JPH1097045A - Photosensitive material processor - Google Patents

Photosensitive material processor

Info

Publication number
JPH1097045A
JPH1097045A JP27405996A JP27405996A JPH1097045A JP H1097045 A JPH1097045 A JP H1097045A JP 27405996 A JP27405996 A JP 27405996A JP 27405996 A JP27405996 A JP 27405996A JP H1097045 A JPH1097045 A JP H1097045A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processing liquid
printing plate
developer
lithographic printing
pair
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP27405996A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kiyounosuke Yamamoto
京之介 山本
Sadao Kurio
貞夫 栗生
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Paper Mills Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Paper Mills Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Paper Mills Ltd, Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Mitsubishi Paper Mills Ltd
Priority to JP27405996A priority Critical patent/JPH1097045A/en
Publication of JPH1097045A publication Critical patent/JPH1097045A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive material processor constituted so that the processing irregularity of a photosensitive material is prevented from occurring by supplying processing solution to a squeezing roller pair. SOLUTION: A developing processor is provided with a first guide member 161 which can be switched to a first position where developer dropping from a developer supply tube 122 is guided to a processing solution coating mechanism 43 and a second position where the developer is guided to a pair of squeezing rollers 44 and 45, a second guide member 162 which can be switched to a first position where the developer dropping from a pair of rollers 44 and 45 is guided to a waste solution tank 64 and a second position where the developer is guided to a developer tank 52 and a moving lever respectively arranging the first and the second guide members 161 and 162 at the first positions when a planographic printing plate M is coated with the developer and respectively moving them to the second positions when the developer is supplied to a pair of rollers 44 and 45.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、感光材料を処理
液により処理する感光材料処理装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photosensitive material processing apparatus for processing a photosensitive material with a processing solution.

【0002】[0002]

【従来の技術】フィルム、印画紙、印刷版等の感光材料
は、画像が記録された後に、現像液、定着液、安定化
液、水洗水等の処理液によって処理される。このような
処理を行う感光材料の処理装置としては、複数の搬送ロ
ーラ対等により構成される搬送手段により処理液を貯留
した処理槽中に感光材料を搬送し、感光材料を処理液中
に浸漬することにより処理を行う浸漬型の処理装置が知
られている。
2. Description of the Related Art Photosensitive materials such as films, photographic papers, printing plates and the like are processed with a processing solution such as a developing solution, a fixing solution, a stabilizing solution, and washing water after an image is recorded. As a photosensitive material processing apparatus for performing such processing, a photosensitive material is transported into a processing tank storing a processing liquid by a transporting unit including a plurality of transport roller pairs or the like, and the photosensitive material is immersed in the processing liquid. An immersion-type processing apparatus that performs processing by such a method is known.

【0003】このような浸漬型の処理装置においては、
感光材料の処理に伴う処理疲労、あるいは大気中の炭酸
ガスや酸素による経時疲労等により処理液が劣化するた
め、処理液に補充液を補充することにより処理液の劣化
を回復させている。このため、処理開始時の処理液の成
分と、その後も処理を継続した場合の処理液の成分とは
異なることになり、厳密に均一な処理を行うことは不可
能である。また、このような浸漬型の処理装置は、処理
液の廃液量が多く、また、装置のメンテナンス性が悪い
という問題もある。
In such an immersion type processing apparatus,
Since the processing solution deteriorates due to processing fatigue accompanying the processing of the photosensitive material or temporal fatigue due to carbon dioxide or oxygen in the atmosphere, the deterioration of the processing solution is recovered by replenishing the processing solution with a replenisher. Therefore, the components of the processing liquid at the start of the processing are different from the components of the processing liquid when the processing is continued thereafter, and it is impossible to perform strictly uniform processing. In addition, such an immersion type processing apparatus has a problem that the amount of waste liquid of the processing liquid is large and the maintainability of the apparatus is poor.

【0004】このような問題点を解消するための感光材
料処理装置として、感光材料を処理液中に浸漬するかわ
りに、感光材料の処理に必要な量の処理液を感光材料の
感光面に塗布して処理を行う塗布方式の処理装置も使用
されている。例えば、特公平6−7257号公報におい
ては、このような塗布方式の処理装置として、処理液を
供給した後の感光材料の感光面にシャフトの周囲にワイ
ヤーを螺旋状に巻き付けて構成したワイヤバー等の計量
手段を当接させ、感光材料に塗布される処理液の量を計
量することにより、感光材料に処理に必要な量の処理液
のみを塗布するようにした処理装置が開示されている。
As a photosensitive material processing apparatus for solving such problems, instead of immersing the photosensitive material in the processing solution, an amount of the processing solution required for processing the photosensitive material is applied to the photosensitive surface of the photosensitive material. There is also used a coating type processing apparatus for performing the processing. For example, in Japanese Patent Publication No. 6-7257, such a coating-type processing apparatus includes a wire bar formed by spirally winding a wire around a shaft around a photosensitive surface of a photosensitive material after supplying a processing liquid. A processing apparatus is disclosed in which only a required amount of processing liquid is applied to a photosensitive material by measuring the amount of the processing liquid applied to the photosensitive material by contacting the measuring means.

【0005】そして、この処理装置においては、処理液
が塗布された感光材料を一定の距離だけ搬送した後に、
この感光材料を一対の絞りローラ間を通過させることに
より、感光材料に塗布され感光材料の処理に供された処
理液を感光材料から絞り取るように構成されている。
[0005] In this processing apparatus, after the photosensitive material coated with the processing liquid is conveyed by a certain distance,
By passing the photosensitive material between a pair of squeezing rollers, the processing liquid applied to the photosensitive material and used for processing the photosensitive material is squeezed from the photosensitive material.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】このような塗布方式の
処理装置において、例えば感光材料の処理が一定時間中
断した場合等、感光材料から絞り取った処理液が絞りロ
ーラ対の表面に付着して乾燥しつつある状態で絞りロー
ラ対に次の感光材料が搬送された場合においては、半乾
燥状態の処理液が感光材料に再付着する場合がある。こ
のように感光材料に再付着した処理液は、感光材料の処
理むらの原因となる。
In such a coating type processing apparatus, for example, when the processing of the photosensitive material is interrupted for a predetermined time, the processing liquid squeezed from the photosensitive material adheres to the surface of the pair of squeezing rollers. When the next photosensitive material is conveyed to the pair of squeezing rollers while it is drying, the processing liquid in a semi-dry state may adhere to the photosensitive material again. The processing liquid re-adhered to the photosensitive material as described above causes processing unevenness of the photosensitive material.

【0007】このような処理むらは、感光材料として銀
錯塩拡散転写法(DTR法)を利用する平版印刷版を使
用した場合において、乾燥むらとして特に顕著となる。
[0007] Such uneven processing becomes particularly remarkable as uneven drying when a lithographic printing plate utilizing a silver complex salt diffusion transfer method (DTR method) is used as a photosensitive material.

【0008】この発明は上記課題を解決するためになさ
れたものであり、絞りローラ対に処理液を供給すること
により、感光材料の処理むらを防止することのできる感
光材料処理装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a photosensitive material processing apparatus capable of preventing processing unevenness of a photosensitive material by supplying a processing liquid to a pair of squeezing rollers. With the goal.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、処理液を流下せしめる処理液供給部と、感光材料に
処理液を塗布する処理液塗布部と、前記処理液塗布部に
おいて感光材料に塗布された処理液を絞り取る絞りロー
ラ対と、前記処理液供給部から流下する処理液を前記処
理液塗布部に案内する第1の位置と、前記処理液供給部
から流下する処理液を前記絞りローラ対に案内する第2
の位置とを切り替え可能な案内部材とを備えたことを特
徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a processing liquid supply section for flowing down a processing liquid, a processing liquid applying section for applying a processing liquid to a photosensitive material, and a photosensitive liquid in the processing liquid applying section. A pair of squeezing rollers for squeezing the processing liquid applied to the material, a first position for guiding the processing liquid flowing down from the processing liquid supply unit to the processing liquid application unit, and a processing liquid flowing down from the processing liquid supply unit To the squeezing roller pair.
And a guide member capable of switching the position.

