JPH1062948A - Photosensitive material processing device - Google Patents
Photosensitive material processing deviceInfo
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- JPH1062948A JPH1062948A JP23365496A JP23365496A JPH1062948A JP H1062948 A JPH1062948 A JP H1062948A JP 23365496 A JP23365496 A JP 23365496A JP 23365496 A JP23365496 A JP 23365496A JP H1062948 A JPH1062948 A JP H1062948A
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、感光材料を処理
液により処理する感光材料処理装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photosensitive material processing apparatus for processing a photosensitive material with a processing solution.
【0002】[0002]
【従来の技術】フィルム、印画紙、印刷版等の感光材料
は、画像が記録された後に、現像液、定着液、安定化
液、水洗水等の処理液によって処理される。このような
処理を行う感光材料の処理装置としては、複数の搬送ロ
ーラ対等により構成される搬送手段により処理液を貯留
した処理槽中に感光材料を搬送し、感光材料を処理液中
に浸漬することにより処理を行う浸漬型の処理装置が知
られている。2. Description of the Related Art Photosensitive materials such as films, photographic papers, printing plates and the like are processed with a processing solution such as a developing solution, a fixing solution, a stabilizing solution, and washing water after an image is recorded. As a photosensitive material processing apparatus for performing such processing, a photosensitive material is transported into a processing tank storing a processing liquid by a transporting unit including a plurality of transport roller pairs or the like, and the photosensitive material is immersed in the processing liquid. An immersion-type processing apparatus that performs processing by such a method is known.
【0003】このような浸漬型の処理装置においては、
感光材料の処理に伴う処理疲労、あるいは大気中の炭酸
ガスや酸素による経時疲労等により処理液が劣化するた
め、処理液に補充液を補充することにより処理液の劣化
を回復させている。このため、処理開始時の処理液の成
分と、その後も処理を継続した場合の処理液の成分とは
異なることになり、厳密に均一な処理を行うことは不可
能である。また、このような浸漬型の処理装置は、処理
液の廃液量が多く、また、装置のメンテナンス性が悪い
という問題もある。In such an immersion type processing apparatus,
Since the processing solution deteriorates due to processing fatigue accompanying the processing of the photosensitive material or temporal fatigue due to carbon dioxide or oxygen in the atmosphere, the deterioration of the processing solution is recovered by replenishing the processing solution with a replenisher. Therefore, the components of the processing liquid at the start of the processing are different from the components of the processing liquid when the processing is continued thereafter, and it is impossible to perform strictly uniform processing. In addition, such an immersion type processing apparatus has a problem that the amount of waste liquid of the processing liquid is large and the maintainability of the apparatus is poor.
【0004】このような問題点を解消するための感光材
料処理装置として、感光材料を処理液中に浸漬するかわ
りに、感光材料の処理に必要な量の処理液を感光材料の
感光面に塗布して処理を行う塗布方式の処理装置も使用
されている。例えば、特開昭62−237455号公報
においては、このような塗布方式の処理装置として、複
数の処理液吐出孔を有する処理液供給ノズルから、その
表面に溝を形成すること等によりその表面を粗面化した
ローラ(以下「粗面化ローラ」と呼称する)に処理液を
吐出すると共に、この粗面化ローラを感光材料と当接し
て回転させることにより、当該粗面化ローラを介して感
光材料に処理液を塗布する処理装置が開示されている。As a photosensitive material processing apparatus for solving such problems, instead of immersing the photosensitive material in the processing solution, an amount of the processing solution required for processing the photosensitive material is applied to the photosensitive surface of the photosensitive material. There is also used a coating type processing apparatus for performing the processing. For example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 62-237455, such a coating type processing apparatus has a processing liquid supply nozzle having a plurality of processing liquid discharge holes, and the surface thereof is formed by forming a groove on the surface. The processing liquid is discharged onto a roughened roller (hereinafter, referred to as a "roughening roller"), and the roughening roller is brought into contact with the photosensitive material and rotated, so that the roughening roller is rotated through the roughening roller. A processing apparatus for applying a processing liquid to a photosensitive material is disclosed.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】このような塗布方式の
処理装置においては、処理に要するランニングコストの
観点や環境問題等の観点から、処理液の使用量を極力少
量とすることが好ましい。一方、このような塗布方式の
処理装置においては、感光材料に対する処理液の供給量
を少量とすると、感光材料の感光面に処理液を均一に供
給することが困難となる。例えば、上記特開昭62−2
37455号公報に記載された処理装置において、処理
液供給ノズルに供給される処理液の量が少量となった場
合には、複数の処理液吐出孔から粗面化ローラに吐出さ
れる処理液の供給量が粗面化ローラの軸線方向において
不均一となり、これに伴って感光材料に塗布される処理
液の量も不均一となる。In such a coating type processing apparatus, it is preferable to use the processing liquid as little as possible from the viewpoint of the running cost required for the processing and environmental problems. On the other hand, in such a coating type processing apparatus, if the supply amount of the processing liquid to the photosensitive material is small, it becomes difficult to uniformly supply the processing liquid to the photosensitive surface of the photosensitive material. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No.
In the processing apparatus described in Japanese Patent No. 37455, when the amount of the processing liquid supplied to the processing liquid supply nozzle becomes small, the processing liquid discharged to the roughening roller from the plurality of processing liquid discharge holes is reduced. The supply amount becomes uneven in the axial direction of the roughening roller, and accordingly, the amount of the processing liquid applied to the photosensitive material also becomes uneven.
【0006】感光材料に塗布される処理液の量が不均一
となった場合には、現像処理後の感光材料に処理むらが
発生する。このような処理むらの発生は、現像の進行が
速い銀錯塩拡散転写法(DTR法)を利用する平版印刷
版において特に顕著となる。[0006] When the amount of the processing liquid applied to the photosensitive material becomes non-uniform, the photosensitive material after the development processing becomes uneven in processing. The occurrence of such processing unevenness is particularly remarkable in a lithographic printing plate utilizing a silver complex salt diffusion transfer method (DTR method) in which development proceeds rapidly.
【0007】このため、特開平6−27682号公報に
おいては、2枚のシート間に形成されたスリット状の開
口部から回転しない一対の棒状部材からなる処理液塗布
部に処理液を供給し、感光材料を一対の棒状部材間に形
成された処理液の液溜まり中を通過させることにより、
当該感光材料に処理液を塗布する感光材料処理装置が提
案されている。[0007] For this reason, in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-27682, a processing liquid is supplied from a slit-shaped opening formed between two sheets to a processing liquid application section comprising a pair of non-rotating rod-shaped members. By passing the photosensitive material through a pool of processing liquid formed between a pair of rod-shaped members,
A photosensitive material processing apparatus for applying a processing liquid to the photosensitive material has been proposed.
【0008】この感光材料処理装置によれば、少量の処
理液を比較的均一に供給することができるが、この場合
においても、感光材料への処理液の塗布量は一対の棒状
部材間に供給される処理液の量に左右されるため、感光
材料の全域に亘って厳密に均一な量の処理液を塗布する
ためには自ずと限界がある。According to this photosensitive material processing apparatus, a small amount of processing liquid can be supplied relatively uniformly, but even in this case, the amount of processing liquid applied to the photosensitive material is supplied between a pair of rod-shaped members. Since the amount of the processing solution to be applied depends on the amount of the processing solution to be applied, there is naturally a limit in applying a strictly uniform amount of the processing solution over the entire area of the photosensitive material.
【0009】この発明は上記課題を解決するためになさ
れたものであり、少量の処理液を感光材料の全域に亘っ
て均一に塗布することのできる感光材料処理装置を提供
することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a photosensitive material processing apparatus capable of uniformly applying a small amount of a processing solution over the entire area of the photosensitive material. .
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、処理液供給部より供給された処理液を塗布部材を介
して感光材料に塗布する処理装置であって、前記処理液
供給部より供給された処理液を拡散し流下せしめる処理
液拡散部(A)と、前記塗布部材に当接する当接部材を
有し、流下した処理液を前記塗布部材と前記当接部材と
の間で拡散し、前記塗布部材を介して流下せしめる処理
液拡散部(B)とを少なくとも備えたことを特徴とす
る。According to a first aspect of the present invention, there is provided a processing apparatus for applying a processing liquid supplied from a processing liquid supply unit to a photosensitive material via a coating member, wherein the processing liquid supply unit is provided. A processing liquid diffusion section (A) for diffusing the processing liquid supplied thereto and causing the processing liquid to flow down, and a contact member for contacting the coating member; and allowing the flowed processing liquid to flow between the coating member and the contact member. A treatment liquid diffusion section (B) for diffusing and flowing down through the coating member.
【0011】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の発明において、前記塗布部材は、その表面が凹凸状に
形成された塗布ローラから構成される。According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the application member comprises an application roller having a surface formed in an uneven shape.
【0012】請求項3に記載の発明は、請求項1または
2いずれかに記載の発明において、前記処理液拡散部
(B)は、前記処理液拡散部(A)より処理液の拡散能
力が大となっている。According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect of the present invention, the processing liquid diffusion section (B) has a processing liquid diffusion capacity higher than that of the processing liquid diffusion section (A). It has become large.
【0013】請求項4に記載の発明は、請求項3記載の
発明において、前記処理液拡散部(A)と前記処理液拡
散部(B)は、各々、処理液を通過させるための開口部
を有し、前記処理液拡散部(A)の開口部の総面積は前
記処理液拡散部(B)の開口部の総面積より大きく設定
されている。According to a fourth aspect of the present invention, in the third aspect of the present invention, the processing liquid diffusion section (A) and the processing liquid diffusion section (B) each have an opening through which the processing liquid passes. And the total area of the openings of the processing liquid diffusion section (A) is set to be larger than the total area of the openings of the processing liquid diffusion section (B).
【0014】請求項5に記載の発明は、請求項1に記載
の発明において、前記処理液拡散部(A)は、処理液を
通過させるための複数の開口部を穿設した処理液受け部
を有している。According to a fifth aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the processing liquid diffusing section (A) is a processing liquid receiving section having a plurality of openings through which the processing liquid passes. have.
【0015】請求項6に記載の発明は、請求項5に記載
の発明において、前記処理液供給部は処理液を前記処理
液受け部に流下させる開口部を有し、前記処理液受け部
の複数の開口部は、前記処理液供給部の開口部から前記
処理液受け部への処理液の流下位置とは異なる位置に穿
設されている。According to a sixth aspect of the present invention, in the fifth aspect of the present invention, the processing liquid supply unit has an opening through which the processing liquid flows down to the processing liquid receiving unit. The plurality of openings are formed at positions different from the flow-down position of the processing liquid from the opening of the processing liquid supply unit to the processing liquid receiving unit.
【0016】請求項7に記載の発明は、請求項6に記載
の発明において、前記処理液受け部の複数の開口部は、
前記処理液供給部の開口部から前記処理液受け部への処
理液の流下位置の両側に各々穿設されている。According to a seventh aspect of the present invention, in the sixth aspect of the invention, the plurality of openings of the processing liquid receiving portion are
Perforations are provided on both sides of the processing liquid flowing down from the opening of the processing liquid supply section to the processing liquid receiving section.
【0017】請求項8に記載の発明は、請求項1または
2いずれかに記載の発明において、前記当接部材は、弾
性力をもって前記塗布部材に当接する。According to an eighth aspect of the present invention, in the first or second aspect, the abutting member abuts on the application member with an elastic force.
