JPH1083052A - Processing solution supply device for photosensitive material processor - Google Patents

Processing solution supply device for photosensitive material processor

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Publication number
JPH1083052A
JPH1083052A JP25742796A JP25742796A JPH1083052A JP H1083052 A JPH1083052 A JP H1083052A JP 25742796 A JP25742796 A JP 25742796A JP 25742796 A JP25742796 A JP 25742796A JP H1083052 A JPH1083052 A JP H1083052A
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JP
Japan
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processing
processing liquid
liquid
developer
printing plate
Prior art date
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Pending
Application number
JP25742796A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Sadao Kurio
貞夫 栗生
Kiyounosuke Yamamoto
京之介 山本
Yoshikazu Takano
佳和 高野
Akira Kunihiro
彰 国弘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Paper Mills Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Paper Mills Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Paper Mills Ltd, Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Mitsubishi Paper Mills Ltd
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Publication of JPH1083052A publication Critical patent/JPH1083052A/en
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  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a processing solution supply device for photosensitive material processor capable of making processing solution uniformly flow down from plural processing solution dropping parts. SOLUTION: Developer supply parts 122 are constituted of a liquid receiving part 165 and an overflow tube 166 whose lower end part is used as the developer dropping part 161. Besides, the end part 164 of a branching tube 163 on the branched side is connected to the liquid receiving parts 165 of the supply parts 122 and the other end is connected to a developer tank 52 through a pump 53. Then, developer forcibly carrier by driving the pump 53 is branched in three directions by the tube 163 and made to flow in the respective receiving parts 165. When the liquid level of the developer becomes equal to or over the fixed level, the developer overflows the upper end of the tube 166 and drops down from the dropping parts 161 of the lower end part of the tube 166.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、感光材料を処理
液により処理する感光材料処理装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photosensitive material processing apparatus for processing a photosensitive material with a processing solution.

【0002】[0002]

【従来の技術】フィルム、印画紙、印刷版等の感光材料
は、画像が記録された後に、現像液、定着液、安定化
液、水洗水等の処理液によって処理される。このような
処理を行う感光材料の処理装置としては、複数の搬送ロ
ーラ対等により構成される搬送手段により処理液を貯留
した処理槽中に感光材料を搬送し、感光材料を処理液中
に浸漬することにより処理を行う浸漬型の処理装置が知
られている。
2. Description of the Related Art Photosensitive materials such as films, photographic papers, printing plates and the like are processed with a processing solution such as a developing solution, a fixing solution, a stabilizing solution, and washing water after an image is recorded. As a photosensitive material processing apparatus for performing such processing, a photosensitive material is transported into a processing tank storing a processing liquid by a transporting unit including a plurality of transport roller pairs or the like, and the photosensitive material is immersed in the processing liquid. An immersion-type processing apparatus that performs processing by such a method is known.

【0003】このような浸漬型の処理装置においては、
感光材料の処理に伴う処理疲労、あるいは大気中の炭酸
ガスや酸素による経時疲労等により処理液が劣化するた
め、処理液に補充液を補充することにより処理液の劣化
を回復させている。このため、処理開始時の処理液の成
分と、その後も処理を継続した場合の処理液の成分とは
異なることになり、厳密に均一な処理を行うことは不可
能である。また、このような浸漬型の処理装置は、処理
液の廃液量が多く、また、装置のメンテナンス性が悪い
という問題もある。
In such an immersion type processing apparatus,
Since the processing solution deteriorates due to processing fatigue accompanying the processing of the photosensitive material or temporal fatigue due to carbon dioxide or oxygen in the atmosphere, the deterioration of the processing solution is recovered by replenishing the processing solution with a replenisher. Therefore, the components of the processing liquid at the start of the processing are different from the components of the processing liquid when the processing is continued thereafter, and it is impossible to perform strictly uniform processing. In addition, such an immersion type processing apparatus has a problem that the amount of waste liquid of the processing liquid is large and the maintainability of the apparatus is poor.

【0004】このような問題点を解消するための感光材
料処理装置として、感光材料を処理液中に浸漬するかわ
りに、感光材料の処理に必要な量の処理液を感光材料の
感光面に塗布して処理を行う塗布方式の処理装置も使用
されている。例えば、特開昭62−237455号公報
においては、このような塗布方式の処理装置として、複
数の処理液流下孔を有する処理液供給ノズルから、その
表面に溝を形成すること等によりその表面を粗面化した
ローラ(以下「粗面化ローラ」と呼称する)に処理液を
流下すると共に、この粗面化ローラを感光材料と当接し
て回転させることにより、当該粗面化ローラを介して感
光材料に処理液を塗布する処理装置が開示されている。
そして、この処理装置においては、処理液供給ノズルと
して、その一端が閉止され下方に複数の処理液流下孔を
有するパイプが使用されており、ポンプにより圧送した
処理液を複数の処理液流下孔より流下させる構成となっ
ている。
As a photosensitive material processing apparatus for solving such problems, instead of immersing the photosensitive material in the processing solution, an amount of the processing solution required for processing the photosensitive material is applied to the photosensitive surface of the photosensitive material. There is also used a coating type processing apparatus for performing the processing. For example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-237455, such a coating type processing apparatus is provided with a processing liquid supply nozzle having a plurality of processing liquid flowing holes, and a groove formed on the surface to form a groove on the surface. The processing liquid flows down onto a roughened roller (hereinafter, referred to as a "roughening roller"), and the roughening roller is rotated while being in contact with the photosensitive material through the roughening roller. A processing apparatus for applying a processing liquid to a photosensitive material is disclosed.
In this processing apparatus, as the processing liquid supply nozzle, a pipe having one end closed and having a plurality of processing liquid down holes is used, and the processing liquid pumped by a pump is supplied from the plurality of processing liquid down holes. It is configured to flow down.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】このように、その一端
が閉止され下方に複数の処理液流下孔を有するパイプ内
に処理液を圧送した場合においては、特に少量の処理液
を供給する場合において、複数の処理液流下孔から流下
される処理液の量が各流下孔ごとに異なり、処理液を均
一に流下することが困難となる。このため、感光材料に
塗布される処理液の量も、感光材料の幅方向(感光材料
の搬送方向と直交する方向)において均一にならないこ
とから、処理後の感光材料に処理液の塗布量の差異に起
因する処理むらが発生する。
As described above, when the processing liquid is fed under pressure into a pipe having one end closed and having a plurality of processing liquid flowing holes below, particularly when a small amount of processing liquid is supplied. In addition, the amount of the processing liquid flowing down from the plurality of processing liquid flow-down holes differs for each flow-down hole, making it difficult to flow the processing liquid uniformly. Therefore, the amount of the processing solution applied to the photosensitive material is not uniform in the width direction of the photosensitive material (the direction orthogonal to the direction in which the photosensitive material is conveyed). Processing unevenness due to the difference occurs.

【0006】このような現象は、感光材料として現像の
進行が速い銀錯塩拡散転写法(DTR法)を利用する平
版印刷版を使用した場合において特に顕著となる。
[0006] Such a phenomenon is particularly remarkable when a lithographic printing plate utilizing a silver complex salt diffusion transfer method (DTR method) is used as a photosensitive material, in which development proceeds rapidly.

【0007】この発明は上記課題を解決するためになさ
れたものであり、複数の処理液流下部から均一に処理液
を流下することのできる感光材料処理装置の処理液供給
装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a processing liquid supply apparatus for a photosensitive material processing apparatus, which can uniformly flow a processing liquid from a plurality of lower portions of a processing liquid. Aim.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、感光材料に処理液を供給する感光材料処理装置の処
理液供給装置であって、処理液を貯留する処理液タンク
と、前記処理液タンクに貯留された処理液を圧送するポ
ンプと、分岐側の端部が複数の液受部に接続され、他方
の端部が前記ポンプを介して前記処理液タンクに接続さ
れた分岐管と、前記複数の液受部の各々に配設され、そ
の下端部を処理液流下部とする複数のオーバフロー管と
を備え、前記ポンプにより前記処理液タンクから前記複
数の液受部に圧送され、前記複数のオーバフロー管より
オーバフローすることにより前記処理液流下部から流下
する処理液を感光材料に供給することを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a processing solution supply device for a photosensitive material processing apparatus for supplying a processing solution to a photosensitive material, wherein the processing solution tank stores the processing solution; A pump for pressure-feeding the processing liquid stored in the processing liquid tank, and a branch pipe having a branch end connected to the plurality of liquid receivers and the other end connected to the processing liquid tank via the pump. And a plurality of overflow pipes disposed at each of the plurality of liquid receiving portions and having a lower end portion as a processing liquid flow lower portion, wherein the pump is pumped from the processing liquid tank to the plurality of liquid receiving portions by the pump. The processing liquid flowing down from the lower part of the processing liquid by overflowing from the plurality of overflow pipes is supplied to the photosensitive material.