【0010】請求項2に記載の発明は、感光材料に処理
液を塗布する処理液塗布部と、前記処理液塗布部の側方
に所定距離離隔して配置され、前記処理液塗布部におい
て感光材料に塗布された処理液を絞り取る絞りローラ対
と、前記処理液塗布部および前記絞りローラ対より上方
に配置され、下方に向けて処理液を流下する処理液供給
部と、前記処理液塗布部および前記絞りローラ対より下
方に配置された処理液タンクと、処理液タンクに貯留さ
れた処理液を前記処理液供給部に圧送するポンプと、前
記処理液塗布部および前記絞りローラ対と前記処理液供
給部との間の高さ位置に配置され、前記処理液供給部か
ら流下する処理液を前記処理液塗布部に案内する第1の
位置と、前記処理液供給部から流下する処理液を前記絞
りローラ対に案内する第2の位置とを切り替え可能な第
1の案内部材と、前記絞りローラ対と前記処理液タンク
との間の高さ位置に配置され、前記絞りローラ対から流
下する処理液を排液部に案内する第1の位置と、前記絞
りローラ対から流下する処理液を前記処理液タンクに案
内する第2の位置とを切り替え可能な第2の案内部材
と、感光材料への処理液の塗布時には前記第1、第2の
案内部材を各々前記第1の位置に配置するとともに、絞
りローラ対への処理液の供給時には前記第1、第2の案
内部材を各々前記第2の位置に配置する切り替え手段と
を備えたことを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a processing liquid application section for applying a processing liquid to a photosensitive material, and a processing liquid application section disposed at a predetermined distance from a side of the processing liquid application section. A pair of squeezing rollers for squeezing the processing liquid applied to the material; a processing liquid supply unit disposed above the processing liquid application unit and the squeezing roller pair to flow the processing liquid downward; Unit and a processing liquid tank disposed below the squeezing roller pair, a pump for pumping the processing liquid stored in the processing liquid tank to the processing liquid supply unit, the processing liquid application unit and the squeezing roller pair, A first position for guiding a processing liquid flowing down from the processing liquid supply unit to the processing liquid application unit, and a processing liquid flowing down from the processing liquid supply unit; To the squeezing roller pair A first guide member that can be switched between a second position and a second position. And a second guide member capable of switching between a first position for guiding the processing liquid and a second position for guiding the processing liquid flowing down from the pair of squeezing rollers to the processing liquid tank, and application of the processing liquid to the photosensitive material. Sometimes, the first and second guide members are respectively arranged at the first position, and when the processing liquid is supplied to the pair of squeezing rollers, the first and second guide members are respectively arranged at the second position. Switching means for performing the switching.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。図1はこの発明に係る感光材料
処理装置を備えた平版印刷版の製版装置の概要図であ
る。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic diagram of a lithographic printing plate making apparatus provided with a photosensitive material processing apparatus according to the present invention.

【0012】この製版装置は、感光材料として銀錯塩拡
散転写法(DTR法)を用いた平版印刷版Mを使用し、
この平版印刷版Mに対して画像の露光と現像処理とを行
うものであり、平版印刷版Mに対して露光を行う露光装
置2と、露光後の平版印刷版Mに対して現像処理を行う
現像処理装置3とから構成される。
This plate-making apparatus uses a lithographic printing plate M using a silver complex salt diffusion transfer method (DTR method) as a photosensitive material.
The lithographic printing plate M is subjected to image exposure and development processing. The exposure apparatus 2 performs exposure to the lithographic printing plate M, and performs the development processing to the exposed lithographic printing plate M. And a development processing device 3.

【0013】なお、銀錯塩拡散転写法(DTR法)を用
いた平版印刷版、特に、ハロゲン化銀乳剤層の上に物理
現像核層を有する平版印刷版は、例えば、米国特許第
3,728,114号、同4,134,769号、同
4,160,670号、同4,336,321号、同
4,501,811号、同4,510,228号、同
4,621,041号明細書等に記載されており、露光
されたハロゲン化銀はDTR現像により化学現像を生起
し黒色の銀となり親水性の非画線部を形成し、一方、未
露光のハロゲン化銀結晶は現像液中の銀塩錯化剤により
銀錯体となって表面の物理現像核層まで拡散し、核の存
在により物理現像を生起してインキ受容性の物理現像銀
を主体とする画線部を形成する。
A lithographic printing plate using a silver complex salt diffusion transfer method (DTR method), particularly a lithographic printing plate having a physical development nucleus layer on a silver halide emulsion layer, is disclosed, for example, in US Pat. No. 3,728. No. 4,114,769, No.4,160,670, No.4,336,321, No.4,501,811, No.4,510,228, No.4,621,041 The exposed silver halide is subjected to chemical development by DTR development to become black silver to form a hydrophilic non-image area, while the unexposed silver halide crystal is The silver salt complexing agent in the developer forms a silver complex and diffuses to the physical development nucleus layer on the surface. Form.

【0014】先ず、露光装置2の構成について説明す
る。この露光装置2は、原稿ホルダー12に装着された
原稿からの反射光を、投影光学系13によって平版印刷
版Mの表面に投影することにより、平版印刷版Mに原稿
の画像を露光するものである。
First, the configuration of the exposure apparatus 2 will be described. The exposure device 2 exposes the image of the original to the lithographic printing plate M by projecting the reflected light from the original mounted on the original holder 12 onto the surface of the lithographic printing plate M by the projection optical system 13. is there.

【0015】原稿ホルダー12は、原稿を載置するため
の透光板14と、この透光板14に対して開閉可能な上
蓋15とを有し、モータ16の駆動により原稿を保持し
た状態で、図1において実線で示す位置と二点鎖線で示
す位置との間を左右方向に往復移動可能に構成されてい
る。また、投影光学系13は、原稿ホルダー12の往復
移動経路の下方に固設され、原稿ホルダー12に保持さ
れて水平移動する原稿の表面に照明光を照射するための
ロッド状の光源17と、光源17による原稿からの反射
光を案内するための複数の折返しミラー18と、複数の
折返しミラー18により案内された反射光を平版印刷版
Mに投影するための投影レンズ19とを備える。
The document holder 12 has a light-transmitting plate 14 on which a document is placed, and an upper lid 15 that can be opened and closed with respect to the light-transmitting plate 14. 1, it is configured to be reciprocally movable in the left-right direction between a position indicated by a solid line and a position indicated by a two-dot chain line. Further, the projection optical system 13 is fixed below the reciprocating movement path of the original holder 12, and a rod-shaped light source 17 for irradiating illumination light to the surface of the original horizontally moved while being held by the original holder 12; The apparatus includes a plurality of folding mirrors 18 for guiding light reflected from a document by the light source 17 and a projection lens 19 for projecting the reflected light guided by the plurality of folding mirrors 18 onto a lithographic printing plate M.

【0016】この露光装置2により平版印刷版Mに原稿
の画像を露光する際には、原稿ホルダー12を図1にお
いて実線で示す位置に配置し、上蓋15を開放して透光
板14上に原稿を載置した上で上蓋15を閉じることに
より、原稿を原稿ホルダー12に装着する。そして、光
源17を点灯した状態で、原稿ホルダー12を図1にお
ける左方向に移動させる。また、これと同期して、複数
の搬送ローラ22およびガイド部材23により、ロール
状に巻回された平版印刷版Mの先端を、原稿ホルダー1
2の移動速度と同一の速度で搬送する。これにより、原
稿ホルダー12に保持された原稿は、順次光源17から
の光の照射を受ける。そして、原稿からの反射光は複数
の折返しミラー18および投影レンズ19を介して原稿
ホルダー12と同一の速度で移動する平版印刷版Mの表
面に照射され、平版印刷版Mには原稿の画像が露光され
る。
When exposing an image of a document on the planographic printing plate M by the exposure device 2, the document holder 12 is arranged at a position shown by a solid line in FIG. The original is mounted on the original holder 12 by closing the upper cover 15 after placing the original. Then, with the light source 17 turned on, the document holder 12 is moved to the left in FIG. In synchronization with this, the leading end of the lithographic printing plate M wound in a roll by the plurality of transport rollers 22 and the guide member 23 is moved to the original holder 1.
2 is conveyed at the same speed as the moving speed. As a result, the document held in the document holder 12 is sequentially irradiated with light from the light source 17. Then, the reflected light from the original is irradiated onto the surface of the lithographic printing plate M moving at the same speed as the original holder 12 via the plurality of folding mirrors 18 and the projection lens 19, and the image of the original is printed on the lithographic printing plate M. Exposed.