【0018】請求項9に記載の発明は、請求項1に記載
の発明において、前記塗布部材は、搬送される感光材料
に処理液を塗布する塗布ローラから構成されるととも
に、感光材料の搬送方向に対して前記当接部材の下流側
に配設され、前記塗布部材の表面に当接することによ
り、前記処理液拡散部(A)から流下した処理液が感光
材料の搬送方向に向けて逆流し前記塗布部材により処理
液を塗布されて搬送される感光材料に再付着することを
防止する規制手段をさらに備えている。According to a ninth aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the application member includes an application roller for applying a processing liquid to the conveyed photosensitive material, and a conveying direction of the photosensitive material. Is disposed downstream of the contact member and contacts the surface of the coating member, whereby the processing liquid flowing down from the processing liquid diffusion section (A) flows back in the direction of transport of the photosensitive material. The image forming apparatus further includes a regulating unit that prevents the processing liquid from being re-adhered to the conveyed photosensitive material after being applied by the applying member.
【0019】[0019]
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。図1はこの発明に係る感光材料
処理装置を備えた平版印刷版の製版装置の概要図であ
る。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic diagram of a lithographic printing plate making apparatus provided with a photosensitive material processing apparatus according to the present invention.
【0020】この製版装置は、感光材料として銀錯塩拡
散転写法(DTR法)を用いた平版印刷版Mを使用し、
この平版印刷版Mに対して画像の露光と現像処理とを行
うものであり、平版印刷版Mに対して露光を行う露光装
置2と、露光後の平版印刷版Mに対して現像処理を行う
現像処理装置3とから構成される。This plate making apparatus uses a lithographic printing plate M using a silver complex salt diffusion transfer method (DTR method) as a photosensitive material,
The lithographic printing plate M is subjected to image exposure and development processing. The exposure apparatus 2 performs exposure to the lithographic printing plate M, and performs the development processing to the exposed lithographic printing plate M. And a development processing device 3.
【0021】なお、銀錯塩拡散転写法(DTR法)を用
いた平版印刷版、特に、ハロゲン化銀乳剤層の上に物理
現像核層を有する平版印刷版は、例えば、米国特許第
3,728,114号、同4,134,769号、同
4,160,670号、同4,336,321号、同
4,501,811号、同4,510,228号、同
4,621,041号明細書等に記載されており、露光
されたハロゲン化銀はDTR現像により化学現像を生起
し黒色の銀となり親水性の非画線部を形成し、一方、未
露光のハロゲン化銀結晶は現像液中の銀塩錯化剤により
銀錯体となって表面の物理現像核層まで拡散し、核の存
在により物理現像を生起してインキ受容性の物理現像銀
を主体とする画線部を形成する。このような銀錯塩拡散
転写法(DTR法)を用いた平版印刷版は、特に現像初
期の段階において、銀錯体が移動しやすいことから現像
液の乱れにより像流れが生じやすく、また、現像の進行
が速いことから現像液の供給量のむらに起因する現像む
らが生じやすいという特性を有する。A lithographic printing plate using a silver complex salt diffusion transfer method (DTR method), particularly a lithographic printing plate having a physical development nucleus layer on a silver halide emulsion layer is disclosed in, for example, US Pat. No. 3,728. No. 4,114,769, No.4,160,670, No.4,336,321, No.4,501,811, No.4,510,228, No.4,621,041 The exposed silver halide is subjected to chemical development by DTR development to become black silver to form a hydrophilic non-image area, while the unexposed silver halide crystal is The silver salt complexing agent in the developer forms a silver complex and diffuses to the physical development nucleus layer on the surface. Form. In such a lithographic printing plate using the silver complex salt diffusion transfer method (DTR method), particularly in the early stage of development, the silver complex is likely to move, so that an image flow is likely to occur due to the turbulence of the developing solution. It has the characteristic that uneven development due to uneven supply of the developer is likely to occur due to the rapid progress.
【0022】先ず、露光装置2の構成について説明す
る。この露光装置2は、原稿ホルダー12に装着された
原稿からの反射光を、投影光学系13によって平版印刷
版Mの表面に投影することにより、平版印刷版Mに原稿
の画像を露光するものである。First, the configuration of the exposure apparatus 2 will be described. The exposure device 2 exposes the image of the original to the lithographic printing plate M by projecting the reflected light from the original mounted on the original holder 12 onto the surface of the lithographic printing plate M by the projection optical system 13. is there.
【0023】原稿ホルダー12は、原稿を載置するため
の透光板14と、この透光板14に対して開閉可能な上
蓋15とを有し、モータ16の駆動により原稿を保持し
た状態で、図1において実線で示す位置と二点鎖線で示
す位置との間を左右方向に往復移動可能に構成されてい
る。また、投影光学系13は、原稿ホルダー12の往復
移動経路の下方に固設され、原稿ホルダー12に保持さ
れて水平移動する原稿の表面に照明光を照射するための
ロッド状の光源17と、光源17による原稿からの反射
光を案内するための複数の折返しミラー18と、複数の
折返しミラー18により案内された反射光を平版印刷版
Mに投影するための投影レンズ19とを備える。The original holder 12 has a light-transmitting plate 14 for placing an original, and an upper lid 15 that can be opened and closed with respect to the light-transmitting plate 14. 1, it is configured to be reciprocally movable in the left-right direction between a position indicated by a solid line and a position indicated by a two-dot chain line. Further, the projection optical system 13 is fixed below the reciprocating movement path of the original holder 12, and a rod-shaped light source 17 for irradiating illumination light to the surface of the original horizontally moved while being held by the original holder 12; The apparatus includes a plurality of folding mirrors 18 for guiding light reflected from a document by the light source 17 and a projection lens 19 for projecting the reflected light guided by the plurality of folding mirrors 18 onto a lithographic printing plate M.
【0024】この露光装置により平版印刷版Mに原稿の
画像を露光する際には、原稿ホルダー12を図1におい
て実線で示す位置に配置し、上蓋15を開放して透光板
14上に原稿を載置した上で上蓋15を閉じることによ
り、原稿を原稿ホルダー12に装着する。そして、光源
17を点灯した状態で、原稿ホルダー12を図1におけ
る左方向に移動させる。また、これと同期して、複数の
搬送ローラ22およびガイド部材23により、ロール状
に巻回された平版印刷版Mの先端を、原稿ホルダー12
の移動速度と同一の速度で搬送する。これにより、原稿
ホルダー12に保持された原稿は、順次光源17からの
光の照射を受ける。そして、原稿からの反射光は複数の
折返しミラー18および投影レンズ19を介して原稿ホ
ルダー12と同一の速度で移動する平版印刷版Mの表面
に照射され、平版印刷版Mには原稿の画像が露光され
る。When exposing an image of a document on the lithographic printing plate M by this exposure device, the document holder 12 is arranged at a position shown by a solid line in FIG. The document is mounted on the document holder 12 by closing the upper lid 15 after placing the document. Then, with the light source 17 turned on, the document holder 12 is moved to the left in FIG. In synchronization with this, the leading end of the lithographic printing plate M wound in a roll by the plurality of transport rollers 22 and the guide member 23 is moved to the original holder 12.
Is transported at the same speed as the moving speed. As a result, the document held in the document holder 12 is sequentially irradiated with light from the light source 17. Then, the reflected light from the original is irradiated onto the surface of the lithographic printing plate M moving at the same speed as the original holder 12 via the plurality of folding mirrors 18 and the projection lens 19, and the image of the original is printed on the lithographic printing plate M. Exposed.
【0025】画像が露光された平版印刷版Mは、露光装
置2から順次後段の現像処理装置3に搬送されて処理さ
れる。また、露光装置2の出口側には、平版印刷版Mの
搬送方向と垂直な方向に移動するカッター24を備えた
切断装置25が配設されており、この切断装置25は平
版印刷版Mを露光終了部分の後端で切断する。The lithographic printing plate M to which the image has been exposed is sequentially transported from the exposing device 2 to the subsequent developing device 3 for processing. Further, a cutting device 25 having a cutter 24 that moves in a direction perpendicular to the transport direction of the lithographic printing plate M is disposed on the exit side of the exposure device 2. Cut at the rear end of the exposed part.
【0026】なお、露光装置2における平版印刷版Mの
搬送速度は現像処理装置3における平版印刷版Mの搬送
速度より低速であるため、平版印刷版Mを単純に露光装
置2と現像処理装置3とに亘って搬送することはできな
い。また、切断装置25による平版印刷版Mの切断時に
は、平版印刷版Mの搬送を停止する必要がある。このた
め、露光装置2と現像処理装置3との間には平版印刷版
Mのバッファ部26が配設されており、露光装置2にお
いて露光の終了した平版印刷版Mの搬送時に、バッファ
部26に配設された一対のローラ27、28の回転を一
定時間停止することにより、平版印刷版Mを一定長さだ
けこのバッファ部26に貯留した後、現像処理装置3に
搬送するように構成されている。Since the transport speed of the lithographic printing plate M in the exposure device 2 is lower than the transport speed of the lithographic printing plate M in the developing device 3, the lithographic printing plate M is simply transferred to the exposure device 2 and the developing device 3. Cannot be conveyed. When the lithographic printing plate M is cut by the cutting device 25, it is necessary to stop the transport of the lithographic printing plate M. For this reason, a lithographic printing plate M buffer unit 26 is provided between the exposure device 2 and the development processing device 3, and when the lithographic printing plate M that has been exposed in the exposure device 2 is transported, the buffer unit 26 By stopping the rotation of the pair of rollers 27 and 28 disposed for a certain period of time, the lithographic printing plate M is stored in the buffer unit 26 for a certain length, and then conveyed to the developing device 3. ing.
【0027】次に、この発明に係る現像処理装置3の構
成について説明する。図2は、図1における現像処理装
置3を拡大して示す概要図であり、図3はその配管系を
示す概要図である。Next, the configuration of the developing apparatus 3 according to the present invention will be described. FIG. 2 is an enlarged schematic view showing the developing device 3 in FIG. 1, and FIG. 3 is an outline diagram showing a piping system thereof.
【0028】この現像処理装置3は、露光後の平版印刷
版Mに現像液(アクチベータ)を塗布して現像処理する
現像部32と、現像処理後の平版印刷版Mに安定液(ス
タビライザー)を塗布して安定化処理する安定部33
と、安定化処理後の平版印刷版Mを乾燥するための乾燥
部34とから構成される。The developing device 3 includes a developing section 32 for applying a developing solution (activator) to the exposed lithographic printing plate M and performing a developing process, and a stabilizing solution (stabilizer) for the lithographic printing plate M after the developing process. Stabilizer 33 for applying and stabilizing
And a drying unit 34 for drying the lithographic printing plate M after the stabilization process.
【0029】現像部32は、バッファ部26のローラ2
7、28によって現像部32に搬送された平版印刷版M
を挟持して搬送する一対の導入ローラ41、42と、一
対の導入ローラ41、42によって搬送された平版印刷
版Mの感光面に一定量の現像液を計量して塗布するため
の、後程詳細に説明する現像液塗布機構43と、現像処
理に供された現像液を平版印刷版Mから除去するための
一対の絞りローラ44、45と、平版印刷版Mを案内す
るための複数のガイド部材46、47、48、49、5
0とを有する。The developing section 32 includes a roller 2 of the buffer section 26.
Lithographic printing plate M conveyed to developing section 32 by 7, 28
And a pair of introduction rollers 41 and 42 for nipping and transporting, and a later-described detail for measuring and applying a fixed amount of developer to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M transported by the pair of introduction rollers 41 and 42. , A pair of squeezing rollers 44 and 45 for removing the developing solution subjected to the developing process from the lithographic printing plate M, and a plurality of guide members for guiding the lithographic printing plate M 46, 47, 48, 49, 5
0.