【0009】請求項2に記載の発明は、感光材料に処理
液を供給する感光材料処理装置の処理液供給装置であっ
て、処理液を貯留する処理液タンクと、処理液を流下す
るための複数の処理液流下部が配設された液受部と、前
記処理液タンクから前記液受部に処理液を供給する処理
液供給手段と、前記液受部に貯留される処理液の液位を
制御するオーバフロー管と、前記オーバフロー管よりオ
ーバフローした処理液を前記処理液タンクに回収するた
めの回収路とを備え、前記処理液流下部から流下する処
理液を感光材料に供給することを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a processing liquid supply device for a photosensitive material processing apparatus for supplying a processing liquid to a photosensitive material, comprising: a processing liquid tank for storing the processing liquid; A liquid receiving portion provided with a plurality of processing liquid flow lower portions, processing liquid supply means for supplying a processing liquid from the processing liquid tank to the liquid receiving portion, and a liquid level of the processing liquid stored in the liquid receiving portion And a recovery path for collecting the processing liquid overflowing from the overflow pipe into the processing liquid tank, and supplying the processing liquid flowing down from the lower part of the processing liquid to the photosensitive material. And

【0010】請求項3に記載の発明は、請求項2に記載
の発明において、前記処理液供給手段は、処理液供給孔
を有する供給管と、前記処理液タンクと前記供給管の一
端とを接続する処理液の供給路と、前記供給管の他端と
前記処理液タンクとを接続する処理液の回収路と、前記
供給路中に配設され、前記処理液タンク中の処理液を前
記供給管に向けて圧送するポンプとを有している。
According to a third aspect of the present invention, in the second aspect, the processing liquid supply means includes a supply pipe having a processing liquid supply hole, the processing liquid tank, and one end of the supply pipe. A processing liquid supply path to be connected, a processing liquid recovery path connecting the other end of the supply pipe to the processing liquid tank, and a processing liquid disposed in the supply path, the processing liquid in the processing liquid tank And a pump for pumping toward the supply pipe.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。図1はこの発明に係る感光材料
処理装置を備えた平版印刷版の製版装置の概要図であ
る。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic diagram of a lithographic printing plate making apparatus provided with a photosensitive material processing apparatus according to the present invention.

【0012】この製版装置は、感光材料として銀錯塩拡
散転写法(DTR法)を用いた平版印刷版Mを使用し、
この平版印刷版Mに対して画像の露光と現像処理とを行
うものであり、平版印刷版Mに対して露光を行う露光装
置2と、露光後の平版印刷版Mに対して現像処理を行う
現像処理装置3とから構成される。
This plate-making apparatus uses a lithographic printing plate M using a silver complex salt diffusion transfer method (DTR method) as a photosensitive material.
The lithographic printing plate M is subjected to image exposure and development processing. The exposure apparatus 2 performs exposure to the lithographic printing plate M, and performs the development processing to the exposed lithographic printing plate M. And a development processing device 3.

【0013】なお、銀錯塩拡散転写法(DTR法)を用
いた平版印刷版、特に、ハロゲン化銀乳剤層の上に物理
現像核層を有する平版印刷版は、例えば、米国特許第
3,728,114号、同4,134,769号、同
4,160,670号、同4,336,321号、同
4,501,811号、同4,510,228号、同
4,621,041号明細書等に記載されており、露光
されたハロゲン化銀はDTR現像により化学現像を生起
し黒色の銀となり親水性の非画線部を形成し、一方、未
露光のハロゲン化銀結晶は現像液中の銀塩錯化剤により
銀錯体となって表面の物理現像核層まで拡散し、核の存
在により物理現像を生起してインキ受容性の物理現像銀
を主体とする画線部を形成する。
A lithographic printing plate using a silver complex salt diffusion transfer method (DTR method), particularly a lithographic printing plate having a physical development nucleus layer on a silver halide emulsion layer, is disclosed, for example, in US Pat. No. 3,728. No. 4,114,769, No.4,160,670, No.4,336,321, No.4,501,811, No.4,510,228, No.4,621,041 The exposed silver halide is subjected to chemical development by DTR development to become black silver to form a hydrophilic non-image area, while the unexposed silver halide crystal is The silver salt complexing agent in the developer forms a silver complex and diffuses to the physical development nucleus layer on the surface. Form.

【0014】先ず、露光装置2の構成について説明す
る。この露光装置2は、原稿ホルダー12に装着された
原稿からの反射光を、投影光学系13によって平版印刷
版Mの表面に投影することにより、平版印刷版Mに原稿
の画像を露光するものである。
First, the configuration of the exposure apparatus 2 will be described. The exposure device 2 exposes the image of the original to the lithographic printing plate M by projecting the reflected light from the original mounted on the original holder 12 onto the surface of the lithographic printing plate M by the projection optical system 13. is there.

【0015】原稿ホルダー12は、原稿を載置するため
の透光板14と、この透光板14に対して開閉可能な上
蓋15とを有し、モータ16の駆動により原稿を保持し
た状態で、図1において実線で示す位置と二点鎖線で示
す位置との間を左右方向に往復移動可能に構成されてい
る。また、投影光学系13は、原稿ホルダー12の往復
移動経路の下方に固設され、原稿ホルダー12に保持さ
れて水平移動する原稿の表面に照明光を照射するための
ロッド状の光源17と、光源17による原稿からの反射
光を案内するための複数の折返しミラー18と、複数の
折返しミラー18により案内された反射光を平版印刷版
Mに投影するための投影レンズ19とを備える。
The document holder 12 has a light-transmitting plate 14 on which a document is placed, and an upper lid 15 that can be opened and closed with respect to the light-transmitting plate 14. 1, it is configured to be reciprocally movable in the left-right direction between a position indicated by a solid line and a position indicated by a two-dot chain line. Further, the projection optical system 13 is fixed below the reciprocating movement path of the original holder 12, and a rod-shaped light source 17 for irradiating illumination light to the surface of the original horizontally moved while being held by the original holder 12; The apparatus includes a plurality of folding mirrors 18 for guiding light reflected from a document by the light source 17 and a projection lens 19 for projecting the reflected light guided by the plurality of folding mirrors 18 onto a lithographic printing plate M.

【0016】この露光装置2により平版印刷版Mに原稿
の画像を露光する際には、原稿ホルダー12を図1にお
いて実線で示す位置に配置し、上蓋15を開放して透光
板14上に原稿を載置した上で上蓋15を閉じることに
より、原稿を原稿ホルダー12に装着する。そして、光
源17を点灯した状態で、原稿ホルダー12を図1にお
ける左方向に移動させる。また、これと同期して、複数
の搬送ローラ22およびガイド部材23により、ロール
状に巻回された平版印刷版Mの先端を、原稿ホルダー1
2の移動速度と同一の速度で搬送する。これにより、原
稿ホルダー12に保持された原稿は、順次光源17から
の光の照射を受ける。そして、原稿からの反射光は複数
の折返しミラー18および投影レンズ19を介して原稿
ホルダー12と同一の速度で移動する平版印刷版Mの表
面に照射され、平版印刷版Mには原稿の画像が露光され
る。
When exposing an image of a document on the planographic printing plate M by the exposure device 2, the document holder 12 is arranged at a position shown by a solid line in FIG. The original is mounted on the original holder 12 by closing the upper cover 15 after placing the original. Then, with the light source 17 turned on, the document holder 12 is moved to the left in FIG. In synchronization with this, the leading end of the lithographic printing plate M wound in a roll by the plurality of transport rollers 22 and the guide member 23 is moved to the original holder 1.
2 is conveyed at the same speed as the moving speed. As a result, the document held in the document holder 12 is sequentially irradiated with light from the light source 17. Then, the reflected light from the original is irradiated onto the surface of the lithographic printing plate M moving at the same speed as the original holder 12 via the plurality of folding mirrors 18 and the projection lens 19, and the image of the original is printed on the lithographic printing plate M. Exposed.

