JP2880820B2 - Sensitive material processing equipment - Google Patents

Sensitive material processing equipment

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JP2880820B2
JP2880820B2 JP3093671A JP9367191A JP2880820B2 JP 2880820 B2 JP2880820 B2 JP 2880820B2 JP 3093671 A JP3093671 A JP 3093671A JP 9367191 A JP9367191 A JP 9367191A JP 2880820 B2 JP2880820 B2 JP 2880820B2
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photosensitive material
processing
light
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sensitive material
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守泰 武田
英二 宮坂
正幸 半田
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、印画紙,ダイレクト製
版用の感光紙もしくはフィルムなどの銀塩タイプの感材
を送りだして処理を行なう感材処理装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light-sensitive material processing apparatus which performs processing by sending out a silver salt type light-sensitive material such as photographic paper, photosensitive paper for direct plate making or a film.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、軽印刷用の刷版を直接製版する複
写カメラでは、露光した感材を静止現像液により処理し
ていた。こうした用途に用いられる感材は、例えば耐水
処理を施したベース(紙)の表面に、ハレーションを防
止する層,光に感じる銀塩乳剤層,銀などの物理現像核
が分散したゼラチンを主体とする親水性の層などが形成
されている。乳剤層は光の照射を受けてその性質を変え
るが、光を受けた乳剤層では、現像液が作用しても還元
した銀の表面層への拡散は阻害される。一方、光の照射
を受けなかった乳剤層では、ハロゲン化銀が錯化されて
表面層に拡散し、そこで物理現像されて金属銀を析出
し、感脂化される。その後、安定化処理を行なって不感
脂化処理を施せば、金属銀の析出したところだけが親油
性を示して印刷インキが載るので、刷版が得られること
になる。
2. Description of the Related Art Heretofore, in a copying camera for directly making a printing plate for light printing, an exposed photosensitive material is treated with a static developer. The light-sensitive material used in such applications is mainly made of, for example, gelatin (having a layer for preventing halation, a silver salt emulsion layer for sensing light, and gelatin in which physical development nuclei such as silver are dispersed on the surface of a water-resistant base (paper)). And a hydrophilic layer. The emulsion layer changes its properties when irradiated with light, but the diffusion of reduced silver to the surface layer is inhibited in the emulsion layer which has been exposed to light even when a developer is applied. On the other hand, in the emulsion layer which has not been irradiated with light, the silver halide is complexed and diffuses into the surface layer, where it is physically developed to precipitate metallic silver and become sensitized. After that, if a stabilization treatment is performed and a desensitization treatment is performed, only the portion where the metallic silver is deposited shows lipophilicity and the printing ink is applied, so that a printing plate is obtained.

【0003】こうした感材は、現像液などの処理液との
反応が極めて短時間に進むため、処理液中で短時間停止
しただけでも、あるいは処理液が波立つだけでも処理に
むらができることが知られている。従って、従来、大き
な槽に大量の処理液を満たし、静止現像液中を、波立た
ないように感材をゆっくりと搬送する浸漬式現像処理を
行なう装置が用いられていたのである。
Since the reaction of such a photosensitive material with a processing solution such as a developing solution proceeds in an extremely short time, even if the processing material is stopped for a short time in the processing solution, or even if the processing solution undulates, the processing can be uneven. Are known. Therefore, conventionally, an apparatus for performing an immersion type developing process in which a large tank is filled with a large amount of a processing solution and the photosensitive material is slowly conveyed in a static developing solution so as not to undulate has been used.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、浸漬式
現像を用いた装置では、大量の処理液を処理槽にためて
おく必要があり、処理する感材の数に応じて処理液が劣
化したり、通常アルカリ性の現像液が酸化したりするこ
とによる現像性能の劣化が避けられないという問題があ
った。また、大量の処理液を必要とするため、装置の使
用開始時に、処理液の温度を処理に適した温度まで昇温
する、いわゆるウォームアップに時間を要するという問
題もあった。ウォームアップの時間を短縮しようとすれ
ば温度調整用のヒータ等を大電力のものにしなければな
らない。
However, in an apparatus using immersion type development, it is necessary to store a large amount of processing liquid in a processing tank, and the processing liquid may deteriorate depending on the number of photosensitive materials to be processed. However, there has been a problem that deterioration of developing performance due to oxidation of a generally alkaline developer cannot be avoided. In addition, since a large amount of processing liquid is required, there is a problem in that when the apparatus is started to be used, the temperature of the processing liquid is raised to a temperature suitable for processing, that is, it takes time to warm up. In order to shorten the warm-up time, a heater or the like for adjusting the temperature must have a large electric power.

【0005】ところで、こうした問題を回避するため、
処理槽における処理液を単に少量としたのでは、搬入さ
れる感材が冬季のように冷えている場合には、感材が処
理液に搬入されることで処理液温度が急激に低下して、
処理品質を十分な高さに維持することが困難となってし
まう。
By the way, in order to avoid such a problem,
If the processing liquid in the processing tank is simply reduced, the temperature of the processing liquid drops sharply as the light-sensitive material is carried into the processing liquid when the incoming light-sensitive material is cold as in winter. ,
It becomes difficult to maintain processing quality at a sufficient height.

【0006】[0006]

【0007】[0007]

【0008】本発明は上記問題点を解決し、処理品質を
維持することを目的としてなされた。かかる目的を達成
する本発明の構成について以下説明する。
The present invention solves the above problems and improves processing quality.
Made for the purpose of maintaining . The configuration of the present invention that achieves the above object will be described below.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の感材処理装置
は、印画紙,ダイレクト製版用の感光紙もしくはフィル
ムなどの、銀塩タイプの感材を処理槽に送り出し、処理
を行なう処理装置であって、前記感材を、前記処理槽に
搬出可能に保管する遮光性の感材保管手段と、該感材保
管手段に保管されている前記感材の温度を制御して、該
感材を予備昇温する予備昇温手段と、前記処理液を貯留
する処理槽と、前記感材を、前記感材保管手段から搬出
し、該処理槽の処理液中に搬入する感材搬入手段と、新
たな処理液を前記処理槽の前記感材の搬入側の処理液中
に、前記感材の幅方向に亘って均一に送り出す処理液拡
散手段と、前記処理槽から前記感材を搬出する搬出手段
とを備えたことを要旨とする。
The photosensitive material processing apparatus of the present invention is a processing apparatus for sending a silver salt type photosensitive material such as photographic paper, photosensitive paper for direct plate making or a film to a processing tank and performing processing. Then, the photosensitive material is transferred to the processing tank.
A light-sensitive material storage means for storing the material so that it can be carried out;
Preheating means for controlling the temperature of the photosensitive material stored in the pipe means to preliminarily raise the temperature of the photosensitive material, a processing tank for storing the processing solution, and storing the photosensitive material in the photosensitive material storage Take out from means
And a sensitizing material carrying means for carrying in the processing solution in the processing tank, and a new processing solution in the processing solution on the loading side of the sensitizing material in the processing tank uniformly over the width direction of the sensitizing material. processing liquid diffusion means and, unloading means for exiting transportable said photosensitive material from said processing bath to feed
The gist is to have

【0010】なお、感材搬入手段による感材の処理槽へ
の搬入を、感材の予備昇温の完了後に開始するものとす
ることができる。
[0010] In addition, to the processing tank of the photosensitive material by the photosensitive material carrying means.
Is to be started after the preliminary heating of the photosensitive material is completed.
Can and Turkey.

【0011】[0011]

【作用】上記構成を有する本発明の感材処理装置は、感
材用の処理液を貯留する処理槽に、処理液拡散手段によ
り、新たな処理液を供給するが、新たな処理液は感材の
搬入側の処理液中に、前記感材の幅方向に亘って均一に
送り出される。この処理槽の処理液中に、感材を、感材
搬入手段により搬入する。搬入される感材は、遮光性の
感材保管手段に保管されており、保管された状態で、
備昇温手段により、感材の温度を制御され予備昇温され
ているから、処理液の温度を低下させることなく、専ら
新たな処理液により処理を受ける。処理の後、感材は、
搬出手段により処理槽から搬出される。
In the photosensitive material processing apparatus of the present invention having the above structure, a new processing liquid is supplied to the processing tank for storing the processing liquid for the photosensitive material by the processing liquid diffusing means. The photosensitive material is uniformly sent out across the width direction of the photosensitive material into the processing liquid on the material carrying side. The photosensitive material is loaded into the processing solution in the processing tank by the photosensitive material loading unit. The light- sensitive material to be carried is light-shielding
It is stored in the light- sensitive material storage means, and in the stored state, the temperature of the light-sensitive material is controlled and pre-heated by the pre-heating means, so that the temperature of the processing solution is reduced and a new one is used exclusively. It is processed by the processing liquid. After processing, the photosensitive material
It is out transportable by from Risho sense tank to carry-out means.

【0012】即ち、本発明の感材処理装置では、感材
は、処理液の急激な温度低下を招かぬよう感材保管手段
において予備昇温されているから、供給される新たな処
理液により適正な温度条件下で処理を受け、処理槽から
搬出される。従って、処理液温度の低下による処理品質
の低下という問題を回避して高い処理品質を維持でき
る。なお、本発明の感材処理装置で処理する感材として
は、製版用の銀塩系感光紙や製版用の銀塩系フィルムの
ほか、銀塩系の印画紙も対象となる。
That is, in the light-sensitive material processing apparatus of the present invention, the light- sensitive material is stored in the light- sensitive material storage means so as not to cause a rapid temperature drop of the processing solution.
In from being pre-heated, subjected to treatment with appropriate temperature conditions by the new process liquid to be supplied from the processing tank
It is carried out. Therefore, high processing quality can be maintained while avoiding the problem of deterioration in processing quality due to a decrease in processing solution temperature.
You. The photosensitive material to be processed by the photosensitive material processing apparatus of the present invention includes silver halide photosensitive paper for plate making, silver halide film for plate making, and silver halide photographic paper.

【0013】[0013]

【実施例】以上説明した本発明の構成・作用を一層明ら
かにするために、以下本発明の感材処理装置の好適な実
施例について説明する。図1は、感材処理装置の一実施
例である現像処理装置の構成図、図2はこの現像処理装
置を組み込んだスリット露光式複写カメラ1を示す概略
構成図である。スリット露光式複写カメラ1は、原稿を
複写して軽印刷用の刷版を作製する装置である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In order to further clarify the structure and operation of the present invention described above, a preferred embodiment of the photographic material processing apparatus of the present invention will be described below. FIG. 1 is a configuration diagram of a development processing apparatus as an embodiment of a photosensitive material processing apparatus, and FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing a slit exposure type copying camera 1 incorporating the development processing apparatus. The slit exposure type copying camera 1 is a device for copying a document to produce a printing plate for light printing.