【0030】前記一対の導入ローラ41、42のうち下
側のローラ41は、そこを通過する平版印刷版Mを加熱
するため、ヒータを内蔵したヒートローラとなってい
る。現像処理に先立って平版印刷版Mを予め加熱するの
は、温度制御された少量の現像液を平版印刷版Mに塗布
して現像処理する際に、平版印刷版Mの熱容量により平
版印刷版Mに接触した現像液の温度が低下することを防
止するためである。The lower roller 41 of the pair of introduction rollers 41, 42 is a heat roller having a built-in heater for heating the lithographic printing plate M passing therethrough. The lithographic printing plate M is heated in advance prior to the development process because a small amount of a temperature-controlled developer is applied to the lithographic printing plate M and the lithographic printing plate M is heated by the heat capacity of the lithographic printing plate M when developing. This is to prevent the temperature of the developer that has come into contact with the developer from decreasing.
【0031】現像液塗布機構43は、図3に示すよう
に、現像液を貯留する現像液タンク52とポンプ53を
介して接続されている。また、現像液塗布機構43の下
方には回収トレイ54が設置されている。現像液タンク
52内の現像液はポンプ53により現像液塗布機構43
に圧送され、平版印刷版M上に供給される。そして、平
版印刷版Mの両端部や後端部から流出した現像液等の平
版印刷版Mに塗布されなかった現像液は、回収トレイ5
4上に滴下する。さらに、この現像液は、再使用が可能
なため、回収トレイ54の下端部に設けられた回収管5
5を介して現像液タンク52の液受部56に滴下し、現
像液タンク52内に回収される。現像液タンク52に
は、パネルヒータ57が内蔵されており、現像液タンク
52から現像液塗布機構43に至る現像液の循環路中を
循環する現像液を所定の温度に維持するように構成され
ている。As shown in FIG. 3, the developing solution application mechanism 43 is connected to a developing solution tank 52 for storing the developing solution via a pump 53. A collection tray 54 is provided below the developer application mechanism 43. The developing solution in a developing solution tank 52 is pumped by a pump 53 to a developing solution application mechanism 43.
And supplied onto the lithographic printing plate M. Then, the developer not applied to the lithographic printing plate M, such as the developing solution flowing out from both ends and the rear end of the lithographic printing plate M, is collected on a collecting tray 5.
4. Drop on top. Further, since this developer can be reused, the collection tube 5 provided at the lower end of the collection tray 54 is provided.
5, the liquid is dropped into the liquid receiving portion 56 of the developer tank 52 and collected in the developer tank 52. The developer tank 52 has a built-in panel heater 57 and is configured to maintain the developer circulating in the developer circulation path from the developer tank 52 to the developer application mechanism 43 at a predetermined temperature. ing.
【0032】また、一対の絞りローラ44、45の下方
には回収トレイ58が設置されている。一対の絞りロー
ラ44、45によって平版印刷版Mから除去された疲労
現像液は、一対の絞りローラ44、45の下方に設けら
れた液受け部材62の回収孔63を介して回収トレイ5
8上に滴下する。そして、さらにこの現像液は、再使用
できないため、回収トレイ58の下端部に設けられた回
収管59を介して排液タンク64に排出される。A collection tray 58 is provided below the pair of squeezing rollers 44 and 45. The fatigue developing solution removed from the lithographic printing plate M by the pair of squeezing rollers 44, 45 passes through the collecting hole 63 of the liquid receiving member 62 provided below the pair of squeezing rollers 44, 45, and the collection tray 5
8 is dropped. Further, since this developer cannot be reused, it is discharged to the drainage tank 64 via the collection pipe 59 provided at the lower end of the collection tray 58.
【0033】なお、上述した現像液塗布機構43の構成
および平版印刷版Mへの現像液の塗布動作については、
後程詳細に説明する。The configuration of the developer application mechanism 43 and the operation of applying the developer to the lithographic printing plate M are described below.
This will be described in detail later.
【0034】安定部33は、現像部32より搬送された
平版印刷版Mの感光面に一定量の安定液を計量して塗布
するための安定液塗布機構73と、安定化処理に供され
た安定液を平版印刷版Mから除去するための一対の絞り
ローラ74、75と、平版印刷版Mを案内するための複
数のガイド部材76、77、78とを有する。The stabilizing section 33 is provided with a stabilizing liquid applying mechanism 73 for measuring and applying a fixed amount of a stabilizing liquid to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M conveyed from the developing section 32 and a stabilizing process. The lithographic printing plate M includes a pair of squeezing rollers 74 and 75 for removing the stabilizing liquid from the lithographic printing plate M, and a plurality of guide members 76, 77 and 78 for guiding the lithographic printing plate M.
【0035】安定液塗布機構73は、図3に示すよう
に、安定液を貯留する安定液タンク82とポンプ83を
介して接続されている。また、安定液塗布機構73の下
方には回収トレイ84が設置されている。安定液タンク
82内の安定液はポンプ83により安定液塗布機構73
に圧送され、平版印刷版M上に供給される。そして、平
版印刷版Mの両端部や後端部から流出した安定液等の平
版印刷版Mに塗布されなかった安定液は、再使用が可能
なため、回収トレイ84上に滴下する。そして、さらに
この安定液は、回収トレイ84の下端部に設けられた回
収管85を介して安定液タンク82の液受部86に滴下
し、安定液タンク82内に回収される。As shown in FIG. 3, the stabilizing liquid application mechanism 73 is connected via a pump 83 to a stabilizing liquid tank 82 for storing the stabilizing liquid. A collection tray 84 is provided below the stable liquid application mechanism 73. The stable liquid in the stable liquid tank 82 is supplied to the stable liquid applying mechanism 73 by the pump 83.
And supplied onto the lithographic printing plate M. Then, the stabilizing liquid that has not been applied to the lithographic printing plate M, such as the stabilizing liquid flowing out from both ends and the rear end of the lithographic printing plate M, is dropped onto the collection tray 84 because it can be reused. Further, the stable liquid drops into the liquid receiving section 86 of the stable liquid tank 82 via the recovery pipe 85 provided at the lower end of the recovery tray 84, and is collected in the stable liquid tank 82.
【0036】また、一対の絞りローラ74、75の下方
には回収トレイ88が設置されている。一対の絞りロー
ラ74、75によって平版印刷版Mから除去された安定
液は、一対の絞りローラ74、75の下方に設けられた
液受け部材92の回収孔93を介して回収トレイ88上
に滴下する。そして、さらにこの安定液は、再使用でき
ないため、回収トレイ88の下端部に設けられた回収管
89を介して排液タンク64に排出される。A collection tray 88 is provided below the pair of squeezing rollers 74 and 75. The stable liquid removed from the lithographic printing plate M by the pair of squeezing rollers 74 and 75 is dropped onto the collection tray 88 via the collection holes 93 of the liquid receiving member 92 provided below the pair of squeezing rollers 74 and 75. I do. Further, since this stable liquid cannot be reused, it is discharged to the drainage tank 64 via a collecting pipe 89 provided at the lower end of the collecting tray 88.
【0037】なお、上述した安定液塗布機構73の構成
および平版印刷版Mへの安定液の塗布動作についても、
後程詳細に説明する。The configuration of the above-described stabilizing solution applying mechanism 73 and the operation of applying the stabilizing solution to the lithographic printing plate M are described below.
This will be described in detail later.
【0038】乾燥部34は、安定部33より搬送された
平版印刷版Mを支持して搬送するゴムローラ102と、
ゴムローラ102に対して所定の圧力をもって当接する
ことにより平版印刷版Mの乾燥むらを防止する鏡面ロー
ラ103と、鏡面ローラ103に対してゴムローラ10
2を介して洗浄液を供給するための洗浄液貯留部104
と、ファン105およびヒータ106を有し平版印刷版
Mに温風を吹き付けて乾燥する乾燥機構107と、平版
印刷版Mを搬送するための複数の搬送ローラ108、1
09、110とを有する。洗浄液貯留部104は、図3
に示すように、現像部32における一対の絞りローラ4
4、45に対して洗浄液を供給するための洗浄液供給管
105とポンプ106を介して接続されている。The drying unit 34 includes a rubber roller 102 that supports and transports the lithographic printing plate M transported from the stabilizing unit 33,
A mirror roller 103 for preventing uneven drying of the lithographic printing plate M by contacting the rubber roller 102 with a predetermined pressure;
Cleaning liquid reservoir 104 for supplying the cleaning liquid via
A drying mechanism 107 having a fan 105 and a heater 106 for blowing hot air onto the lithographic printing plate M to dry it, and a plurality of transport rollers 108 for transporting the lithographic printing plate M;
09 and 110. The cleaning liquid storage unit 104 is provided as shown in FIG.
As shown in FIG.
The cleaning liquid supply pipe 105 for supplying the cleaning liquid to the cleaning liquid 4 and 45 is connected to the cleaning liquid supply pipe 105 via a pump 106.
【0039】この現像処理装置3による平版印刷版Mの
現像処理は以下のようにしてなされる。The development processing of the lithographic printing plate M by the development processing device 3 is performed as follows.
【0040】すなわち、前段の露光装置2により画像を
記録された平版印刷版Mは、一対の導入ローラ41、4
2によって搬送され、現像液塗布機構43により、平版
印刷版Mの現像処理に必要な量の現像液を塗布される。
現像処理に必要な量の現像液のみを塗布された平版印刷
版Mは、現像液塗布機構43から一対の絞りローラ4
4、45に至る空間現像部を搬送される間に、その感光
面において現像処理が完了する。そして、平版印刷版M
に付着している現像処理に供された現像液は、一対の絞
りローラ44、45により除去される。続いて、平版印
刷版Mは、安定液塗布機構73により、平版印刷版Mの
安定処理に必要な量の安定液を塗布される。安定処理に
必要な量の安定液のみを塗布された平版印刷版Mは、一
対の絞りローラ74、75まで搬送される間に安定化処
理され、平版印刷版Mに付着している安定化処理に供さ
れた安定液は、一対の絞りローラ74、75により除去
される。そして、安定化処理の終了した平版印刷版M
は、鏡面ローラ103によって押圧されることにより乾
燥むらを予防された後、乾燥機構107により乾燥処理
され、図1に示す排出トレイ29上に排出される。That is, the lithographic printing plate M on which an image has been recorded by the exposure device 2 at the preceding stage is placed on a pair of introduction rollers 41 and 4.
The developing solution is applied by the developer application mechanism 43 to apply an amount of the developing solution necessary for developing the lithographic printing plate M.
The lithographic printing plate M to which only the developing solution necessary for the developing process is applied is supplied from the developing solution applying mechanism 43 to the pair of squeezing rollers 4.
The developing process is completed on the photosensitive surface while being transported through the space developing section reaching to 4, 45. And the lithographic printing plate M
The developing solution adhered to the developing process and removed by the pair of squeezing rollers 44 and 45 is removed. Subsequently, the lithographic printing plate M is applied with a stabilizing solution application mechanism 73 with an amount of stabilizing solution necessary for stabilizing the lithographic printing plate M. The lithographic printing plate M to which only the necessary amount of the stabilizing liquid for the stabilizing process is applied is stabilized while being conveyed to the pair of squeezing rollers 74 and 75, and the stabilizing process attached to the lithographic printing plate M is performed. Is removed by the pair of squeezing rollers 74 and 75. Then, the lithographic printing plate M for which the stabilization process has been completed.
After the unevenness of drying is prevented by being pressed by the mirror surface roller 103, the drying is performed by the drying mechanism 107 and discharged onto the discharge tray 29 shown in FIG.
