aを介して流出し始め、駆動モータ180による現像
液供給ローラ98,態化剤供給ローラ98Aの回転により、処
理液は処理槽96に供給される。 処理槽96には、処理液が次第に貯留されるから、予め
設定された貯留時間(貯留に要する時間)だけ待機して
から(ステップS60)、流入用電磁弁80,80Aを閉弁する
処理(ステップS70)と駆動モータ180を停止して各ロー
ラの回転を停止する処理(ステップS80)とを行なう。
この結果、各処理槽96は、現像と安定化の処理に必要な
量の処理液で満たされる。 こうして処理液の貯留が完了した後、現像液温度調整
開始指示を温度調整回路178に出力する(ステップS9
0)。この指示を受けた温度調整回路178は、温度センサ
85,103aの検出信号を参照しつつ、ヒータ86,103に通電
し、現像液シスターンタンク78および現像処理槽96内の
現像液の温度を、およそ28℃ないし31℃の範囲に管理す
る。温度調整回路178は、現像液を加熱してこの温度範
囲内に制御すると、温度調整が完了したことを示す信号
をCPU162に出力する。そこで、この調整完了信号が入力
されるまで待機し(ステップS100)、この信号が入力さ
れるとコンソールパネル4にウォームアップが完了した
ことを示す表示を行ない(ステップS110)、初期処理を
総て完了したとして、次の待機処理に移行する。 以上説明した初期処理を実行することにより、スリッ
ト露光式複写カメラ1の現像処理装置40は、現像処理槽
96,安定化処理槽96Aに残存していた処理液(現像液およ
び安定化剤)をスラッジ等と共に排出し、新たな処理液
を供給すると共に、現像液の温度を処理に必要な適温に
調整する。 初期処理終了後に実行される待機処理では、第8図に
示すように、まずコンソールパネル4から各種設定のた
めのキー入力を行ない(ステップS200)、入力したキー
に従って各種の設定、例えば原稿の大きさや露光の度合
い等の設定を行なう(ステップS210)。次に、現像液シ
スターンタンク78および安定化剤シスターンタンク78A
の各フロートセンサ88,88Aの状態を読み込み(ステップ
S220)、フロートセンサ88,88Aがオンであるか否かの判
断を行なう(ステップS230)。フロートセンサ88,88Aが
オフ、即ち現像液シスターンタンク78もしくは安定化剤
シスターンタンク78Aの液面が低下していれば、現像液
もしくは安定化剤メインタンク42,43の補充の指示を、
コンソールパネル4に表示する処理を行なって(ステッ
プS235)、ステップ200から上述した処理を繰り返す。 一方、フロートセンサ88,88Aが共にオンであれば(ス
テップS230)、続いて現像液の温度は適正か否かの判断
を行ない(ステップS240)、適正であれば更にコンソー
ルパネル4の上の露光の開始を指示するスタートキーが
オンとなったか否かを判別する(ステップS250)。現像
液の温度は、温度調整回路178により調整されており、
初期処理(第7図)が終了すれば適温となっているべき
ものであるが、ヒータ86,103の故障により温度が低下す
ることも有り得るので、ここで再度チェックしているの
である。温度が適正でないかスタートキーがオンとなっ
ていなければ、上述したステップ200から処理を繰り返
す。 スタートキーが押されてオンとなった場合には、露光
・現像処理に移行する。現像・露光処理が開始される
と、第9図に示すように、まず露光を開始するのに必要
な各種処理を実行する(ステップS300)。露光開始処理
とは、ここでは原稿を載置した原稿ホルダ10の搬送とこ
れに同期した感材PMの送り出し、さらには処理ユニット
44の駆動源である駆動モータ180による処理ユニット44
内の各ローラの回転などを開始する処理である。続い
て、乾燥ユニット50をオンして高温風の吹き出しを開始
し(ステップS310)、露光処理中であることを示すフラ
グFを値1に設定し(ステップS320)、更に露光開始か
らの時間を計時するタイマ168内の第1のタイマカウン
タT1をスタートする処理(T1←0)を行なう(ステップ
S330)。 次にタイマカウンタT1と現像液流入開始タイミングT
AONとを比較し(ステップS340)、タイマカウンタT1が
現像液流入開始タイミングTAONとなるまで待機する。T
1=TAONとなったとき、現像液の流入用電磁弁80を開弁
し(ステップS350)、現像処理槽96の現像液供給ローラ
98への新たな現像液の供給を開始する。即ち、第10図の
タイミングチャートに示すように、露光処理の開始より
は遅れかつ感材PMの現像処理槽96への搬入に先だって、
現像液の供給が開始されるのである。 次に、タイマカウンタT1が安定化有剤の流入用電磁弁
80Aの開弁タイミングTSONになったか否かの判断を行な
う(ステップS360)。タイマカウンタT1が開弁タイミン
グTSONとなったときには、安定化剤の流入用電磁弁80A
を開弁する処理を行なう(ステップS370)。なお、開弁
タイミングTSONとなるまでは、安定化剤流入用電磁弁8
0Aを開弁する処理は行なわず、次の処理に移行する。こ
の結果、第10図に示すように、現像液の流入用電磁弁80
の開弁から所定時間経過後でかつ感材PMの安定化処理槽
96Aへの搬入に先だって、安定化剤の供給が開始され
る。 次に、露光中であることを示すフラグFが値1である
か否かの判断を行なう(ステップS380)。露光処理中は
フラグFは値1であり(ステップS320で設定される)、
この場合には、引き続き露光が終了したか否かの判断を
行なう(ステップS390)。原稿ホルダ10が原稿の長さに
応じて距離だけ搬送されて必要な露光処理が完了した場
合には、露光終了処理(ステップS400)を実行する。こ
こで、露光終了処理は、原稿ホルダ10の搬送を終了して
原稿ホルダ10を初期位置に戻す処理や、感材PMの送り出
しを停止すると共に切断装置27を駆動して感材PMをその
露光領域終端で切断するといった処理である。 露光終了処理(ステップS400)の実行後、露光処理は
完了したとしてフラグFを値0にリセットする処理を行
なう(ステップS410)。その後、露光終了からの時間を
計時するタイマ168内の第2のタイマカウンタT2をスタ
ートする処理(T2←0)を行なう(ステップS420)。 なお、以上の記述では原稿が所定以上の長さを有し、
露光処理の完了前に感材PMの先端が安定化処理槽96Aに
達するものとして説明したが、原稿の長さが短く露光処
理の完了時に感材PMの先端が安定化処理槽96Aに達して
いない場合も考えられる。この場合には、ステップS360
での判断が「YES」となる前にステップS390での判断が
「YES」となり、安定化剤の流入用電磁弁80Aの開弁に先
だって第2のタイマカウンタT2がスタートすることにな
る。 タイマカウンタT2をスタートした後(ステップS42
0)、タイマカウンタT2が現像液の流入用電磁弁80の閉
弁タイミングTAOFFに至ったか否かの判断を行なう(ス
テップS430)。閉弁タイミングTAOFFに至っていなけれ
ば接続点を介してステップS360から上述した処理を繰
り返す。一方、タイマカウンタT2がタイミングTAOFFと
なった場合には、現像液の流入用電磁弁80を閉弁する処
理を行なう(ステップS440)。閉弁タイミングTAOFF
は、感材PMの終端が現像処理槽96で現像処理を受けるの
に必要な現像液を現像液供給ローラ98により供給可能な
時間を確保するタイミングである。従って、第10図に示
すように、現像液の流入用電磁弁80は、露光処理の終了
後で、かつ露光済み感材PMの終端が現像処理槽96を出る
のに先立つタイミングで閉弁される。 流入用電磁弁80の閉弁後もしくはタイマカウンタT2が
タイミングTAOFFを越えた後は、今度はタイマカウンタ
T2が安定化剤の流入用電磁弁80Aの閉弁タイミングTSOF
Fに至ったか否かの判断を行なう(ステップS450)。タ
イマカウンタT2が閉弁タイミングTAOFFに至っていなけ
れば、ステップ430での判断した場合と同様、接続点
を介してステップS360から上述した処理を繰り返す。一
方、タイマカウンタT2がタイミングTSOFFとなった場合
には、安定化剤の流入用電磁弁80Aを閉弁する処理を行
なう(ステップS460)。閉弁タイミングTSOFFは、感材
PMの終端が安定化処理槽96Aで安定化処理を受けるのに
必要な安定化剤を安定化剤供給ローラ98Aにより供給可
能な時間を確保するタイミングである。従って、第10図
に示すように、安定化剤の流入用電磁弁80Aは、露光済
み感材PMの終端が安定化処理槽96Aを出るのに先立つタ
イミングで閉弁される。 安定化剤の流入電磁弁80Aを閉弁した後、時間T3だけ