【0017】画像が露光された平版印刷版Mは、露光装
置2から順次後段の現像処理装置3に搬送されて処理さ
れる。また、露光装置2の出口側には、平版印刷版Mの
搬送方向と垂直な方向に移動するカッター24を備えた
切断装置25が配設されており、この切断装置25は平
版印刷版Mを露光終了部分の後端で切断する。
The lithographic printing plate M to which the image has been exposed is sequentially conveyed from the exposing device 2 to the subsequent developing device 3 for processing. Further, a cutting device 25 having a cutter 24 that moves in a direction perpendicular to the transport direction of the lithographic printing plate M is disposed on the exit side of the exposure device 2. Cut at the rear end of the exposed part.

【0018】なお、露光装置2における平版印刷版Mの
搬送速度は現像処理装置3における平版印刷版Mの搬送
速度より低速であるため、平版印刷版Mを単純に露光装
置2と現像処理装置3とに亘って搬送することはできな
い。また、切断装置25による平版印刷版Mの切断時に
は、平版印刷版Mの搬送を停止する必要がある。このた
め、露光装置2と現像処理装置3との間には平版印刷版
Mのバッファ部26が配設されており、露光装置2にお
いて露光の終了した平版印刷版Mの搬送時に、バッファ
部26に配設された一対のローラ27、28の回転を一
定時間停止することにより、平版印刷版Mを一定長さだ
けこのバッファ部26に貯留した後、現像処理装置3に
搬送するように構成されている。
Since the transport speed of the lithographic printing plate M in the exposure device 2 is lower than the transport speed of the lithographic printing plate M in the developing device 3, the lithographic printing plate M is simply transferred to the exposure device 2 and the developing device 3. Cannot be conveyed. When the lithographic printing plate M is cut by the cutting device 25, it is necessary to stop the transport of the lithographic printing plate M. For this reason, a lithographic printing plate M buffer unit 26 is provided between the exposure device 2 and the development processing device 3, and when the lithographic printing plate M that has been exposed in the exposure device 2 is transported, the buffer unit 26 By stopping the rotation of the pair of rollers 27 and 28 disposed for a certain period of time, the lithographic printing plate M is stored in the buffer unit 26 for a certain length, and then conveyed to the developing device 3. ing.

【0019】次に、この発明に係る現像処理装置3の構
成について説明する。図2は、図1における現像処理装
置3を拡大して示す概要図であり、図3はその配管系を
示す概要図である。
Next, the configuration of the developing apparatus 3 according to the present invention will be described. FIG. 2 is an enlarged schematic view showing the developing device 3 in FIG. 1, and FIG. 3 is an outline diagram showing a piping system thereof.

【0020】この現像処理装置3は、露光後の平版印刷
版Mに現像液(アクチベータ)を塗布して現像処理する
現像部32と、現像処理後の平版印刷版Mに安定液(ス
タビライザー)を塗布して安定化処理する安定部33
と、安定化処理後の平版印刷版Mを乾燥するための乾燥
部34とから構成される。
The developing apparatus 3 includes a developing unit 32 for applying a developing solution (activator) to the exposed lithographic printing plate M and performing a developing process, and a developing solution (stabilizer) for the lithographic printing plate M after the developing process. Stabilizer 33 for applying and stabilizing
And a drying unit 34 for drying the lithographic printing plate M after the stabilization process.

【0021】現像部32は、バッファ部26のローラ2
7、28によって現像部32に搬送された平版印刷版M
を挟持して搬送する一対の導入ローラ41、42と、一
対の導入ローラ41、42によって搬送された平版印刷
版Mの感光面に一定量の現像液を計量して塗布するため
の現像液塗布機構43と、現像処理に供された現像液を
平版印刷版Mから除去するための一対の絞りローラ4
4、45と、平版印刷版Mを案内するための複数のガイ
ド部材46、47、48、49、50とを有する。
The developing section 32 includes a roller 2 of the buffer section 26.
Lithographic printing plate M conveyed to developing section 32 by 7, 28
A pair of introduction rollers 41 and 42 for nipping and transporting the developer, and a developer application for measuring and applying a fixed amount of the developer to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M transported by the pair of introduction rollers 41 and 42 A mechanism 43 and a pair of squeezing rollers 4 for removing the developer supplied to the developing process from the lithographic printing plate M;
4, 45, and a plurality of guide members 46, 47, 48, 49, 50 for guiding the lithographic printing plate M.

【0022】前記一対の導入ローラ41、42のうち下
側のローラ41は、そこを通過する平版印刷版Mを加熱
するため、ヒータを内蔵したヒートローラとなってい
る。現像処理に先立って平版印刷版Mを予め加熱するの
は、温度制御された少量の現像液を平版印刷版Mに塗布
して現像処理する際に、平版印刷版Mの熱容量により平
版印刷版Mに接触した現像液の温度が低下することを防
止するためである。
The lower roller 41 of the pair of introduction rollers 41, 42 is a heat roller having a built-in heater for heating the lithographic printing plate M passing therethrough. The lithographic printing plate M is heated in advance prior to the development process because a small amount of a temperature-controlled developer is applied to the lithographic printing plate M and the lithographic printing plate M is heated by the heat capacity of the lithographic printing plate M when developing. This is to prevent the temperature of the developer that has come into contact with the developer from decreasing.

【0023】現像液塗布機構43は、図3に示すよう
に、現像液を貯留する現像液タンク52とポンプ53を
介して接続された現像液供給管122の下方に配設され
ている。また、現像液塗布機構43の下方には回収トレ
イ54が設置されている。現像液タンク52内の現像液
はポンプ53の作用により、現像液供給管122および
第1の案内部材161を介して現像液供給機構43に送
られ、平版印刷版M上に供給される。そして、平版印刷
版Mの両端部や後端部から流出した現像液等の平版印刷
版Mに塗布されなかった現像液は、回収トレイ54上に
滴下する。さらに、この現像液は、再使用が可能なた
め、回収トレイ54の下端部に設けられた回収管55を
介して現像液タンク52の液受部56に滴下し、現像液
タンク52内に回収される。現像液タンク52には、パ
ネルヒータ57が内蔵されており、現像液タンク52か
ら現像液塗布機構43に至る現像液の循環路中を循環す
る現像液を所定の温度に維持するように構成されてい
る。
As shown in FIG. 3, the developer application mechanism 43 is disposed below a developer supply pipe 122 connected via a pump 53 to a developer tank 52 for storing the developer. A collection tray 54 is provided below the developer application mechanism 43. The developer in the developer tank 52 is sent to the developer supply mechanism 43 via the developer supply pipe 122 and the first guide member 161 by the action of the pump 53, and is supplied onto the lithographic printing plate M. Then, a developing solution that has not been applied to the lithographic printing plate M, such as a developing solution flowing out from both ends and a rear end portion of the lithographic printing plate M, is dropped onto the collection tray 54. Further, since the developing solution can be reused, the developing solution is dropped into the liquid receiving portion 56 of the developing solution tank 52 through a collecting pipe 55 provided at a lower end portion of the collecting tray 54, and collected in the developing solution tank 52. Is done. The developer tank 52 has a built-in panel heater 57 and is configured to maintain the developer circulating in the developer circulation path from the developer tank 52 to the developer application mechanism 43 at a predetermined temperature. ing.

【0024】なお、第1の案内部材161の構成につい
ては、後程詳細に説明する。
The structure of the first guide member 161 will be described later in detail.

【0025】また、一対の絞りローラ44、45の下方
には回収トレイ58が設置されている。一対の絞りロー
ラ44、45によって平版印刷版Mから除去された疲労
現像液は、再使用できないため、一対の絞りローラ4
4、45の下方に設けられた液受け部材62の回収孔6
3を通り、第2の案内部材162を介して回収トレイ5
8上に滴下する。そして、さらにこの現像液は、回収ト
レイ58の下端部に設けられた回収管59を介して排液
タンク64に排出される。
A collection tray 58 is provided below the pair of squeezing rollers 44 and 45. The fatigue developer removed from the lithographic printing plate M by the pair of squeezing rollers 44 and 45 cannot be reused.
Recovery hole 6 of liquid receiving member 62 provided below 4, 45
3 and through the second guide member 162, the collection tray 5
8 is dropped. Then, the developer is discharged to a drain tank 64 via a collection pipe 59 provided at a lower end of the collection tray 58.