【0017】画像が露光された平版印刷版Mは、露光装
置2から順次後段の現像処理装置3に搬送されて処理さ
れる。また、露光装置2の出口側には、平版印刷版Mの
搬送方向と垂直な方向に移動するカッター24を備えた
切断装置25が配設されており、この切断装置25は平
版印刷版Mを露光終了部分の後端で切断する。
The lithographic printing plate M to which the image has been exposed is sequentially conveyed from the exposing device 2 to the subsequent developing device 3 for processing. Further, a cutting device 25 having a cutter 24 that moves in a direction perpendicular to the transport direction of the lithographic printing plate M is disposed on the exit side of the exposure device 2. Cut at the rear end of the exposed part.

【0018】なお、露光装置2における平版印刷版Mの
搬送速度は現像処理装置3における平版印刷版Mの搬送
速度より低速であるため、平版印刷版Mを単純に露光装
置2と現像処理装置3とに亘って搬送することはできな
い。また、切断装置25による平版印刷版Mの切断時に
は、平版印刷版Mの搬送を停止する必要がある。このた
め、露光装置2と現像処理装置3との間には平版印刷版
Mのバッファ部26が配設されており、露光装置2にお
いて露光の終了した平版印刷版Mの搬送時に、バッファ
部26に配設された一対のローラ27、28の回転を一
定時間停止することにより、平版印刷版Mを一定長さだ
けこのバッファ部26に貯留した後、現像処理装置3に
搬送するように構成されている。
Since the transport speed of the lithographic printing plate M in the exposure device 2 is lower than the transport speed of the lithographic printing plate M in the developing device 3, the lithographic printing plate M is simply transferred to the exposure device 2 and the developing device 3. Cannot be conveyed. When the lithographic printing plate M is cut by the cutting device 25, it is necessary to stop the transport of the lithographic printing plate M. For this reason, a lithographic printing plate M buffer unit 26 is provided between the exposure device 2 and the development processing device 3, and when the lithographic printing plate M that has been exposed in the exposure device 2 is transported, the buffer unit 26 By stopping the rotation of the pair of rollers 27 and 28 disposed for a certain period of time, the lithographic printing plate M is stored in the buffer unit 26 for a certain length, and then conveyed to the developing device 3. ing.

【0019】次に、この発明に係る現像処理装置3の構
成について説明する。図2は、図1における現像処理装
置3を拡大して示す概要図であり、図3はその配管系を
示す概要図である。
Next, the configuration of the developing apparatus 3 according to the present invention will be described. FIG. 2 is an enlarged schematic view showing the developing device 3 in FIG. 1, and FIG. 3 is an outline diagram showing a piping system thereof.

【0020】この現像処理装置3は、露光後の平版印刷
版Mに現像液(アクチベータ)を塗布して現像処理する
現像部32と、現像処理後の平版印刷版Mに安定液(ス
タビライザー)を塗布して安定化処理する安定部33
と、安定化処理後の平版印刷版Mを乾燥するための乾燥
部34とから構成される。
The developing apparatus 3 includes a developing unit 32 for applying a developing solution (activator) to the exposed lithographic printing plate M and performing a developing process, and a developing solution (stabilizer) for the lithographic printing plate M after the developing process. Stabilizer 33 for applying and stabilizing
And a drying unit 34 for drying the lithographic printing plate M after the stabilization process.

【0021】現像部32は、バッファ部26のローラ2
7、28によって現像部32に搬送された平版印刷版M
を挟持して搬送する一対の導入ローラ41、42と、一
対の導入ローラ41、42によって搬送された平版印刷
版Mの感光面に一定量の現像液を計量して塗布するため
の現像液塗布機構43と、現像処理に供された現像液を
平版印刷版Mから除去するための一対の絞りローラ4
4、45と、平版印刷版Mを案内するための複数のガイ
ド部材46、47、48、49、50とを有する。
The developing section 32 includes a roller 2 of the buffer section 26.
Lithographic printing plate M conveyed to developing section 32 by 7, 28
A pair of introduction rollers 41 and 42 for nipping and transporting the developer, and a developer application for measuring and applying a fixed amount of the developer to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M transported by the pair of introduction rollers 41 and 42 A mechanism 43 and a pair of squeezing rollers 4 for removing the developer supplied to the developing process from the lithographic printing plate M;
4, 45, and a plurality of guide members 46, 47, 48, 49, 50 for guiding the lithographic printing plate M.

【0022】前記一対の導入ローラ41、42のうち下
側のローラ41は、そこを通過する平版印刷版Mを加熱
するため、ヒータを内蔵したヒートローラとなってい
る。現像処理に先立って平版印刷版Mを予め加熱するの
は、温度制御された少量の現像液を平版印刷版Mに塗布
して現像処理する際に、平版印刷版Mの熱容量により平
版印刷版Mに接触した現像液の温度が低下することを防
止するためである。
The lower roller 41 of the pair of introduction rollers 41, 42 is a heat roller having a built-in heater for heating the lithographic printing plate M passing therethrough. The lithographic printing plate M is heated in advance prior to the development process because a small amount of a temperature-controlled developer is applied to the lithographic printing plate M and the lithographic printing plate M is heated by the heat capacity of the lithographic printing plate M when developing. This is to prevent the temperature of the developer that has come into contact with the developer from decreasing.

【0023】現像液塗布機構43は、図3に示すよう
に、現像液を貯留する現像液タンク52とポンプ53を
介して接続されている。また、現像液塗布機構43の下
方には回収トレイ54が設置されている。現像液タンク
52内の現像液はポンプ53により現像液塗布機構43
に圧送され、平版印刷版M上に供給される。そして、平
版印刷版Mの両端部や後端部から流出した現像液等の平
版印刷版Mに塗布されなかった現像液は、回収トレイ5
4上に滴下する。さらに、この現像液は、再使用が可能
なため、回収トレイ54の下端部に設けられた回収管5
5を介して現像液タンク52の液受部56に滴下し、現
像液タンク52内に回収される。現像液タンク52に
は、パネルヒータ57が内蔵されており、現像液タンク
52から現像液塗布機構43に至る現像液の循環路中を
循環する現像液を所定の温度に維持するように構成され
ている。
As shown in FIG. 3, the developing solution application mechanism 43 is connected via a pump 53 to a developing solution tank 52 for storing the developing solution. A collection tray 54 is provided below the developer application mechanism 43. The developing solution in a developing solution tank 52 is pumped by a pump 53 to a developing solution application mechanism 43.
And supplied onto the lithographic printing plate M. Then, the developer not applied to the lithographic printing plate M, such as the developing solution flowing out from both ends and the rear end of the lithographic printing plate M, is collected on a collecting tray 5.
4. Drop on top. Further, since this developer can be reused, the collection tube 5 provided at the lower end of the collection tray 54 is provided.
5, the liquid is dropped into the liquid receiving portion 56 of the developer tank 52 and collected in the developer tank 52. The developer tank 52 has a built-in panel heater 57 and is configured to maintain the developer circulating in the developer circulation path from the developer tank 52 to the developer application mechanism 43 at a predetermined temperature. ing.

【0024】また、一対の絞りローラ44、45の下方
には回収トレイ58が設置されている。一対の絞りロー
ラ44、45によって平版印刷版Mから除去された疲労
現像液は、再使用できないため、一対の絞りローラ4
4、45の下方に設けられた液受け部材62の回収孔6
3を介して回収トレイ58上に滴下する。そして、さら
にこの現像液は、回収トレイ58の下端部に設けられた
回収管59を介して排液タンク64に排出される。
A collection tray 58 is provided below the pair of squeezing rollers 44 and 45. The fatigue developer removed from the lithographic printing plate M by the pair of squeezing rollers 44 and 45 cannot be reused.
Recovery hole 6 of liquid receiving member 62 provided below 4, 45
3 and is dropped onto the collection tray 58. Then, the developer is discharged to a drain tank 64 via a collection pipe 59 provided at a lower end of the collection tray 58.