【0041】この現像処理装置3においては、平版印刷
版Mに現像処理に必要な量の現像液のみが塗布されて現
像処理が行われるため、処理に要する現像液の使用量を
減少することが可能となる。また、平版印刷版Mに対し
て、実質的に未使用の処理液が供給されることとなるた
め、平版印刷版Mに対して常に均一な処理を施すことが
可能となる。In this developing apparatus 3, since only the necessary amount of the developing solution for the lithographic printing plate M is applied to the lithographic printing plate M and the developing process is performed, the amount of the developing solution required for the process can be reduced. It becomes possible. Further, since a substantially unused processing liquid is supplied to the lithographic printing plate M, the lithographic printing plate M can always be uniformly processed.
【0042】次に、この発明の特徴部分である現像液塗
布機構43および安定液塗布機構73の構成について説
明する。Next, the configurations of the developing solution applying mechanism 43 and the stabilizing solution applying mechanism 73, which are characteristic portions of the present invention, will be described.
【0043】先ず、現像液塗布機構43の構成について
説明する。図4は現像液塗布機構43の構成を示す概要
図である。First, the structure of the developer application mechanism 43 will be described. FIG. 4 is a schematic diagram showing the configuration of the developer application mechanism 43.
【0044】この現像液塗布機構43は、その下方に複
数の吐出孔121が穿設された現像液供給管122と、
その下端部に現像液を流下させるための複数の開口部1
23を穿設した現像液受け部124と、現像液受け部1
24の開口部123から流下した現像液を平版印刷版M
と当接して回転する塗布ローラ125に案内するための
拡散フィルム126と、塗布ローラ125と当接する逆
流防止フィルム127と、塗布ローラ125に当接する
バックアップローラ128とを有する。なお、図4にお
ける矢印は、平版印刷版Mの搬送方向を示している。The developing solution applying mechanism 43 includes a developing solution supply pipe 122 having a plurality of discharge holes 121 formed thereunder,
A plurality of openings 1 for allowing the developer to flow down to the lower end thereof
And a developer receiving portion 124 having a hole 23 formed therein.
The developer flowing down from the opening 123 of the lithographic printing plate M
A diffusion film 126 for guiding the application roller 125 rotating while contacting the application roller 125; a backflow prevention film 127 contacting the application roller 125; and a backup roller 128 contacting the application roller 125. Note that the arrows in FIG. 4 indicate the transport direction of the lithographic printing plate M.
【0045】現像液供給管122は、前述した現像液タ
ンク52とポンプ53を介して接続されており、ポンプ
53の駆動により複数の吐出孔121から現像液を吐出
する。この吐出孔121は、図5に示すように、平版印
刷版Mの搬送方向と直交する方向に3個並設されてい
る。The developing solution supply pipe 122 is connected to the developing solution tank 52 via a pump 53, and discharges the developing solution from a plurality of discharge holes 121 by driving the pump 53. As shown in FIG. 5, three discharge holes 121 are juxtaposed in a direction orthogonal to the direction of transport of the lithographic printing plate M.
【0046】現像液受け部124は、現像液供給管12
2より吐出された現像液を一旦受け取って、平版印刷版
Mの搬送方向と直交する方向に拡散するための処理液拡
散部(A)として機能する。図5に示すように、この現
像液受け部124の下端部には、平版印刷版Mの搬送方
向と直交する方向に6個の開口部123が穿設されてい
る。そして、この開口部123は、平版印刷版Mの搬送
方向と直交する方向において、現像液供給管122の3
個の吐出孔121の各々の位置に相当する位置の両側に
それぞれ配置されている。すなわち、各吐出孔121か
ら現像液受け部124への3カ所の現像液の流下位置の
各々の両側に、開口部123が配置されていることにな
る。The developer receiving section 124 is connected to the developer supply pipe 12.
2 functions as a processing liquid diffusing section (A) for once receiving the developing solution discharged from 2 and diffusing it in a direction orthogonal to the transport direction of the lithographic printing plate M. As shown in FIG. 5, at the lower end of the developer receiving portion 124, six openings 123 are formed in a direction perpendicular to the transport direction of the planographic printing plate M. The opening 123 is provided in the developer supply pipe 122 in a direction perpendicular to the transport direction of the lithographic printing plate M.
The discharge holes 121 are arranged on both sides of a position corresponding to each position. That is, the openings 123 are arranged on both sides of each of the three positions where the developer flows downward from the discharge holes 121 to the developer receiving portion 124.
【0047】拡散フィルム126は、0.3mm程度の
厚さを有するポリエチレンテレフタレート(PET)製
のフィルムからなり、取付板130により現像液受け部
124の側壁に付設されている。拡散フィルム126に
おける現像液受け部124よりの垂下部分の上端部は、
現像液受け部124の開口部123と近接して配置され
ており、また、その下端部は塗布ローラ125の表面に
弾性力をもって当接している。The diffusion film 126 is made of a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of about 0.3 mm, and is attached to the side wall of the developer receiving portion 124 by the mounting plate 130. The upper end of the portion of the diffusion film 126 that hangs down from the developer receiving portion 124 is
It is arranged close to the opening 123 of the developer receiving section 124, and its lower end is in contact with the surface of the application roller 125 with elasticity.
【0048】塗布ローラ125は、図10に示すよう
に、直径14mm程度の金属製のローラ125aの表面
に0.4mm程度のワイヤー125bを巻回したワイヤ
ーバーから構成されている。このため、塗布ローラ12
5の表面には、平版印刷版Mの搬送方向と略平行な方向
にワイヤー125bによる複数の溝が形成される。従っ
て、この塗布ローラ125と拡散フィルム126とが当
接した状態においては、塗布ローラ125と拡散フィル
ム126との当接部分に塗布ローラ125の溝による複
数の開口部125cが形成される。この開口部125c
の大きさは、平版印刷版Mへ塗布する現像液を計量する
際の塗布量の基準となる。なお、この塗布ローラ125
の溝による開口部125cの総面積は、前述した現像液
受け部124に穿設された6個の開口部123の総面積
より小さくなるように、現像液受け部124の開口部1
23の大きさや塗布ローラ125に巻回されたワイヤー
125bの直径等が選択されている。The application roller 125 is, as shown in FIG. 10, composed of a wire bar in which a wire 125b of about 0.4 mm is wound around a metal roller 125a of about 14 mm in diameter. For this reason, the application roller 12
On the surface of 5, a plurality of grooves are formed by wires 125b in a direction substantially parallel to the direction of transport of the lithographic printing plate M. Therefore, when the application roller 125 and the diffusion film 126 are in contact with each other, a plurality of openings 125 c formed by grooves of the application roller 125 are formed at the contact portions between the application roller 125 and the diffusion film 126. This opening 125c
Is a reference for the amount of application when the developer applied to the lithographic printing plate M is measured. The application roller 125
The opening 1c of the developer receiving portion 124 is smaller than the total area of the six openings 123 formed in the developer receiving portion 124 described above.
23 and the diameter of the wire 125b wound around the application roller 125 are selected.
【0049】現像液受け部124の開口部123から流
下した現像液は、塗布ローラ125と拡散フィルム12
6との当接部分に一旦貯留されて、平版印刷版Mの搬送
方向と直交する方向に拡散される。そして、この現像液
は、塗布ローラ125の回転に伴い、塗布ローラ125
の溝による開口部125cを通過して塗布ローラ125
とバックアップローラ128との当接部方向に移動す
る。従って、この塗布ローラ125と拡散フィルム12
6は、現像液受け部124の開口部123から流下した
現像液を一旦受け取って、平版印刷版Mの搬送方向と直
交する方向に拡散するための処理液拡散部(B)として
機能する。The developer flowing down from the opening 123 of the developer receiver 124 is applied to the application roller 125 and the diffusion film 12.
6 and temporarily diffused in a direction orthogonal to the transport direction of the lithographic printing plate M. Then, the developer is applied to the application roller 125 along with the rotation of the application roller 125.
Through the opening 125c formed by the groove
And the backup roller 128 in the contact direction. Therefore, the application roller 125 and the diffusion film 12
Reference numeral 6 functions as a processing liquid diffusing section (B) for once receiving the developing liquid flowing down from the opening 123 of the developing liquid receiving section 124 and diffusing the developing liquid in a direction orthogonal to the transport direction of the lithographic printing plate M.
【0050】なお、塗布ローラ125は必ずしも回転す
る必要はないが、バックアップローラ128との当接に
より塗布ローラ125の清掃効果をもたせる場合等に
は、塗布ローラ125を回転させることが好ましい。ま
た、塗布ローラ125としてワイヤバーを使用するかわ
りに、その表面にネジ切り加工や溝加工を施したローラ
を使用してもよい。The application roller 125 does not necessarily need to rotate, but it is preferable to rotate the application roller 125 when the application roller 125 has a cleaning effect by contact with the backup roller 128. Further, instead of using a wire bar as the application roller 125, a roller having its surface subjected to threading or groove processing may be used.
【0051】逆流防止フィルム127は、拡散フィルム
126と同様、ポリエチレンテレフタレート(PET)
製のフィルムからなり、取付板120により現像液受け
部124に付設されている。また、この逆流防止フィル
ム127の下端部は、塗布ローラ125の回転方向に対
して塗布ローラ125と拡散フィルム126の当接部分
の上流側(すなわち、平版印刷版Mの搬送方向に対して
塗布ローラ125と拡散フィルム126の当接部分の下
流側)において、塗布ローラ125の表面と当接してい
る。この逆流防止フィルム127は、現像液受け部12
4の開口部123から流下した現像液が塗布ローラ12
5の回転方向に対して上流側へ流出することを防止する
規制手段として機能する。このため、この逆流防止フィ
ルム127により、現像液を塗布されて搬送される平版
印刷版Mの表面に逆流した現像液が再度付着することを
防止することができる。The backflow prevention film 127 is made of polyethylene terephthalate (PET), like the diffusion film 126.
And is attached to the developer receiving portion 124 by the mounting plate 120. The lower end of the backflow prevention film 127 is located upstream of the contact portion between the application roller 125 and the diffusion film 126 with respect to the rotation direction of the application roller 125 (that is, with respect to the transport direction of the lithographic printing plate M, On the downstream side of the contact portion between the 125 and the diffusion film 126), it is in contact with the surface of the application roller 125. The backflow prevention film 127 is connected to the developer receiving portion 12.
The developing solution flowing down from the opening 123 of the coating roller 12
5 functions as a regulating means for preventing outflow to the upstream side in the rotation direction. Therefore, the backflow prevention film 127 can prevent the backflowing developer from adhering again to the surface of the planographic printing plate M to which the developer is applied and conveyed.
【0052】バックアップローラ128は、平版印刷版
Mの搬送を補助するために平版印刷版Mに駆動力を付与
する搬送補助手段、平版印刷版Mを塗布ローラ125の
表面に向けて付勢する付勢手段、および、塗布ローラ1
25の表面を洗浄する洗浄手段として機能する。このバ
ックアップローラ128は、例えば、シリコンゴム、ク
ロロプレンゴム(CR)、ニトリルブタジエンゴム(N
BR)、エチレン・プロピレンゴム(EPDM)等の材
質からなり、10度乃至40度程度のJIS硬度を有す
るスポンジ構造のロールとすることが好ましい。The backup roller 128 is a transport assisting means for applying a driving force to the lithographic printing plate M to assist the transport of the lithographic printing plate M. The backup roller 128 urges the lithographic printing plate M toward the surface of the coating roller 125. Force means and application roller 1
25 functions as a cleaning unit for cleaning the surface. The backup roller 128 is made of, for example, silicon rubber, chloroprene rubber (CR), nitrile butadiene rubber (N
Preferably, the roll is made of a material such as BR) or ethylene / propylene rubber (EPDM) and has a sponge structure having a JIS hardness of about 10 to 40 degrees.