待機し(ステップS470)、感材PMが乾燥ユニット50を通
りすぎたのを見計らって、乾燥ユニット50や駆動モータ
180等をオフする処理を行なう(ステップS480)。その
後、待機処理(第8図)に戻り、コンソールパネル4の
キー入力を入力するところから処理を繰り返す。 以上説明したように、このスリット露光式複写カメラ
1に組み込まれた実施例の現像処理装置40によれば、現
像処理槽96,安定化処理槽96Aにおいて、現像液供給ロー
ラ98,安定化剤供給ローラ98Aの回転により、感材PMの搬
入側に現像液および安定化剤を均一に供給して現像およ
び安定化処理に供するから、各処理槽96,96Aに搬入され
た感材PMは、新たな処理液による作用を均一に受け、常
に一定した現像および安定化の処理が行なわれる。新た
な現像液を、感材PMの搬入側、即ち現像処理開始側に供
給しているので、有当たな現像液を、感材PMの感度の最
も高い現像初期に効率的に感材PMに作用させることがで
き、現像品質の一層の向上を図ることができる。 しかも、処理槽96,96Aを出た感材PMをなお反応可能な
状態で保持しているから、少量の現像液および安定化剤
を貯留するだけで、ダイレクト製版用の銀塩タイプの感
材PMに対し、現像および安定化処理を十分に行なうこと
ができる。従って、各処理槽96,96Aを小型化でき、現像
処理装置40の小型化、延いてはスリット露光式複写カメ
ラ1の小型化を図ることができる。 本実施例によれば、従来のように大量の現像液および
安定化剤を貯留する必要がないので、現像処理槽96内の
現像液の現像による劣化や経時的な酸化によって現像能
力が低下および変化することがなく、製版品質を常に安
定に保つことができる。処理液の使用量も全体として低
減することができる。また、大量の現像液等を貯留して
いないので、スラッジが長期に亘って留まってヘドロ化
することがない。従って、現像処理槽96等の清掃が不要
になり、従来必要とされた水洗などのメンテナンスの労
力も不要となる。現像処理槽96の底部にスラッジが固着
して感材PMの搬送を阻害するということもないから、感
材PMの搬送が阻害されて現像された感材PM上に現像むら
などが生じるといった問題もない。 加えて、大量の現像液を処理可能な温度に調整するま
でのウォーミングアップの時間的ロスという問題も解消
され、少量の処理液を温めるだけで済むので、省電力化
も図られている。 また、現像液ノズル82からの吐出現像液を現像液供給
ローラ98の軸線方向にそって広げつつ、即ち感材PMの幅
方向にわたって均一に液溜まり部143に溜め置き、現像
液供給ローラ98表面の単独気泡層における個々の気泡に
保持された現像液(新たな現像液)を現像液供給ローラ
98の回転に基づき貯留部95に供給するので、貯留部95内
の現像液の液面に、波立ち等の乱れを生じることがな
い。この結果、現像液液面の乱れ(波)に基づく現像ム
ラ(液面の乱れが反映して感材表面に現われる不規則な
スジムラ)を生じることもない。 なお、安定化処理層96Aも、加熱用のヒータが設けら
れていない点を除いて同様な構成であり、処理の効率
化,安定化により処理品質の向上といった効果を奏する
のは勿論である。 以上本発明の実施例について説明したが、本発明はこ
うした実施例に何等限定されるものではなく、例えば現
像処理もしくは安定化処理の一方にのみ適用した構成、
処理液を供給するローラを単独気泡層を有するものに替
えて粗面研摩ローラや多孔質の軟質プラスチックのロー
ラとした構成、現像液の供給量をフィードバック制御す
る構成、現像処理槽などに残留する処理液の交換を装置
の立ち上げ時のみならず所定の面積もしくは回数の処理
が行なわれたときに実行する構成、あるいは銀塩方式の
印画紙や製版用フィルムの現像装置に適用した構成な
ど、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、種々なる
態様で実施し得ることは勿論である。
The configuration and operation of the present invention described above will be further clarified.
Therefore, a preferred embodiment of the photosensitive material processing apparatus of the present invention will be described below.
Will be described. FIG. 1 is an embodiment of a photosensitive material processing apparatus.
FIG. 2 is a block diagram of a developing processing apparatus according to the present invention.
Schematic configuration showing the slit fog light type copying camera 1 incorporated
FIG. The slit exposure type copying camera 1 copies an original
This is a device for producing a printing plate for light printing. First, according to FIG.
Will be described. As shown,
The lit exposure copying camera 1 includes a projection light
It incorporates a scientific system and a development processing device.
Console panel 4 provided on the upper surface and upper surface of housing 2
Reciprocating in the horizontal direction (left and right in the figure)
The original document holder 10 and the sheet-shaped photosensitive material PM
Photosensitive material transport device 20 that transports the paper to the
Irradiates the original with light and reflects light from the original
Optical system 30 that projects light onto the upper surface of photosensitive material PM and exposes it
And developing and stabilizing the exposed photosensitive material PM
Development processing device 40 and photosensitive material unloaded from development processing device 40
Drying unit 50 for drying PM, various motors and
And an electronic control unit 60 that controls the drive of the solenoid valves and the like.
You. The console panel 4 is used to set exposure conditions and the like.
Seed setting switch, power switch, start switch, etc.
Is provided, and is operated by an operator. Con
Each switch on the sole panel 4 is connected to the potential controller 60
Have been. The document holder 10 is a platen made of a transparent glass plate.
11 and an original cover 12 that can be opened and closed freely.