【0014】まず、図2に従って、スリット露光式複写
カメラ1の全体構成について説明する。図示するよう
に、このスリット露光式複写カメラ1は、筐体2内に後
述する投影光学系や現像処理装置を組み込んだものであ
り、筐体2の上面に設けられたコンソールパネル4と、
筐体2の上面にそって水平方向(図における矢印A方
向)に往復動可能に構成された原稿ホルダ10と、シー
ト状の感材PMを露光位置に搬送する感材搬送装置20
と、原稿ホルダ10内に保持された原稿に光を照射する
と共に原稿で反射された光を感材PM上面に投影してこ
れを露光する投影光学系30と、露光済みの感材PMの
現像および安定化処理を行なう現像処理装置40と、現
像処理装置40から搬出された感材PMを乾燥させる乾
燥ユニット50と、種々のモータや後述の電磁弁等の駆
動制御を司る電子制御装置60とを備える。
First, the overall configuration of the slit exposure type copying camera 1 will be described with reference to FIG. As shown in the figure, the slit exposure type copying camera 1 incorporates a projection optical system and a development processing device described later in a housing 2, and includes a console panel 4 provided on an upper surface of the housing 2,
A document holder 10 configured to be reciprocally movable in a horizontal direction (the direction of arrow A in the figure) along the upper surface of the housing 2 and a light-sensitive material transport device 20 that transports a sheet-shaped light-sensitive material PM to an exposure position
A projection optical system 30 for irradiating the document held in the document holder 10 with light and projecting the light reflected by the document onto the upper surface of the photosensitive material PM to expose the same, and developing the exposed photosensitive material PM. And a stabilizing process, a drying unit 50 for drying the photosensitive material PM carried out from the developing device 40, and an electronic control unit 60 for controlling the driving of various motors and solenoid valves to be described later. Is provided.

【0015】コンソールパネル4は、露光条件の設定等
を行なう各種設定スイッチや、電源スイッチ,スタート
スイッチ等が設けられており、オペレータにより操作さ
れる。コンソールパネル4の各スイッチは、電子制御装
置60に接続されている。原稿ホルダ10は、透明なガ
ラス板で構成された原稿台11と開閉自在な原稿カバー
12とを備えており、原稿は原稿台11と原稿カバー1
2との間に下向きに保持される。この原稿ホルダ10
は、筐体2に設けられたモータ13により、スプロケッ
ト,チェーン,ベルト等の図示しない駆動系を介して、
水平方向に往復駆動され、露光用の照射光源に対して原
稿を搬送する。
The console panel 4 is provided with various setting switches for setting exposure conditions and the like, a power switch, a start switch, and the like, and is operated by an operator. Each switch of the console panel 4 is connected to the electronic control unit 60. The document holder 10 includes a document table 11 made of a transparent glass plate and a document cover 12 that can be opened and closed.
2 is held downward. This document holder 10
Is driven by a motor 13 provided in the housing 2 through a drive system (not shown) such as a sprocket, a chain, and a belt.
The document is reciprocally driven in the horizontal direction, and conveys a document to an irradiation light source for exposure.

【0016】感材搬送装置20は、第1の感材ロール2
1,第2の感材ロール22の他、第1の感材ロール21
からの感材送り出し専用のローラ対23,第2の感材ロ
ール22からの感材送り出し専用のローラ対24および
各感材ロールからの感材送り出しに共通して用いる2つ
のローラ対25,26を備えており、必要に応じてどち
らか一方の感材ロール21もしくは22からシート状の
感材PMを送り出す。本実施例では、感材PMとして、
シルバーマスター(製品名:三菱製紙株式会社製、型式
SLM−R2)を用いたが、銀塩系の製版用感光紙であ
れば、スーパーマスター(製品名:アグファゲバルト社
製、型式SPP)などや、通常の銀塩フィルム,高感度
PS版も用いることができる。
The photosensitive material transport device 20 includes a first photosensitive material roll 2.
1, the first photosensitive material roll 21 in addition to the second photosensitive material roll 22
, A pair of rollers 24 dedicated to sending out the photosensitive material from the second photosensitive material roll 22, and two pairs of rollers 25, 26 commonly used for sending out the photosensitive material from each photosensitive material roll. And sends out a sheet-shaped photosensitive material PM from either one of the photosensitive material rolls 21 or 22 as necessary. In this embodiment, as the photosensitive material PM,
A silver master (product name: manufactured by Mitsubishi Paper Mills, model SLM-R2) was used, but if it is a silver salt-based photosensitive paper for plate making, a super master (product name: manufactured by Agfagebalt, model SPP), etc. Ordinary silver halide films and high-sensitivity PS plates can also be used.

【0017】感材がロール状の形態に巻きとられた第
1,第2の感材ロール21,22は、通常幅が異なる2
種類の感材であり、実施例のスリット露光式複写カメラ
1では、これを同時に装着可能となっている。第1,第
2の感材ロール21,22を装着するには、筐体2の第
1,第2マスタ室21a,22aの扉21b,22bを
開き、シャフトに感材ロール21,22を回転可能に通
した状態で、このシャフトの両端を第1,第2マスタ室
21a,22aの両側面の所定の位置に嵌合・固定す
る。なお、感材ロール21,22の装着は、感材ロール
21,22を専用のマガジン内に収納した状態で行なっ
てもよい。
The first and second photosensitive material rolls 21 and 22 in which the photosensitive material is wound into a roll form usually have different widths.
The slit exposure type copying camera 1 of the embodiment can be mounted at the same time. To mount the first and second photosensitive material rolls 21 and 22, the doors 21b and 22b of the first and second master chambers 21a and 22a of the housing 2 are opened, and the photosensitive material rolls 21 and 22 are rotated on the shaft. In a state where the shaft is passed through, both ends of the shaft are fitted and fixed to predetermined positions on both side surfaces of the first and second master chambers 21a and 22a. The mounting of the photosensitive material rolls 21 and 22 may be performed with the photosensitive material rolls 21 and 22 stored in a dedicated magazine.

【0018】図2は、感材PMが、第1の感材ロール2
1からシート状に引き出され、3組のローラ対23,2
5,26によって順次その下流に搬送されている状態を
示している。第2の感材ロール22の感材PMを用いる
場合には、上記ローラ対23に替わるローラ対24と2
組のローラ対25,26によって、感材PMが第2の感
材ロール22からシート状に引き出され搬送される。な
お、第1の感材ロール21または第2の感材ロール22
からの感材PMの送り出しは、原稿ホルダ10の水平方
向移動に同期して行なわれる。
FIG. 2 shows that the photosensitive material PM is a first photosensitive material roll 2.
3 and a pair of rollers 23, 2
5 and 26 show a state where the sheet is sequentially conveyed downstream. When the photosensitive material PM of the second photosensitive material roll 22 is used, the roller pairs 24 and 2 instead of the roller pair 23 are used.
The photosensitive material PM is pulled out from the second photosensitive material roll 22 into a sheet shape and transported by the pair of roller pairs 25 and 26. The first photosensitive material roll 21 or the second photosensitive material roll 22
Is sent out in synchronization with the horizontal movement of the document holder 10.

【0019】こうして搬送された感材PMは、2組のロ
ーラ対25,26の間に設定された露光位置にて露光さ
れ、この露光位置における感材PMの裏面側に設けられ
た切断装置27により、コンソールパネル4を用いて設
定された寸法に切断される。感材PMを露光する投影光
学系30は、原稿ホルダ10内に保持された原稿の幅方
向に亘って光を照射するための光源31と、原稿からの
反射光LBを反射する3つのミラー32a,32b,3
2cからなるミラー群32と、露光位置の感材PM上面
に原稿の像を結像させる投影レンズ33と、感材PM上
面に投影される反射光LBの幅を制限するスリット34
とを備える。投影レンズ33とミラー群32を構成する
ミラー32b,32cとは、傾斜台35上に取り付けら
れたミラー支持板36およびレンズ支持台37にそれぞ
れ固定されており、この投影光学系30における投影倍
率は値1に設定されている。なお、上記ミラー支持板3
6およびレンズ支持台37は、投影倍率のアライメント
の際に傾斜台35上でその位置が調整され、アライメン
ト完了後に傾斜台35に固定される。
The photosensitive material PM thus conveyed is exposed at an exposure position set between the two pairs of rollers 25 and 26, and a cutting device 27 provided on the back side of the photosensitive material PM at this exposure position. As a result, the panel is cut into dimensions set using the console panel 4. The projection optical system 30 for exposing the photosensitive material PM includes a light source 31 for irradiating light in the width direction of the document held in the document holder 10, and three mirrors 32a for reflecting the reflected light LB from the document. , 32b, 3
2c, a projection lens 33 for forming an image of the original on the upper surface of the photosensitive material PM at the exposure position, and a slit 34 for limiting the width of the reflected light LB projected on the upper surface of the photosensitive material PM.
And The projection lens 33 and the mirrors 32b and 32c constituting the mirror group 32 are fixed to a mirror support plate 36 and a lens support 37 mounted on an inclined base 35, respectively. The value is set to 1. The mirror support plate 3
The positions of the lens 6 and the lens support table 37 are adjusted on the inclined table 35 during alignment of the projection magnification, and are fixed to the inclined table 35 after the alignment is completed.

【0020】光源31から原稿に向けて照射された光は
原稿下面で反射し、この反射光LBはミラー群32の各
ミラーで順次反射され、投影レンズ33とスリット34
とを通過した後、感材PMの感光面に結像される。従っ
て、搬送されつつある感材PMの感光面には、原稿の幅
方向に亘るスリット状画像が投影される。感材PMの搬
送は、原稿ホルダ10の水平方向移動に同期しているの
で、原稿ホルダ10の水平方向の移動が完了すると、原
稿全体の露光が完了することになる。
The light emitted from the light source 31 toward the original is reflected by the lower surface of the original, and the reflected light LB is sequentially reflected by each mirror of the mirror group 32, and is reflected by the projection lens 33 and the slit 34.
Are formed on the photosensitive surface of the photosensitive material PM. Therefore, a slit-like image is projected on the photosensitive surface of the photosensitive material PM being conveyed, extending in the width direction of the document. Since the transport of the photosensitive material PM is synchronized with the horizontal movement of the document holder 10, when the horizontal movement of the document holder 10 is completed, the exposure of the entire document is completed.

【0021】なお、ローラ対26の下方側には、感材P
Mを一様に露光するため複数個のLED38がライン状
に設けられており、このLED38を駆動して感材PM
を照射することにより、縮小して露光する際に原稿から
の反射光LBで露光できない感材PMの周辺部分を像形
成不要部として焼きとばしている。その後、感材PMは
切断装置27によって切断される。
The lower side of the roller pair 26 has a photosensitive material P
To uniformly expose M, a plurality of LEDs 38 are provided in a line.
Irradiates the peripheral portion of the photosensitive material PM, which cannot be exposed by the reflected light LB from the original when performing the reduced exposure, is skipped as an image forming unnecessary portion. Thereafter, the photosensitive material PM is cut by the cutting device 27.