【0026】なお、第2の案内部材162の構成につい
ては、後程詳細に説明する。
The structure of the second guide member 162 will be described later in detail.

【0027】現像液塗布機構43は、図4に示すよう
に、第1の案内部材161により案内された現像液を受
け止めるための、その下端部に現像液を流下させる複数
の開口部123を穿設した現像液受け部124と、その
表面に複数の溝を有し平版印刷版Mと当接して回転する
塗布ローラ125と、現像液受け部124の開口部12
3から流下した現像液を塗布ローラ125に案内するた
めの拡散フィルム126と、現像液受け部124の開口
部123から流下した現像液の逆流を防止するための逆
流防止フィルム127と、塗布ローラ125に当接する
バックアップローラ128とを有する。なお、図4にお
ける矢印は、平版印刷版Mの搬送方向を示している。
As shown in FIG. 4, the developing solution application mechanism 43 has a plurality of openings 123 for receiving the developing solution guided by the first guide member 161 at the lower end thereof for flowing the developing solution. A developing solution receiving portion 124, an application roller 125 having a plurality of grooves on its surface and rotating in contact with the lithographic printing plate M, and an opening 12 of the developing solution receiving portion 124.
A diffusion film 126 for guiding the developing solution flowing down from the developing roller 3 to the coating roller 125; a backflow preventing film 127 for preventing the developing solution flowing down from the opening 123 of the developing solution receiving portion 124; And a backup roller 128 that comes into contact with the backup roller 128. Note that the arrows in FIG. 4 indicate the transport direction of the lithographic printing plate M.

【0028】第1の案内部材161により案内された現
像液は、現像液受け部124に一旦受け取められた後、
複数の開口部123から拡散フィルム126に向けて流
下する。現像液受け部124の開口部123から流下し
た現像液は、塗布ローラ125と拡散フィルム126と
の当接部分に一旦貯留されて、平版印刷版Mの搬送方向
と直交する方向に拡散される。そして、この現像液は、
塗布ローラ125の回転に伴い、塗布ローラ125の溝
による開口部を通過して塗布ローラ125とバックアッ
プローラ128との当接部方向に移動し、そこに液溜め
を形成する。
The developer guided by the first guide member 161 is once received by the developer receiver 124,
It flows down from the plurality of openings 123 toward the diffusion film 126. The developing solution flowing down from the opening 123 of the developing solution receiving portion 124 is temporarily stored in a contact portion between the application roller 125 and the diffusion film 126, and is diffused in a direction orthogonal to the transport direction of the lithographic printing plate M. And this developer is
With the rotation of the application roller 125, the application roller 125 moves through the opening formed by the groove of the application roller 125 in the direction of the contact portion between the application roller 125 and the backup roller 128, and forms a liquid reservoir there.

【0029】そして、平版印刷版Mがこの液溜めを通過
するときに、平版印刷版Mの感光面に現像液が塗布され
る。このとき、平版印刷版Mの感光面はバックアップロ
ーラ128により塗布ローラ125の表面に押しつけら
れていることから、平版印刷版Mの感光面に塗布された
現像液は、塗布ローラ125の溝による開口部により一
定量に計量される。従って、バックアップローラ128
と塗布ローラ125との当接部を通過した平版印刷版M
の感光面には、常に現像に必要な一定量の現像液が塗布
されていることになる。
When the lithographic printing plate M passes through the liquid reservoir, a developing solution is applied to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M. At this time, since the photosensitive surface of the lithographic printing plate M is pressed against the surface of the application roller 125 by the backup roller 128, the developer applied to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M is opened by the groove of the application roller 125. It is weighed to a certain amount by the part. Therefore, the backup roller 128
Printing plate M that has passed the contact portion between
A constant amount of developer required for development is always applied to the photosensitive surface.

【0030】安定部33は、現像部32より搬送された
平版印刷版Mの感光面に一定量の安定液を計量して塗布
するための安定液塗布機構73と、安定化処理に供され
た安定液を平版印刷版Mから除去するための一対の絞り
ローラ74、75と、平版印刷版Mを案内するための複
数のガイド部材76、77、78とを有する。
The stabilizing section 33 is provided with a stabilizing liquid applying mechanism 73 for measuring and applying a constant amount of a stabilizing liquid to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M conveyed from the developing section 32 and a stabilizing process. The lithographic printing plate M includes a pair of squeezing rollers 74 and 75 for removing the stabilizing liquid from the lithographic printing plate M, and a plurality of guide members 76, 77 and 78 for guiding the lithographic printing plate M.

【0031】安定液塗布機構73は、図3に示すよう
に、安定液を貯留する安定液タンク82とポンプ83を
介して接続されている。また、安定液塗布機構73の下
方には回収トレイ84が設置されている。安定液タンク
82内の安定液はポンプ83により安定液塗布機構73
に圧送され、平版印刷版M上に供給される。そして、平
版印刷版Mの両端部や後端部から流出した安定液等の平
版印刷版Mに塗布されなかった安定液は、再使用可能な
ため、回収トレイ84上に滴下する。そして、さらにこ
の安定液は、回収トレイ84の下端部に設けられた回収
管85を介して安定液タンク82の液受部86に滴下
し、安定液タンク82内に回収される。
As shown in FIG. 3, the stabilizing liquid application mechanism 73 is connected via a pump 83 to a stabilizing liquid tank 82 for storing the stabilizing liquid. A collection tray 84 is provided below the stable liquid application mechanism 73. The stable liquid in the stable liquid tank 82 is supplied to the stable liquid applying mechanism 73 by the pump 83.
And supplied onto the lithographic printing plate M. Then, the stabilizing liquid not applied to the lithographic printing plate M, such as the stabilizing liquid flowing out from both ends and the rear end of the lithographic printing plate M, is dropped on the collection tray 84 because it can be reused. Further, the stable liquid drops into the liquid receiving section 86 of the stable liquid tank 82 via the recovery pipe 85 provided at the lower end of the recovery tray 84, and is collected in the stable liquid tank 82.

【0032】また、一対の絞りローラ74、75の下方
には回収トレイ88が設置されている。一対の絞りロー
ラ74、75によって平版印刷版Mから除去された安定
液は、一対の絞りローラ74、75の下方に設けられた
液受け部材92の回収孔93を介して回収トレイ88上
に滴下する。そして、さらにこの安定液は、再使用でき
ないため、回収トレイ88の下端部に設けられた回収管
89を介して排液タンク64に排出される。
A collection tray 88 is provided below the pair of squeezing rollers 74 and 75. The stable liquid removed from the lithographic printing plate M by the pair of squeezing rollers 74 and 75 is dropped onto the collection tray 88 via the collection holes 93 of the liquid receiving member 92 provided below the pair of squeezing rollers 74 and 75. I do. Further, since this stable liquid cannot be reused, it is discharged to the drainage tank 64 via a collecting pipe 89 provided at the lower end of the collecting tray 88.

【0033】安定液塗布機構73は、図5に示すよう
に、その下方に複数の吐出孔131が穿設された安定液
供給管132と、その下端部に安定液を流下させるため
の複数の開口部133を穿設した安定液受け部134
と、その表面が単泡性のスポンジより構成され平版印刷
版Mと当接して回転する塗布ローラ135と、その表面
が凹凸状に形成され安定液受け部134の開口部133
から流下した安定液を塗布ローラ135に案内するため
の拡散フィルム136と、平版印刷版Mを塗布ローラ1
35に向けて付勢する板バネ138とを有する。なお、
図4における矢印は、平版印刷版Mの搬送方向を示して
いる。
As shown in FIG. 5, the stabilizing liquid application mechanism 73 includes a stabilizing liquid supply pipe 132 having a plurality of discharge holes 131 formed below the stabilizing liquid supply pipe 132, and a plurality of stabilizing liquid supply pipes for flowing the stabilizing liquid downward at the lower end thereof. A stable liquid receiving portion 134 having an opening 133 formed therein.
A coating roller 135 whose surface is formed of a single-cell sponge and rotates in contact with the lithographic printing plate M; and an opening 133 of the stable liquid receiving portion 134 whose surface is formed in an uneven shape.
Film 136 for guiding the stable liquid flowing down from the coating roller 135 to the coating roller 135 and the lithographic printing plate M with the coating roller 1
And a leaf spring 138 that urges the plate spring 335. In addition,
Arrows in FIG. 4 indicate the transport direction of the lithographic printing plate M.