It is held downward between the platen 11 and the document cover 12. This
The original holder 10 is driven by a motor 13 provided in the housing 2.
Not shown, such as sprockets, chains, belts, etc.
Reciprocatingly driven in the horizontal direction via a dynamic system, and irradiation for exposure
The original is conveyed to the light source. The photosensitive material transport device 20 includes a first photosensitive material roll 21 and a second photosensitive material.
Sending out the photosensitive material from the first photosensitive material roll 21 in addition to the roll 22
Special roller pair 23, photosensitive material feeding from second photosensitive roll 22
Roller pair 24 for feeding and photosensitive material from each photosensitive material roll
With two roller pairs 25 and 26 commonly used for
If necessary, either one of the photosensitive material rolls 21 or
The sheet-shaped photosensitive material PM is sent out from 22. In the present embodiment,
Silver Master (product name: Mitsubishi Paper Mills Co., Ltd.)
Made by the company, model SLM-R2)
If it is optical paper, use Super Master (product name: Agfage
Balt, model SPP) can also be used. FIG. 2 shows that the photosensitive material PM is composed of three sets from the first photosensitive material roll 21.
Roller pairs 23, 25, 26
It shows a state in which Using the photosensitive material PM of the second photosensitive material roll 22
The roller pair 24 and 2 instead of the roller pair 23
The photosensitive material PM is transferred to the second photosensitive material row by the set of roller pairs 25 and 26.
Conveyed from the file 22. The first photosensitive material roll 21 or the second photosensitive material roll 22
Of the photosensitive material PM from the
It is performed in synchronization with the movement. The photosensitive material PM thus transported is composed of two roller pairs 25 and 26.
Exposure is performed at the exposure position set between
The cutting device 27 provided on the back side of the photosensitive material PM
And cut to the set dimensions using the console panel 4
Is done. The projection optical system 30 for exposing the photosensitive material PM
Light for irradiating light across the width of the held document
Source 31 and three mirrors 32 for reflecting the reflected light LB from the original
a mirror group 32 composed of a, 32b, and 32c and a photosensitive material PM at an exposure position
Projection lens 33 that forms an image of the original on the surface, and upper surface of photosensitive material PM
And a slit 34 for limiting the width of the reflected light LB projected on the
I can. A projection lens 33 and a mirror 32b constituting a mirror group 32,
32c is a mirror support plate 36 mounted on a tilt base 35.
And the lens support 37, respectively.
The projection magnification in the projection optical system 30 is set to a value of 1.
You. The mirror support plate 36 and the lens support 37
Is positioned on the tilt table 35 during alignment of the projection magnification.
Position is adjusted, and after alignment is complete,
It is. Light emitted from the light source 31 toward the original is reflected by the lower surface of the original.
The reflected light LB is sequentially reflected by each mirror of the mirror group 32.
After passing through the projection lens 33 and the slit 34,
An image is formed on the photosensitive surface of PM. Therefore, the feeling of being conveyed
On the photosensitive surface of the material PM, there is a slit-shaped image
Is projected. The photosensitive material PM is transported horizontally on the original holder 10.
The document holder 10 in the horizontal direction.
When the movement is completed, exposure of the entire document is completed. The photosensitive material PM is uniformly exposed to the lower side of the roller pair 26.
A plurality of LEDs 38 are provided in a line to
By driving the LED 38 and irradiating the photosensitive material PM,
When exposing with small size, it is not possible to expose with reflected light LB from the original.
Area around the sensitive material PM
ing. After that, the photosensitive material PM is cut by the cutting device 27.
You. The development processing device 40 is installed below the projection optical system 30.
The photosensitive material PM introduced through the introduction roller 41
A development process and a stabilization process are performed. This present
The image processing device 40 is a developer main tank for storing the developer.
42 and stabilizer main tank 43 for storing stabilizer
Possible, rollers and other components are driven together by a motor (not shown)
And is housed in the housing 2
Have been. The details of the configuration of the development processing device 40 will be described later.
Will be described. Along the path of the photosensitive material PM, a dry
A drying unit 50 is provided. This drying unit 50
Applies tension to the photosensitive material PM processed by the development processing device 40.
Pairs of rollers 51 and 52 for conveying while moving,
And a transfer tray 53 provided between the transfer trays 53.
Sensitive material provided at a position facing the photosensitive material PM across the transport path
The drying heater 54 and the fan 55 and the outside of the housing 2 are installed.
An external tray 56 for storing the attached and dried photosensitive material PM
Prepare. Accordingly, the exposed photosensitive material PM is transferred to the developing device 40.
After the development and stabilization process, the photosensitive material is dried by the heater 54 for drying the photosensitive material.
It is dried and sent to an external tray 56 outside the housing 2. like this
The printing plate for offset printing is duplicated and produced from the original.
It is. Next, a development process for developing and stabilizing the photosensitive material PM
The device 40 will be described. In the description of the development processing device 40,
In addition to FIG. 1 showing the schematic configuration, perspective views (FIGS.
Figures) and cross-sectional views (Fig. 5) are used as appropriate. As shown in FIG. 1, this development processing device 40
The photosensitive PM of the exposure stack introduced from the
Developing unit 70 that develops using developer in tank 42 and stable
Developed using the stabilizer in the main tank 43
The material PM is subjected to a stabilization process, and this is rolled in the drying unit 50.
Stabilization processing unit (hereinafter referred to as “stabilization unit”) 72 sent out to pair 51
And The developing unit 70 includes a developer mainter as a developer supply system.
In addition to the ink tank 42, this developer main tank 42 is
Liquid that receives developer from the reservoir tank 42 and maintains the liquid level at a constant level.
Surface management cylinder 74 and developing from liquid level management cylinder 74 via conduit 76
A developer cistern tank 78 into which the liquid flows,
Opens and closes conduit 79 for developer outflow from turn tank 78
Inflow solenoid valve 80 and developer nozzle 82 for discharging developer
And The developer nozzle 82 has a throttle section (the
(Refer to Fig. 5)
Control the amount of developer discharged from the tip of the developer nozzle 82 during the period.
Limited. Discharge amount of developer from the tip of developer nozzle 82
Is the pressure applied to the throttle, that is, the liquid in the liquid level management cylinder 74.
It is almost determined by the height of the surface and the diameter at the narrowed portion. Book
In the embodiment, since the liquid level is kept constant,
When the solenoid valve 80 is opened, the flow rate of the developer
Is kept constant regardless of the amount of developer in the tank 42.
You. The developer cistern tank 78 has a liquid inflow chamber
A partition plate 84, which is divided into a liquid storage chamber 78b and a liquid storage chamber 78b,
It stands upright from the bottom, and a conduit 76 opens in the liquid inflow chamber 78a.
Has been spoken. On the other hand, on the bottom of the liquid
According to the amount of liquid in the tank and the heater 86
A developer cistern tank 78 having a float 87 that moves up and down
And a float sensor 88 for detecting the amount of liquid in the
You. It is also connected to the bottom of the developer system tank 78.
At the entrance of the duct 79, dust is removed from the developing solution flowing out.
A mesh filter 90 to be removed is provided. Therefore, from the developer main tank 42 through the conduit 76
The flowing cold developer first flows into the liquid inflow chamber 78a.