【0022】現像処理装置40は、投影光学系30の下
方に設置されており、導入ローラ41を介して導入され
る感材PMに対する現像処理および安定化処理を行なう
ものである。この現像処理装置40は、現像液を貯蔵す
る現像液メインタンク42と安定化剤を貯蔵する安定化
剤メインタンク43が装着可能で、図示しないモータに
よりローラ等が一体に駆動される処理ユニット44とし
て構成され、筐体2内に収納されている。現像処理装置
40の構成の詳細については後述する。
The developing device 40 is provided below the projection optical system 30 and performs a developing process and a stabilizing process on the photosensitive material PM introduced through the introducing roller 41. The development processing device 40 can be equipped with a developer main tank 42 for storing a developer and a stabilizer main tank 43 for storing a stabilizer, and a processing unit 44 in which rollers and the like are integrally driven by a motor (not shown). And housed in the housing 2. Details of the configuration of the developing device 40 will be described later.

【0023】感材PMの搬送路に沿って現像処理装置4
0の下流には乾燥ユニット50が配設されている。この
乾燥ユニット50は、現像処理装置40にて処理された
感材PMを搬送する2組のローラ対51,52と、この
ローラ対51,52間に設けられた搬送トレイ53と、
この搬送トレイ53に感材PMの搬送路を挟んで対向す
る位置に設けられた感材乾燥用ヒータ54およびファン
55と、筐体2の外部に取り付けられ乾燥された感材P
Mを収納する外部トレイ56とを備える。従って、露光
済みの感材PMは、現像処理装置40における現像・安
定化処理を経て感材乾燥用ヒータ54により乾燥され、
筐体2外の外部トレイ56に送り出される。こうして、
原稿からオフセット印刷用の刷版が複製・作製される。
The developing device 4 is arranged along the conveying path of the photosensitive material PM.
The drying unit 50 is disposed downstream of the drying unit 50. The drying unit 50 includes two pairs of rollers 51 and 52 for transporting the photosensitive material PM processed by the developing device 40, a transport tray 53 provided between the pair of rollers 51 and 52,
A photosensitive material drying heater 54 and a fan 55 provided at positions opposite to the transport tray 53 with the transport path of the photosensitive material PM interposed therebetween, and a dried photosensitive material P attached to the outside of the housing 2.
And an external tray 56 for storing M. Therefore, the exposed photosensitive material PM is dried by the photosensitive material drying heater 54 through the development / stabilization processing in the development processing device 40,
It is sent to an external tray 56 outside the housing 2. Thus,
A printing plate for offset printing is duplicated and manufactured from the manuscript.

【0024】次に、感材PMへの現像・安定化処理を行
なう現像処理装置40について説明する。現像処理装置
40の説明には、その概略構成を示す図1の他、斜視図
(図3,図4),一部断面視により要部を示す説明図
(図5)を適宜援用する。図1に示すように、この現像
処理装置40は、導入ローラ41から導入された露光済
みの感材PMを現像液メインタンク42内の現像液を用
いて現像する現像処理部(以下、現像部と呼ぶ)70
と、安定化剤メインタンク43内の安定化剤を用いて現
像済みの感材PMに安定化処理を施しこれを乾燥ユニッ
ト50のローラ対51に送り出す安定化処理部(以下、
安定部と呼ぶ)72とを備える。
Next, a description will be given of a development processing device 40 for performing development / stabilization processing on the photosensitive material PM. In the description of the developing device 40, in addition to FIG. 1 showing its schematic configuration, a perspective view (FIGS. 3 and 4) and an explanatory view (FIG. 5) showing a main part in partial cross-sectional view are appropriately used. As shown in FIG. 1, the developing device 40 includes a developing unit (hereinafter referred to as a developing unit) that develops the exposed photosensitive material PM introduced from the introducing roller 41 using a developing solution in a developing solution main tank 42. 70)
And a stabilizing section (hereinafter, referred to as a stabilizing section) that performs a stabilizing process on the developed photosensitive material PM using the stabilizing agent in the stabilizing agent main tank 43 and sends the processed stabilizing material PM to the roller pair 51 of the drying unit 50.
(Referred to as a stabilizing section) 72.

【0025】現像部70は、現像液の供給系として、現
像液メインタンク42の他、この現像液メインタンク4
2が着脱されメインタンク42から現像液を受けて液面
を一定に管理する液面管理筒74と、液面管理筒74か
ら導通管76を介して現像液が流入する現像液シスター
ンタンク78と、現像液シスターンタンク78からの現
像液の流出用の管路79を開閉する流入用電磁弁80
と、現像液を吐出する現像液ノズル82とを備えてい
る。この現像液ノズル82には、絞り部が組み込まれて
おり、流入用電磁弁80の開弁期間における現像液ノズ
ル82先端からの現像液吐出量を制限している。現像液
ノズル82先端からの現像液の吐出量は、絞り部に加わ
る圧力、即ち液面管理筒74における液面の高さと絞り
部における径とによってほぼ定まる。本実施例では、液
面の高さを一定に保っているので、流入用電磁弁80開
弁時における現像液の流量は、現像液メインタンク42
内の現像液の多寡にかかわらず一定に保たれる。
The developing section 70 includes a developing solution main tank 42 and a developing solution main tank 4 as a developing solution supply system.
2, a liquid level management cylinder 74 that receives the developer from the main tank 42 and controls the liquid level to be constant, a developer cistern tank 78 into which the developer flows from the liquid level management cylinder 74 via the conduction pipe 76, and , An inflow solenoid valve 80 for opening and closing a conduit 79 for the outflow of the developer from the developer system tank 78
And a developer nozzle 82 for discharging the developer. A throttle portion is incorporated in the developer nozzle 82 to limit the discharge amount of the developer from the tip of the developer nozzle 82 during the opening period of the inflow solenoid valve 80. The discharge amount of the developer from the tip of the developer nozzle 82 is substantially determined by the pressure applied to the throttle portion, that is, the height of the liquid surface in the liquid level management cylinder 74 and the diameter at the throttle portion. In the present embodiment, since the height of the liquid level is kept constant, the flow rate of the developer when the inflow solenoid valve 80 is opened is controlled by the developer main tank 42.
It is kept constant irrespective of the amount of the developing solution inside.

【0026】現像液シスターンタンク78には、その内
部を液流入室78aおよび液滞留室78bに区分けする
仕切板84がタンクの底から立設されており、液流入室
78aには導通管76が開口されている。一方、液滞留
室78bの上面には、底面に向けて挿入されたヒータ8
6と、タンク内の液量に応じて上下動するフロート87
を有し現像液シスターンタンク78内の液量を検出する
フロートセンサ88とが設けられている。また、現像液
シスターンタンク78の底部に連通された管路79の入
り口には、流出する現像液からごみ等を除去するメッシ
ュフィルタ90が設けられている。
The developing solution cistern tank 78 has a partition plate 84 standing upright from the bottom of the tank for partitioning the interior into a liquid inflow chamber 78a and a liquid stagnation chamber 78b, and a conduction pipe 76 in the liquid inflow chamber 78a. It is open. On the other hand, a heater 8 inserted toward the bottom is provided on the upper surface of the liquid retention chamber 78b.
6 and a float 87 that moves up and down according to the amount of liquid in the tank
And a float sensor 88 for detecting the amount of liquid in the developing solution cistern tank 78. Further, a mesh filter 90 for removing dust and the like from the developing solution flowing out is provided at an inlet of a pipe 79 communicated with the bottom of the developing solution cistern tank 78.

【0027】この構成によれば、現像液メインタンク4
2から導通管76を介して流入した冷たい現像液は、ま
ず液流入室78aに流入して仕切板84上端を越え液滞
留室78b上部に流れ込む。液滞留室78b内の現像液
はヒータ86により温められる。ヒータ86による現像
液の温度は、後述する電子制御装置60により所定温度
に管理される。所定温度に維持された現像液は、流入用
電磁弁80が開弁すると、現像液ノズル82から流出す
る。
According to this configuration, the developer main tank 4
The cold developer that has flowed in from the second through the conduit 76 first flows into the liquid inflow chamber 78a, flows over the upper end of the partition plate 84, and flows into the upper part of the liquid retention chamber 78b. The developer in the liquid storage chamber 78 b is heated by the heater 86. The temperature of the developer by the heater 86 is controlled to a predetermined temperature by an electronic control unit 60 described later. The developer maintained at the predetermined temperature flows out of the developer nozzle 82 when the inflow solenoid valve 80 is opened.

【0028】次に、感材PMの現像が実際に行なわれる
現像処理槽96まわりの概略構成と働きの概要とについ
て説明する。現像部70に感材PMを導入する導入ロー
ラ41の下方には、図5矢印X方向に回転して感材PM
を送り込む入り口ローラ対92が設けられ、更にその下
方には、送り込まれた感材PMに接して感材PMをガイ
ドし、搬送に際して感材PMにいわゆる腰を付けるフリ
ーローラ94が配設されている。
Next, a schematic configuration around the development processing tank 96 where the development of the photosensitive material PM is actually performed and an outline of the operation will be described. Below the introduction roller 41 for introducing the photosensitive material PM into the developing unit 70, the photosensitive material PM is rotated in the X direction of FIG.
An entrance roller pair 92 for feeding the photosensitive material PM is provided, and a free roller 94 that guides the photosensitive material PM in contact with the sent photosensitive material PM and that gives a so-called waist to the photosensitive material PM at the time of conveyance is further provided below the entrance roller pair 92. I have.

【0029】現像処理槽96は、断面略U字形であり、
図3に示すように、感材PMの幅に応じた幅を有し、現
像液の貯留部95を形成している。この現像処理槽96
内には、現像処理槽96の幅方向に亘って、現像処理槽
96の底面に若干の距離を残した位置にスポンジ質の現
像液供給ローラ98が配設されている。従って、現像処
理槽96の貯留部95に現像液が貯留されれば、現像液
供給ローラ98の下部は現像液に一部浸漬する。現像液
供給ローラ98の表面はスポンジ質の材質で形成されて
おり、スポンジ質を構成する気泡は個々に独立した気泡
(単独気泡)とされている。現像液供給ローラ98に
は、図4に示すように、上部から滴下する現像液を現像
液供給ローラ98との間に一時的に貯留する現像液一時
貯留部100が組み付けられている。
The developing tank 96 has a substantially U-shaped cross section.
As shown in FIG. 3, the photosensitive material PM has a width corresponding to the width of the photosensitive material PM, and forms a reservoir 95 for the developer. This developing tank 96
Inside, a sponge-type developer supply roller 98 is provided at a position which is slightly apart from the bottom surface of the developing tank 96 across the width direction of the developing tank 96. Therefore, when the developing solution is stored in the storage portion 95 of the developing tank 96, the lower part of the developing solution supply roller 98 is partially immersed in the developing solution. The surface of the developer supply roller 98 is formed of a sponge material, and the bubbles constituting the sponge material are individually independent bubbles (single bubbles). As shown in FIG. 4, the developer supply roller 98 is provided with a developer temporary storage unit 100 for temporarily storing the developer dropped from above on the developer supply roller 98.