【0053】バックアップローラ128と塗布ローラ1
25との当接部には、塗布ローラ125と拡散フィルム
126との間を通過した現像液の液溜めが形成される。
そして、平版印刷版Mがこの液溜めを通過するときに、
平版印刷版Mの感光面に現像液が塗布される。このと
き、平版印刷版Mの感光面はバックアップローラ128
により塗布ローラ125の表面に押しつけられているこ
とから、平版印刷版Mの感光面に塗布された現像液は、
塗布ローラ125の溝による開口部125cにより一定
量に計量される。従って、バックアップローラ128と
塗布ローラ125との当接部を通過した平版印刷版Mの
感光面には、常に現像に必要な一定量の現像液が塗布さ
れていることになる。Backup roller 128 and coating roller 1
A liquid reservoir for the developer that has passed between the application roller 125 and the diffusion film 126 is formed at the contact portion with the liquid developer 25.
Then, when the lithographic printing plate M passes through the reservoir,
A developer is applied to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M. At this time, the photosensitive surface of the lithographic printing plate M is
The developer applied to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M is pressed against the surface of the application roller 125 by
It is metered to a certain amount by the opening 125c formed by the groove of the application roller 125. Therefore, the photosensitive surface of the lithographic printing plate M that has passed through the contact portion between the backup roller 128 and the application roller 125 is always coated with a certain amount of developer required for development.
【0054】なお、このバックアップローラ128は、
図示しないモータの駆動により、平版印刷版Mの搬送速
度と同一の周速度で回転し、平版印刷版Mの搬送を補助
する。一方、塗布ローラ125は、バックアップローラ
128の周速度の約1.5倍の周速度で回転する。従っ
て、バックアップローラ128と塗布ローラ125との
間を平版印刷版Mが通過していない状態においては、塗
布ローラ125の表面はバックアップローラ128によ
り常時拭き取られることになり、塗布ローラ125の溝
部分への銀スラッジの堆積が防止される。The backup roller 128
By driving a motor (not shown), the lithographic printing plate M rotates at the same peripheral speed as the transport speed of the lithographic printing plate M, and assists in transporting the lithographic printing plate M. On the other hand, the application roller 125 rotates at a peripheral speed that is about 1.5 times the peripheral speed of the backup roller 128. Therefore, when the planographic printing plate M does not pass between the backup roller 128 and the application roller 125, the surface of the application roller 125 is constantly wiped by the backup roller 128, and the groove portion of the application roller 125 Accumulation of silver sludge on the surface is prevented.
【0055】この現像液塗布機構43においては、現像
液供給管122における3個の吐出孔121より吐出さ
れた現像液は、現像液受け部124に流下し、さらに、
現像液受け部124に設けられた6個の開口部123か
ら拡散フィルム126に向かって流下する。このとき、
3個の吐出孔121から現像液受け部124に流下した
現像液は、平版印刷版Mの搬送方向と直交する方向にお
いて各吐出孔121の両側に配置された各々2個の開口
部123に分配され、平版印刷版Mの搬送方向と直交す
る方向に拡散される。そして、この現像液はさらに拡散
フィルム126と塗布ローラ125との当接部に流下
し、塗布ローラ125の溝による開口部125cを通過
する。このとき、現像液は平版印刷版Mの搬送方向と直
交する方向にさらに拡散される。In the developing solution applying mechanism 43, the developing solution discharged from the three discharge holes 121 in the developing solution supply pipe 122 flows down to the developing solution receiving portion 124, and further flows.
The developer flows down from the six openings 123 provided in the developer receiving portion 124 toward the diffusion film 126. At this time,
The developer flowing down from the three discharge holes 121 to the developer receiving portion 124 is distributed to two openings 123 disposed on both sides of each discharge hole 121 in a direction orthogonal to the transport direction of the lithographic printing plate M. Then, the light is diffused in a direction orthogonal to the transport direction of the lithographic printing plate M. Then, the developer further flows down to the contact portion between the diffusion film 126 and the application roller 125, and passes through the opening 125 c formed by the groove of the application roller 125. At this time, the developer is further diffused in a direction orthogonal to the transport direction of the lithographic printing plate M.
【0056】このように、この現像液塗布機構43にお
いては、処理液拡散部(A)として機能する現像液受け
部124と、処理液拡散部(B)として機能する塗布ロ
ーラ125および拡散フィルム126との二段階で現像
液を拡散することから、現像液を平版印刷版Mの搬送方
向と直交する方向に均一に拡散することが可能となる。
このため、平版印刷版Mに対して現像液を極めて均一に
供給することが可能となり、現像液の供給量が少量であ
る場合においても、平版印刷版Mを現像むらを生じるこ
となく現像処理することができる。なお、処理液拡散部
(A)と(B)との間に別の処理液拡散部を設けてもよ
い。As described above, in the developing solution applying mechanism 43, the developing solution receiving section 124 functioning as the processing liquid diffusing section (A), the application roller 125 and the diffusion film 126 functioning as the processing liquid diffusing section (B). Since the developing solution is diffused in two stages, it becomes possible to uniformly diffuse the developing solution in a direction orthogonal to the transport direction of the lithographic printing plate M.
For this reason, it becomes possible to supply the developing solution to the lithographic printing plate M extremely uniformly, and even when the supply amount of the developing solution is small, the lithographic printing plate M is subjected to the development processing without causing uneven development. be able to. Note that another processing liquid diffusion unit may be provided between the processing liquid diffusion units (A) and (B).
【0057】特に、この実施の形態においては、塗布ロ
ーラ125の溝による開口部125cの総面積が前述し
た現像液受け部124に穿設された6個の開口部123
の総面積より小さくなるように構成されていることか
ら、処理液拡散部(A)として機能する現像液受け部1
24による現像液の拡散能力より、処理液拡散部(B)
として機能する塗布ローラ125および拡散フィルム1
26の現像液の拡散能力が大となる。従って、平版印刷
版Mへの現像液の塗布量に最終的に影響を与える処理液
拡散部(B)としての塗布ローラ125および拡散フィ
ルム126により現像液が均一に拡散されることにな
り、最終的に現像液塗布機構43によって現像液を極め
て均一に拡散することが可能となる。In particular, in this embodiment, the total area of the openings 125c formed by the grooves of the application roller 125 is equal to the six openings 123 formed in the developer receiving section 124 described above.
Is smaller than the total area of the developing solution, the developer receiving portion 1 functioning as the processing solution diffusing portion (A)
24, the processing solution diffusion part (B)
Roller 125 and diffusion film 1 functioning as
The diffusion ability of the developer 26 becomes large. Therefore, the developing solution is uniformly diffused by the application roller 125 and the diffusion film 126 as the processing solution diffusing portion (B) which finally affects the amount of the developing solution applied to the lithographic printing plate M. It becomes possible to diffuse the developer extremely uniformly by the developer application mechanism 43.
【0058】このため、現像の進行が速く、現像液の塗
布が不均一になると現像むらを生じやすい銀錯塩拡散転
写法(DTR法)を用いた平版印刷版Mに現像液を塗布
してその現像処理を行う場合に特に有効となる。For this reason, the development proceeds rapidly, and when the application of the developer becomes uneven, the developer is applied to the lithographic printing plate M using the silver complex salt diffusion transfer method (DTR method), which tends to cause uneven development. This is particularly effective when performing development processing.
【0059】なお、ここでいう「拡散能力」とは、現像
液を平版印刷版Mの搬送方向と直交する方向に拡げる能
力を指す。Here, the “diffusion capacity” refers to the ability to spread the developing solution in a direction perpendicular to the direction of transport of the lithographic printing plate M.
【0060】上記実施の形態においては、現像液受け部
124の開口部123から流下した現像液が平版印刷版
Mの搬送方向に向けて逆流することを防止する規制手段
として逆流防止フィルム127を使用した場合について
述べたが、図6に示すように、逆流防止フィルム127
に換えて、塗布ローラ125と当接して回転する逆流防
止ローラ129を設け、これを規制手段として使用して
もよい。但し、上記実施の形態のように現像液受け部1
24に逆流防止フィルム127を付設する構成とした場
合においては、逆流防止フィルム127を現像液受け部
124と一体として着脱、位置決めすることが可能とな
るので、現像液塗布機構43のメンテナンス等をより容
易に行うことが可能となる。In the above embodiment, the backflow prevention film 127 is used as a regulating means for preventing the developing solution flowing down from the opening 123 of the developing solution receiving portion 124 from flowing backward in the direction of transport of the lithographic printing plate M. As described in FIG. 6, the backflow prevention film 127 is used.
Instead, a backflow prevention roller 129 that rotates in contact with the application roller 125 may be provided and used as a regulating unit. However, as in the above embodiment, the developer receiving portion 1
In the case where the backflow prevention film 127 is attached to the 24, the backflow prevention film 127 can be attached and detached and positioned integrally with the developer receiving portion 124, so that maintenance of the developer application mechanism 43 can be performed more easily. This can be easily performed.
【0061】次に、安定液塗布機構73の構成について
説明する。図7は安定液塗布機構73の構成を示す概要
図である。Next, the configuration of the stabilizing liquid application mechanism 73 will be described. FIG. 7 is a schematic diagram showing the configuration of the stabilizing liquid application mechanism 73.
【0062】この安定液塗布機構73は、その下方に複
数の吐出孔131が穿設された安定液供給管132と、
その下端部に安定液を流下させるための複数の開口部1
33を穿設した安定液受け部134と、安定液受け部1
34の開口部133から流下した安定液を平版印刷版M
と当接して回転する塗布ローラ135に案内するための
拡散フィルム136と、塗布ローラ135に当接する板
バネ138とを有する。なお、図7における矢印は、図
4と同様、平版印刷版Mの搬送方向を示している。The stable liquid application mechanism 73 includes a stable liquid supply pipe 132 having a plurality of discharge holes 131 formed thereunder.
A plurality of openings 1 for allowing the stable liquid to flow down at the lower end thereof
And a stable liquid receiving portion 1
The stable liquid flowing down from the opening 133 of the lithographic printing plate M
A diffusion film 136 for guiding the application roller 135 rotating in contact with the coating roller 135; and a leaf spring 138 in contact with the application roller 135. The arrows in FIG. 7 indicate the transport direction of the lithographic printing plate M as in FIG.
【0063】安定液供給管132は、前述した安定液タ
ンク82とポンプ83を介して接続されており、ポンプ
83の駆動により複数の吐出孔131から安定液を吐出
する。この吐出孔131は、平版印刷版Mの搬送方向と
直交する方向に3個並設されている。The stable liquid supply pipe 132 is connected to the above-mentioned stable liquid tank 82 via a pump 83, and discharges the stable liquid from the plurality of discharge holes 131 by driving the pump 83. The three discharge holes 131 are arranged side by side in the direction orthogonal to the transport direction of the planographic printing plate M.