It flows over the upper end of the partition plate 84 and into the upper part of the liquid retaining chamber 78b. Stagnation
The developer in the reservoir 78b is heated by the heater 86. He
The temperature of the developer by the heater 86 is controlled by an electronic control unit described later.
Is maintained at a predetermined temperature. Developer maintained at a predetermined temperature
When the inflow electromagnetic valve 80 opens, the developer nozzle 82
leak. Next, a developing tank 96 where the development of the photosensitive material PM is actually performed is performed.
The outline configuration of the surroundings and the outline of the operation will be described. Present
Below the introduction roller 41 for introducing the photosensitive material PM into the image section 70,
Fig. 5 Entrance row that rotates in the direction of arrow X and sends photosensitive material PM
La pair 92 is provided, and further below it,
Guides the photosensitive material PM in contact with the material PM and transfers it to the photosensitive material PM during transport.
A so-called waist-free roller 94 is provided. The developing tank 96 has a substantially U-shaped cross section and is shown in FIG.
The width of the photosensitive material PM has a width corresponding to
Form 95. The developing tank 96 contains a developing process.
A little distance from the bottom of the developing tank 96 over the width of the tank 96
The developer supply roller 98 is disposed at a position where the separation is left.
You. Therefore, the developer is stored in the storage section 95 of the development processing tank 96.
If it is, the lower part of the developer supply roller 98 is partially immersed in the developer.
I do. The surface of the developer supply roller 98 is made of a sponge material.
The bubbles that make up the sponge are individually isolated.
It is a standing bubble (single bubble). Developer supply low
As shown in FIG. 4, the developer 98 is dropped from the top
Development that temporarily stores the liquid between the developer supply roller 98
The liquid temporary storage unit 100 is assembled. The bottom of the developing tank 96 is shown in FIGS.
As shown in FIG.
Developed by a plurality of communication courses 102 opened at the bottom of the bath 96
The liquid can flow in. Inside the bottom sump chamber 101
Has two bar heaters 103 for heating the developer.
You. At the center bottom of the bottom reservoir 101, open and close the pipeline
It communicates with the bottom reservoir 101 via the discharge solenoid valve 104.
Developer that discharges used developer to waste liquid receiving tray 106
A discharge pipe 108 is provided continuously. On the transport side of the photosensitive material PM in the developing tank 96,
Guide plate 110 having a predetermined elevation angle α
You. Guide plate 110 reduces contact resistance with photosensitive material PM
(See Fig. 3).
Of the developed photosensitive material PM toward the squeezing roller pair 109 in the fixed section 72
Form an entry path. The lower surface of the guide plate 110 has a self-temperature
A heating planar heater 112 having an adjustment function is attached.
I have. As shown in FIG. 3, the planar heater 112
The mounting bracket 113 provided on the treatment tank 96 side and other metal
Tool, it is integrally fixed to the guide plate 110. The detailed configuration of the developing tank 96 will be described. Development
As shown in FIG. 3, the storage section 95 of the treatment tank 96 has a curved periphery.
On both sides of the face plate 120, a substantially half-moon shaped side plate 122 (in the figure,
(The side plate on the left side is omitted)
It is formed by fixing. Guide plate 1 for peripheral plate 120
At the approximate center of the 10 side, a through hole 126 penetrating the peripheral plate 120
Is provided. The developer is supplied from the developer nozzle 82.
When the amount of liquid in the storage section 95 increases due to the
Outflow from 126. Therefore, the developer level in the reservoir 95 is
Is held at the height of the through hole 126. The discharge solenoid valve 104 immediately below the developing tank 96 has a
As shown in FIG. 1, a drip-proof cover 114 is provided,
Prevents developer from dropping from bath 96 or guide plate 110
doing. The temporary developer storage 100 is shown in FIGS. 4 and 5.
As shown in detail, both ends of the developer supply roller 98 are
Two end face plates 134 that contact the roller while allowing rotation of the roller,
The end plate 134 is fixed at both ends.
And a support plate 136. Also, the upper plate constituting the support plate 136
At the position corresponding to the center of 136a, the tip of the developer nozzle 82,
A liquid passage hole 138 is provided, while a spine constituting a support plate 136 is provided.
The plate 136b is urged toward the developer supply roller 98,
Stainless steel leaf spring 140 that contacts the outside of the roller 98
Is provided. Immediately below the liquid passage hole 138, start from the center of the front end of the upper plate 136a.
The liquid receiving plate 142 is connected to the leaf spring 140.
A slight gap is provided between the tip of the liquid receiving plate 142 and the leaf spring 140.
Is provided. The developer supply roller 98 and both end faces
The end face plate 134 in contact and the plate in contact with the outer peripheral surface of the roller 98
The portion surrounded by the spring 140 is covered with the developer supply roller 98.
In the part of, together with the fact that it rotates upward,
Temporarily store the developer dropped from the developer nozzle 82
be able to. This part is called a liquid pool part 143. The liquid receiving plate 142 is used to supply the developing solution to the developing solution supply roller 98.
Plays the role of efficiently spreading in the axial direction of the
Even if the plate 142 is not provided, the developer temporarily collects in the liquid reservoir 143.
The developer supply roller 98 spreads in the axial direction.
Not really. The developer dropped from the developer nozzle 82 is shown in FIG.
As shown in FIG. 5, the liquid receiving plate 1
42, formed between both ends of the liquid receiving plate 142 and the leaf spring 140.
Flow along the surface of the leaf spring 140 from the slight gap
You. In other words, the developing solution supply roller 98 spreads along the axial direction.
It reaches the liquid pool part 143 while falling, and is temporarily stored here.
It is. Some of the developer stored in the liquid reservoir 143 is
Individual bubbles in the single bubble layer on the surface of the image supply roller 98
The developer supply roller 98 is uniformly held in the axial direction.
With rotation of the image liquid supply roller 98 in the Y direction shown in FIG.
Pumped out. The lower portion of the developer supply roller 98 is stored in a developing tank 96.
The developer supply roller is immersed in the retained developer.
The new developer pumped out with the rotation of 98 has already been stored.
It is supplied into the retained developer. The new developer is
The photosensitive material PM diffuses evenly to the loading side of the developing tank 96.
Will be. The developer is supplied and the developer in the reservoir 95 is
Increases, the amount corresponding to the newly supplied developer
Of the developer excluding the developer lost when the photosensitive material PM is carried out
The developer (old developer) flows from the through-hole 126 in the peripheral plate 120 to the outside.
And the amount of developer in the developing tank 96 is balanced.
You. The developer also flows into the bottom liquid storage chamber 101,
It is heated by two built-in rod heaters 103
You. The heated developer is supplied to the reservoir 95 through the communication hole 102.
Convection between and. Energization of the rod-shaped heater 103 is a temperature detector
Feedback control based on developer temperature detected by
In addition to the fact that the developer
Is raised in a very short time and maintained at a predetermined temperature. When the photosensitive material PM passes through the developer reservoir 95 of the developing tank 96,
For example, sludge is mixed into the developer with the development of the photosensitive material PM.