【0030】また、現像処理槽96の底部には、図3,
図5に示すように、底部液溜め室101が形成されてお
り、現像処理槽96の底に開口された複数の連通孔10
2により、現像液が流入可能とされている。底部液溜め
室101の内部には、現像液加熱用の棒状ヒータ103
が2本配設されている。底部液溜め室101の中央底部
には、管路を開閉する排出用電磁弁104を介してこの
底部液溜め室101と導通し使用済み現像液を廃液受け
トレイ106に排出する現像液排出管108が連設され
ている。
In addition, the bottom of the developing tank 96 is shown in FIG.
As shown in FIG. 5, a bottom liquid storage chamber 101 is formed, and a plurality of communication holes 10 opened at the bottom of the development processing tank 96.
2 allows the developer to flow. A rod-shaped heater 103 for heating the developer is provided inside the bottom liquid reservoir 101.
Are provided. At the center bottom of the bottom liquid storage chamber 101, a developer discharge pipe 108 which communicates with the bottom liquid storage chamber 101 through a discharge solenoid valve 104 for opening and closing a conduit to discharge used developer to a waste liquid receiving tray 106. Are connected.

【0031】現像処理槽96の感材PMの搬出側には、
安定部72に向けて所定の仰角αを有するガイド板11
0が配置されている。ガイド板110は、感材PMとの
接触面積を小さくするために波板を用いて形成されてお
り(図3参照)、安定部72の絞りローラ対109に向
けた現像済み感材PMの進入経路を形成する。ガイド板
110の下面には、自己温度調整機能を有する加熱用の
面状ヒータ112が取着されている。面状ヒータ112
は、図3に示すように、現像処理槽96側に設けられた
取付金具113や図示しない他の金具により、ガイド板
110に一体に固定されている。
On the transport side of the photosensitive material PM in the developing tank 96,
Guide plate 11 having a predetermined elevation angle α toward stable portion 72
0 is arranged. The guide plate 110 is formed using a corrugated plate to reduce the contact area with the photosensitive material PM (see FIG. 3), and the developed photosensitive material PM enters the squeeze roller pair 109 of the stabilizer 72. Form a path. A planar heater 112 for heating having a self-temperature adjusting function is attached to the lower surface of the guide plate 110. Planar heater 112
3, is integrally fixed to the guide plate 110 by a fitting 113 provided on the side of the developing tank 96 or another fitting (not shown).

【0032】現像処理槽96自体の詳細な構成について
説明する。現像処理槽96の貯留部95は、図3に示す
ように、湾曲した周面板120の両側面に略半月状の側
面板122(図において、向かって左側の側面板は省略
されている)を各々接合・固定することにより形成され
る。周面板120のガイド板110側のおよそ中央に
は、周面板120を貫通する貫通孔126が設けられて
いる。現像液が現像液ノズル82から供給されて貯留部
95の液量が増加すると、余剰の現像液はこの貫通孔1
26から流出する。従って、貯留部95の現像液の液面
は、貫通孔126の高さに保持される。なお、現像処理
槽96直下の排出用電磁弁104には、図1に示すよう
に、防滴カバー114が設けられ、現像処理槽96やガ
イド板110から落下する現像液の付着を防止してい
る。
The detailed configuration of the developing tank 96 itself will be described. As shown in FIG. 3, the storage part 95 of the developing tank 96 has substantially half-moon-shaped side plates 122 (the left side plate is omitted in the figure) on both sides of the curved peripheral plate 120. They are formed by joining and fixing each. At a center of the peripheral plate 120 on the guide plate 110 side, a through hole 126 penetrating the peripheral plate 120 is provided. When the developing solution is supplied from the developing solution nozzle 82 and the amount of the solution in the storage section 95 increases, excess developing solution is supplied to the through hole 1.
Outflow from 26. Therefore, the liquid level of the developer in the storage section 95 is maintained at the height of the through hole 126. As shown in FIG. 1, a drip-proof cover 114 is provided on the discharge electromagnetic valve 104 immediately below the developing tank 96 to prevent the developer falling from the developing tank 96 and the guide plate 110 from adhering. I have.

【0033】現像液一時貯留部100は、図4および図
5にその詳細を示すように、現像液供給ローラ98の両
端面に当該ローラの回転を許容して当接する2枚の端面
板134と、この端面板134を両端に固定した断面
「フ」の字形状の支持板136とを備える。また、支持
板136を構成する上板136a中央、現像液ノズル8
2の先端に対応した位置には、液通過孔138が設けら
れ、一方、支持板136を構成する背板136bには、
現像液供給ローラ98に向けて付勢され、このローラ9
8外周に当接するステンレス薄板の板ばね140が設け
られている。
As shown in detail in FIGS. 4 and 5, the developing solution temporary storage section 100 is provided with two end face plates 134 which are in contact with both ends of the developing solution supply roller 98 while allowing the roller to rotate. And a support plate 136 having a cross section of "F" in which the end plate 134 is fixed to both ends. The center of the upper plate 136a constituting the support plate 136, the developer nozzle 8
A liquid passage hole 138 is provided at a position corresponding to the front end of the second plate 2, while a back plate 136 b constituting the support plate 136 has
The roller 9 is urged toward the developing solution supply roller 98.
A leaf spring 140 made of a thin stainless steel plate is provided in contact with the outer periphery of the plate 8.

【0034】液通過孔138の真下には、上板136a
の前端中央からこの板ばね140に向けて、液受け板1
42が連設されている。液受け板142の先端と板ばね
140との間には、僅かな隙間が設けられている。現像
液供給ローラ98とその両端面に当接された端面板13
4とローラ98外周面に当接された板ばね140とで囲
まれた部位は、現像液供給ローラ98がこの部位では上
方に向けて回転していることも相俟って、現像液ノズル
82から滴下する現像液を一時的に溜め置くことができ
る。この部位を、液溜まり部143と呼ぶ。なお、液受
け板142は、現像液を現像液供給ローラ98の軸方向
に効率良く広げる役割をはたしているが、液受け板14
2がなくとも、現像液は液溜まり部143に一旦溜まる
から、現像液供給ローラ98の軸方向に広がることに変
わりはない。
Immediately below the liquid passage hole 138, an upper plate 136a is provided.
Of the liquid receiving plate 1 from the center of the front end of the
42 are provided in series. A slight gap is provided between the tip of the liquid receiving plate 142 and the leaf spring 140. Developer supply roller 98 and end plate 13 contacting both end surfaces thereof
4 and the plate spring 140 abutting on the outer peripheral surface of the roller 98, the developing solution supply roller 98 is rotated upward in this portion, and the developing solution nozzle 82 is rotated. Can be temporarily stored. This part is called a liquid pool part 143. The liquid receiving plate 142 serves to efficiently spread the developing solution in the axial direction of the developing solution supply roller 98.
Even if there is no 2, the developer temporarily accumulates in the liquid reservoir 143, so that there is no difference that the developer spreads in the axial direction of the developer supply roller 98.

【0035】現像液ノズル82から滴下する現像液は、
図4および図5に示すように、液通過孔138を通過し
て液受け板142に至り、液受け板142の両端や板ば
ね140との間に形成された僅かな隙間から板ばね14
0表面に沿って流れ落ちる。つまり、現像液供給ローラ
98の軸線方向に沿って広がりつつ液溜まり部143に
至り、ここに一時的に貯留される。液溜まり部143に
貯留された現像液の一部は、現像液供給ローラ98表面
の単独気泡層における個々の気泡に保持され、現像液供
給ローラ98の図5矢印Y方向への回転に伴って汲み出
される。
The developer dropped from the developer nozzle 82 is
As shown in FIGS. 4 and 5, the plate spring 14 passes through the liquid passage hole 138 to reach the liquid receiving plate 142, and a small gap formed between both ends of the liquid receiving plate 142 and the plate spring 140.
0 Runs down along the surface. That is, the developing solution supply roller 98 spreads along the axial direction to reach the liquid reservoir 143, where it is temporarily stored. A part of the developer stored in the liquid reservoir 143 is held by individual bubbles in a single bubble layer on the surface of the developer supply roller 98, and is rotated with the rotation of the developer supply roller 98 in the Y direction in FIG. Pumped out.

【0036】現像液供給ローラ98は、その下部が現像
処理槽96に貯留された現像液に浸漬しているから、回
転に伴って汲み出された新たな現像液は、このローラ9
8の回転に伴って既に貯留されている現像液中に供給さ
れる。新たな現像液は、現像処理槽96における感材P
Mの搬入側に拡散することになる。現像液が供給されて
貯留部95内の現像液が増加すると、新たに供給された
現像液に相当する量から感材PMの搬出に伴って失われ
る現像液分を除いた量の現像液(旧現像液)が、周面板
120の貫通孔126から外部に流れ出て、現像処理槽
96内の現像液の量はバランスする。
Since the lower portion of the developing solution supply roller 98 is immersed in the developing solution stored in the developing tank 96, the developing solution pumped out with the rotation is supplied to the developing roller 96 by the roller 9.
With the rotation of 8, the developer is supplied into the developer already stored. The new developing solution is supplied to the photosensitive material P in the developing tank 96.
M will be spread to the carry-in side. When the developer is supplied and the amount of the developer in the storage unit 95 increases, the amount of the developer (the amount corresponding to the newly supplied developer minus the amount of the developer lost due to the removal of the photosensitive material PM) is removed. The old developer flows out from the through hole 126 of the peripheral plate 120 to the outside, and the amount of the developer in the developing tank 96 is balanced.

【0037】現像液は、底部液溜め室101にも流れ込
んでおり、ここに内蔵された2本の棒状ヒータ103に
より加熱される。加熱された現像液は、連通孔102を
介して貯留部95との間で対流する。棒状ヒータ103
の通電が現像液温度によりフィードバック制御されてい
ることも相俟って、現像処理槽96内の現像液は、極め
て短時間に昇温され所定の温度に維持される。
The developing solution also flows into the bottom liquid storage chamber 101 and is heated by two rod-shaped heaters 103 built therein. The heated developer convects with the reservoir 95 through the communication hole 102. Bar heater 103
In combination with the fact that the energization is feedback-controlled by the temperature of the developer, the temperature of the developer in the developing tank 96 is raised in a very short time and maintained at a predetermined temperature.

【0038】感材PMが現像処理槽96の現像液の貯留
部95を通過すれば、感材PMの現像処理に伴い、スラ
ッジが現像液中に混入する。こうしたスラッジは、貯留
部95から底部液溜め室101に流入し、排出用電磁弁
104が開弁されると、現像液と共に、現像液排出管1
08を介して廃液受けトレイ106に排出される。
When the photosensitive material PM passes through the developing solution storage section 95 of the developing tank 96, sludge is mixed into the developing solution as the photosensitive material PM is developed. Such sludge flows into the bottom liquid storage chamber 101 from the storage part 95, and when the discharge solenoid valve 104 is opened, the developer discharge pipe 1
08, and is discharged to the waste liquid receiving tray 106.