【0025】現像液塗布機構43は、図4に示すよう
に、現像液供給部122と、その下端部に現像液を流下
させるための複数の開口部123を穿設した現像液受け
部124と、その表面に複数の溝を有し平版印刷版Mと
当接して回転する塗布ローラ125と、現像液受け部1
24の開口部123から流下した現像液を塗布ローラ1
25に案内するための拡散フィルム126と、現像液受
け部124の開口部123から流下した現像液の逆流を
防止するための逆流防止フィルム127と、塗布ローラ
125に当接するバックアップローラ128とを有す
る。なお、図4における矢印は、平版印刷版Mの搬送方
向を示している。
As shown in FIG. 4, the developing solution applying mechanism 43 includes a developing solution supply unit 122 and a developing solution receiving unit 124 having a plurality of openings 123 formed at the lower end thereof for flowing the developing solution. A coating roller 125 having a plurality of grooves on its surface and rotating in contact with the lithographic printing plate M;
24 is applied to the application roller 1
25, a backflow prevention film 127 for preventing the backflow of the developing solution flowing down from the opening 123 of the developing solution receiving portion 124, and a backup roller 128 contacting the application roller 125. . Note that the arrows in FIG. 4 indicate the transport direction of the lithographic printing plate M.

【0026】現像液供給部122は、前述した現像液タ
ンク52とポンプ53を介して接続されており、現像液
はポンプ53の駆動により後述する複数の現像液流下部
161から流下される。この現像液は、現像液受け部1
24に一旦受け取られた後、複数の開口部123から拡
散フィルム126に向けて流下する。現像液受け部12
4の開口部123から流下した現像液は、塗布ローラ1
25と拡散フィルム126との当接部分に一旦貯留され
て、平版印刷版Mの搬送方向と直交する方向に拡散され
る。そして、この現像液は、塗布ローラ125の回転に
伴い、塗布ローラ125の溝による開口部を通過して塗
布ローラ125とバックアップローラ128との当接部
方向に移動し、そこに液溜めを形成する。
The developing solution supply section 122 is connected to the developing solution tank 52 via a pump 53, and the developing solution flows down from a plurality of developing solution flowing portions 161 described later by driving the pump 53. This developer is supplied to the developer receiver 1
After being once received at 24, it flows down toward the diffusion film 126 from the plurality of openings 123. Developer receiving section 12
The developer flowing down from the opening 123 of the coating roller 1
The lithographic printing plate M is temporarily stored in a contact portion between the lithographic printing plate M and the diffusion film 126 and is diffused in a direction orthogonal to the conveying direction. Then, with the rotation of the application roller 125, the developer passes through the opening formed by the groove of the application roller 125 and moves in the direction of the contact portion between the application roller 125 and the backup roller 128, forming a liquid reservoir there. I do.

【0027】そして、平版印刷版Mがこの液溜めを通過
するときに、平版印刷版Mの感光面に現像液が塗布され
る。このとき、平版印刷版Mの感光面はバックアップロ
ーラ128により塗布ローラ125の表面に押しつけら
れていることから、平版印刷版Mの感光面に塗布された
現像液は、塗布ローラ125の溝による開口部により一
定量に計量される。従って、バックアップローラ128
と塗布ローラ125との当接部を通過した平版印刷版M
の感光面には、常に現像に必要な一定量の現像液が塗布
されていることになる。
When the lithographic printing plate M passes through the liquid reservoir, a developing solution is applied to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M. At this time, since the photosensitive surface of the lithographic printing plate M is pressed against the surface of the application roller 125 by the backup roller 128, the developer applied to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M is opened by the groove of the application roller 125. It is weighed to a certain amount by the part. Therefore, the backup roller 128
Printing plate M that has passed the contact portion between
A constant amount of developer required for development is always applied to the photosensitive surface.

【0028】なお、現像液供給部122の構成について
は、後程詳細に説明する。
The structure of the developer supply section 122 will be described later in detail.

【0029】安定部33は、現像部32より搬送された
平版印刷版Mの感光面に一定量の安定液を計量して塗布
するための安定液塗布機構73と、安定化処理に供され
た安定液を平版印刷版Mから除去するための一対の絞り
ローラ74、75と、平版印刷版Mを案内するための複
数のガイド部材76、77、78とを有する。
The stabilizing section 33 is provided with a stabilizing liquid applying mechanism 73 for measuring and applying a constant amount of a stabilizing liquid to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M conveyed from the developing section 32 and a stabilizing process. The lithographic printing plate M includes a pair of squeezing rollers 74 and 75 for removing the stabilizing liquid from the lithographic printing plate M, and a plurality of guide members 76, 77 and 78 for guiding the lithographic printing plate M.

【0030】安定液塗布機構73は、図3に示すよう
に、安定液を貯留する安定液タンク82とポンプ83を
介して接続されている。また、安定液塗布機構73の下
方には回収トレイ84が設置されている。安定液タンク
82内の安定液はポンプ83により安定液塗布機構73
に圧送され、平版印刷版M上に供給される。そして、平
版印刷版Mの両端部や後端部から流出した安定液等の平
版印刷版Mに塗布されなかった安定液は、再使用可能な
ため、回収トレイ84上に滴下する。そして、さらにこ
の安定液は、回収トレイ84の下端部に設けられた回収
管85を介して安定液タンク82の液受部86に滴下
し、安定液タンク82内に回収される。
As shown in FIG. 3, the stabilizing solution application mechanism 73 is connected to a stabilizing solution tank 82 for storing a stabilizing solution via a pump 83. A collection tray 84 is provided below the stable liquid application mechanism 73. The stable liquid in the stable liquid tank 82 is supplied to the stable liquid applying mechanism 73 by the pump 83.
And supplied onto the lithographic printing plate M. Then, the stabilizing liquid not applied to the lithographic printing plate M, such as the stabilizing liquid flowing out from both ends and the rear end of the lithographic printing plate M, is dropped on the collection tray 84 because it can be reused. Further, the stable liquid drops into the liquid receiving section 86 of the stable liquid tank 82 via the recovery pipe 85 provided at the lower end of the recovery tray 84, and is collected in the stable liquid tank 82.

【0031】また、一対の絞りローラ74、75の下方
には回収トレイ88が設置されている。一対の絞りロー
ラ74、75によって平版印刷版Mから除去された安定
液は、一対の絞りローラ74、75の下方に設けられた
液受け部材92の回収孔93を介して回収トレイ88上
に滴下する。そして、さらにこの安定液は、再使用でき
ないため、回収トレイ88の下端部に設けられた回収管
89を介して排液タンク64に排出される。
A collection tray 88 is provided below the pair of squeezing rollers 74 and 75. The stable liquid removed from the lithographic printing plate M by the pair of squeezing rollers 74 and 75 is dropped onto the collection tray 88 via the collection holes 93 of the liquid receiving member 92 provided below the pair of squeezing rollers 74 and 75. I do. Further, since this stable liquid cannot be reused, it is discharged to the drainage tank 64 via a collecting pipe 89 provided at the lower end of the collecting tray 88.

【0032】安定液塗布機構73は、図5に示すよう
に、安定液供給部132と、その下端部に安定液を流下
させるための複数の開口部133を穿設した安定液受け
部134と、その表面が単泡性のスポンジより構成され
平版印刷版Mと当接して回転する塗布ローラ135と、
その表面が凹凸状に形成され安定液受け部134の開口
部133から流下した安定液を塗布ローラ135に案内
するための拡散フィルム136と、平版印刷版Mを塗布
ローラ135に向けて付勢する板バネ138とを有す
る。なお、図4における矢印は、平版印刷版Mの搬送方
向を示している。
As shown in FIG. 5, the stabilizing solution applying mechanism 73 includes a stabilizing solution supply portion 132, a stabilizing solution receiving portion 134 having a plurality of openings 133 at the lower end thereof for allowing the stabilizing solution to flow down. An application roller 135 whose surface is formed of a single-cell sponge and rotates in contact with the lithographic printing plate M;
The diffusion film 136 for guiding the stable liquid flowing from the opening 133 of the stable liquid receiving portion 134 to the application roller 135 and the lithographic printing plate M are urged toward the application roller 135. And a leaf spring 138. Note that the arrows in FIG. 4 indicate the transport direction of the lithographic printing plate M.