【0034】安定液供給管132は、前述した安定液タ
ンク82とポンプ83を介して接続されており、安定液
はポンプ83の駆動により複数の吐出孔131から吐出
される。この安定液は、安定液受け部134に一旦受け
取られた後、複数の開口部133から拡散フィルム13
6に向けて流下する。安定液受け部134の開口部13
3から流下した安定液は、塗布ローラ135と拡散フィ
ルム136との当接部分に一旦貯留されて、平版印刷版
Mの搬送方向と直交する方向に拡散される。そして、こ
の安定液は、塗布ローラ135の回転に伴い、拡散フィ
ルム136表面の凹凸による開口部を通過して塗布ロー
ラ135と板バネ138との当接部方向に移動し、そこ
に液溜めを形成する。
The stable liquid supply pipe 132 is connected to the above-mentioned stable liquid tank 82 via a pump 83, and the stable liquid is discharged from the plurality of discharge holes 131 by driving the pump 83. After the stable liquid is once received by the stable liquid receiving section 134, the diffusion film 13 passes through the plurality of openings 133.
Flow down to 6. Opening 13 of stable liquid receiving portion 134
The stable liquid flowing down from 3 is temporarily stored in a contact portion between the application roller 135 and the diffusion film 136, and is diffused in a direction orthogonal to the transport direction of the lithographic printing plate M. Then, with the rotation of the application roller 135, the stable liquid passes through the opening formed by the unevenness on the surface of the diffusion film 136, moves toward the contact portion between the application roller 135 and the leaf spring 138, and stores the liquid therein. Form.

【0035】そして、平版印刷版Mがこの液溜めを通過
するときに、平版印刷版Mの感光面に安定液が塗布され
る。このとき、平版印刷版Mの感光面は板バネ138に
より塗布ローラ135の表面に押しつけられていること
から、平版印刷版Mの感光面に塗布された安定液は、塗
布ローラ135表面の単泡性スポンジによる多数の孔に
より一定量に計量される。従って、板バネ138と塗布
ローラ135との当接部を通過した平版印刷版Mの感光
面には、常に安定に必要な一定量の安定液が塗布されて
いることになる。
When the lithographic printing plate M passes through the liquid reservoir, a stable liquid is applied to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M. At this time, since the photosensitive surface of the lithographic printing plate M is pressed against the surface of the application roller 135 by the leaf spring 138, the stable liquid applied to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M is a single bubble on the surface of the application roller 135. It is metered to a fixed volume by a number of holes made by a sponge. Therefore, a constant amount of the stabilizing liquid required for stabilization is always applied to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M that has passed through the contact portion between the leaf spring 138 and the application roller 135.

【0036】なお、板バネ138には、板バネ138と
塗布ローラ135との当接部に必要以上の安定液が貯留
され、液溜めが過度に大きくなることを防止するための
オーバフロー孔137が設けられている。
The leaf spring 138 has an overflow hole 137 for storing a stable liquid more than necessary at a contact portion between the leaf spring 138 and the application roller 135 to prevent the liquid reservoir from becoming excessively large. Is provided.

【0037】乾燥部34は、安定部33より搬送された
平版印刷版Mを支持して搬送するゴムローラ102と、
ゴムローラ102に対して所定の圧力をもって当接する
ことにより平版印刷版Mの乾燥むらを防止する鏡面ロー
ラ103と、鏡面ローラ103に対してゴムローラ10
2を介して洗浄液を供給するための洗浄液貯留部104
と、ファン105およびヒータ106を有し平版印刷版
Mに温風を吹き付けて乾燥する乾燥機構107と、平版
印刷版Mを搬送するための複数の搬送ローラ108、1
09、110とを有する。洗浄液貯留部104は、図3
に示すように、現像部32における一対の絞りローラ4
4、45に対して洗浄液を供給するための洗浄液供給管
105とポンプ106を介して接続されている。
The drying unit 34 includes a rubber roller 102 that supports and transports the lithographic printing plate M transported from the stabilizing unit 33,
A mirror roller 103 for preventing uneven drying of the lithographic printing plate M by contacting the rubber roller 102 with a predetermined pressure;
Cleaning liquid reservoir 104 for supplying the cleaning liquid via
A drying mechanism 107 having a fan 105 and a heater 106 for blowing hot air onto the lithographic printing plate M to dry it, and a plurality of transport rollers 108 for transporting the lithographic printing plate M;
09 and 110. The cleaning liquid storage unit 104 is provided as shown in FIG.
As shown in FIG.
The cleaning liquid supply pipe 105 for supplying the cleaning liquid to the cleaning liquid 4 and 45 is connected to the cleaning liquid supply pipe 105 via a pump 106.

【0038】この現像処理装置3による平版印刷版Mの
現像処理は以下のようにしてなされる。
The development processing of the planographic printing plate M by the development processing device 3 is performed as follows.

【0039】すなわち、前段の露光装置2により画像を
記録された平版印刷版Mは、一対の導入ローラ41、4
2によって搬送され、現像液塗布機構43により、平版
印刷版Mの現像処理に必要な量の現像液を塗布される。
現像処理に必要な量の現像液のみを塗布された平版印刷
版Mは、現像液塗布機構43から一対の絞りローラ4
4、45に至る空間現像部を搬送される間に、その感光
面において現像処理が完了する。そして、平版印刷版M
に付着している現像処理に供された現像液は、一対の絞
りローラ44、45により除去される。続いて、平版印
刷版Mは、安定液塗布機構73により、平版印刷版Mの
安定処理に必要な量の安定液を塗布される。安定処理に
必要な量の安定液のみを塗布された平版印刷版Mは、一
対の絞りローラ74、75まで搬送される間に安定化処
理され、平版印刷版Mに付着している安定化処理に供さ
れた安定液は、一対の絞りローラ74、75により除去
される。そして、安定化処理の終了した平版印刷版M
は、鏡面ローラ103によって押圧されることにより乾
燥むらを予防された後、乾燥機構107により乾燥処理
され、図1に示す排出トレイ29上に排出される。
That is, the lithographic printing plate M on which an image has been recorded by the exposure device 2 at the former stage is placed on a pair of introduction rollers 41 and 4.
The developing solution is applied by the developer application mechanism 43 to apply an amount of the developing solution necessary for developing the lithographic printing plate M.
The lithographic printing plate M to which only the developing solution necessary for the developing process is applied is supplied from the developing solution applying mechanism 43 to the pair of squeezing rollers 4.
The developing process is completed on the photosensitive surface while being transported through the space developing section reaching to 4, 45. And the lithographic printing plate M
The developing solution adhered to the developing process and removed by the pair of squeezing rollers 44 and 45 is removed. Subsequently, the lithographic printing plate M is applied with a stabilizing solution application mechanism 73 with an amount of stabilizing solution necessary for stabilizing the lithographic printing plate M. The lithographic printing plate M to which only the necessary amount of the stabilizing liquid for the stabilizing process is applied is stabilized while being conveyed to the pair of squeezing rollers 74 and 75, and the stabilizing process attached to the lithographic printing plate M is performed. Is removed by the pair of squeezing rollers 74 and 75. Then, the lithographic printing plate M for which the stabilization process has been completed.
After the unevenness of drying is prevented by being pressed by the mirror surface roller 103, the drying is performed by the drying mechanism 107 and discharged onto the discharge tray 29 shown in FIG.