【0039】以上現像処理槽96の構成について説明し
たが、この現像処理槽96の近傍には、面状ヒータ11
2以外にも、いくつかのヒータが設けられている。まず
導入ローラ41から入り口ローラ対92に至る間に設け
られた案内ガイド115に沿って第1の予熱ヒータ11
6が、流入用電磁弁80とその管路79および現像液ノ
ズル82を取り囲む位置に第2の予熱ヒータ117が、
更に現像処理槽96上方の現像液供給ローラ98近傍の
位置に第3の予熱ヒータ118が、各々設けられてい
る。また、案内ガイド115の感材PM側近傍には、雰
囲気温度を検出するサーミスタ119が設けられてい
る。これらの予熱ヒータおよびサーミスタは、後述する
電子制御装置60に接続され、感材PMの予備昇温を実
現する。
The structure of the developing tank 96 has been described above.
In addition to 2, some heaters are provided. First, the first preheater 11 is moved along a guide 115 provided between the introduction roller 41 and the entrance roller pair 92.
6, a second preheater 117 is provided at a position surrounding the inflow solenoid valve 80, its conduit 79, and the developer nozzle 82;
Further, third preheaters 118 are provided at positions near the developer supply roller 98 above the developing tank 96, respectively. In addition, a thermistor 119 for detecting an ambient temperature is provided near the guide PM 115 on the side of the photosensitive material PM. These preheater and thermistor are connected to an electronic control unit 60 to be described later, and realize a preliminary temperature rise of the photosensitive material PM.

【0040】一方、第1,第2の感材ロール21,22
が収納される第1,第2マスタ室21a,22aにも、
予熱ヒータが設けられている。図5には、第1マスタ室
21aのみ示したが、図示するように、第1マスタ室2
1aの下部に仕切板127が設けられ、その内部に第4
の予熱ヒータ128が配設されている。この予熱ヒータ
128によるマスタ室21aの温度は、マスタ室21a
の底部の更に下方に配置されたサーミスタ129により
検出する構成となっている。これは、ロール状の形態に
巻き取られた感材ロール21,22の熱容量が大きいた
め、第4の予熱ヒータ128の発熱の影響を直接受けな
い場所にサーミスタ129を設置し、第1,第2マスタ
室21a,22a内で感材ロール21,22が十分予備
昇温されるようにしたのである。なお、図5に破線で示
したように、サーミスタ129aを第1,第2マスタ室
21a,22a内に設け、室内の温度で検出する構成と
することも差し支えない。
On the other hand, the first and second photosensitive material rolls 21 and 22
Are also stored in the first and second master chambers 21a and 22a.
A preheater is provided. FIG. 5 shows only the first master chamber 21a, but as shown in FIG.
1a, a partition plate 127 is provided at a lower portion, and a fourth
Are provided. The temperature of the master chamber 21a by the preheater 128 is controlled by the master chamber 21a.
Is detected by a thermistor 129 disposed further below the bottom of the. This is because the heat capacity of the photosensitive material rolls 21 and 22 wound in a roll shape is large, so that the thermistor 129 is installed in a place not directly affected by the heat generated by the fourth preheater 128, The temperature of the photosensitive material rolls 21 and 22 is sufficiently preliminarily raised in the two master chambers 21a and 22a. As shown by the broken line in FIG. 5, the thermistor 129a may be provided in the first and second master chambers 21a and 22a, and the temperature may be detected based on the room temperature.

【0041】次に処理ユニット44内の感材PMの搬送
について説明する。入り口ローラ対92により送り込ま
れた露光済みの感材PMは、フリーローラ94によりガ
イドされつつ貯留部95に進入し、周面板120の内周
面にそって貯留部95内を通過する。貯留部95内を通
過する間に、そこに貯留された現像液に反応し現像処理
が開始される。現像液供給ローラ98と周面板120と
の間隙を抜けて貯留部95を通過した後は、傾斜したガ
イド板110上面に沿って安定部72の入り口に設けら
れた絞りローラ対109に向けて送り出される。ガイド
板110上の雰囲気は、温度制御機能を有する面状ヒー
タ112による加熱によって所定の温度近傍となってい
るから、ガイド板110上を搬送されている間にも、感
材PM表面に付着している現像液により感材PMの現像
処理は継続する。感材PMの表面に付着している現像液
は、絞りローラ対109により絞り取られ除去される。
Next, the transport of the photosensitive material PM in the processing unit 44 will be described. The exposed photosensitive material PM sent by the entrance roller pair 92 enters the storage unit 95 while being guided by the free roller 94, and passes through the storage unit 95 along the inner peripheral surface of the peripheral plate 120. While passing through the storage section 95, the development processing is started in response to the developer stored therein. After passing through the storage section 95 through the gap between the developer supply roller 98 and the peripheral plate 120, it is sent out along the inclined guide plate 110 toward the squeezing roller pair 109 provided at the entrance of the stabilizer 72. It is. Since the atmosphere on the guide plate 110 is close to a predetermined temperature due to heating by the planar heater 112 having a temperature control function, the atmosphere adheres to the surface of the photosensitive material PM even while the guide plate 110 is being conveyed. The developing process of the photosensitive material PM is continued by the developing solution. The developer adhering to the surface of the photosensitive material PM is squeezed out by the squeezing roller pair 109 and removed.

【0042】次に、安定化剤による感材PMの安定化系
である安定部72について、図1を用いて説明する。な
お、上記した現像部70と同一の部材または同一の機能
を有する部材については、その説明を省略し、現像部7
0における説明に用いた符号(数値)に補助符号Aを付
加して表わすこととする。安定部72は、安定化剤の供
給系として、上記現像部70の現像液供給系と同様に、
安定化剤メインタンク43,この安定化剤メインタンク
43が着脱される液面管理筒74A,仕切板84Aを内
部に立設した安定化剤シスターンタンク78A,液面管
理筒74Aと安定化剤シスターンタンク78Aとを導通
する導通管76A,流入用電磁弁80Aを介装した安定
化剤ノズル82A等を備える。安定化剤シスターンタン
ク78A内には、現像液シスターンタンク78と同様、
フロート87Aを有するフロートセンサ88A,メッシ
ュフィルタ90Aも備えられている。流入用電磁弁80
Aと安定化剤ノズル82Aとを介して安定化剤シスター
ンタンク78Aから安定化剤が流出すると、その分だけ
導通管76Aから安定化剤が流入する。
Next, the stabilizer 72, which is a system for stabilizing the light-sensitive material PM with a stabilizer, will be described with reference to FIG. The description of the same members or members having the same functions as those of the developing unit 70 will be omitted, and the developing unit 7 will be omitted.
The code (numerical value) used for the description at 0 is represented by adding an auxiliary code A. The stabilizing section 72 serves as a stabilizing agent supply system, similar to the developer supply system of the developing section 70 described above.
Stabilizer main tank 43, liquid level control cylinder 74A to which this stabilizer main tank 43 is attached / detached, stabilizer cistern tank 78A with partition plate 84A installed inside, liquid level control cylinder 74A and stabilizer cistern It has a conducting tube 76A that communicates with the tank 78A, a stabilizer nozzle 82A with an inflow solenoid valve 80A interposed, and the like. In the stabilizer cistern tank 78A, similar to the developer cistern tank 78,
A float sensor 88A having a float 87A and a mesh filter 90A are also provided. Inflow solenoid valve 80
When the stabilizer flows out of the stabilizer cistern tank 78A through A and the stabilizer nozzle 82A, the stabilizer flows in from that through the conduit 76A.

【0043】安定部72の他の構成部品について、感材
PMの搬送に沿って簡略に説明する。現像部70のガイ
ド板110の上端に配置された絞りローラ対109を通
過した感材PMは、感材PMの搬送路に沿って配置され
たガイドカバー144およびフリーローラ146にガイ
ドされて、安定化処理槽96Aへと搬入される。安定化
処理槽96Aの入口には、感材PMにいわゆる腰を付け
るフリーローラ94Aが設けられている。安定化剤の貯
留部95Aを形成する安定化処理槽96Aには、現像処
理槽96と同様、スポンジ質の安定化剤供給ローラ98
Aと、この安定化剤供給ローラ98Aとで安定化剤の液
溜まり部143Aを形成する安定化剤一時貯留部100
Aが設けられ、貯留部95Aの感材PMの搬入側に安定
化剤を供給する。一方、安定化処理槽96Aの底には、
現像処理槽96と同様、底部液溜め室101Aが設けら
れている。防滴カバー114A付の排出用電磁弁104
Aが開弁されたとき、使用済みの安定化剤は、安定化剤
排出管108Aを介して、底部液溜め室101Aから廃
液受けトレイ106Aに排出される。なお、本実施例の
安定化剤は温度管理を行なう必要がないことから、底部
液溜め室101Aにヒータは設けられていない。
Other components of the stabilizer 72 will be briefly described along with the transport of the photosensitive material PM. The photosensitive material PM that has passed through the pair of squeezing rollers 109 disposed at the upper end of the guide plate 110 of the developing unit 70 is guided by the guide cover 144 and the free roller 146 disposed along the conveyance path of the photosensitive material PM, and is thus stable. It is carried into the chemical treatment tank 96A. At the entrance of the stabilization tank 96A, there is provided a free roller 94A for giving a so-called waist to the photosensitive material PM. As in the developing tank 96, a sponge-type stabilizer supply roller 98 is provided in the stabilizing tank 96A forming the stabilizing agent storage section 95A.
A and the stabilizing agent supply roller 98A, the stabilizing agent temporary storing unit 100 forming a stabilizing liquid reservoir 143A.
A is provided to supply a stabilizing agent to the loading side of the photosensitive material PM in the storage section 95A. On the other hand, at the bottom of the stabilization tank 96A,
Like the developing tank 96, a bottom liquid storage chamber 101A is provided. Discharge solenoid valve 104 with drip-proof cover 114A
When the valve A is opened, the used stabilizer is discharged from the bottom liquid storage chamber 101A to the waste liquid receiving tray 106A via the stabilizer discharge pipe 108A. Since the stabilizer of this embodiment does not need to perform temperature control, no heater is provided in the bottom liquid storage chamber 101A.

【0044】感材PMの搬送路に沿った安定化処理槽9
6Aの下流には、安定化済み感材PMの進入経路を形成
するガイド板110Aが安定化処理槽96Aから上方に
向けて傾斜して配置されており、ガイド板110Aの上
端には、図1矢印Z方向に回転して安定化済み感材PM
を乾燥ユニット50(図2参照)のローラ対51に向け
て搬送しつつ感材表面から余分な安定化剤を絞り取る絞
りローラ対109Aが配設されている。なお、安定化剤
供給ローラ98Aおよび各絞りローラ対109,109
Aは、既述した現像処理槽96の各ローラと共通の駆動
源により駆動され、同期して回転されている。
A stabilization tank 9 along the conveying path of the photosensitive material PM.
Downstream of 6A, a guide plate 110A that forms an entry path of the stabilized photosensitive material PM is arranged to be inclined upward from the stabilization tank 96A, and the upper end of the guide plate 110A is provided with a guide plate shown in FIG. Stabilized photosensitive material PM rotated in the direction of arrow Z
Roller pair 109A for squeezing excess stabilizer from the surface of the photosensitive material while transporting the toner toward the roller pair 51 of the drying unit 50 (see FIG. 2). In addition, the stabilizer supply roller 98A and each squeezing roller pair 109, 109
A is driven by a common drive source with each roller of the developing tank 96 described above, and is rotated synchronously.