【0033】安定液供給部132は、前述した安定液タ
ンク82とポンプ83を介して接続されており、安定液
はポンプ83の駆動により複数の安定液流下部181か
ら流下される。この安定液は、安定液受け部134に一
旦受け取られた後、複数の開口部133から拡散フィル
ム136に向けて流下する。安定液受け部134の開口
部133から流下した安定液は、塗布ローラ135と拡
散フィルム136との当接部分に一旦貯留されて、平版
印刷版Mの搬送方向と直交する方向に拡散される。そし
て、この安定液は、塗布ローラ135の回転に伴い、拡
散フィルム136表面の凹凸による開口部を通過して塗
布ローラ135と板バネ138との当接部方向に移動
し、そこに液溜めを形成する。
The stable liquid supply unit 132 is connected to the above-mentioned stable liquid tank 82 via a pump 83, and the stable liquid flows down from a plurality of stable liquid flow lower parts 181 by driving the pump 83. After the stable liquid is once received by the stable liquid receiving unit 134, it flows down from the plurality of openings 133 toward the diffusion film 136. The stable liquid that has flowed down from the opening 133 of the stable liquid receiving portion 134 is temporarily stored in a contact portion between the application roller 135 and the diffusion film 136, and is diffused in a direction orthogonal to the transport direction of the lithographic printing plate M. Then, with the rotation of the application roller 135, the stable liquid passes through the opening formed by the unevenness on the surface of the diffusion film 136, moves toward the contact portion between the application roller 135 and the leaf spring 138, and stores the liquid therein. Form.

【0034】そして、平版印刷版Mがこの液溜めを通過
するときに、平版印刷版Mの感光面に安定液が塗布され
る。このとき、平版印刷版Mの感光面は板バネ138に
より塗布ローラ135の表面に押しつけられていること
から、平版印刷版Mの感光面に塗布された安定液は、塗
布ローラ135表面の単泡スポンジによる多数の孔によ
り一定量に計量される。従って、板バネ138と塗布ロ
ーラ135との当接部を通過した平版印刷版Mの感光面
には、常に安定に必要な一定量の安定液が塗布されてい
ることになる。
When the lithographic printing plate M passes through the liquid reservoir, a stabilizing solution is applied to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M. At this time, since the photosensitive surface of the lithographic printing plate M is pressed against the surface of the application roller 135 by the leaf spring 138, the stable liquid applied to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M is a single bubble on the surface of the application roller 135. It is metered to a constant volume by a number of holes with a sponge. Therefore, a constant amount of the stabilizing liquid required for stabilization is always applied to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M that has passed through the contact portion between the leaf spring 138 and the application roller 135.

【0035】なお、板バネ138には、板バネ138と
塗布ローラ135との当接部に必要以上の安定液が貯留
され、液溜めが過度に大きくなることを防止するための
オーバフロー孔137が設けられている。
The leaf spring 138 has an overflow hole 137 for storing a stable liquid more than necessary at a contact portion between the leaf spring 138 and the application roller 135 to prevent the liquid reservoir from becoming excessively large. Is provided.

【0036】乾燥部34は、安定部33より搬送された
平版印刷版Mを支持して搬送するゴムローラ102と、
ゴムローラ102に対して所定の圧力をもって当接する
ことにより平版印刷版Mの乾燥むらを防止する鏡面ロー
ラ103と、鏡面ローラ103に対してゴムローラ10
2を介して洗浄液を供給するための洗浄液貯留部104
と、ファン105およびヒータ106を有し平版印刷版
Mに温風を吹き付けて乾燥する乾燥機構107と、平版
印刷版Mを搬送するための複数の搬送ローラ108、1
09、110とを有する。洗浄液貯留部104は、図3
に示すように、現像部32における一対の絞りローラ4
4、45に対して洗浄液を供給するための洗浄液供給管
105とポンプ106を介して接続されている。
The drying unit 34 includes a rubber roller 102 that supports and transports the lithographic printing plate M transported from the stabilizing unit 33,
A mirror roller 103 for preventing uneven drying of the lithographic printing plate M by contacting the rubber roller 102 with a predetermined pressure;
Cleaning liquid reservoir 104 for supplying the cleaning liquid via
A drying mechanism 107 having a fan 105 and a heater 106 for blowing hot air onto the lithographic printing plate M to dry it, and a plurality of transport rollers 108 for transporting the lithographic printing plate M;
09 and 110. The cleaning liquid storage unit 104 is provided as shown in FIG.
As shown in FIG.
The cleaning liquid supply pipe 105 for supplying the cleaning liquid to the cleaning liquid 4 and 45 is connected to the cleaning liquid supply pipe 105 via a pump 106.

【0037】この現像処理装置3による平版印刷版Mの
現像処理は以下のようにしてなされる。
The development processing of the lithographic printing plate M by the development processing device 3 is performed as follows.

【0038】すなわち、前段の露光装置2により画像を
記録された平版印刷版Mは、一対の導入ローラ41、4
2によって搬送され、現像液塗布機構43により、平版
印刷版Mの現像処理に必要な量の現像液を塗布される。
現像処理に必要な量の現像液のみを塗布された平版印刷
版Mは、現像液塗布機構43から一対の絞りローラ4
4、45に至る空間現像部を搬送される間に、その感光
面において現像処理が完了する。そして、平版印刷版M
に付着している現像処理に供された現像液は、一対の絞
りローラ44、45により除去される。続いて、平版印
刷版Mは、安定液塗布機構73により、平版印刷版Mの
安定処理に必要な量の安定液を塗布される。安定処理に
必要な量の安定液のみを塗布された平版印刷版Mは、一
対の絞りローラ74、75まで搬送される間に安定化処
理され、平版印刷版Mに付着している安定化処理に供さ
れた安定液は、一対の絞りローラ74、75により除去
される。そして、安定化処理の終了した平版印刷版M
は、鏡面ローラ103によって押圧されることにより乾
燥むらを予防された後、乾燥機構107により乾燥処理
され、図1に示す排出トレイ29上に排出される。
That is, the lithographic printing plate M, on which an image has been recorded by the exposure device 2 at the preceding stage, is transferred to the pair of introduction rollers 41, 4
The developing solution is applied by the developer application mechanism 43 to apply an amount of the developing solution necessary for developing the lithographic printing plate M.
The lithographic printing plate M to which only the developing solution necessary for the developing process is applied is supplied from the developing solution applying mechanism 43 to the pair of squeezing rollers 4.
The developing process is completed on the photosensitive surface while being transported through the space developing section reaching to 4, 45. And the lithographic printing plate M
The developing solution adhered to the developing process and removed by the pair of squeezing rollers 44 and 45 is removed. Subsequently, the lithographic printing plate M is applied with a stabilizing solution application mechanism 73 with an amount of stabilizing solution necessary for stabilizing the lithographic printing plate M. The lithographic printing plate M to which only the necessary amount of the stabilizing liquid for the stabilizing process is applied is stabilized while being conveyed to the pair of squeezing rollers 74 and 75, and the stabilizing process attached to the lithographic printing plate M is performed. Is removed by the pair of squeezing rollers 74 and 75. Then, the lithographic printing plate M for which the stabilization process has been completed.
After the unevenness of drying is prevented by being pressed by the mirror surface roller 103, the drying is performed by the drying mechanism 107 and discharged onto the discharge tray 29 shown in FIG.

【0039】この現像処理装置3においては、平版印刷
版Mに現像処理に必要な量の現像液のみが塗布されて現
像処理が行われるため、処理に要する現像液の使用量を
減少することが可能となる。また、平版印刷版Mに対し
て、実質的に未使用の処理液が供給されることとなるた
め、平版印刷版Mに対して常に均一な処理を施すことが
可能となる。
In the developing apparatus 3, since only the developing solution required for the developing process is applied to the lithographic printing plate M and the developing process is performed, the amount of the developing solution required for the process can be reduced. It becomes possible. Further, since a substantially unused processing liquid is supplied to the lithographic printing plate M, the lithographic printing plate M can always be uniformly processed.