Enter. These sludges are collected from the bottom 95
After flowing into the chamber 101 and the discharge solenoid valve 104 is opened, the developing
Along with the liquid, the waste liquid receiving tray 106
Is discharged. Next, conveyance to the photosensitive material PM will be described. Entrance roller pair
The exposed photosensitive material PM sent by 92 is
While entering the storage section 95 while being guided by the
It passes through the inside of the storage part 95 along the inner peripheral surface of 0. Inside storage unit 95
While passing through the developer supply roller 98 as described above.
Development processing tank with a focus on new developer diffused from the bubble layer
96 reacts with the developer stored in
Processing is started. The photosensitive material PM is provided between the developer supply roller 98 and the peripheral surface.
After passing through the storage section 95 through the gap with the plate 120,
At the entrance of the stabilizer 72 along the upper surface of the guide plate 110
It is sent out to the selected squeezing roller pair 109. Guide plate 1
Atmospheric temperature on 10 is a planar heater with temperature control function
Is the temperature near the specified temperature due to heating by 112?
Also, while the paper is being conveyed on the guide plate 110, the PM
Development of photosensitive material PM is continued by the developer adhering to the surface
I do. The developer adhering to the surface of the photosensitive material PM
It is squeezed out and removed by the la pair 109. Next, the stabilizing part, which is a stabilizing system
72 will be described with reference to FIG. The same member or the same machine as the developing unit 70 described above is used.
The description of the members having the function is omitted, and the developing unit is omitted.
Auxiliary code A is added to the code (numerical value) used for description in 70.
In addition, it shall be expressed. The stabilizing section 72 serves as a stabilizing agent supply system.
Stabilizer main tank 43
Liquid level control cylinder 74A to which the stabilizer main tank 43 is attached and detached,
Stabilizer cistern tank 7 with partition plate 84A standing inside
8A, liquid level control cylinder 74A and stabilizer cistern tank 78A
Stabilization with conductive tube 76A and inflow solenoid valve 80A
It has an agent nozzle 82A and the like. Stabilizer cistern tank 78A
In the same manner as the developer cistern tank 78, the float 87
Also equipped with float sensor 88A with A and mesh filter 90A
Has been obtained. Inlet solenoid valve 80A and stabilizer nozzle 82A
Stabilizer from the cistern tank 78A
When flowing out, the stabilizer flows in from the conduit 76A
I do. With respect to the other components of the stabilizer 72,
This will be briefly described. At the upper end of the guide plate 110 of the developing section 70
The photosensitive material PM that has passed through the positioned squeezing roller pair 109 becomes the photosensitive material P
The guide cover 144 and the
Guided by the lead roller 146, transported to the stabilization tank 96A
Is entered. At the entrance of the stabilization tank 96A,
A free roller 94A for providing a loose waist is provided. Cheap
The stabilizing process 96A, which forms the stabilizing agent reservoir 95A,
Similar to the processing tank 96, the sponge-type stabilizer supply roller 98A
With the stabilizer supply roller 98A
A temporary storage section 100A for forming the stabilizer 143A is provided.
Supply the stabilizer to the loading side of the photosensitive material PM in the storage section 95A.
You. On the other hand, at the bottom of the stabilization tank 96A,
Similarly, a bottom liquid storage chamber 101A is provided. Drip-proof cover
Used when the discharge solenoid valve 104A with 114A is opened
Of the bottom liquid via the stabilizer discharge pipe 108A.
Waste liquid receiving tray from bottom liquid storage chamber 101A through storage chamber 108A
It is discharged to 106A. Note that the stabilizer controls the temperature.
Since there is no need to install a heater in the bottom liquid reservoir 101A,
I haven't. Downstream of stabilization tank 96A along photosensitive material PM transport path
Is the guide plate 11 that forms the entry path of the stabilized photosensitive material PM.
0A is placed inclined from the stabilization tank 96A upward.
In the upper direction of the guide plate 110A, the arrow Z in FIG.
Rotating the stabilized photosensitive material PM to the drying unit 50 (Fig. 2
While transporting it toward the roller pair 51).
Squeezing roller pair 109A is provided to squeeze the appropriate stabilizer.
I have. Note that the stabilizer supply roller 98A and each throttle row
The roller pair 109 and 109A are shared with the rollers of the developing tank 96 described above.
Are driven by a common drive source and rotated synchronously. Rotation in the direction of arrow Z in FIG.
While transporting the photosensitive material PM, excess developer and
Squeezing roller pairs 109 and 109A for squeezing and stabilizing
The plane passing through the center of each roller is
Tilt counterclockwise by β from the vertical plane passing through the center
It is provided. Therefore, this squeezing roller pair 109,10
When the photosensitive material PM is sandwiched between 9A, the squeezing roller pair 109 and 109A
The transport direction of the photosensitive material PM in minutes is only the angle corresponding to the angle β
It faces downward. As a result, squeezed developer or stable
During the passage of the light-sensitive material PM, the light-sensitive material PM and the squeezing roller pair 109, 10
Staying between 9A and dropping on the side of the photosensitive material PM
And not. Development while staying at each squeezing roller pair 109,109A during transport of photosensitive material PM
After cutting the photosensitive material PM, the end surface of the liquid or stabilizer
At the same time as passing through
Of each pair of rollers 109 and 109A along the lower roller surface.
Right squeezed liquid collecting plate disposed below the roller pair 109,109A
152 or drop on the left squeeze liquid collecting plate 154,
It flows into the ray 106A. Each scraper roller pair 109, 109A has two scrapers
150 is provided at a position where the tip of the
Have been. The scraper 150 does not scratch the roller surface.
To increase the life of the scraper 150 itself.
For this purpose, use a stainless steel plate or
The stainless steel plate whose end is covered with plastic
It is made of a material having elasticity and elasticity. Scraper 150
Plastics that cover the tip of
Chemical resistance and abrasion resistance to processing liquids such as steal and vinyl chloride
A material having wear resistance can be used. Scraper
Sludge and waste liquid scraped off by 150 are squeezed to the right
Drops on the liquid collecting plate 152 and the left liquid collecting plate 154,
Collected in the liquid receiving tray 106A. In addition, stable with the developing unit 70
A waste liquid tank 156 is provided in each of the waste liquid receiving trays 106 and 106A of the section 72.
Is provided to each tray 106, 106A.
The collected waste liquid is finally discharged through a pipe 158 to a waste liquid collector.
Collected at Nk 156. In the stabilizing section 72 configured as described above, the developing section 70
The developed photosensitive material PM is sent to the squeeze roller pair 109.
The remaining developer is squeezed out, and the free roller 94A
It is carried into the storage part 95A while being guided by the like. Sensitive material P
The stabilization process starts when M enters the stabilizer in the storage section 95A
After passing through the storage section 95A, it is placed on the upper surface of the guide plate 110A.
The stabilization process proceeds during the transfer. Aperture low
Extra stabilization from the top of the photosensitive material PM when passing through the pair 109A
After the agent is squeezed out, the photosensitive material PM is then removed by the roller pair 51.
And transported to the drying unit 50. Next, temperature control in the developer cistern tank 78 etc.
Control device that controls the drive of the developer and developer supply roller 98, etc.
The device 60 will be described with reference to the block diagram shown in FIG.