【0045】図1矢印Z方向に回転して現像および安定
化済みの感材PMを搬送しつつ感材PMの表面から余分
な現像液および安定化剤を絞り取る各絞りローラ対10
9,109Aは、図示するように、個々のローラの中心
を通る平面がローラの中心を通る鉛直面から図示反時計
方向に角度βだけ傾斜して設けられている。従って、こ
の絞りローラ対109,109Aに感材PMが挟み込ま
れると、絞りローラ対109,109A部分での感材P
Mの搬送方向は、角度βに対応した角度だけ下向きとな
る。この結果、絞られた現像液もしくは安定化剤は、感
材PMの通過中は感材PMと絞りローラ対109,10
9Aとの間に留まり、感材PMの側に垂れてくるといっ
たことがない。
Each squeezing roller pair 10 which rotates in the direction of arrow Z to convey the developed and stabilized photosensitive material PM and squeezes excess developer and stabilizer from the surface of the photosensitive material PM.
9, 109A, as shown in the figure, a plane passing through the center of each roller is provided at an angle β counterclockwise in the drawing from a vertical plane passing through the center of the roller. Therefore, when the photosensitive material PM is sandwiched between the pair of aperture rollers 109 and 109A, the photosensitive material P at the pair of aperture rollers 109 and 109A is not affected.
The transport direction of M is downward by an angle corresponding to the angle β. As a result, the squeezed developing solution or stabilizer is kept in contact with the photographic material PM and the squeezing roller pair 109 and 10 while the photographic material PM is passing through.
9A, and does not hang down to the side of the photosensitive material PM.

【0046】感材PM搬送中、各絞りローラ対109,
109Aに留まる現像液もしくは安定化剤は、感材PM
の切断後端面が絞りローラ対109もしくは109Aを
通過すると同時に、絞りローラ対109,109Aにお
ける下側のローラ表面を伝わって、各絞りローラ対10
9,109A下方に配設された右側絞り液収集板152
または左側絞り液収集板154上に落下し、廃液受けト
レイ106A内に流入する。また、各絞りローラ対10
9,109Aには、各々2個のスクレーパ150がその
先端の板ばねがローラに当接する位置に設けられてお
り、スクレーパにより掻き落とされたスラッジや廃液
も、右側絞り液収集板152および左側絞り液収集板1
54上に落下し、廃液受けトレイ106Aに回収され
る。なお、現像部70と安定部72の各廃液受けトレイ
106,106Aには、廃液タンク156に至る配管1
58が設けられており、各トレイ106,106Aに集
められた廃液は、配管158を介して最終的には廃液タ
ンク156に回収される。
During conveyance of the photosensitive material PM, each squeezing roller pair 109,
The developer or stabilizer remaining in 109A is a photosensitive material PM
After passing through the squeezing roller pair 109 or 109A, the cut end faces of the squeezing roller pairs 109 and 109A are transmitted along the lower roller surfaces of the squeezing roller pairs 109 and 109A, and the respective squeezing roller pairs 10 and 109A are cut.
Right squeezed liquid collecting plate 152 disposed below 9,109A
Alternatively, it falls on the left squeeze liquid collecting plate 154 and flows into the waste liquid receiving tray 106A. Also, each squeezing roller pair 10
Each of the scrapers 9 and 109A is provided with two scrapers 150 at positions where the leaf springs at the tips of the scrapers 150 abut against the rollers. Sludge and waste liquid scraped off by the scrapers are also removed from the right throttle liquid collecting plate 152 and the left throttle. Liquid collecting plate 1
54, and is collected in the waste liquid receiving tray 106A. The waste liquid receiving trays 106 and 106A of the developing section 70 and the stabilizing section 72 are provided with a pipe 1 to reach the waste liquid tank 156.
The waste liquid collected in each of the trays 106 and 106A is finally collected in a waste liquid tank 156 via a pipe 158.

【0047】以上のように構成された安定部72では、
現像部70から送り込まれる現像済みの感材PMは、絞
りローラ対109により、付着した現像液を絞り取ら
れ、フリーローラ94A等によりガイドされつつ貯留部
95Aに搬入される。感材PMが、貯留部95Aの安定
化剤中に入ると安定化処理が開始され、貯留部95Aを
通過した後、ガイド板110A上面にそって搬送される
間も安定化の処理は進行する。絞りローラ対109Aを
通過する際、感材PM上面からは余分な安定化剤が絞り
取られ、その後、感材PMは、ローラ対51によって乾
燥ユニット50に搬送される。
In the stabilizer 72 constructed as described above,
The developed photosensitive material PM sent from the developing unit 70 is squeezed out of the developing solution adhered by the squeezing roller pair 109, and is carried into the storage unit 95A while being guided by the free rollers 94A and the like. The stabilization process is started when the photosensitive material PM enters the stabilizing agent of the storage unit 95A, and the stabilization process proceeds while the photosensitive material PM is conveyed along the upper surface of the guide plate 110A after passing through the storage unit 95A. . When passing through the squeezing roller pair 109A, excess stabilizer is squeezed out from the upper surface of the sensitized material PM, and then the sensitized material PM is transported to the drying unit 50 by the roller pair 51.

【0048】次に、現像液シスターンタンク78等にお
ける温度管理や感材PMの温度調整、あるいは現像液供
給ローラ98等の駆動制御等を司る電子制御装置60に
ついて、図6に示すブロック図を用いて説明する。図6
に示すように、電子制御装置60は、周知のCPU16
2,ROM164,RAM166や複数の自走式タイマ
カウンタを内蔵したタイマ168等を中心に算術論理演
算回路として構成され、これらとコモンバス170を介
して相互に接続された露光用出力ポート172,現像用
入力ポート174,現像用出力ポート176等の入出力
インタフェースを備える。また、電子制御装置60のコ
モンバス170には、底部液溜め室101に連通した貯
留部95内の現像液および現像液シスターンタンク78
内の現像液の温度調整を行なう液温度調整回路178
と、第1,第2マスタ室21a,22a内および現像処
理槽96近傍の感材温度を調整する感材温度調整回路1
79と、オペレータが各種の設定等を行なうコンソール
パネル4とが接続されている。
Next, referring to a block diagram shown in FIG. 6, an electronic control unit 60 for controlling the temperature of the developing solution cistern tank 78 and the like, adjusting the temperature of the photosensitive material PM, and controlling the driving of the developing solution supply roller 98 and the like will be described. Will be explained. FIG.
As shown in the figure, the electronic control unit 60 is provided with a well-known CPU 16.
2, an exposure output port 172 connected to the ROM 164, a RAM 166, a timer 168 including a plurality of self-propelled timer counters, and the like through a common bus 170. Input / output interfaces such as an input port 174 and a development output port 176 are provided. In addition, the common bath 170 of the electronic control unit 60 has a developer and a developer cistern tank 78 in a reservoir 95 communicating with the bottom liquid reservoir 101.
Liquid temperature adjusting circuit 178 for adjusting the temperature of the developing solution inside
And a light-sensitive material temperature adjusting circuit 1 for adjusting the temperature of the light-sensitive material in the first and second master chambers 21a and 22a and in the vicinity of the developing tank 96.
79 and the console panel 4 on which the operator performs various settings and the like are connected.

【0049】露光用出力ポート172には、原稿ホルダ
10の駆動用のモータ13と、感材PMを切断するため
の切断装置27と、原稿ホルダ10内の原稿に光を照射
するための光源31と、第1の感材ロール21または第
2の感材ロール22から感材PMを送り出すためのモー
タ28と、感材PMを一様に露光するためのLED38
と、安定化済み感材を乾燥するための乾燥ユニット50
とが接続されている。
The exposure output port 172 includes a motor 13 for driving the original holder 10, a cutting device 27 for cutting the photosensitive material PM, and a light source 31 for irradiating the original in the original holder 10 with light. A motor 28 for sending out the photosensitive material PM from the first photosensitive material roll 21 or the second photosensitive material roll 22, and an LED 38 for uniformly exposing the photosensitive material PM.
And a drying unit 50 for drying the stabilized photosensitive material
And are connected.

【0050】一方、現像用入力ポート174には、現像
液シスターンタンク78内のフロートセンサ88と安定
化剤シスターンタンク78A内のフロートセンサ88A
とが接続されており、現像用出力ポート176には、処
理ユニット44の各ローラを同期して駆動する駆動モー
タ180と、現像液ノズル82に設けられた流入用電磁
弁80と、安定化剤ノズル82Aに設けられた流入用電
磁弁80Aと、現像液排出管108に設けられた排出用
電磁弁104と、安定化剤排出管108Aに設けられた
排出用電磁弁104Aと、ガイド板110の近傍雰囲気
をある程度の温度に加熱するための面状ヒータ112と
が接続されている。
On the other hand, the development input port 174 has a float sensor 88 in the developer cistern tank 78 and a float sensor 88A in the stabilizer cistern tank 78A.
The developing output port 176 is connected to a drive motor 180 that drives the respective rollers of the processing unit 44 in synchronization with each other, an inflow solenoid valve 80 provided in the developer nozzle 82, and a stabilizing agent. The electromagnetic valve 80A for inflow provided in the nozzle 82A, the electromagnetic valve 104 for discharge provided in the developer discharge pipe 108, the electromagnetic valve 104A for discharge provided in the stabilizer discharge pipe 108A, and the guide plate 110 A planar heater 112 for heating the nearby atmosphere to a certain temperature is connected.

【0051】また、液温度調整回路178には、現像液
シスターンタンク78内に設置されたヒータ86および
このタンク内の液温を検出する温度センサ85と、底部
液溜め室101内に設置された2本の棒状ヒータ103
およびこの液溜め室101内の液温を検出する温度セン
サ103aとが接続されている。この液温度調整回路1
78は、貯留部95内の現像液および現像液シスターン
タンク78内の現像液の液温をそれぞれ所定温度範囲に
維持するよう上記各ヒータを加熱制御し、液温が所定温
度範囲内に維持されているか否かを示す信号をCPU1
62に出力する。
The liquid temperature adjusting circuit 178 is provided with a heater 86 installed in the developing solution cistern tank 78, a temperature sensor 85 for detecting the temperature of the liquid in the tank, and a bottom liquid storage chamber 101. Two bar heaters 103
Further, a temperature sensor 103a for detecting a liquid temperature in the liquid storage chamber 101 is connected. This liquid temperature adjustment circuit 1
78 controls heating of the heaters so as to maintain the temperature of the developer in the storage unit 95 and the temperature of the developer in the developer cistern tank 78, respectively, within a predetermined temperature range, and the liquid temperature is maintained within the predetermined temperature range. CPU1 outputs a signal indicating whether or not
62.