【0064】安定液受け部134は、上述した現像液受
け部124と同様、安定液供給管132より吐出された
安定液を一旦受け取って、平版印刷版Mの搬送方向と直
交する方向に拡散するための処理液拡散部(A)として
機能する。この安定液受け部134の下端部には、平版
印刷版Mの搬送方向と直交する方向に6個の開口部13
3が穿設されている。そして、この開口部133は、平
版印刷版Mの搬送方向と直交する方向において、安定液
供給管132の3個の吐出孔131の各々の位置に相当
する位置の両側にそれぞれ配置されている。すなわち、
図5において説明した現像液塗布機構43の場合と同
様、各吐出孔131から安定液受け部134への3カ所
の安定液の流下位置の各々の両側に、開口部133が配
置されていることになる。As in the case of the developer receiving section 124 described above, the stable liquid receiving section 134 once receives the stable liquid discharged from the stable liquid supply pipe 132 and diffuses it in a direction perpendicular to the transport direction of the lithographic printing plate M. As a processing liquid diffusion unit (A) for the purpose. The lower end of the stable liquid receiving portion 134 has six openings 13 in a direction orthogonal to the transport direction of the planographic printing plate M.
3 are drilled. The openings 133 are arranged on both sides of a position corresponding to each of the three discharge holes 131 of the stable liquid supply pipe 132 in a direction orthogonal to the direction of transport of the lithographic printing plate M. That is,
As in the case of the developer application mechanism 43 described with reference to FIG. 5, the openings 133 are arranged on both sides of each of the three positions where the stable liquid flows down from the discharge holes 131 to the stable liquid receiving portion 134. become.
【0065】拡散フィルム136は、0.03mm程度
の厚さを有するステンレス製の薄板上に凹凸加工された
フィルムを積層してなり、取付板140により安定液受
け部134の側壁に付設されている。拡散フィルム13
6における安定液受け部134よりの垂下部分の上端部
は、安定液受け部134の開口部133と近接して配置
されており、また、その下端部は塗布ローラ135の表
面に弾性力をもって当接している。The diffusion film 136 is formed by laminating an unevenly processed film on a stainless steel thin plate having a thickness of about 0.03 mm, and is attached to the side wall of the stable liquid receiving portion 134 by the mounting plate 140. . Diffusion film 13
6, the upper end of the hanging portion from the stable liquid receiving portion 134 is disposed close to the opening 133 of the stable liquid receiving portion 134, and the lower end of the lower portion contacts the surface of the application roller 135 with elastic force. In contact.
【0066】塗布ローラ135は、平版印刷版Mの搬送
速度と同一の周速度で回転するローラであり、その表面
が単泡性スポンジより構成されている。この塗布ローラ
135と拡散フィルム136が当接した状態において
は、塗布ローラ135と拡散フィルム136との当接部
分に拡散フィルム136表面の凹凸による開口部が形成
される。この拡散フィルム136表面の凹凸による開口
部の総面積は、前述した安定液受け部134に穿設され
た6個の開口部133の総面積より小さくなるように、
拡散フィルム136の凹凸の形状等が選択されている。The application roller 135 is a roller that rotates at the same peripheral speed as the transport speed of the lithographic printing plate M, and has a surface formed of a single-cell sponge. When the application roller 135 and the diffusion film 136 are in contact with each other, an opening is formed at the contact portion between the application roller 135 and the diffusion film 136 due to the unevenness of the surface of the diffusion film 136. The total area of the openings due to the irregularities on the surface of the diffusion film 136 is smaller than the total area of the six openings 133 formed in the stable liquid receiving section 134 described above.
The shape and the like of the unevenness of the diffusion film 136 are selected.
【0067】安定液受け部134の開口部133から流
下した安定液は、塗布ローラ135と拡散フィルム13
6との当接部分に一旦貯留されて、平版印刷版Mの搬送
方向と直交する方向に拡散される。そして、この安定液
は、塗布ローラ135の回転に伴い、拡散フィルム13
6表面の凹凸による開口部を通過して塗布ローラ135
と板バネ138との当接部方向に移動する。従って、こ
の塗布ローラ135と拡散フィルム136は、安定液受
け部134の開口部133から流下した安定液を一旦受
け取って、平版印刷版Mの搬送方向と直交する方向に拡
散するための処理液拡散部(B)として機能する。The stable liquid flowing down from the opening 133 of the stable liquid receiving portion 134 is applied to the application roller 135 and the diffusion film 13.
6 and temporarily diffused in a direction orthogonal to the transport direction of the lithographic printing plate M. Then, the stabilizing liquid is supplied to the diffusion film 13 with the rotation of the application roller 135.
6. The coating roller 135 passes through the opening formed by the irregularities on the surface.
And the leaf spring 138 moves in the contact direction. Accordingly, the application roller 135 and the diffusion film 136 receive the stable liquid flowing down from the opening 133 of the stable liquid receiving portion 134 and diffuse the processing liquid in a direction orthogonal to the transport direction of the lithographic printing plate M. It functions as part (B).
【0068】板バネ138と塗布ローラ135との当接
部には、塗布ローラ135と拡散フィルム136との間
を通過した安定液の液溜めが形成される。そして、平版
印刷版Mがこの液溜めを通過するときに、平版印刷版M
の感光面に安定液が塗布される。なお、板バネ138に
は、必要以上の安定液が貯留され液溜めが過剰に大きく
なることを防止するためのオーバフロー孔137が設け
られている。At a contact portion between the leaf spring 138 and the application roller 135, a reservoir of a stable liquid that has passed between the application roller 135 and the diffusion film 136 is formed. When the lithographic printing plate M passes through the liquid reservoir, the lithographic printing plate M
A stable liquid is applied to the photosensitive surface. The plate spring 138 is provided with an overflow hole 137 for preventing the stable liquid from being stored more than necessary and preventing the liquid reservoir from becoming excessively large.
【0069】この安定液塗布機構43においては、安定
液供給管132における3個の吐出孔131より吐出さ
れた安定液は、安定液受け部134に流下し、さらに、
安定液受け部134に設けられた6個の開口部133か
ら拡散フィルム136に向かって流下する。このとき、
3個の吐出孔131から安定液受け部134に流下した
安定液は、平版印刷版Mの搬送方向と直交する方向にお
いて各吐出孔131の両側に配置された各々2個の開口
部133に分配され、平版印刷版Mの搬送方向と直交す
る方向に拡散される。そして、この安定液はさらに拡散
フィルム136と塗布ローラ135との当接部に流下
し、拡散フィルム136の凹凸による開口部を通過す
る。このとき、安定液は平版印刷版Mの搬送方向と直交
する方向にさらに拡散される。In this stable liquid application mechanism 43, the stable liquid discharged from the three discharge holes 131 in the stable liquid supply pipe 132 flows down to the stable liquid receiving portion 134,
It flows down from the six openings 133 provided in the stable liquid receiving portion 134 toward the diffusion film 136. At this time,
The stable liquid that has flowed down from the three discharge holes 131 to the stable liquid receiving unit 134 is distributed to two openings 133 disposed on both sides of each discharge hole 131 in a direction orthogonal to the transport direction of the planographic printing plate M. Then, the light is diffused in a direction orthogonal to the transport direction of the lithographic printing plate M. Then, the stabilizing liquid further flows down to the contact portion between the diffusion film 136 and the application roller 135, and passes through the opening formed by the unevenness of the diffusion film 136. At this time, the stabilizing liquid is further diffused in a direction orthogonal to the transport direction of the lithographic printing plate M.
【0070】このように、この安定液塗布機構73にお
いても、現像液塗布機構43と同様、処理液拡散部
(A)として機能する安定液受け部134と、処理液拡
散部(B)として機能する塗布ローラ135および拡散
フィルム136との二段階で安定液を拡散することか
ら、安定液を平版印刷版Mの搬送方向と直交する方向に
均一に拡散することが可能となる。このため、平版印刷
版Mに対して安定液を極めて均一に供給することが可能
となる。また、この安定液塗布機構73においては、塗
布ローラ135として特にその表面がスポンジよりなる
ローラを採用しているため、現像液により膨潤した平版
印刷版Mの感光面に損傷を与えることはない。As described above, also in the stable liquid application mechanism 73, similarly to the developer application mechanism 43, the stable liquid receiving section 134 that functions as the processing liquid diffusion section (A) and the processing liquid diffusion section (B) that functions as the processing liquid diffusion section (B). Since the stabilizing liquid is diffused in two stages: the application roller 135 and the diffusion film 136, the stabilizing liquid can be uniformly diffused in a direction orthogonal to the transport direction of the planographic printing plate M. For this reason, it is possible to supply the stable liquid to the lithographic printing plate M extremely uniformly. In addition, in the stable liquid application mechanism 73, since the application roller 135 particularly employs a roller having a sponge surface, the photosensitive surface of the lithographic printing plate M swollen by the developing solution is not damaged.
【0071】また、この実施の形態においても、拡散フ
ィルム136表面の凹凸による開口部の総面積が前述し
た安定液受け部134に穿設された6個の開口部133
の総面積より小さくなるように構成されていることか
ら、処理液拡散部(A)として機能する安定液受け部1
34による安定液の拡散能力より、処理液拡散部(B)
として機能する塗布ローラ135および拡散フィルム1
36の安定液の拡散能力が大となる。従って、平版印刷
版Mへの安定液の塗布量に最終的に影響を与える処理液
拡散部(B)としての塗布ローラ135および拡散フィ
ルム136により安定液が均一に拡散されることにな
り、最終的に安定液塗布機構73によって安定液を極め
て均一に拡散することが可能となる。Also in this embodiment, the total area of the openings due to the unevenness of the surface of the diffusion film 136 is reduced by the six openings 133 formed in the stable liquid receiving portion 134 described above.
Is configured to be smaller than the total area of the stabilizing solution receiving section 1 which functions as the processing liquid diffusing section (A).
34, the processing liquid diffusion part (B)
Roller 135 and diffusion film 1 functioning as
The dispersion capacity of the stabilizing liquid of No. 36 becomes large. Accordingly, the stable liquid is uniformly diffused by the coating roller 135 and the diffusion film 136 as the processing liquid diffusing section (B) which finally affects the amount of the stable liquid applied to the lithographic printing plate M. The stable liquid application mechanism 73 makes it possible to diffuse the stable liquid very uniformly.
【0072】次に、この発明に係る処理装置における現
像液塗布機構の他の実施形態について説明する。図8は
他の実施形態に係る現像液塗布機構143の概要図であ
る。なお、図4に示す現像液塗布機構43と同一の部材
については、同一の符号を付して詳細な説明を省略す
る。Next, another embodiment of the developing solution application mechanism in the processing apparatus according to the present invention will be described. FIG. 8 is a schematic diagram of a developer application mechanism 143 according to another embodiment. Note that the same members as those of the developer application mechanism 43 shown in FIG. 4 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
【0073】図4に示す現像液塗布機構43において
は、処理液拡散部(A)(B)を形成するために、現像
液受け部124と拡散フィルム126とを使用している
が、図8に示す処理液塗布機構143においては、複数
の凹凸加工されたフィルム153、154を利用して処
理液拡散部(A)(B)を形成している。In the developing solution applying mechanism 43 shown in FIG. 4, the developing solution receiving portion 124 and the diffusion film 126 are used to form the processing solution diffusing portions (A) and (B). In the processing liquid application mechanism 143 shown in (1), the processing liquid diffusion portions (A) and (B) are formed using a plurality of unevenly processed films 153 and 154.