【0040】次に、この発明の特徴部分である現像液供
給部122等の構成について説明する。図6は、現像液
供給部122と現像液タンク52とを分岐管163によ
り接続した状態を示す概要図である。
Next, the structure of the developing solution supply section 122 and the like, which are characteristic parts of the present invention, will be described. FIG. 6 is a schematic diagram illustrating a state in which the developer supply unit 122 and the developer tank 52 are connected by a branch pipe 163.

【0041】この図において、122は前述した現像液
供給部であり、各々、液受部165と、この液受部16
5内に配設されその下端部を前述した現像液流下部16
1としたオーバフロー管166とから構成されている。
また、163は軟質樹脂製ののチューブより構成される
分岐管であり、この分岐管163の分岐側の端部164
は、各々、現像液供給部122の液受部165と接続さ
れている。さらに、分岐管163の他方の端部は、前述
した現像液タンク52とポンプ53を介して接続されて
いる。
In this figure, reference numeral 122 denotes the above-mentioned developing solution supply units, which are respectively a liquid receiving unit 165 and a liquid receiving unit 16.
5 and the lower end thereof is connected to the developer
1 and an overflow pipe 166.
Reference numeral 163 denotes a branch pipe composed of a tube made of a soft resin, and an end 164 of the branch pipe 163 on the branch side.
Are connected to the liquid receiving section 165 of the developing liquid supply section 122, respectively. Further, the other end of the branch pipe 163 is connected to the developer tank 52 described above via a pump 53.

【0042】なお、図6においては一部を省略して図示
しているが、分岐管163はポンプ53により圧送され
た現像液を3方に分岐するものであり、その分岐側の端
部164は3個の現像液供給部122と接続されてい
る。そして、各現像液供給部122は、平版印刷版Mの
搬送方向と直交する方向(図3および図4における紙面
に垂直な方向)に等間隔に設置されている。
Although part of the drawing is omitted in FIG. 6, the branch pipe 163 branches the developing solution pumped by the pump 53 into three directions. Are connected to three developer supply units 122. The developer supply sections 122 are arranged at equal intervals in a direction perpendicular to the transport direction of the lithographic printing plate M (a direction perpendicular to the plane of FIG. 3 and FIG. 4).

【0043】このような構成において、ポンプ53の駆
動により現像液タンク52内に貯留された現像液を圧送
した場合においては、この現像液は分岐管163により
3方に分岐し、各液受部165に流入する。そして、こ
の現像液の液位が一定以上となると、現像液は各オーバ
フロー管166の上端よりオーバフローし、オーバフロ
ー管下端部の現像液流下部161より流下する。
In such a configuration, when the developing solution stored in the developing solution tank 52 is pumped by the driving of the pump 53, the developing solution is branched into three directions by the branch pipe 163, and the respective liquid receiving portions are formed. 165. When the liquid level of the developer becomes equal to or more than a certain level, the developer overflows from the upper end of each overflow pipe 166 and flows down from the lower part 161 of the developer at the lower end of the overflow pipe.

【0044】このとき、各現像液供給部122における
オーバフロー管166の上端の高さ位置を同一高さとし
ておくことにより、現像液タンク52から各現像液供給
部122に供給されオーバフロー管166下端部の現像
液流下部161より流下する現像液の量を同一量とする
ことができる。従って、現像液塗布機構43における現
像液受け部124に対し、平版印刷版Mの搬送方向と直
交する方向に均一に現像液を供給することが可能とな
る。
At this time, by setting the height position of the upper end of the overflow pipe 166 in each developer supply section 122 to the same height, the lower end of the overflow pipe 166 supplied from the developer tank 52 to each developer supply section 122 is provided. The amount of the developing solution flowing down from the developing solution downstream part 161 can be the same. Therefore, it is possible to uniformly supply the developing solution to the developing solution receiving portion 124 in the developing solution application mechanism 43 in a direction orthogonal to the transport direction of the lithographic printing plate M.

【0045】なお、上述したオーバフロー管166の内
径は、現像液の粘度や表面張力、あるいはその供給量等
により適宜選択されるが、1〜5mmとすることが好ま
しい。
The inner diameter of the overflow tube 166 is appropriately selected depending on the viscosity and surface tension of the developing solution, the amount of the supplied developer, and the like, but is preferably 1 to 5 mm.

【0046】図6に示す実施の形態においては、ポンプ
53により圧送された現像液を3個の現像液供給部12
2に分岐しているが、必要に応じ、ポンプ53により圧
送された現像液を2〜5個程度あるいはそれ以上の現像
液供給部122に分岐するようにしてもよい。
In the embodiment shown in FIG. 6, the developer supplied under pressure by the pump 53 is supplied to three developer supply units 12.
2, the developing solution pumped by the pump 53 may be branched to about 2 to 5 or more developing solution supply units 122 as needed.

【0047】また、図6に示す実施の形態においては、
各現像液供給部122の現像液流下部161より流下し
た現像液を、現像液塗布機構43における現像液受け部
124を介して塗布ローラ125に供給するようにして
いるが、各現像液流下部161より塗布ローラ125に
直接現像液を流下させるようにしてもよい。
Also, in the embodiment shown in FIG.
The developing solution flowing down from the developing solution flowing section 161 of each developing solution supply section 122 is supplied to the application roller 125 via the developing solution receiving section 124 of the developing solution applying mechanism 43. Alternatively, the developer may flow down directly to the application roller 125 from 161.

【0048】なお、安定液塗布機構73における安定液
供給部132も、上記現像液供給部122と同様の構造
を有するものであり、安定液タンク82に貯留した安定
液をポンプ83の駆動により安定液供給部132に圧送
して各安定液流下部181から流下させる構成となって
いる。
The stable liquid supply unit 132 of the stable liquid application mechanism 73 has the same structure as the above-mentioned developer supply unit 122. The stable liquid stored in the stable liquid tank 82 is stabilized by driving the pump 83. The structure is such that the liquid is fed to the liquid supply unit 132 and flows down from each stable liquid flow lower part 181.

【0049】上述した実施の形態によれば、各現像液供
給部122におけるオーバフロー管166の上端の高さ
位置を同一高さとしておくことにより、各現像液流下部
161より流下する現像液量を同一量とすることができ
る。このため、少量の現像液を供給する場合において
も、現像液を均一に供給することが可能となる。
According to the above-described embodiment, by setting the height position of the upper end of the overflow pipe 166 in each developer supply section 122 to the same height, the amount of the developer flowing down from each developer lower part 161 is reduced. It can be the same amount. Therefore, even when a small amount of the developer is supplied, the developer can be supplied uniformly.

【0050】次に、この発明の第2の実施形態について
説明する。図7は、第2実施形態に係る現像液供給部2
22を上述した現像液タンク52およびポンプ53と接
続した状態を示す概要図である。
Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 7 shows a developer supply unit 2 according to the second embodiment.
FIG. 3 is a schematic diagram showing a state in which the liquid supply 22 is connected to a developer tank 52 and a pump 53 described above.

【0051】この現像液供給部222は、第1実施形態
に係る現像液供給部122と同様、現像液塗布機構43
における現像液受け部124の上方に設置されるもので
あり、平版印刷版Mの搬送方向と直交する方向(図3お
よび図4における紙面に垂直な方向)に延びる現像液供
給管231と、現像液供給管231の外側を囲う液受管
232と、液受管232の下方に配設された一対のオー
バフロー管233とを有する。
The developer supply section 222 is similar to the developer supply section 122 according to the first embodiment, and has a developer application mechanism 43.
, A developer supply pipe 231 extending in a direction perpendicular to the transport direction of the lithographic printing plate M (a direction perpendicular to the plane of FIG. 3 and FIG. 4); It has a liquid receiving pipe 232 surrounding the outside of the liquid supply pipe 231 and a pair of overflow pipes 233 disposed below the liquid receiving pipe 232.

【0052】現像液供給管231の下方位置には、2個
の現像液供給孔234が穿設されている。また、現像液
供給管231の一端は、供給管路235により、ポンプ
53を介して現像液タンク52と接続されている。さら
に、現像液供給管231の他端は、回収管路236によ
り現像液タンク52と接続されている。
Two developer supply holes 234 are formed below the developer supply pipe 231. One end of the developer supply pipe 231 is connected to the developer tank 52 via a pump 53 by a supply pipe 235. Further, the other end of the developer supply pipe 231 is connected to the developer tank 52 by a recovery pipe 236.