【0040】この現像処理装置3においては、平版印刷
版Mに現像処理に必要な量の現像液のみが塗布されて現
像処理が行われるため、処理に要する現像液の使用量を
減少することが可能となる。また、平版印刷版Mに対し
て、実質的に未使用の処理液が供給されることとなるた
め、平版印刷版Mに対して常に均一な処理を施すことが
可能となる。
In this developing apparatus 3, since only the amount of developing solution necessary for the developing process is applied to the lithographic printing plate M and the developing process is performed, the amount of the developing solution required for the process can be reduced. It becomes possible. Further, since a substantially unused processing liquid is supplied to the lithographic printing plate M, the lithographic printing plate M can always be uniformly processed.

【0041】次に、この発明の特徴部分である第1、第
2の案内部材161、162およびその駆動機構につい
て説明する。図6は第1、第2の案内部材161、16
2とその駆動機構を示す概要図である。
Next, the first and second guide members 161 and 162, which are characteristic parts of the present invention, and their driving mechanisms will be described. FIG. 6 shows the first and second guide members 161 and 16.
FIG. 2 is a schematic diagram illustrating a drive mechanism 2 and a driving mechanism thereof.

【0042】第1の案内部材161は、現像液塗布機構
43および一対の絞りローラ44、45と現像液供給管
122との間の高さ位置に配置されている。この第1の
案内部材161は、現像処理装置3本体に固設された支
軸163を中心に、図6において実線で示す第1の位置
と二点鎖線で示す第2の位置との間を回動可能に構成さ
れている。この第1の位置は、図3において実線で示す
ように、現像液供給管122から流下する現像液を現像
液塗布機構43における現像液受け部124に案内する
位置であり、また、第2の位置は、図3において二点鎖
線で示すように、現像液供給管122から流下する現像
液を一対の絞りローラ44、45に案内する位置であ
る。
The first guide member 161 is disposed at a height between the developer application mechanism 43 and the pair of squeezing rollers 44 and 45 and the developer supply pipe 122. The first guide member 161 moves between a first position shown by a solid line and a second position shown by a two-dot chain line in FIG. 6 around a support shaft 163 fixed to the main body of the developing device 3. It is configured to be rotatable. The first position is a position where the developing solution flowing from the developing solution supply pipe 122 is guided to the developing solution receiving portion 124 of the developing solution application mechanism 43 as shown by a solid line in FIG. The position is a position where the developing solution flowing down from the developing solution supply pipe 122 is guided to the pair of squeezing rollers 44 and 45 as shown by a two-dot chain line in FIG.

【0043】第2の案内部材162は、一対の絞りロー
ラ44、45と現像液タンク52との間の高さ位置に配
置されている。この第2の案内部材162は、現像処理
装置3本体に固設された支軸164を中心に、図6にお
いて実線で示す第1の位置と二点鎖線で示す第2の位置
との間を回動可能に構成されている。この第1の位置
は、図3において実線で示すように、絞りローラ対4
4、45より液受け部材62の回収孔63を介して流下
する現像液を回収トレイ58に案内することにより排液
タンク64に排出するための位置であり、また、第2の
位置は、図3において二点鎖線で示すように、絞りロー
ラ対44、45より液受け部材62の回収孔63を介し
て流下する現像液を回収トレイ54に案内することによ
り現像液タンク52に回収するための位置である。
The second guide member 162 is arranged at a height between the pair of squeezing rollers 44 and 45 and the developer tank 52. The second guide member 162 moves between a first position shown by a solid line and a second position shown by a two-dot chain line in FIG. 6 around a support shaft 164 fixed to the main body of the developing device 3. It is configured to be rotatable. This first position is, as shown by the solid line in FIG.
4 and 45 are positions for guiding the developing solution flowing down from the collecting holes 63 of the liquid receiving member 62 to the collecting tray 58 to discharge the developing solution to the drainage tank 64. As shown by a two-dot chain line in FIG. 3, the developing solution flowing from the squeezing roller pairs 44 and 45 through the collecting hole 63 of the liquid receiving member 62 is guided to the collecting tray 54 to be collected in the developing solution tank 52. Position.

【0044】図6に示すように、第1の案内部材161
は、エアシリンダ165の駆動により上下移動する駆動
杆170に立設されたピン166と長孔167を介して
係合している。また、第2の案内部材162は、駆動杆
170に立設されたピン168と長孔169を介して係
合している。このため、第1の案内部材161と第2の
案内部材162とは、エアシリンダ165の駆動によ
り、上述した第1の位置と第2の位置との間を同期して
移動する。そして、駆動杆170が上昇位置にあるとき
には、第1、第2の案内部材161、162は、いずれ
も第1の位置に配置され、駆動杆170が下降位置にあ
るときには、第1、第2の案内部材は、いずれも第2の
位置に配置される。
As shown in FIG. 6, the first guide member 161
Is engaged via a long hole 167 with a pin 166 erected on a driving rod 170 that moves up and down by driving the air cylinder 165. Further, the second guide member 162 is engaged with a pin 168 erected on the drive rod 170 via a long hole 169. For this reason, the first guide member 161 and the second guide member 162 move synchronously between the above-described first position and second position by driving the air cylinder 165. When the drive rod 170 is at the raised position, the first and second guide members 161 and 162 are both located at the first position, and when the drive rod 170 is at the lowered position, the first and second guide members 161 and 162 are at the first position. Are arranged at the second position.

【0045】このため、エアシリンダ165の駆動によ
り駆動杆170を上昇位置に移動させると、現像液供給
管122から流下する現像液は、第1の案内部材161
により案内されて現像液塗布機構43における現像液受
け部124に供給される。また、絞りローラ対44、4
5より液受け部材62の回収孔63を介して流下する現
像液は、回収トレイ58を介して排液タンク64に排出
される。
Therefore, when the driving rod 170 is moved to the raised position by driving the air cylinder 165, the developing solution flowing down from the developing solution supply pipe 122 is supplied to the first guide member 161.
And supplied to the developer receiving section 124 in the developer application mechanism 43. Also, a pair of squeezing rollers 44, 4
The developing solution flowing down through the recovery hole 63 of the liquid receiving member 62 from the liquid developer 5 is discharged to the drainage tank 64 via the recovery tray 58.

【0046】一方、エアシリンダ165の駆動により駆
動杆170を下降位置に移動させると、現像液供給管1
22から流下する現像液は、第1の案内部材161によ
り案内されて一対の絞りローラ44、45に供給され
る。また、絞りローラ対44、45より液受け部材62
の回収孔63を介して流下する現像液は、回収トレイ5
4を介して現像液タンク52に回収される。
On the other hand, when the drive rod 170 is moved to the lowered position by driving the air cylinder 165, the developer supply pipe 1
The developer flowing down from 22 is guided by a first guide member 161 and supplied to a pair of squeezing rollers 44 and 45. Further, the liquid receiving member 62 is provided by the pair of squeeze rollers 44 and 45.
The developer flowing down through the collecting hole 63 of the collecting tray 5
4 and is collected in the developer tank 52.

【0047】上述したような現像処理装置3において、
平版印刷版Mの現像処理を行う場合においては、エアシ
リンダ165の駆動により駆動杆170を上昇位置に移
動させて第1、第2の案内部材161、162を各々第
1の位置に配置する。これにより、現像液供給管122
から流下する現像液は第1の案内部材161を介して現
像液塗布機構43の現像液受け部124に案内される。
そしてこの現像液は、拡散フィルム126および塗布ロ
ーラ125を介して現像液塗布機構43を通過する平版
印刷版Mに塗布される。一方、平版印刷版Mに塗布さ
れ、現像処理に供された現像液は、一対の絞りローラ4
4、45により絞り取られ、液受け部材62の回収孔6
3を介して流下する。この現像液は、再使用できないた
め、第2の案内部材162に案内され、回収トレイ58
を介して排液タンク64に排出される。
In the developing apparatus 3 as described above,
When developing the lithographic printing plate M, the driving rod 170 is moved to the raised position by driving the air cylinder 165, and the first and second guide members 161 and 162 are respectively disposed at the first position. Thereby, the developer supply pipe 122
The developer flowing down from the developing solution is guided to the developer receiving portion 124 of the developer applying mechanism 43 via the first guide member 161.
Then, the developer is applied to the lithographic printing plate M passing through the developer application mechanism 43 via the diffusion film 126 and the application roller 125. On the other hand, the developer applied to the lithographic printing plate M and subjected to the developing process is applied to a pair of squeezing rollers 4.
The collecting holes 6 of the liquid receiving member 62
Flow down through 3. Since this developer cannot be reused, it is guided by the second guide member 162 and the recovery tray 58
Through the drain tank 64.