【0052】一方、感材温度調整回路179には、案内
ガイド115に沿って設けられた第1の予熱ヒータ11
6と、流入用電磁弁80の近傍に設けられた第2の予熱
ヒータ117と、現像液供給ローラ98の上方に設けら
れた第3の予熱ヒータ118と、マスタ室21a,22
aに設置された第4の予熱ヒータ128と、現像処理槽
96近傍の温度を検出するサーミスタ119と、マスタ
室21aおよび22a内の感材の温度を検出するサーミ
スタ129とが接続されている。この感材温度調整回路
179は、マスタ室21a,22aから現像処理槽96
に至るまでの感材PMを、現像処理に先だって予備昇温
し、感材PMがある程度以上に昇温されたか否かを示す
信号をCPU162に出力する。
On the other hand, the photosensitive material temperature adjusting circuit 179 has a first preheater 11 provided along the guide 115.
6, a second preheater 117 provided near the inflow solenoid valve 80, a third preheater 118 provided above the developer supply roller 98, and master chambers 21a and 22.
a, a thermistor 119 for detecting the temperature in the vicinity of the developing tank 96, and a thermistor 129 for detecting the temperature of the photosensitive material in the master chambers 21a and 22a. The photosensitive material temperature adjusting circuit 179 is connected to the developing chamber 96 from the master chambers 21a and 22a.
Is preliminarily heated before the development processing, and a signal indicating whether or not the temperature of the photosensitive material PM has been increased to a certain degree or more is output to the CPU 162.

【0053】次に、実施例のスリット露光式複写カメラ
1の全体の動作について簡略に説明する。スリット露光
式複写カメラ1に電源が投入されると、図7に示すよう
に、まず初期化の処理を実行し(ステップS100)、
続いて、感材温度が十分上昇したか否かの判断を行なっ
て上昇したと判断されるまで待機し(ステップS15
0)、感材温度が十分に上昇した後、待機処理を実行し
(ステップS200)、コンソールパネル4からのスタ
ートキーの入力を待って(ステップS300)、露光・
現像処理を実行する(ステップS400)。
Next, the overall operation of the slit exposure type copying camera 1 of the embodiment will be briefly described. When the power is turned on to the slit exposure type copying camera 1, first, as shown in FIG. 7, an initialization process is executed (step S100).
Subsequently, it is determined whether or not the temperature of the photosensitive material has sufficiently increased, and the process waits until it is determined that the temperature has increased (step S15).
0) After the temperature of the photosensitive material has sufficiently increased, a standby process is executed (step S200), and a start key input from the console panel 4 is waited (step S300).
A development process is performed (Step S400).

【0054】ここで、初期化の処理とは、排出用電磁弁
104,104Aを開弁して、現像処理槽および安定化
処理槽96A(以下、必要に応じて両者をまとめて処理
槽96と呼ぶ)に残存する現像液もしくは安定化剤(以
下、必要に応じて両者をまとめて処理液と呼ぶ)をすべ
て排出し、排出用電磁弁104,104Aを閉弁した
後、流入用電磁弁80,80Aを開弁して現像液供給ロ
ーラ98,安定化剤供給ローラ98Aの回転に伴って処
理液を処理槽96に供給し、液温度調整回路178を動
作させて現像液シスターンタンク78および現像処理槽
96内の現像液の温度を、およそ28℃ないし31℃の
範囲に昇温・維持し、更に感材温度調整回路179を動
作させて第1ないし第4の予熱ヒータ116,117,
118,128に通電して感材の予備昇温を開始すると
いった処理である。電源投入時に初期化の処理を実行す
ることにより、処理槽96内の処理液は、露光・現像処
理のために、新たな処理液に入れ換えられ、処理液およ
び感材PMは適正な温度に制御される。
Here, the initialization processing means that the discharge electromagnetic valves 104 and 104A are opened, and the developing processing tank and the stabilizing processing tank 96A (hereinafter, if necessary, both are collectively processed with the processing tank 96). After discharging the developing solution or the stabilizing agent (hereinafter collectively referred to as a processing solution, if necessary), closing the discharge solenoid valves 104 and 104A, and then closing the inflow solenoid valve 80 , 80A to supply the processing liquid to the processing tank 96 with the rotation of the developing liquid supply roller 98 and the stabilizing agent supply roller 98A, and to operate the liquid temperature adjusting circuit 178 to operate the developing liquid cistern tank 78 and the developing liquid. The temperature of the developer in the processing tank 96 is raised and maintained in the range of about 28 ° C. to 31 ° C., and the photosensitive material temperature adjustment circuit 179 is operated to operate the first to fourth preheating heaters 116, 117,
This is a process of energizing 118 and 128 to start preliminary temperature rise of the photosensitive material. By executing the initialization processing when the power is turned on, the processing liquid in the processing tank 96 is replaced with a new processing liquid for exposure and development processing, and the processing liquid and the photosensitive material PM are controlled at appropriate temperatures. Is done.

【0055】ステップS150の判断は、感材PMの予
備昇温が十分に行なわれたか否かを判断するものであ
り、特にロール状に巻き取られた感材PMが冬季等に冷
えきっている場合、第1,第2マスタ室21a,22a
内を十分に昇温して、第1,第2の感材ロール21,2
2を十分に暖めておくために実行される。即ち、予熱ヒ
ータが通電されたからといって直ちに感材PMの温度が
適正値(本実施例ではおよそ26℃から32℃)に温め
られる訳ではないので、サーミスタ119,129の検
出値を参照しつつ、ある程度感材ロール21,22が昇
温するまで、露光・現像等の処理を開始させないものと
している。
The determination in step S150 is to determine whether or not the preliminary temperature rise of the photosensitive material PM has been sufficiently performed. In particular, the photosensitive material PM wound up in a roll shape is completely cooled in winter or the like. In the case, the first and second master chambers 21a and 22a
The temperature of the inside is sufficiently raised, and the first and second photosensitive material rolls 21 and
Performed to keep 2 warm enough. That is, just because the preheater is energized does not immediately raise the temperature of the photosensitive material PM to an appropriate value (approximately 26 ° C. to 32 ° C. in the present embodiment). Therefore, the detection values of the thermistors 119 and 129 are referred to. On the other hand, processes such as exposure and development are not started until the temperature of the photosensitive material rolls 21 and 22 rises to some extent.

【0056】時間が経過してサーミスタ119,129
により検出される感材ロール21,22の温度および現
像処理槽96近傍の温度が上昇したと判断されると、待
機処理(ステップS200)に移行する。待機処理で
は、露光・現像のための各種設定を行ないつつ、露光お
よび現像が可能な状態で待機する。
After a lapse of time, the thermistors 119 and 129
When it is determined that the temperatures of the photosensitive material rolls 21 and 22 and the temperature in the vicinity of the development processing tank 96 have increased, the process proceeds to a standby process (step S200). In the standby processing, while performing various settings for exposure and development, the apparatus stands by in a state where exposure and development are possible.

【0057】スタートキーが押されてオンとなった場合
(ステップS300)に実行される露光・現像処理(ス
テップS400)では、投影光学系30による露光処理
を行なうと共に、感材PMの先端が現像処理槽96に入
るのに先立って現像液の流入用電磁弁80を開いて新た
な現像液の供給を開始し、感材PMが搬送されるにつれ
て、安定化剤の流入用電磁弁80Aを開いて新たな安定
化剤の供給を開始し、感材PMの通過に従ってこれら処
理液の供給を停止する。現像処理装置40における各部
の動作は、既に詳述した通りである。
In the exposure / development process (step S400) executed when the start key is pressed and turned on (step S300), the exposure process is performed by the projection optical system 30 and the front end of the photosensitive material PM is developed. Before entering the processing tank 96, the developer inflow solenoid valve 80 is opened to start supplying a new developer, and as the photosensitive material PM is transported, the stabilizer inflow solenoid valve 80A is opened. Then, supply of a new stabilizer is started, and supply of these processing liquids is stopped as the photosensitive material PM passes. The operation of each unit in the developing device 40 is as described in detail above.

【0058】以上説明したように、このスリット露光式
複写カメラ1に組み込まれた実施例の現像処理装置40
によれば、現像処理槽96,安定化処理槽96Aにおい
て、感材PMの搬入側に現像液および安定化剤を均一に
供給して現像および安定化処理に供するから、現像処理
槽96,安定化処理槽96Aに搬入された感材PMは、
新たな処理液による作用を均一に受け、常に一定した現
像および安定化の処理が行なわれる。しかも、現像処理
槽96,安定化処理槽96Aを出た感材PMをなお反応
可能な状態で保持しているから、少量の現像液および安
定化剤を貯留するだけで、ダイレクト製版用の銀塩タイ
プの感材PMに対し、現像および安定化処理を十分に行
なうことができる。従って、各処理槽96,96Aを小
型化でき、現像処理装置40の小型化、延いてはスリッ
ト露光式複写カメラ1の小型化を図ることができる。
As described above, the developing apparatus 40 of the embodiment incorporated in the slit exposure type copying camera 1
According to the method described above, in the developing tank 96 and the stabilizing tank 96A, the developing solution and the stabilizing agent are uniformly supplied to the loading side of the photosensitive material PM to be subjected to the developing and stabilizing processing. The photosensitive material PM carried into the chemical treatment tank 96A is
The effect of the new processing solution is uniformly received, and the development and stabilization processing is always performed constantly. In addition, since the photosensitive material PM that has exited the development processing tank 96 and the stabilization processing tank 96A is still held in a reactable state, only a small amount of the developing solution and the stabilizing agent are stored, and the silver for direct plate making can be obtained. The development and stabilization processing can be sufficiently performed on the salt type photosensitive material PM. Accordingly, the processing tanks 96 and 96A can be reduced in size, and the development processing apparatus 40 can be reduced in size, and further, the slit exposure type copying camera 1 can be reduced in size.

【0059】しかも、現像処理,安定化処理に先だっ
て、感材PMは、第1,第2マスタ室21a,22a内
で十分に予備昇温されており、更に案内ガイド115に
沿って搬送される間にも第1の予熱ヒータ116の発熱
により予熱される。特に、ロール状に巻かれた感材PM
の場合は、その全体の熱容量は大きいので、マスタ室2
1a,22a内においてロール状態で予備昇温しておく
ことは、シート状に引き出された後、処理液中に搬入さ
れる感材PMの温度を十分なものとする上で好適であ
る。加えて、流入用電磁弁80を通って現像処理槽96
に新たに供給される現像液は、第2の予熱ヒータ117
により温度低下を招かないよう温められており、更に現
像液供給ローラ98の近傍も第3の予熱ヒータで温めら
れて、現像液供給ローラ98の表面に担持されて現像処
理槽96に供給される現像液の温度低下を最小限にとど
めている。この結果、感材PMおよび現像液は、処理に
十分な温度に確実に保たれ、外気温が低い場合であって
も、感材PMの処理に悪影響を受けることはない。
Further, prior to the development processing and the stabilization processing, the photosensitive material PM has been sufficiently preliminarily heated in the first and second master chambers 21a and 22a, and is further transported along the guide guide 115. In the meantime, it is preheated by the heat generated by the first preheater 116. In particular, the photosensitive material PM rolled into a roll
In the case of, since the entire heat capacity is large, the master room 2
Preliminarily raising the temperature in a roll state in 1a and 22a is preferable in that the temperature of the photosensitive material PM that is drawn out into a sheet shape and conveyed into the processing liquid is sufficient. In addition, the developing tank 96 passes through the inflow solenoid valve 80.
Is supplied to the second preheater 117.
, And the vicinity of the developing solution supply roller 98 is further heated by the third preheater, and is carried on the surface of the developing solution supply roller 98 and supplied to the developing tank 96. The temperature drop of the developer is kept to a minimum. As a result, the photosensitive material PM and the developer are reliably maintained at a temperature sufficient for processing, and the processing of the photosensitive material PM is not adversely affected even when the outside air temperature is low.