【0053】液受管232の下方位置には、現像液流下
部としての現像液流下孔241が等ピッチで3個穿設さ
れている。また、3個の現像液流下孔241の両側には
上記オーバフロー管233が配設されている。このオー
バフロー管233の上端部の高さ位置は、いずれも液受
管232の最下端部よりhの高さとなっている。各オー
バフロー管233は、回収管路237により現像液タン
ク52と接続されている。なお、242は液受管232
上方に穿設された空気抜き孔である。
Below the liquid receiving tube 232, three developer flow holes 241 are formed at an equal pitch as a developer flow lower part. The overflow pipes 233 are provided on both sides of the three developer flow holes 241. The height position of the upper end of the overflow pipe 233 is h higher than the lowermost end of the liquid receiving pipe 232. Each overflow pipe 233 is connected to the developer tank 52 by a recovery pipe 237. 242 is a liquid receiving tube 232
This is an air vent hole drilled upward.

【0054】このような構成において、ポンプ53の駆
動により現像液タンク52内に貯留された現像液を圧送
した場合においては、この現像液は供給管路235を介
して現像液供給管231内に流入した後、回収管路23
6を介して現像液タンク52内に回収されることにより
循環される。そして、この循環路を循環する現像液の一
部が、現像液供給管231に穿設された2個の現像液供
給孔234から液受管232内に供給される。そして、
液受管内に貯留された現像液の液位がh以上となると、
現像液は各オーバフロー管233の上端よりオーバフロ
ーし、回収管路237を介して現像液タンク52に回収
される。
In such a configuration, when the developing solution stored in the developing solution tank 52 is pumped by the driving of the pump 53, the developing solution flows into the developing solution supply pipe 231 through the supply pipe 235. After the inflow, the recovery line 23
6 and is circulated by being collected in the developer tank 52. Then, a part of the developer circulating in the circulation path is supplied into the liquid receiving tube 232 from two developer supply holes 234 formed in the developer supply tube 231. And
When the liquid level of the developer stored in the liquid receiving pipe becomes h or more,
The developer overflows from the upper end of each overflow pipe 233 and is collected in the developer tank 52 through the collection pipe 237.

【0055】また、現像液供給孔234から液受管23
2内に供給された現像液の一部は、液受管232に穿設
された3個の現像液流下孔241から現像液塗布機構4
3における現像液受け部124上に流下する。このと
き、液受管232内においては、現像液の液位は一定値
hを維持していることから、各現像液流下孔241から
流下する現像液の流下量は均一となる。また、各現像液
流下孔241からの現像液の流下量は現像液の液位hに
より決定されることから、現像液供給管231に供給さ
れる現像液の圧力等が変化した場合においても、各現像
液流下孔241からの現像液の流下量が変化することは
ない。
The developer supply hole 234 is connected to the liquid receiving tube 23.
A part of the developing solution supplied to the inside of the developing solution application mechanism 4 is supplied from three developing solution flowing holes 241 formed in the solution receiving pipe 232.
3 flows down onto the developer receiving portion 124. At this time, in the liquid receiving pipe 232, since the liquid level of the developing solution is maintained at the constant value h, the flowing amount of the developing solution flowing down from each developing solution flowing hole 241 is uniform. Further, since the amount of the developer flowing down from each developer flowing down hole 241 is determined by the liquid level h of the developer, even when the pressure of the developer supplied to the developer supply pipe 231 changes, The flow amount of the developer from each developer flow hole 241 does not change.

【0056】なお、上述した現像液供給管231におけ
る現像液供給孔234の数は1〜3個とすることが好ま
しく、その直径は0.5〜2mmとすることが好まし
い。また、液受管232における現像液流下孔241の
数は2〜5個とすることが好ましく、その直径は1〜2
mmとすることが好ましい。
The number of the developer supply holes 234 in the developer supply pipe 231 is preferably 1 to 3 and the diameter is preferably 0.5 to 2 mm. Further, it is preferable that the number of the developer flowing holes 241 in the liquid receiving pipe 232 is 2 to 5, and the diameter thereof is 1 to 2
mm is preferable.

【0057】図7に示す実施の形態においては、液受管
232における現像液流下孔241より流下した現像液
を、現像液塗布機構43における現像液受け部124を
介して塗布ローラ125に供給するようにしているが、
各現像液流下孔241より直接塗布ローラ125に現像
液を流下させるようにしてもよい。
In the embodiment shown in FIG. 7, the developing solution flowing down from the developing solution flowing hole 241 in the liquid receiving tube 232 is supplied to the application roller 125 via the developing solution receiving portion 124 of the developing solution applying mechanism 43. But
The developing solution may flow down to the application roller 125 directly from each developing solution flowing hole 241.

【0058】上述した実施の形態によれば、液受管23
2内の現像液の液位を一定に維持しておくことにより、
各現像液流下孔241から流下する現像液の流下量を均
一とすることができる。また、各現像液流下孔241か
らの現像液の流下量は現像液の液位hにより決定される
ことから、この液位hを調整することにより、各現像液
流下孔241からの現像液の流下量を制御することも可
能となる。
According to the above-described embodiment, the liquid receiving pipe 23
By keeping the level of the developer in 2 constant,
The amount of the developer flowing down from each developer flowing down hole 241 can be made uniform. Further, since the amount of the developer flowing down from each developer flowing down hole 241 is determined by the liquid level h of the developing solution, by adjusting the liquid level h, the amount of the developer flowing from each developer flowing down hole 241 is adjusted. It is also possible to control the flow rate.

【0059】また、上述した実施の形態によれば、ポン
プ52により現像液を現像液タンク52から現像液供給
管231に圧送し、この現像液を現像液供給管231か
ら回収管路236を介して現像液タンク52に回収する
ことにより現像液を循環させるとともに、その現像液の
一部を現像液流下孔241から流下させる構成を採用す
ることから、現像液が常に循環していることになり、平
版印刷版Mに塗布される現像液の成分を常に均一なもの
とすることができる。また、この現像液の循環により、
現像液タンク52内に配設されたパネルヒータ57によ
る温度制御をより効率的に行うことが可能となる。
Further, according to the above-described embodiment, the developing solution is pumped from the developing solution tank 52 to the developing solution supply pipe 231 by the pump 52, and the developing solution is supplied from the developing solution supply pipe 231 to the recovery pipe 236. The developing solution is circulated by collecting the developing solution in the developing solution tank 52 and circulating a part of the developing solution through the developing solution flowing hole 241. The components of the developer applied to the lithographic printing plate M can always be made uniform. Also, due to the circulation of the developer,
The temperature control by the panel heater 57 provided in the developer tank 52 can be performed more efficiently.

【0060】上述した実施の形態においては、いずれ
も、感光材料として銀錯塩拡散転写法(DTR法)を用
いた平版印刷版Mを使用し、この平版印刷版Mに現像に
必要な量の現像液のみを塗布して現像処理を行う現像処
理装置3にこの発明を適用した場合について説明した
が、この発明はその他の各種の感光材料処理装置にも適
用することが可能である。
In each of the above-described embodiments, a lithographic printing plate M using a silver complex salt diffusion transfer method (DTR method) is used as a photosensitive material, and the lithographic printing plate M is developed in an amount necessary for development. Although a case has been described where the present invention is applied to the developing apparatus 3 which performs a developing process by applying only a liquid, the present invention can be applied to other various photosensitive material processing apparatuses.

【0061】[0061]

【発明の効果】請求項1に記載の発明によれば、処理液
タンクから分岐管を介して複数の液受部に圧送された処
理液を当該液受部に各々配設されたオーバフロー管から
オーバフローさせ、この処理液をオーバフロー管下端部
の複数の処理液流下部から流下させることにより感光材
料に供給することから、各処理液流下部からの処理液の
流下量を均一にすることができる。
According to the first aspect of the present invention, the processing liquid pumped from the processing liquid tank to the plurality of liquid receiving parts via the branch pipes is supplied from the overflow pipes respectively arranged in the liquid receiving parts. The processing solution is caused to overflow, and the processing solution is supplied to the photosensitive material by flowing down from a plurality of lower portions of the processing solution at the lower end of the overflow pipe. Therefore, the amount of the processing solution flowing down from each lower portion of the processing solution can be made uniform. .