【0074】即ち、図8において、152は0.03m
m程度の厚さを有するステンレス製の薄板であり、この
ステンレス薄板152上には、凹凸加工されたエンボス
フィルム154とエンボスフィルム153とがこの順で
積層されている。そして、エンボスフィルム154の表
面は、ステンレス薄板152の弾性により、ワイヤバー
から構成される塗布ローラ125の表面に弾性力をもっ
て当接している。また、エンボスフィルム153の表面
と当接する位置には、例えばポリエチレンテレフタレー
ト(PET)製の液受けフィルム155が配置されてい
る。このエンボスフィルム153、154は、例えば樹
脂製のフィルムをプレスすることによりその表面を凹凸
状にエンボス加工したものであり、図9に示すように、
その表面は六角形状の凸部156と、凸部156を囲う
ように形成された凹部157とから構成されている。That is, in FIG. 8, 152 is 0.03 m
The embossed film 154 and the embossed film 153 are formed in this order on the stainless steel thin plate 152. The surface of the embossed film 154 is in contact with the surface of the application roller 125 composed of a wire bar with elastic force due to the elasticity of the stainless steel plate 152. A liquid receiving film 155 made of, for example, polyethylene terephthalate (PET) is disposed at a position where the liquid receiving film 155 comes into contact with the surface of the embossed film 153. The embossed films 153 and 154 are formed by pressing a resin film, for example, so that the surface thereof is embossed into an uneven shape. As shown in FIG.
The surface is composed of a hexagonal convex part 156 and a concave part 157 formed so as to surround the convex part 156.
【0075】この現像液塗布機構143においては、現
像液供給管122における3個の吐出孔121より吐出
された現像液は、液受けフィルム155とエンボスフィ
ルム153との間にエンボスフィルム153の凹部15
7によって形成される開口部(A)を通過して流下す
る。このとき、現像液は平版印刷版Mの搬送方向と直交
する方向に拡散される。この現像液は、さらに塗布ロー
ラ125とエンボスフィルム154との当接部分に流下
し、エンボスフィルム154の凹部157と図10に示
す塗布ローラ125による開口部125cとによって形
成される開口部(B)を通過する。このとき、現像液は
平版印刷版Mの搬送方向と直交する方向にさらに拡散さ
れる。In the developing solution applying mechanism 143, the developing solution discharged from the three discharge holes 121 of the developing solution supply pipe 122 is supplied between the liquid receiving film 155 and the embossed film 153 by the concave portions 15 of the embossed film 153.
7 and flow down through the opening (A) formed by it. At this time, the developer is diffused in a direction orthogonal to the direction of transport of the lithographic printing plate M. This developer further flows down to the contact portion between the application roller 125 and the embossed film 154, and the opening (B) formed by the concave portion 157 of the embossed film 154 and the opening 125c of the application roller 125 shown in FIG. Pass through. At this time, the developer is further diffused in a direction orthogonal to the transport direction of the lithographic printing plate M.
【0076】なお、平版印刷版Mの搬送方向と直交する
方向において、上記開口部(A)の単位長さあたりの面
積を開口部(B)の単位長さあたりの面積より大きくす
るため、エンボスフィルム153の凹部157の大きさ
は、エンボスフィルム154の凹部157の大きさより
大きく設定されている。これらの関係は、以下の通りで
ある。In order to make the area per unit length of the opening (A) larger than the area per unit length of the opening (B) in the direction orthogonal to the transport direction of the lithographic printing plate M, embossing is performed. The size of the concave portion 157 of the film 153 is set to be larger than the size of the concave portion 157 of the embossed film 154. These relationships are as follows.
【0077】即ち、図10に示す塗布ローラ125のワ
イヤー125bによる開口部125cにより形成された
平版印刷版Mの搬送方向と直交する方向における単位長
さあたりの面積をS0とした場合、エンボスフィルム1
54の凹部157により形成される単位長さあたりの面
積S2は、塗布ローラ125とバックアップローラ12
8との当接部に形成される現像液の液溜めが過度に大き
くなることを防止するため、面積S0の0.1〜0.8
倍となるようにエンボスフィルム154の凹部157の
大きさが設定されている。一方、エンボスフィルム15
3の凹部157により形成される開口部(A)の単位長
さあたりの面積S1は、開口部(B)の単位長さあたり
の面積S0+S2の1〜2倍となるように、エンボスフ
ィルム153の凹部157の大きさが設定されている。
そして、現像液が通過する平版印刷版Mの搬送方向と直
交する方向の長さは、塗布ローラ125およびエンボス
フィルム153、154で共通であることから、上記の
単位長さあたりの面積S0、S1、S2の比は、そのま
ま、総面積比となる。That is, when the area per unit length in the direction orthogonal to the transport direction of the planographic printing plate M formed by the opening 125c of the coating roller 125 by the wire 125b of the coating roller 125 shown in FIG.
The area S2 per unit length formed by the concave portions 157 of the
In order to prevent the reservoir of the developer formed at the contact portion with the area 8 from becoming excessively large, the area S0 of 0.1 to 0.8
The size of the concave portion 157 of the embossed film 154 is set to be twice as large. On the other hand, the embossed film 15
3 of the embossed film 153 so that the area S1 per unit length of the opening (A) formed by the three recesses 157 is 1-2 times the area S0 + S2 per unit length of the opening (B). The size of the recess 157 is set.
Since the length in the direction perpendicular to the transport direction of the lithographic printing plate M through which the developer passes is common to the application roller 125 and the embossed films 153 and 154, the areas S0 and S1 per unit length described above are used. , S2 becomes the total area ratio as it is.
【0078】このように、この現像液塗布機構143に
おいては、処理液拡散部(A)として機能する液受けフ
ィルム155およびエンボスフィルム153と、処理液
拡散部(B)として機能する塗布ローラ125およびエ
ンボスフィルム154との二段階で現像液を拡散するこ
とから、現像液を平版印刷版Mの搬送方向と直交する方
向に均一に拡散することが可能となる。このため、平版
印刷版Mに対して現像液を極めて均一に供給することが
可能となり、現像液の供給量が少量である場合において
も、平版印刷版Mを現像むらを生じることなく現像処理
することができる。As described above, in the developing solution applying mechanism 143, the liquid receiving film 155 and the embossed film 153 functioning as the processing liquid diffusing portion (A), and the coating roller 125 and the embossing film 153 functioning as the processing liquid diffusing portion (B) are provided. Since the developer is diffused in two stages with the embossed film 154, the developer can be uniformly diffused in a direction orthogonal to the transport direction of the lithographic printing plate M. For this reason, it becomes possible to supply the developing solution to the lithographic printing plate M extremely uniformly, and even when the supply amount of the developing solution is small, the lithographic printing plate M is subjected to the development processing without causing uneven development. be able to.
【0079】また、この実施の形態においては、開口部
(A)の総面積が開口部(B)の総面積より大きくなる
ように構成されていることから、処理液拡散部(A)と
して機能する液受けフィルム155およびエンボスフィ
ルム153による現像液の拡散能力より、処理液拡散部
(B)として機能する塗布ローラ125およびエンボス
フィルム154による現像液の拡散能力が大となり、現
像液をより均一に拡散することが可能となる。Further, in this embodiment, since the total area of the opening (A) is larger than the total area of the opening (B), it functions as the processing liquid diffusion section (A). The spreading ability of the developing solution by the coating roller 125 and the embossing film 154 functioning as the processing solution diffusing portion (B) becomes larger than the spreading ability of the developing solution by the liquid receiving film 155 and the embossed film 153, thereby making the developing solution more uniform. It becomes possible to spread.
【0080】なお、上記実施の形態においては図示を省
略しているが、図8における現像液塗布機構143にお
いても、図4に示す逆流防止フィルム127または図6
に示す逆流防止ローラ129と同様の規制手段が配設さ
れている。Although not shown in the above embodiment, the developer application mechanism 143 shown in FIG. 8 can also be used to prevent the backflow prevention film 127 shown in FIG.
The same restricting means as the backflow prevention roller 129 shown in FIG.
【0081】上述した実施の形態においては、いずれ
も、感光材料として銀錯塩拡散転写法(DTR法)を用
いた平版印刷版Mを使用した場合について説明したが、
この発明は、その他の各種の感光材料を使用する感光材
料処理装置にも適用することが可能である。In each of the above embodiments, the case where the lithographic printing plate M using the silver complex salt diffusion transfer method (DTR method) is used as the photosensitive material has been described.
The present invention can be applied to a photosensitive material processing apparatus using other various photosensitive materials.
【0082】[0082]
【発明の効果】請求項1に記載の発明によれば、処理液
供給部より供給された処理液を拡散し流下せしめる処理
液拡散部(A)と、塗布部材に当接する当接部材を有
し、流下した処理液を塗布部材と当接部材との間で拡散
し、塗布部材を介して流下せしめる処理液拡散部(B)
とを備えることから、処理液供給部より供給された処理
液を二段階で拡散した上で感光材料に塗布することにな
り、感光材料に塗布すべき処理液が少量である場合にお
いても、感光材料に処理液を均一に塗布することができ
る。According to the first aspect of the present invention, there is provided a processing liquid diffusion section (A) for diffusing and flowing down the processing liquid supplied from the processing liquid supply section, and a contact member contacting the coating member. And a processing liquid diffusion section (B) for diffusing the processing liquid that has flowed down between the coating member and the contact member and flowing down through the coating member.
Therefore, the processing liquid supplied from the processing liquid supply unit is diffused in two steps and then applied to the photosensitive material, and even when the processing liquid to be applied to the photosensitive material is small, the photosensitive The processing liquid can be uniformly applied to the material.
【0083】請求項2に記載の発明によれば、その表面
が凹凸状に形成された塗布ローラにより塗布部材が構成
されることから、塗布ローラの回転により、処理液を正
確に計量して感光材料に塗布することが可能となる。According to the second aspect of the present invention, since the coating member is constituted by the coating roller whose surface is formed in an uneven shape, the processing liquid is accurately measured by the rotation of the coating roller to expose the photosensitive member. It can be applied to the material.
【0084】請求項3に記載の発明によれば、処理液拡
散部(B)は処理液拡散部(A)より処理液の拡散能力
が大であることから、処理液拡散部(B)から流下する
均一化された処理液を感光材料に塗布することが可能と
なる。According to the third aspect of the present invention, since the processing liquid diffusing section (B) has a larger diffusion capacity for the processing liquid than the processing liquid diffusing section (A), the processing liquid diffusing section (B) has a larger capacity. It becomes possible to apply the uniformized processing solution flowing down to the photosensitive material.
【0085】請求項4に記載の発明によれば、処理液拡
散部(A)の開口部の総面積は処理液拡散部(B)の開
口部の総面積より大きく設定されていることから、処理
液拡散部(B)から流下する均一化された処理液を感光
材料に塗布することが可能となる。According to the fourth aspect of the present invention, the total area of the opening of the processing liquid diffusion section (A) is set to be larger than the total area of the opening of the processing liquid diffusion section (B). It is possible to apply the uniformized processing liquid flowing down from the processing liquid diffusion section (B) to the photosensitive material.
【0086】請求項5に記載の発明によれば、処理液拡
散部(A)が処理液を通過させるための複数の開口部を
穿設した処理液受け部を有していることから、処理液供
給部から供給された処理液は複数の開口部に拡散した
後、当該複数の開口部から流下することになり、簡易な
構成で処理液を均一に感光材料に塗布することが可能と
なる。According to the fifth aspect of the present invention, since the processing liquid diffusing section (A) has the processing liquid receiving section provided with a plurality of openings through which the processing liquid passes. After the processing liquid supplied from the liquid supply unit is diffused into the plurality of openings, it flows down from the plurality of openings, so that the processing liquid can be uniformly applied to the photosensitive material with a simple configuration. .
【0087】請求項6に記載の発明によれば、処理液受
け部の複数の開口部は、処理液供給部の開口部から処理
液受け部への処理液の流下位置とは異なる位置に穿設さ
れていることから、処理液供給部の開口部から供給され
た処理液は処理液受け部によって受け取られた後に処理
液受け部の開口部より流下することになり、簡易な構成
で処理液を拡散させた後、均一に感光材料に塗布するこ
とが可能となる。According to the sixth aspect of the present invention, the plurality of openings of the processing liquid receiving section are formed at positions different from the positions where the processing liquid flows from the opening of the processing liquid supply section to the processing liquid receiving section. Therefore, the processing liquid supplied from the opening of the processing liquid supply unit flows down from the opening of the processing liquid receiving unit after being received by the processing liquid receiving unit. After diffusing, it is possible to uniformly coat the photosensitive material.