You. As shown in FIG. 6, the electronic control unit 60 includes a well-known CPU 1
Built-in 62, ROM164, RAM166 and multiple self-running timer counters
Configured as a predicate logic operation circuit with the timer 168 etc.
Connected to each other via a common bus 170.
Exposure output port 172, development input port 174, development output
An input / output interface such as a power port 176 is provided. Ma
The common reservoir 170 of the electronic control unit 60 has a bottom reservoir.
The developer and the developer system in the reservoir 95 communicating with the chamber 101
Temperature adjustment for adjusting the temperature of the developer in the turn tank 78
A circuit 178 and a console for the operator to make various settings
To the control panel 4. The exposure output port 172 has a drive
A motor 13; a cutting device 27 for cutting the photosensitive material PM;
A light source 31 for irradiating the document in the document holder 10 with light;
From the first photosensitive material roll 21 or the second photosensitive material roll 22 to the photosensitive material PM
Motor 28 for sending out the light, and uniformly exposing the photosensitive material PM
LED38 for drying and drying to dry the stabilized photosensitive material
The unit 50 is connected. On the other hand, the developer input port 174
Float sensor 88 and stabilizer cistern in tank 78
Is connected to the float sensor 88A in the
Each roller of the processing unit 44 is connected to the image output port 176.
Drive motor 180, which is driven synchronously, and developer nozzle 82
The inflow solenoid valve 80 and the stabilizer nozzle 82A
The inflow solenoid valve 80A and the developer discharge pipe 108
Installed in the discharged electromagnetic valve 104 and the stabilizer discharge pipe 108A.
The discharged electromagnetic valve 104A and the atmosphere near the guide plate 110.
The sheet heater 112 for heating to a certain temperature
Has been continued. The temperature adjusting circuit 178 includes a developing solution cistern tank.
The temperature of the heater 86 and the tank
A temperature sensor 85 to be detected, and a temperature sensor 85
Two rod-shaped heaters 103 and the liquid in the liquid storage chamber 101.
A temperature sensor 103a for detecting a temperature is connected. this
The temperature adjustment circuit 178 is provided for storing the developer and the developer in the reservoir 95.
Set the temperature of the developer in the cistern tank 78 to a predetermined temperature.
Control the heating of each of the above heaters to maintain the
Signal indicating whether the temperature is maintained within a predetermined temperature range
Is output to the CPU 162. Next, the process executed by the electronic control unit 60 will be described with reference to the flowchart.
This will be described using a chart. Example slit exposure type
The processing executed by the copying camera 1 is executed when the power is turned on.
Initial processing routine until exposure and development are possible
A standby processing routine to wait for exposure and development of the photosensitive material PM
Exposure / development processing routine. No.
FIG. 7 is a flowchart showing an initial processing routine, FIG.
Is a flowchart showing a standby processing routine, and FIG.
9 is a flowchart illustrating a light development processing routine. Power is supplied to the slit exposure type copying camera 1 of this embodiment.
Then, the electronic control unit 60 first performs the initial processing shown in FIG.
Execute the logical routine. This process is a slit exposure type
This is a process that is executed only once when the transfer of the
You. When this routine is started, first, the discharge solenoid valves 104, 10
4A is opened (Step S10), and development is performed.
Tank 96 and stabilization tank 96A (hereinafter, if necessary,
Developer also remains in the processing tank 96).
Or a stabilizing agent (hereinafter collectively treated as necessary)
Drainage time is sufficient for all of the
Only wait (step S20). Stored in processing tank 96
Since the amount of processing solution is fixed, set the discharge time in advance.
It is easy to keep. After waiting for the discharge time, close the discharge solenoid valves 104 and 104A.
(Step S30), then open the inflow solenoid valves 80 and 80A
(Step S40), and further output ports for development.
The process of starting the movement of the drive motor 180 via the port 176
Perform (Step S50). Inlet solenoid valves 80 and 80A open
Then, the developer system tank 78 and the stabilizer system
The processing liquid is supplied from the developer tank 78A to the developer nozzle 82,
Begins to flow out through the chisel 82A and is developed by the drive motor 180
The rotation of the liquid supply roller 98 and the modifier supply roller 98A causes
The processing solution is supplied to the processing tank 96. Since the processing liquid is gradually stored in the processing tank 96,
Wait for the set storage time (time required for storage)
From (Step S60), close the inflow solenoid valves 80 and 80A
Processing (step S70), stop the drive motor 180, and
(Step S80).
As a result, each processing tank 96 is required for development and stabilization processing.
Filled with volume of processing solution. After the storage of the processing liquid is completed, the developer temperature is adjusted.
A start instruction is output to the temperature adjustment circuit 178 (step S9
0). Upon receiving this instruction, the temperature adjustment circuit 178
Energizes heaters 86 and 103 while referring to detection signals of 85 and 103a
The developer solution tank 78 and the developing tank 96
Control the temperature of the developer within the range of about 28 ° C to 31 ° C.
You. The temperature adjusting circuit 178 heats the developing solution and
When controlled within the box, a signal indicating that temperature adjustment has been completed
Is output to the CPU 162. Therefore, this adjustment completion signal is input
(Step S100) until this signal is input.
Is warmed up on the console panel 4
Is displayed (step S110), and initial processing is performed.
Assuming that all the processes have been completed, the process proceeds to the next standby process. By executing the initial processing described above, the slip
The development processing device 40 of the exposure-type copying camera 1 includes a development processing tank.
96, processing solution (developer and
And stabilizing agent) together with sludge, etc.
And the temperature of the developer to the appropriate temperature required for processing.
adjust. In the standby processing executed after the end of the initial processing, FIG.
As shown in FIG.
Key input (step S200) and enter the key
Settings such as the size of the original and the degree of exposure
The user makes settings (step S210). Next, the developer
Stern tank 78 and stabilizer cistern tank 78A
Read the status of each float sensor 88, 88A (step
S220), determine whether the float sensors 88 and 88A are on.
Disconnection is performed (step S230). Float sensor 88, 88A
OFF, ie developer cistern tank 78 or stabilizer
If the level of the cistern tank 78A is low,
Or, instruct the replenishment of stabilizer main tanks 42 and 43,
Perform processing to be displayed on the console panel 4 (step
Step S235), the above-described processing is repeated from step 200. On the other hand, if the float sensors 88 and 88A are both on (the
Step S230) Then, determine whether the temperature of the developer is appropriate
(Step S240) and, if appropriate, the console
Start key on the control panel 4
It is determined whether the switch is turned on (step S250). developing
The temperature of the liquid is adjusted by a temperature adjustment circuit 178,
If the initial processing (Fig. 7) is completed, the temperature should be appropriate
However, the temperature drops due to the failure of the heaters 86 and 103.
I'm checking again here
It is. Incorrect temperature or start key turned on
If not, repeat the processing from step 200 described above.
You. If the start key is pressed and turned on, the exposure
・ Transfer to development processing. Development / exposure processing starts
First, as shown in Fig. 9, it is necessary to start exposure.