【0048】また、この現像処理装置3において、平版
印刷版Mの現像処理を行った後、装置を一定時間以上中
断した場合においては、一対の絞りローラ44、45に
付着した現像液が半乾燥状態となって濃縮される。そし
て、処理再開時に、次の平版印刷版Mが一対の絞りロー
ラ44、45間を通過する際、この濃縮された現像液が
平版印刷版Mの感光面に再付着することにより、平版印
刷版Mの乾燥むらが生じる。このため、平版印刷版Mの
現像処理を再開する際には、一対の絞りローラ44、4
5に現像液を供給することにより、一対の絞りローラ4
4、45の表面を現像液が薄膜状に付着する通常の状態
に回復させた後、平版印刷版Mを処理する必要がある。
In the developing apparatus 3, when the lithographic printing plate M is developed and the apparatus is interrupted for a certain period of time or longer, the developer adhering to the pair of squeezing rollers 44 and 45 is semi-dried. It becomes a state and is concentrated. When the next lithographic printing plate M passes between the pair of squeezing rollers 44 and 45 when the process is resumed, the concentrated developer re-adheres to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M, and thereby the lithographic printing plate M M drying unevenness occurs. Therefore, when the developing process of the lithographic printing plate M is restarted, the pair of squeezing rollers 44, 4
5 to supply a developing solution to the pair of squeezing rollers 4.
After the surfaces of the plates 4 and 45 have been restored to a normal state in which the developer adheres in a thin film form, the lithographic printing plate M needs to be treated.

【0049】この場合においては、エアシリンダ165
の駆動により駆動杆170を下降位置に移動させて第
1、第2の案内部材161、162を各々第2の位置に
配置する。これにより、現像液供給管122から流下す
る現像液は第1の案内部材161を介して一対の絞りロ
ーラ44、45に案内される。そして、この現像液は、
濃縮された現像液が付着した一対の絞りローラ44、4
5の表面を通常の状態に復帰させる。さらに、この現像
液は、絞りローラ対44、45の表面から液受け部材6
2の回収孔63を介して流下する。この現像液は、再使
用が可能であるため、第2の案内部材162に案内さ
れ、回収トレイ54を介して現像液タンク52に回収さ
れる。
In this case, the air cylinder 165
The drive rod 170 is moved to the lowering position by the drive of, and the first and second guide members 161 and 162 are respectively arranged at the second position. Thus, the developing solution flowing down from the developing solution supply pipe 122 is guided to the pair of squeezing rollers 44 and 45 via the first guide member 161. And this developer is
A pair of squeezing rollers 44 and 4 to which the concentrated developer has adhered
The surface of No. 5 is returned to a normal state. Further, the developer is supplied from the surface of the pair of squeezing rollers 44 and 45 to the liquid receiving member 6.
It flows down through the second recovery hole 63. Since the developer can be reused, it is guided by the second guide member 162 and collected in the developer tank 52 via the collection tray 54.

【0050】このように、この実施形態に係る現像処理
装置3においては、平版印刷版Mの現像処理を一定時間
中断した後処理を再開した場合においても、第1の案内
部材161を介して予め一対の絞りローラ44、45に
現像液を供給することにより、処理後の平版印刷版Mに
乾燥むらが発生することを防止することができる。そし
て、一対の絞りローラ44、45に供給された現像液
は、第2の案内部材162を介して現像液タンク52に
回収されるので、現像液を無駄なく有効に利用すること
ができ、現像液の消費量を減少することが可能となる。
As described above, in the developing apparatus 3 according to this embodiment, even if the developing process of the lithographic printing plate M is interrupted for a certain period of time and the process is restarted, the developing process is performed via the first guide member 161 in advance. By supplying the developing solution to the pair of squeezing rollers 44 and 45, it is possible to prevent unevenness in drying of the lithographic printing plate M after processing. The developing solution supplied to the pair of squeezing rollers 44 and 45 is collected in the developing solution tank 52 via the second guide member 162, so that the developing solution can be effectively used without waste. Liquid consumption can be reduced.

【0051】このとき、現像液塗布機構43と一対の塗
布ローラ44、45との各々に現像液を供給するため、
二組のポンプ等の圧送手段を配設する必要がないことか
ら、装置を簡易化することが可能となる。
At this time, in order to supply the developing solution to each of the developing solution applying mechanism 43 and the pair of applying rollers 44 and 45,
Since there is no need to provide two sets of pumping means such as pumps, the apparatus can be simplified.

【0052】特に、この実施形態に係る現像処理装置3
においては、現像液塗布機構43および一対の塗布ロー
ラ44、45に対する現像液の供給と、一対の塗布ロー
ラ44、45からの現像液の回収および排出を、単一の
エアシリンダ165の駆動のみにより実行することがで
きるので、現像処理装置3の構成をより簡易化すること
が可能となる。
In particular, the developing apparatus 3 according to this embodiment
In the first embodiment, the supply of the developing solution to the developing solution applying mechanism 43 and the pair of applying rollers 44 and 45 and the collection and discharge of the developing solution from the pair of applying rollers 44 and 45 are performed only by driving the single air cylinder 165. Since the processing can be performed, the configuration of the developing device 3 can be further simplified.

【0053】なお、上述した実施の形態においては、感
光材料として銀錯塩拡散転写法(DTR法)を用いた平
版印刷版Mを使用し、この平版印刷版Mに現像に必要な
量の現像液のみを塗布して現像処理を行う現像処理装置
3にこの発明を適用した場合について説明したが、この
発明はその他の各種の感光材料処理装置にも適用するこ
とが可能である。
In the above-described embodiment, a lithographic printing plate M using a silver complex salt diffusion transfer method (DTR method) is used as a photosensitive material, and the lithographic printing plate M is supplied with an amount of developing solution necessary for development. Although the case where the present invention is applied to the developing apparatus 3 for performing the developing process by applying only the above is described, the present invention can also be applied to other various photosensitive material processing apparatuses.

【0054】[0054]

【発明の効果】請求項1に記載の発明によれば、処理液
供給部から流下する処理液を処理液塗布部に案内する第
1の位置と処理液供給部から流下する処理液を絞りロー
ラ対に案内する第2の位置とを切り替え可能な案内部材
を備えることから、処理液供給部より供給された処理液
を、必要に応じ処理液塗布部側から絞りローラ対側に切
り替えて供給することかでき、簡易な構成により感光材
料の処理むらを防止することができる。
According to the first aspect of the present invention, the first position for guiding the processing liquid flowing down from the processing liquid supply section to the processing liquid application section and the squeezing roller for the processing liquid flowing down from the processing liquid supply section Since a guide member that can switch between the second position for guiding to the pair is provided, the processing liquid supplied from the processing liquid supply unit is switched and supplied from the processing liquid application unit side to the squeezing roller pair side as necessary. This makes it possible to prevent uneven processing of the photosensitive material with a simple configuration.

【0055】請求項2に記載の発明によれば、処理液供
給部から流下する処理液を処理液塗布部に案内する第1
の位置と、処理液供給部から流下する処理液を絞りロー
ラ対に案内する第2の位置とを切り替え可能な第1の案
内部材と、絞りローラ対から流下する処理液を排液部に
案内する第1の位置と、絞りローラ対から流下する処理
液を処理液タンクに案内する第2の位置とを切り替え可
能な第2の案内部材と、感光材料への処理液の塗布時に
は第1、第2の案内部材を各々第1の位置に配置すると
ともに、絞りローラ対への処理液の供給時には第1、第
2の案内部材を各々第2の位置に配置する切り替え手段
とを備えることから、処理液供給部より供給された処理
液を、必要に応じ処理液塗布部側から絞りローラ対側に
切り替えて供給することかでき、簡易な構成により感光
材料の処理むらを防止することができる。また、絞りロ
ーラ対へ供給した処理液を処理液タンクに回収すること
ができるので、処理液を無駄なく有効に使用することが
できる。
According to the second aspect of the present invention, the first method for guiding the processing liquid flowing down from the processing liquid supply unit to the processing liquid application unit is provided.
And a second position for guiding the processing liquid flowing down from the processing liquid supply unit to the squeezing roller pair, and guiding the processing liquid flowing down from the squeezing roller pair to the drainage unit. And a second position for switching a first position to guide the processing liquid flowing down from the pair of squeeze rollers to the processing liquid tank, and a first position for applying the processing liquid to the photosensitive material. A second guide member disposed at the first position, and a switching means for disposing the first and second guide members at the second position when the processing liquid is supplied to the squeezing roller pair. The processing liquid supplied from the processing liquid supply unit can be switched and supplied from the processing liquid application unit side to the squeezing roller side as needed, and the processing unevenness of the photosensitive material can be prevented with a simple configuration. . Further, since the processing liquid supplied to the pair of squeezing rollers can be collected in the processing liquid tank, the processing liquid can be effectively used without waste.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】平版印刷版の製版装置の概要図である。FIG. 1 is a schematic diagram of a lithographic printing plate making apparatus.