【0062】請求項2に記載の発明によれば、一定の液
位で処理液を貯留する液受部に配設された複数の処理液
流下部から処理液を流下させることにより感光材料に供
給することから、各処理液流下部からの処理液の流下量
を均一にすることができる。
According to the second aspect of the present invention, the processing liquid is supplied to the photosensitive material by flowing down the processing liquid from a plurality of lower portions of the processing liquid disposed in the liquid receiving portion for storing the processing liquid at a constant liquid level. Therefore, the flow rate of the processing liquid from the lower part of each processing liquid can be made uniform.

【0063】請求項3に記載の発明によれば、処理液タ
ンクから液受部に処理液を供給する処理液供給手段が、
処理液供給孔を有する供給管と、処理液タンクと供給管
の一端とを接続する処理液の供給路と、供給管の他端と
処理液タンクとを接続する処理液の回収路と、供給路中
に配設され処理液タンク中の処理液を前記供給管に向け
て圧送するポンプとを有することから、処理液を循環さ
せながらその処理液の一部を均一に流下させることがで
きる。
According to the third aspect of the present invention, the processing liquid supply means for supplying the processing liquid from the processing liquid tank to the liquid receiving section includes:
A supply pipe having a processing liquid supply hole, a processing liquid supply path connecting the processing liquid tank to one end of the supply pipe, a processing liquid recovery path connecting the other end of the supply pipe to the processing liquid tank, Since there is a pump disposed in the path and for pumping the processing liquid in the processing liquid tank toward the supply pipe, a part of the processing liquid can flow down uniformly while circulating the processing liquid.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】平版印刷版の製版装置の概要図である。FIG. 1 is a schematic diagram of a lithographic printing plate making apparatus.

【図2】現像処理装置3の概要図である。FIG. 2 is a schematic diagram of a developing device 3;

【図3】現像処理装置3の配管系を示す概要図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing a piping system of the developing device 3;

【図4】現像液塗布機構43を示す概要図である。FIG. 4 is a schematic view showing a developer application mechanism 43.

【図5】安定液塗布機構73を示す概要図である。FIG. 5 is a schematic view showing a stable liquid application mechanism 73.

【図6】第1実施形態に係る現像液供給部122等を示
す概要図である。
FIG. 6 is a schematic diagram illustrating a developer supply unit 122 and the like according to the first embodiment.

【図7】第2実施形態に係る現像液供給部222等を示
す概要図である。
FIG. 7 is a schematic diagram illustrating a developer supply unit 222 and the like according to a second embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 露光装置 3 現像処理装置 32 現像部 33 安定部 34 乾燥部 43 現像液塗布機構 52 現像液タンク 53 ポンプ 73 安定液塗布機構 82 安定液タンク 83 ポンプ 122 現像液供給部 132 安定液供給部 161 現像液流下部 163 分岐管 165 液受部 166 オーバフロー管 181 安定液流下部 231 現像液供給管 232 液受管 233 オーバフロー管 234 現像液供給孔 235 供給管路 236 回収管路 237 回収管路 241 現像液流下孔 2 Exposure device 3 Development processing device 32 Developing unit 33 Stabilizing unit 34 Drying unit 43 Developing solution applying mechanism 52 Developing solution tank 53 Pump 73 Stabilizing solution applying mechanism 82 Stabilizing solution tank 83 Pump 122 Developing solution supply unit 132 Stabilizing solution supply unit 161 Development Lower part of liquid flow 163 Branch pipe 165 Liquid receiver 166 Overflow pipe 181 Lower part of stable liquid 231 Developer supply pipe 232 Liquid receiver 233 Overflow pipe 234 Developer supply hole 235 Supply pipeline 236 Recovery pipeline 237 Recovery pipeline 241 Developer Downhole

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 京之介 東京都千代田区丸の内3丁目4番2号 三 菱製紙株式会社内 (72)発明者 高野 佳和 東京都千代田区丸の内3丁目4番2号 三 菱製紙株式会社内 (72)発明者 国弘 彰 東京都千代田区丸の内3丁目4番2号 三 菱製紙株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Kyonosuke Yamamoto 3-4-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Inside Mitsui Paper Co., Ltd. (72) Yoshikazu Takano 3-4-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo No. 2 Mitsubishi Paper Mills Co., Ltd. (72) Akira Kunihiro, Inventor 3-4-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo No. 3 Mitsubishi Paper Mills Co., Ltd.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 感光材料に処理液を供給する感光材料処
理装置の処理液供給装置であって、 処理液を貯留する処理液タンクと、 前記処理液タンクに貯留された処理液を圧送するポンプ
と、 分岐側の端部が複数の液受部に接続され、他方の端部が
前記ポンプを介して前記処理液タンクに接続された分岐
管と、 前記複数の液受部の各々に配設され、その下端部を処理
液流下部とする複数のオーバフロー管とを備え、 前記ポンプにより前記処理液タンクから前記複数の液受
部に圧送され、前記複数のオーバフロー管よりオーバフ
ローすることにより前記処理液流下部から流下する処理
液を感光材料に供給することを特徴とする感光材料処理
装置の処理液供給装置。
1. A processing liquid supply device of a photosensitive material processing apparatus for supplying a processing liquid to a photosensitive material, comprising: a processing liquid tank for storing the processing liquid; and a pump for pressure-feeding the processing liquid stored in the processing liquid tank. A branch pipe having an end on the branch side connected to the plurality of liquid receivers and the other end connected to the processing liquid tank via the pump; and A plurality of overflow pipes each having a lower end part below the processing liquid flow, wherein the processing is performed by the pump being pumped from the processing liquid tank to the plurality of liquid receiving sections and overflowing from the plurality of overflow pipes. A processing liquid supply apparatus for a photosensitive material processing apparatus, wherein a processing liquid flowing down from a lower part of the liquid flow is supplied to the photosensitive material.
【請求項2】 感光材料に処理液を供給する感光材料処
理装置の処理液供給装置であって、 処理液を貯留する処理液タンクと、 処理液を流下するための複数の処理液流下部が配設され
た液受部と、 前記処理液タンクから前記液受部に処理液を供給する処
理液供給手段と、 前記液受部に貯留される処理液の液位を制御するオーバ
フロー管と、 前記オーバフロー管よりオーバフローした処理液を前記
処理液タンクに回収するための回収路とを備え、 前記処理液流下部から流下する処理液を感光材料に供給
することを特徴とする感光材料処理装置の処理液供給装
置。
2. A processing solution supply device for a photosensitive material processing apparatus for supplying a processing solution to a photosensitive material, comprising: a processing solution tank for storing the processing solution; and a plurality of processing solution flowing down portions for flowing down the processing solution. A disposed liquid receiving unit, a processing liquid supply unit that supplies a processing liquid from the processing liquid tank to the liquid receiving unit, an overflow pipe that controls a liquid level of the processing liquid stored in the liquid receiving unit, A recovery path for collecting the processing liquid overflowing from the overflow pipe into the processing liquid tank, wherein the processing liquid flowing down from the lower part of the processing liquid is supplied to the photosensitive material. Processing liquid supply device.
【請求項3】 前記処理液供給手段は、 処理液供給孔を有する供給管と、 前記処理液タンクと前記供給管の一端とを接続する処理
液の供給路と、 前記供給管の他端と前記処理液タンクとを接続する処理
液の回収路と、 前記供給路中に配設され、前記処理液タンク中の処理液
を前記供給管に向けて圧送するポンプと、 を有する請求項2に記載の感光材料処理装置の処理液供
給装置。
3. The processing liquid supply means includes: a supply pipe having a processing liquid supply hole; a processing liquid supply path connecting the processing liquid tank to one end of the supply pipe; The processing liquid recovery path connecting the processing liquid tank and a pump disposed in the supply path and pumping the processing liquid in the processing liquid tank toward the supply pipe. A processing liquid supply device for the photosensitive material processing device according to Claim 1.
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