Various processes are executed (step S300). Exposure start processing
Here, the transfer of the document holder 10 on which the document is placed
Sending out the photosensitive material PM synchronized with this, and the processing unit
Processing unit 44 by drive motor 180 which is the drive source of 44
This is a process for starting rotation of each roller in the inside. Continued
And turn on the drying unit 50 to start blowing hot air
(Step S310), a flag indicating that the exposure process is being performed.
Is set to the value 1 (step S320), and whether the exposure starts
The first timer counter in the timer 168 that counts the time
(T1 ← 0) to start the data T1 (step
S330). Next, the timer counter T1 and the developer inflow start timing T
Is compared with AON (step S340), and the timer counter T1
It waits until the developer inflow start timing TAON is reached. T
When 1 = TAON, the solenoid valve 80 for inflow of developer is opened
(Step S350), the developer supply roller of the developing tank 96
Start supplying new developer to 98. That is, in FIG.
As shown in the timing chart, from the start of the exposure process
Is delayed and prior to loading the photosensitive material PM into the developing tank 96,
The supply of the developer is started. Next, the timer counter T1 is a solenoid valve for inflow of the stabilizing agent.
It is determined whether the 80A valve opening timing TSON has been reached.
(Step S360). Timer counter T1 is open
When TSON is reached, solenoid valve 80A for inflow of stabilizer
Is performed (step S370). In addition, valve opening
Until the timing TSON is reached, the solenoid valve 8
The process proceeds to the next process without performing the process of opening 0A. This
As a result, as shown in FIG.
After a predetermined time has passed since the opening of the valve and the stabilization tank for the photosensitive material PM
Prior to loading into 96A, the supply of stabilizer was started.
You. Next, the flag F indicating that exposure is being performed has a value of 1.
It is determined whether or not this is the case (step S380). During the exposure process
The flag F has a value of 1 (set in step S320),
In this case, it is determined whether the exposure has been completed.
Perform (Step S390). Original holder 10
When the necessary exposure processing is completed
In this case, an exposure end process (step S400) is executed. This
Here, the exposure completion processing is performed after the conveyance of the document holder 10 is completed.
Processing to return the original holder 10 to the initial position and sending out the photosensitive material PM
And the cutting device 27 is driven to remove the photosensitive material PM.
This is processing such as cutting at the end of the exposure area. After execution of the exposure end processing (step S400), the exposure processing
Processing for resetting the flag F to a value of 0 is determined as completed.
Now (step S410). After that, the time from the end of exposure
Start the second timer counter T2 in the timer 168
A process (T2 ← 0) is performed (step S420). In the above description, the manuscript has a predetermined length or more,
Before the exposure processing is completed, the tip of the photosensitive material PM is placed in the stabilization tank 96A.
However, the length of the original is short and the exposure
When the processing is completed, the tip of the photosensitive material PM reaches the stabilization tank 96A.
It is possible that they are not. In this case, step S360
Before the judgment in step S390 becomes "YES", the judgment in step S390
The answer is "YES" and the solenoid valve 80A for inflow of the stabilizer is opened before opening.
Because the second timer counter T2 starts
You. After starting the timer counter T2 (step S42
0), the timer counter T2 closes the developer inflow solenoid valve 80
It is determined whether or not the valve timing TAOFF has been reached.
Tep S430). Valve closing timing TAOFF must be reached
If the above processing is repeated from step S360 via the connection point
Return. On the other hand, the timer counter T2 is
If it does, the process for closing the developer inflow solenoid valve 80 is closed.
Is performed (step S440). Valve closing timing TAOFF
Indicates that the end of the photosensitive material PM undergoes development processing in the development processing tank 96.
Developer can be supplied by the developer supply roller 98
It is time to secure time. Therefore, as shown in FIG.
As shown in FIG.
Later, and the end of the exposed photosensitive material PM exits the developing tank 96
The valve is closed at a timing prior to After the inflow solenoid valve 80 is closed or the timer counter T2
After the timing TAOFF, the timer counter
T2 is the valve closing timing TSOF of the solenoid valve 80A for inflow of the stabilizer
It is determined whether or not F has been reached (step S450). Ta
Ima counter T2 must have reached valve closing timing TAOFF
If the connection point is
, The above-described processing is repeated from step S360. one
When the timer counter T2 reaches the timing TSOFF
Process to close solenoid valve 80A for inflow of the stabilizer.
Now (step S460). The valve closing timing TSOFF is a sensitive material
PM ends at stabilization tank 96A
Necessary stabilizer can be supplied by stabilizer supply roller 98A
This is the timing to secure an efficient time. Therefore, FIG.
As shown in the figure, the solenoid valve 80A for inflow of the stabilizer
Before the end of the photosensitive material PM exits the stabilization tank 96A,
The valve is closed at the time of imming. After closing the inflow solenoid valve 80A of the stabilizer, only time T3
Wait (step S470) and let the photosensitive material PM pass through the drying unit 50
The drying unit 50 and the drive motor
A process for turning off 180 and the like is performed (step S480). That
Thereafter, the process returns to the standby processing (FIG. 8), and the console panel 4
The process is repeated from the point where the key input is input. As described above, this slit exposure type copying camera
According to the developing apparatus 40 of the embodiment incorporated in the first embodiment,
In the image processing tank 96 and the stabilizing processing tank 96A, the developer supply low
The photosensitive material PM is transported by the rotation of the
Supply developer and stabilizer uniformly to the inlet side for development and
And stabilization treatment, so they are carried into each treatment tank 96, 96A.
Sensitive material PM is uniformly affected by the new processing solution,
The development and stabilization processes are performed at a constant rate. new
Is supplied to the photosensitive material PM loading side, that is, the developing process start side.
Supply the developer with the appropriate amount of developer.
Can be applied to the photosensitive material PM efficiently in the early stage of development.
In this case, the development quality can be further improved. Moreover, the photosensitive material PM that has exited the processing tanks 96 and 96A can still react.
A small amount of developer and stabilizer
Storing only the silver halide type for direct plate making
Thoroughly develop and stabilize PM material
Can be. Therefore, each processing tank 96, 96A can be downsized,
Processing unit 40 is downsized, and slit exposure type
The size of the rack 1 can be reduced. According to this embodiment, a large amount of developing solution and
Since there is no need to store a stabilizing agent,
Deterioration due to development of the developer and oxidization over time
The plate making quality is always low without any loss or change in force.
Can be kept constant. Low amount of processing solution used overall
Can be reduced. Also, storing a large amount of developer etc.
Sludge remains for a long time and becomes sludge
Never do. Therefore, there is no need to clean the developing tank 96 and the like.
Maintenance work such as washing with water that was conventionally required
No power is needed. Sludge adheres to the bottom of the developing tank 96
And does not hinder the transport of the photosensitive material PM.
Uneven development on the developed photosensitive material PM due to obstruction of the transport of the material PM
There is no problem such as the occurrence. In addition, until a large amount of developer is adjusted to a processable temperature,
Problem of time loss of warm-up at home
Power consumption by only warming a small amount of processing solution.
Is also planned. Also, the developing solution supplied from the developing solution nozzle 82 is supplied to the developing solution.
While spreading along the axial direction of the roller 98, that is, the width of the photosensitive material PM
In the liquid reservoir 143 uniformly over the
Individual bubbles in the single bubble layer on the surface of the liquid supply roller 98
The retained developer (new developer) is supplied to the developer supply roller.