【図2】現像処理装置3の概要図である。FIG. 2 is a schematic diagram of a developing device 3;

【図3】現像処理装置3の配管系を示す概要図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing a piping system of the developing device 3;

【図4】現像液塗布機構43を示す概要図である。FIG. 4 is a schematic view showing a developer application mechanism 43.

【図5】安定液塗布機構73を示す概要図である。FIG. 5 is a schematic view showing a stable liquid application mechanism 73.

【図6】第1、第2の案内部材161、162とその駆
動機構を示す概要図である。
FIG. 6 is a schematic diagram showing first and second guide members 161 and 162 and a driving mechanism thereof.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 露光装置 3 現像処理装置 32 現像部 33 安定部 34 乾燥部 43 現像液塗布機構 44 絞りローラ 45 絞りローラ 52 現像液タンク 53 ポンプ 54 回収トレイ 58 回収トレイ 122 現像液供給管 125 塗布ローラ 161 第1の案内部材 162 第2の案内部材 163 支軸 164 支軸 165 エアシリンダ 170 駆動杆 2 Exposure device 3 Developing device 32 Developing unit 33 Stabilizing unit 34 Drying unit 43 Developing solution application mechanism 44 Squeeze roller 45 Squeeze roller 52 Developing solution tank 53 Pump 54 Collection tray 58 Collection tray 122 Developing solution supply pipe 125 Application roller 161 First Guide member 162 second guide member 163 support shaft 164 support shaft 165 air cylinder 170 drive rod

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 処理液を流下せしめる処理液供給部と、 感光材料に処理液を塗布する処理液塗布部と、 前記処理液塗布部において感光材料に塗布された処理液
を絞り取る絞りローラ対と、 前記処理液供給部から流下する処理液を前記処理液塗布
部に案内する第1の位置と、前記処理液供給部から流下
する処理液を前記絞りローラ対に案内する第2の位置と
を切り替え可能な案内部材と、 を備えたことを特徴とする感光材料処理装置。
A processing liquid supply unit for flowing down the processing liquid; a processing liquid application unit for applying the processing liquid to the photosensitive material; and a squeezing roller pair for squeezing the processing liquid applied to the photosensitive material in the processing liquid application unit. A first position for guiding the processing liquid flowing down from the processing liquid supply unit to the processing liquid application unit, and a second position for guiding the processing liquid flowing down from the processing liquid supply unit to the squeezing roller pair. A photosensitive material processing apparatus, comprising: a guide member capable of switching between the two.
【請求項2】 感光材料に処理液を塗布する処理液塗布
部と、 前記処理液塗布部の側方に所定距離離隔して配置され、
前記処理液塗布部において感光材料に塗布された処理液
を絞り取る絞りローラ対と、 前記処理液塗布部および前記絞りローラ対より上方に配
置され、下方に向けて処理液を流下する処理液供給部
と、 前記処理液塗布部および前記絞りローラ対より下方に配
置された処理液タンクと、 処理液タンクに貯留された処理液を前記処理液供給部に
圧送するポンプと、 前記処理液塗布部および前記絞りローラ対と前記処理液
供給部との間の高さ位置に配置され、前記処理液供給部
から流下する処理液を前記処理液塗布部に案内する第1
の位置と、前記処理液供給部から流下する処理液を前記
絞りローラ対に案内する第2の位置とを切り替え可能な
第1の案内部材と、 前記絞りローラ対と前記処理液タンクとの間の高さ位置
に配置され、前記絞りローラ対から流下する処理液を排
液部に案内する第1の位置と、前記絞りローラ対から流
下する処理液を前記処理液タンクに案内する第2の位置
とを切り替え可能な第2の案内部材と、 感光材料への処理液の塗布時には前記第1、第2の案内
部材を各々前記第1の位置に配置するとともに、絞りロ
ーラ対への処理液の供給時には前記第1、第2の案内部
材を各々前記第2の位置に配置する切り替え手段と、 を備えたことを特徴とする感光材料処理装置。
2. A processing liquid application section for applying a processing liquid to a photosensitive material, and a processing liquid application section is disposed at a predetermined distance beside the processing liquid application section,
A pair of squeezing rollers for squeezing the processing liquid applied to the photosensitive material in the processing liquid application unit; and a processing liquid supply disposed above the processing liquid application unit and the squeezing roller pair to flow the processing liquid downward. A processing liquid tank disposed below the processing liquid application unit and the squeezing roller pair; a pump for pumping the processing liquid stored in the processing liquid tank to the processing liquid supply unit; and a processing liquid application unit. And a first guide disposed at a height position between the squeezing roller pair and the processing liquid supply unit to guide the processing liquid flowing down from the processing liquid supply unit to the processing liquid application unit.
And a first guide member capable of switching a position of the processing liquid flowing from the processing liquid supply unit to a second position for guiding the processing liquid to the pair of squeezing rollers; and between the squeezing roller pair and the processing liquid tank. A first position for guiding the processing liquid flowing down from the pair of squeezing rollers to the drainage section, and a second position for guiding the processing liquid flowing down from the squeezing roller pair to the processing liquid tank. A second guide member that can be switched between positions; a first guide member and a second guide member that are respectively disposed at the first position when the processing liquid is applied to the photosensitive material; And a switching means for arranging the first and second guide members at the second position when supplying the photosensitive material.
JP27405996A 1996-09-24 1996-09-24 Photosensitive material processor Pending JPH1097045A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27405996A JPH1097045A (en) 1996-09-24 1996-09-24 Photosensitive material processor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27405996A JPH1097045A (en) 1996-09-24 1996-09-24 Photosensitive material processor

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1097045A true JPH1097045A (en) 1998-04-14

Family

ID=17536404

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP27405996A Pending JPH1097045A (en) 1996-09-24 1996-09-24 Photosensitive material processor

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1097045A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2769645B2 (en) Sensitive material processing equipment
EP0824224B1 (en) Apparatus for processing photosensitive material
JP3421513B2 (en) Photosensitive material processing equipment
JPH1097045A (en) Photosensitive material processor
JP3492863B2 (en) Photosensitive material processing equipment
JP3455372B2 (en) Photosensitive material processing equipment
JP3488344B2 (en) Photosensitive material processing equipment
JP3455371B2 (en) Photosensitive material processing equipment
JPH1062943A (en) Processing liquid supplying device of photosensitive material processing device
JP3442585B2 (en) Processing solution tank for photosensitive material processing equipment
JPH1062944A (en) Method for washing wringer roller of photosensitive material processing device and washing device therefor
JPH1062953A (en) Photosensitive material processing device
JPH1062942A (en) Photosensitive material processing device
JPH10123723A (en) Roller cleaning device for photosensitive material processor
JPH10115935A (en) Processing liquid supply device for photoreceptive material processor
JPH1097046A (en) Processing solution supply device for photosensitive material processor
JPH1097049A (en) Drying device for photosensitive material processor
JPH1062947A (en) Photosensitive material processing device
JP3455373B2 (en) Photosensitive material processing equipment
JPH1083052A (en) Processing solution supply device for photosensitive material processor
JPH1083051A (en) Photosensitive material processor
JP3623661B2 (en) Photosensitive material processing equipment
JPH10115902A (en) Cleaning liquid supplying device for photosensitive material processor
JPH1097047A (en) Photosensitive material processor
JPH04194936A (en) Processing method for photosensitive material