【0060】また、本実施例では、新たな現像液を、感
材PMの搬入側、即ち現像処理開始側に供給しているの
で、新たな現像液を優先的に使用して感材PMを効率的
に現像処理でき、現像品質の一層の向上を図ることがで
きる。
Further, in this embodiment, a new developing solution is supplied to the side where the photosensitive material PM is carried in, that is, to the developing process start side. The development can be performed efficiently, and the development quality can be further improved.

【0061】本実施例によれば、従来のように大量の現
像液および安定化剤を貯留する必要がないので、現像処
理槽96内の現像液の現像による劣化や経時的な酸化に
よって現像能力が低下および変化することがなく、製版
品質を常に安定に保つことができる。処理液の使用量も
全体として低減することができる。また、大量の現像液
等を貯留していないので、スラッジが長期に亘って留ま
ってヘドロ化することがない。従って、現像処理槽96
等の清掃が不要になり、従来必要とされた水洗などのメ
ンテナンスの労力も不要となる。現像処理槽96の底部
にスラッジが固着して感材PMの搬送を阻害するという
こともないから、感材PMの搬送が阻害されて現像され
た感材PM上に現像むらなどが生じるといった問題もな
い。
According to the present embodiment, it is not necessary to store a large amount of the developing solution and the stabilizing agent as in the prior art. Is not reduced and does not change, and the plate making quality can always be kept stable. The amount of processing solution used can be reduced as a whole. Further, since a large amount of the developer and the like are not stored, sludge does not remain for a long time and does not sludge. Therefore, the developing tank 96
Cleaning is not required, and maintenance labor such as washing with water, which is conventionally required, is also unnecessary. Since the sludge does not adhere to the bottom of the developing tank 96 and hinders the transport of the photosensitive material PM, the transport of the photosensitive material PM is hindered, and uneven development occurs on the developed photosensitive material PM. Nor.

【0062】また、現像液ノズル82からの吐出現像液
を現像液供給ローラ98の軸線方向にそって広げつつ、
即ち感材PMの幅方向にわたって均一に液溜まり部14
3に溜め置き、現像液供給ローラ98表面の単独気泡層
における個々の気泡に保持された現像液(新たな現像
液)を現像液供給ローラ98の回転に基づき貯留部95
に供給するので、貯留部95内の現像液の液面に、波立
ち等の乱れを生じることがない。この結果、現像液液面
の乱れ(波)に基づく現像ムラ(液面の乱れが反映して
感材表面に現われる不規則なスジムラ)を生じることも
ない。
Further, while spreading the developing solution from the developing solution nozzle 82 along the axial direction of the developing solution supply roller 98,
That is, the liquid reservoir 14 is uniformly distributed over the width direction of the photosensitive material PM.
The developing solution (new developing solution) held in each bubble in the single bubble layer on the surface of the developing solution supply roller 98 is stored in the storage section 95 based on the rotation of the developing solution supply roller 98.
Turbulence or the like does not occur on the liquid level of the developer in the storage unit 95. As a result, development unevenness (irregular uneven streaks appearing on the surface of the photosensitive material due to the disturbance of the liquid surface) due to the disturbance (wave) of the developer liquid surface does not occur.

【0063】以上本発明の実施例について説明したが、
本発明はこうした実施例に何等限定されるものではな
く、例えば感材の温度を直接サーミスタや赤外線式の検
出器で検出して予熱を行なう構成、感材ロールを回転自
在に保持するスピンドルや導入ローラ41等に予熱ヒー
タを組み込んだ構成、外気温に応じて予熱ヒータに供給
する電力を制御する構成、予めシート状に切断された感
材をマスタ室より順次引き出して露光・現像に供する構
成、あるいは銀塩方式の印画紙や製版用フィルムの現像
装置に適用した構成など、本発明の要旨を逸脱しない範
囲において、種々なる態様で実施し得ることは勿論であ
る。
The embodiments of the present invention have been described above.
The present invention is not limited to such embodiments. For example, the temperature of the photosensitive material is directly detected by a thermistor or an infrared detector to perform preheating. A configuration in which a preheater is incorporated in the rollers 41 and the like, a configuration in which electric power supplied to the preheater is controlled in accordance with an outside air temperature, a configuration in which a photosensitive material previously cut into a sheet is sequentially pulled out from a master chamber and exposed and developed, Alternatively, it is needless to say that the present invention can be implemented in various modes without departing from the gist of the present invention, such as a configuration applied to a developing device for a silver halide photographic paper or a plate making film.

【0064】[0064]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明の感材処理
装置では、感材は、処理に先だって予熱されており、処
理槽に均一に供給される新たな処理液により処理を受
け、しかも処理槽を出てからも処理液との反応が可能な
状態に保持される。従って、外気温度の如何によらず、
少量の処理液により感材の処理を効率よくかつムラなく
行なうことができるという優れた効果を奏する。また、
装置の小型化を図ることも可能となる。
As described in detail above, in the light-sensitive material processing apparatus of the present invention, the light-sensitive material is preheated prior to the processing, and is processed by a new processing liquid uniformly supplied to the processing tank. Moreover, the reaction with the processing liquid is maintained in a state where the reaction with the processing liquid is possible even after leaving the processing tank. Therefore, regardless of the outside air temperature,
There is an excellent effect that the photosensitive material can be efficiently and uniformly processed with a small amount of the processing liquid. Also,
It is also possible to reduce the size of the device.

【0065】[0065]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例である現像処理装置の構成図
である。
FIG. 1 is a configuration diagram of a developing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】実施例の現像処理装置を組み込んだスリット露
光式複写カメラ1を示す概略構成図である。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing a slit exposure type copying camera 1 incorporating the developing apparatus of the embodiment.

【図3】現像処理槽96の要部斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of a main part of a developing tank 96.

【図4】現像液供給ローラ98および現像液一時貯留部
100の斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view of a developer supply roller 98 and a developer temporary storage unit 100.

【図5】現像処理槽96における各種ローラや現像液一
時貯留部100,各種ヒータ等の配置を示す断面図であ
る。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing the arrangement of various rollers, a developer temporary storage unit 100, various heaters, and the like in a developing tank 96.

【図6】電子制御装置60の構成を示すブロック図であ
る。
FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of an electronic control unit 60.

【図7】電子制御装置60が実行する処理ルーチンを示
すフローチャートである。
FIG. 7 is a flowchart showing a processing routine executed by the electronic control unit 60;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 スリット露光式複写カメラ 10 原稿ホルダ 20 感材搬送装置 21 第1の感材ロール 21a 第1マスタ室 22 第2の感材ロール 22a 第2マスタ室 30 投影光学系 40 現像処理装置 42 現像液メインタンク 43 安定化剤メインタンク 44 処理ユニット 50 乾燥ユニット 60 電子制御装置 70 現像部 72 安定部 80 流入用電磁弁 82 現像液ノズル 95 貯留部 96 現像処理槽 98 現像液供給ローラ 100 現像液一時貯留部 101 底部液溜め室 104 排出用電磁弁 109 絞りローラ対 112 面状ヒータ 116 第1の予熱ヒータ 117 第2の予熱ヒータ 118 第3の予熱ヒータ 119 サーミスタ 128 第4の予熱ヒータ 129 サーミスタ 178 液温度調整回路 179 感材温度調整回路 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Slit exposure type copying camera 10 Document holder 20 Sensitive material conveying device 21 First sensitive material roll 21a First master room 22 Second sensitive material roll 22a Second master room 30 Projection optical system 40 Developing device 42 Developer main Tank 43 Stabilizer main tank 44 Processing unit 50 Drying unit 60 Electronic control unit 70 Developing unit 72 Stabilizing unit 80 Inflow solenoid valve 82 Developer nozzle 95 Storage unit 96 Development tank 98 Developer supply roller 100 Developer temporary storage unit 101 Bottom Liquid Reservoir Chamber 104 Discharge Solenoid Valve 109 Squeezing Roller Pair 112 Planar Heater 116 First Preheater 117 Second Preheater 118 Third Preheater 119 Thermistor 128 Fourth Preheater 129 Thermistor 178 Liquid Temperature Control Circuit 179 Sensitive material temperature adjustment circuit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 半田 正幸 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日 本スクリーン製造株式会社 彦根地区事 業所内 (56)参考文献 特開 平2−176657(JP,A) 特開 平2−79836(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G03D 3/00 - 17/00 G03C 3/00 570 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Inventor Masayuki Handa, 480, Takamiya-cho, Hikone-shi, Shiga Prefecture Dainippon Screen Manufacturing Co., Ltd. Hikone area business office (56) References JP-A-2-176657 (JP, A) JP-A-2-79836 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) G03D 3/00-17/00 G03C 3/00 570

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 印画紙,ダイレクト製版用の感光紙もし
くはフィルムなどの、銀塩タイプの感材を処理槽に送り
出し、処理を行なう感材処理装置であって、前記感材を、前記処理槽に搬出可能に保管する遮光性の
感材保管手段と、 該感材保管手段に保管されている前記 感材の温度を制御
して、該感材を予備昇温する予備昇温手段と、 前記処理液を貯留する処理槽と、 前記感材を、前記感材保管手段から搬出し、該処理槽の
処理液中に搬入する感材搬入手段と、 新たな処理液を前記処理槽の前記感材の搬入側の処理液
中に、前記感材の幅方向に亘って均一に送り出す処理液
拡散手段と、 前記処理槽から前記感材を搬出する搬出手段とを備えた
感材処理装置。
1. A light-sensitive material processing apparatus for sending a silver halide type light-sensitive material, such as photographic paper, photosensitive paper or film for direct plate making, to a processing tank for processing, wherein the light-sensitive material is treated in the processing tank. Light-shielding so that it can be carried out
A light-sensitive material storage means, a pre-heating means for controlling the temperature of the light-sensitive material stored in the light-sensitive material storage means to pre-heat the light-sensitive material, and a processing tank for storing the processing liquid, A light-sensitive material loading means for unloading the light-sensitive material from the light- sensitive material storage means and loading the light-sensitive material into the processing liquid in the processing tank; and a new processing liquid in the processing liquid on the light-sensitive material loading side of the processing tank. a processing liquid diffusion means uniformly feeding across the width direction of the sensitive material, photosensitive material processing apparatus provided with a discharge means for exiting transportable said photosensitive material from said processing bath.
【請求項2】 前記感材搬入手段は、前記感材の前記処
理槽への搬入を、前記予備昇温手段による前記感材の予
備昇温が完了後に開始する手段である請求項1記載の感
材処理装置。
2. The photosensitive material loading means according to claim 1 , wherein
The loading of the photosensitive material by the preliminary heating means should be carried out to the treatment tank.
2. A light- sensitive material processing apparatus according to claim 1, wherein the means is started after completion of the temperature raising .
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