Since it is supplied to the storage unit 95 based on the rotation of 98,
The surface of the developer does not have any irregularities such as ripples.
No. As a result, the developing system based on the disturbance (wave)
(The irregularities that appear on the surface of the photosensitive material
No unevenness occurs. Note that the stabilization layer 96A is also provided with a heater for heating.
It has the same configuration except that it is not
And stabilization have the effect of improving processing quality.
Of course. The embodiment of the present invention has been described above.
The present invention is not limited to the above-described embodiment.
Configuration applied only to one of image processing or stabilization processing,
Replaced the roller that supplies the processing liquid with one that has a single bubble layer
Rough surface polishing roller or porous soft plastic
Feedback control of the developer supply amount.
Device to replace the processing solution remaining in the developing tank
Not only when starting up, but also when processing a given area or number of times
To be executed when is performed, or silver halide method
It has a configuration applied to a developing device for photographic paper and plate making film.
However, various modifications may be made without departing from the gist of the present invention.
Of course, it can be implemented in an embodiment.

【発明の効果】【The invention's effect】

以上詳述したように、本発明の感材処理装置では、ロ
ーラの回転に伴って、新たな処理液を処理槽に均一にか
つ感材の搬入される側に供給することができ、処理槽に
搬入された感材の処理に供することができる。従って、
少量の処理液により感材の処理を効率よくかつムラなく
行なうことができるという優れた効果を奏する。また、
装置の小型化を図ることも可能となる。 加えて、処理液を大量に貯留する必要がないことか
ら、ヘドロ化したスラッジの固着といった現像を生じる
こともなく、処理槽のメンテナンスが不要になるという
利点も得られる。
As described above in detail, in the photosensitive material processing apparatus of the present invention, a new processing liquid can be uniformly supplied to the processing tank and supplied to the side where the photosensitive material is carried in with the rotation of the roller. Can be used for the processing of the photographic material carried into. Therefore,
There is an excellent effect that the photosensitive material can be efficiently and uniformly processed with a small amount of the processing liquid. Also,
It is also possible to reduce the size of the device. In addition, since there is no need to store a large amount of processing liquid, there is an advantage that development such as sticking of sludge sludge does not occur and maintenance of the processing tank is not required.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の一実施例である現像処理装置の構成
図、 第2図は実施例の現像処理装置を組み込んだスリット露
光式複写カメラ1を示す概略構成図、 第3図は現像処理槽96の要部斜視図、 第4図は現像液供給ローラ98及び現像液一時貯留部100
の斜視図、 第5図は現像処理槽96における現像液供給ローラ98や現
像液一時貯留部100等の配置を示す断面図、 第6図は電子制御装置60の構成を示すブロック図、 第7図は電子制御装置60が実行する初期処理ルーチンを
示すフローチャート、 第8図は同じく待機処理ルーチンを示すフローチャー
ト、 第9図は同じく露光・現像処理ルーチンを示すフローチ
ャート、 第10図は感材PMの搬送と各部の動作タイミングを示すタ
イミングチャート、である。 1……スリット露光式複写カメラ 4……コンソールパネル 10……原稿ホルダ、30……投影光学系 40……現像処理装置 42……現像液メインタンク 43……安定化剤メインタンク 44……処理ユニット、50……乾燥ユニット 60……電子制御装置 70……現像部、72……安定部 82……現像液ノズル、82A……安定化剤ノズル 96……現像処理槽、96A……安定化処理槽 98……現像液供給ローラ 98A……安定化剤供給ローラ 100……現像液一時貯留部 100A……安定化剤一時貯留部 162……CPU、PM……感材
FIG. 1 is a configuration diagram of a development processing apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing a slit exposure type copying camera 1 incorporating the development processing apparatus of the embodiment, and FIG. FIG. 4 is a perspective view of a main part of a tank 96, and FIG.
FIG. 5 is a cross-sectional view showing an arrangement of a developer supply roller 98 and a developer temporary storage section 100 in the developing tank 96. FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of the electronic control unit 60. 8 is a flowchart showing an initial processing routine executed by the electronic control unit 60, FIG. 8 is a flowchart showing a standby processing routine, FIG. 9 is a flowchart showing an exposure / development processing routine, and FIG. 5 is a timing chart showing operation timings of conveyance and operation of each unit. 1 ... Slit exposure type copying camera 4 ... Console panel 10 ... Document holder 30, Projection optical system 40 ... Development processing unit 42 ... Development solution main tank 43 ... Stabilizer main tank 44 ... Processing Unit, 50 Drying unit 60 Electronic control unit 70 Developing unit 72 Stabilizing unit 82 Developer nozzle 82A Stabilizer nozzle 96 Development tank 96A Stabilization Processing tank 98: Developer supply roller 98A: Stabilizer supply roller 100: Temporary storage of developer 100A: Temporary storage of stabilizer 162: CPU, PM: Sensitive material

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G03D 3/00 - 5/06──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Fields surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) G03D 3/00-5/06

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】印画紙,ダイレクト製版用の感光紙もしく
はフィルムなどの、銀塩タイプの感材を処理する処理装
置であって、 前記感材用の処理液を貯留する処理槽と、 前記感材を該処理槽の処理液中に搬入する感材搬入手段
と、 前記処理槽に搬入される感材の幅方向に亘って設けら
れ、該処理槽に貯留された処理液に下部が浸漬する位置
に回動可能に軸支されたローラと、 該ローラとその幅方向に亘って外周に押し当てられた部
材との間に、新たな処理液を所定量供給して一旦貯留す
る処理液供給手段と、 前記ローラを前記感材の搬入方向と同方向に回転し、前
記貯留された処理液を、回転するローラの表面に伴って
前記処理槽に供給する回転供給手段と を備えた感材処理装置。
1. A processing apparatus for processing a silver halide type photosensitive material such as photographic paper, photosensitive paper or film for direct plate making, a processing tank for storing a processing solution for the photosensitive material, A photosensitive material carrying means for carrying a material into the processing solution in the processing tank; and a immersion part immersed in the processing solution stored in the processing tank, provided over a width direction of the photosensitive material carried into the processing tank. A processing liquid supply for supplying a predetermined amount of new processing liquid and temporarily storing the processing liquid between the roller rotatably supported at the position and the roller and a member pressed against the outer periphery in the width direction thereof; Means for rotating the roller in the same direction as the direction in which the photosensitive material is carried in, and supplying the stored processing liquid to the processing tank along with the surface of the rotating roller. Processing equipment.
【請求項2】請求項1記載の感材処理装置であって、 処理槽に下部が浸漬されたローラの表面を、気泡が個々
に独立した単独気泡構造のスポンジ質とした感材処理装
置。
2. A light-sensitive material processing apparatus according to claim 1, wherein the surface of the roller, the lower part of which is immersed in the processing tank, is made of sponge having a single-cell structure in which bubbles are individually independent.
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DK91117586T DK0482479T3 (en) 1990-10-23 1991-10-15 Method and apparatus for processing photosensitive material
EP91117586A EP0482479B1 (en) 1990-10-23 1991-10-15 Method and apparatus for processing photosensitive material
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