【0088】請求項7に記載の発明によれば、処理液受
け部の複数の開口部が処理液供給部の開口部から処理液
受け部への処理液の流下位置の両側に各々穿設されてい
ることから、処理液供給部の開口部から流下した処理液
は、その流下位置の両側に穿設された処理液受け部の開
口部に分散した後、当該処理液受け部の開口部から流下
することになり、簡易な構成で処理液を拡散させた後、
均一に感光材料に塗布することが可能となる。According to the seventh aspect of the present invention, the plurality of openings of the processing liquid receiving section are respectively formed on both sides of the position where the processing liquid flows down from the opening of the processing liquid supply section to the processing liquid receiving section. Therefore, the processing liquid flowing down from the opening of the processing liquid supply unit is dispersed into the opening of the processing liquid receiving unit formed on both sides of the flow-down position, and then the processing liquid flows from the opening of the processing liquid receiving unit. It will flow down, and after diffusing the processing liquid with a simple configuration,
It is possible to uniformly apply to the photosensitive material.
【0089】請求項8に記載の発明によれば、当接部材
が弾性力をもって塗布部材に当接するため、処理液を塗
布部材と当接部材との間で均一に拡散することができ
る。According to the eighth aspect of the present invention, since the contact member comes into contact with the application member with elastic force, the processing liquid can be uniformly diffused between the application member and the contact member.
【0090】請求項9に記載の発明によれば、処理液拡
散部(A)から流下した処理液が感光材料の搬送方向に
向けて逆流することを防止する規制手段を有することか
ら、処理液拡散部(A)から流下した処理液が塗布部材
により処理液を塗布されて搬送される感光材料に再付着
することを有効に防止することができる。According to the ninth aspect of the present invention, since there is provided a regulating means for preventing the processing liquid flowing down from the processing liquid diffusion section (A) from flowing backward in the conveying direction of the photosensitive material, the processing liquid is provided. The processing liquid that has flowed down from the diffusion section (A) can be effectively prevented from being re-adhered to the photosensitive material to which the processing liquid is applied by the coating member and conveyed.
【図1】平版印刷版の製版装置の概要図である。FIG. 1 is a schematic diagram of a lithographic printing plate making apparatus.
【図2】現像処理装置3の概要図である。FIG. 2 is a schematic diagram of a developing device 3;
【図3】現像処理装置3の配管系を示す概要図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing a piping system of the developing device 3;
【図4】現像液塗布機構43を示す概要図である。FIG. 4 is a schematic view showing a developer application mechanism 43.
【図5】吐出孔121と開口部123との関係を示す斜
視図である。FIG. 5 is a perspective view showing a relationship between a discharge hole 121 and an opening 123.
【図6】現像液塗布機構43の変形例を示す概要図であ
る。FIG. 6 is a schematic diagram showing a modification of the developer application mechanism 43.
【図7】安定液塗布機構73を示す概要図である。FIG. 7 is a schematic diagram showing a stable liquid application mechanism 73.
【図8】他の実施形態に係る現像液塗布機構143を示
す概要図である。FIG. 8 is a schematic diagram showing a developer application mechanism 143 according to another embodiment.
【図9】エンボスフィルム153、154の一部を拡大
して示す平面図である。FIG. 9 is an enlarged plan view showing a part of the embossed films 153 and 154.
【図10】塗布ローラ125の一部を拡大して示す断面
図である。FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a part of an application roller 125 in an enlarged manner.
2 露光装置 3 現像処理装置 32 現像部 33 安定部 34 乾燥部 43 現像液塗布機構 73 安定液塗布機構 121 吐出孔 122 現像液供給管 123 開口部 124 現像液受け部 125 塗布ローラ 126 拡散フィルム 127 逆流防止フィルム 131 吐出孔 132 安定液供給管 133 開口部 134 安定液受け部 135 塗布ローラ 136 拡散フィルム 143 処理液塗布機構 152 ステンレスフィルム 153 エンボスフィルム 154 エンボスフィルム 155 液受けフィルム 156 凸部 157 凹部 M 平版印刷版 Reference Signs List 2 Exposure device 3 Developing device 32 Developing unit 33 Stabilizing unit 34 Drying unit 43 Developing solution applying mechanism 73 Stabilizing solution applying mechanism 121 Discharge port 122 Developing solution supply pipe 123 Opening 124 Developing solution receiving unit 125 Application roller 126 Diffusion film 127 Backflow Prevention film 131 Discharge hole 132 Stabilizing liquid supply pipe 133 Opening 134 Stabilizing liquid receiving part 135 Coating roller 136 Diffusion film 143 Processing liquid coating mechanism 152 Stainless film 153 Embossed film 154 Embossed film 155 Liquid receiving film 156 Convex part 157 Concave part M Planographic printing Edition
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 京之介 東京都千代田区丸の内3丁目4番2号 三 菱製紙株式会社内 (72)発明者 浦崎 淳 東京都千代田区丸の内3丁目4番2号 三 菱製紙株式会社内 (72)発明者 高野 佳和 東京都千代田区丸の内3丁目4番2号 三 菱製紙株式会社内 (72)発明者 宮坂 英二 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内 (72)発明者 木村 雅治 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内 (72)発明者 川口 靖弘 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Kyonosuke Yamamoto, Inventor 3-4-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Inside Mitsubishi Paper Mills Co., Ltd. (72) Atsushi Urasaki 3-4-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo No. Mitsui Paper Co., Ltd. (72) Yoshikazu Takano Inventor 3-4-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Mitsui Paper Co., Ltd. (72) Eiji Miyasaka 480-1 Takamiyacho, Hikone City, Shiga Prefecture Nippon Screen Manufacturing Co., Ltd. Hikone District Office (72) Inventor Masaharu Kimura 1 at 480 Takamiyacho, Hikone City, Shiga Prefecture Dai Nippon Screen Manufacturing Co., Ltd. Hikone Area Office (72) Inventor Yasuhiro Kawaguchi 480 Takamiyacho, Hikone City, Shiga Prefecture No. 1 Dainippon Screen Manufacturing Co., Ltd. Hikone area office
Claims (9)
布部材を介して感光材料に塗布する処理装置であって、 前記処理液供給部より供給された処理液を拡散し流下せ
しめる処理液拡散部(A)と、 前記塗布部材に当接する当接部材を有し、流下した処理
液を前記塗布部材と前記当接部材との間で拡散し、前記
塗布部材を介して流下せしめる処理液拡散部(B)と、 を少なくとも備えたことを特徴とする感光材料処理装
置。1. A processing apparatus for applying a processing liquid supplied from a processing liquid supply unit to a photosensitive material via a coating member, wherein the processing liquid supplied from the processing liquid supply unit is diffused and caused to flow down. A processing liquid having a diffusion part (A) and a contact member that comes into contact with the coating member, and the processing liquid that flows down is diffused between the coating member and the contact member, and flows down through the coating member. And a diffusion unit (B).
成された塗布ローラからなる請求項1に記載の感光材料
処理装置。2. The photosensitive material processing apparatus according to claim 1, wherein the coating member comprises a coating roller whose surface is formed in an uneven shape.
拡散部(A)より処理液の拡散能力が大である請求項1
または2いずれかに記載の感光材料処理装置。3. The processing liquid diffusion section (B) has a larger diffusion capacity of the processing liquid than the processing liquid diffusion section (A).
Or the photosensitive material processing apparatus according to any one of 2.
散部(B)は、各々、処理液を通過させるための開口部
を有し、 前記処理液拡散部(A)の開口部の総面積は前記処理液
拡散部(B)の開口部の総面積より大きく設定されてい
る請求項3に記載の感光材料処理装置。4. The processing liquid diffusion section (A) and the processing liquid diffusion section (B) each have an opening through which the processing liquid passes, and the processing liquid diffusion section (A) has an opening. The photosensitive material processing apparatus according to claim 3, wherein the total area of the processing liquid diffusion section (B) is set to be larger than the total area of the opening of the processing liquid diffusion section (B).
過させるための複数の開口部を穿設した処理液受け部を
有する請求項1に記載の感光材料処理装置。5. The photosensitive material processing apparatus according to claim 1, wherein the processing liquid diffusion section (A) has a processing liquid receiving section provided with a plurality of openings for allowing the processing liquid to pass therethrough.
受け部に流下させる開口部を有し、 前記処理液受け部の複数の開口部は、前記処理液供給部
の開口部から前記処理液受け部への処理液の流下位置と
は異なる位置に穿設されている請求項5に記載の感光材
料処理装置。6. The processing liquid supply section has an opening through which a processing liquid flows down to the processing liquid receiving section, and a plurality of openings of the processing liquid receiving section are formed from the opening of the processing liquid supply section. The photosensitive material processing apparatus according to claim 5, wherein the photosensitive material processing apparatus is provided at a position different from a position where the processing liquid flows down to the processing liquid receiving portion.
記処理液供給部の開口部から前記処理液受け部への処理
液の流下位置の両側に各々穿設されている請求項6に記
載の感光材料処理装置。7. A plurality of openings of the processing liquid receiving section are formed on both sides of a position where the processing liquid flows down from the opening of the processing liquid supply section to the processing liquid receiving section. 3. A photosensitive material processing apparatus according to claim 1.
布部材に当接する請求項1または2いずれかに記載の感
光材料処理装置。8. The photosensitive material processing apparatus according to claim 1, wherein the contact member contacts the coating member with elastic force.
処理液を塗布する塗布ローラから構成されるとともに、
感光材料の搬送方向に対して前記当接部材の下流側に配
設され、前記塗布部材の表面に当接することにより、前
記処理液拡散部(A)から流下した処理液が感光材料の
搬送方向に向けて逆流し前記塗布部材により処理液を塗
布されて搬送される感光材料に再付着することを防止す
る規制手段をさらに備えた請求項1に記載の感光材料処
理装置。9. The application member includes an application roller that applies a processing liquid to a conveyed photosensitive material,
The processing liquid is disposed downstream of the contact member with respect to the conveying direction of the photosensitive material, and is brought into contact with the surface of the coating member. The photosensitive material processing apparatus according to claim 1, further comprising a regulating means for preventing the processing liquid from flowing back toward the substrate and preventing the treatment liquid from being re-adhered to the conveyed photosensitive material after being applied by the application member.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23365496A JPH1062948A (en) | 1996-08-14 | 1996-08-14 | Photosensitive material processing device |
EP97113785A EP0828189B1 (en) | 1996-08-14 | 1997-08-08 | Apparatus for processing photosensitive material |
DE69731515T DE69731515T2 (en) | 1996-08-14 | 1997-08-08 | Apparatus for the treatment of photosensitive material |
US08/910,157 US5887214A (en) | 1996-08-14 | 1997-08-13 | Apparatus for processing photosensitive material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23365496A JPH1062948A (en) | 1996-08-14 | 1996-08-14 | Photosensitive material processing device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1062948A true JPH1062948A (en) | 1998-03-06 |
Family
ID=16958442
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23365496A Pending JPH1062948A (en) | 1996-08-14 | 1996-08-14 | Photosensitive material processing device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1062948A (en) |
-
1996
- 1996-08-14 JP JP23365496A patent/JPH1062948A/en active Pending
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