JP2761605B2 - Sensitive material processing equipment - Google Patents

Sensitive material processing equipment

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JP2761605B2
JP2761605B2 JP2290292A JP29029290A JP2761605B2 JP 2761605 B2 JP2761605 B2 JP 2761605B2 JP 2290292 A JP2290292 A JP 2290292A JP 29029290 A JP29029290 A JP 29029290A JP 2761605 B2 JP2761605 B2 JP 2761605B2
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processing
photosensitive material
developer
tank
liquid
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英二 宮坂
正幸 半田
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION 【産業上の利用分野】[Industrial applications]

本発明は、印画紙,ダイレクト製版用の感光紙もしく
はフィルムなどの銀塩タイプの感材を処理する感材処理
装置に関する。
The present invention relates to a photosensitive material processing apparatus for processing a silver salt type photosensitive material such as photographic paper, photosensitive paper for direct plate making, or a film.

【従来の技術】[Prior art]

従来、軽印刷用の刷版を直接製版する複写カメラで
は、露光した感材を静止現像液により処理していた。こ
うした用途に用いられる感材は、例えば耐水処理を施し
たベース(紙)の表面にハレーションを防止する層,光
に感じる銀塩乳剤層,銀などの物理現像核が分散したゼ
ラチンを主体とする親水性の層が形成されている。乳剤
層は光の照射を受けてその性質を変え、光の照射を受け
た乳剤層では、現像液が作用しても還元した銀の表面層
への拡散は阻害される。一方、光の照射を受けなかった
乳剤層では、ハロゲン化銀が錯化されて表面層に拡散
し、そこで物理現像されて金属銀を析出し、感脂化され
る。その後、安定化処理を行なって不感脂化処理を施せ
ば、金属銀の析出したところだけが親油性を示して印刷
インキが載るので、刷版が得られことになる。 こうした感材は、現像液などの処理液との反応が極め
て短時間に進むため、現像液中で短時間停止しただけで
も、あるいは現像液が波立つだけでも現像などの処理に
ムラができることが知られている。従って、従来、大き
な槽に大量の現像液を満たし、この現像液中を、波立た
ないように感材をゆっくりと搬送する浸漬式現像処理を
行なう装置が用いられていたのである。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a copying camera for directly making a printing plate for light printing, an exposed photosensitive material is treated with a static developer. Sensitive materials used in such applications are mainly made of, for example, a layer which prevents halation on the surface of a water-resistant base (paper), a silver salt emulsion layer which feels light, and gelatin in which physical development nuclei such as silver are dispersed. A hydrophilic layer is formed. The properties of the emulsion layer are changed by the irradiation of light, and the diffusion of the reduced silver to the surface layer is inhibited in the emulsion layer which has been irradiated with the light, even if a developer is applied. On the other hand, in the emulsion layer which has not been irradiated with light, the silver halide is complexed and diffuses into the surface layer, where it is physically developed to precipitate metallic silver and become sensitized. After that, if a stabilization treatment is performed and a desensitization treatment is performed, only the place where the metallic silver is deposited shows lipophilicity and the printing ink is applied, so that a printing plate is obtained. Such a photosensitive material reacts with a processing solution such as a developing solution in a very short time, so that even if the photosensitive material is stopped for a short time in the developing solution, or if the developing solution is wavy, unevenness in processing such as development may occur. Are known. Therefore, conventionally, an apparatus for performing an immersion type developing process in which a large tank is filled with a large amount of a developing solution and the photosensitive material is slowly conveyed in the developing solution so as not to be wavy has been used.

【発明が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the invention]

しかしながら、浸漬式現像を用いた装置では、利用に
供する現像液を現像処理槽に大量にためておく必要があ
るため、現像時あるいは現像液絞り工程時に発生するス
ラッジが処理液を満たした槽の底面に堆積しヘドロ化す
るという問題があった。スラッジは、ロール状の感材を
所定寸法に切断する切断工程での感材の切り粉の発生
や、感材表面層を形成するゼラチン質の溶出により生じ
る。スラッジは長時間放置されると堆積してヘドロ化す
るため、処理液を単に排出しただけでは槽内部から流れ
出ず、処理槽の水洗を要するという問題があった。水洗
を怠ると、処理槽内に搬入される感材の先端が処理槽底
面に堆積したスラッジに当たってその搬送が阻害され、
処理液中で感材が停止したり処理液が波立ったりして現
像ムラなどを生じることもあった。 更に、大量の現像液を貯留しておく浸漬式現像では、
現像液温度を一定に維持することが困難であるという問
題があった。また、装置の使用開始時に、現像液の温度
を処理に適した温度まで昇温する、いわゆるウォームア
ップにかなりの時間を要するという問題があった。ウォ
ームアップの時間を短縮しようとすれば温度調整用のヒ
ータ等を大電力のものにしなければならない。 本発明の感材処理装置は、装置のメンテナンスフリー
を実現すると共に、処理液温度の管理の容易化を図るこ
とを目的とする。 かかる目的を達成する本発明の構成について以下説明
する。
However, in an apparatus using immersion development, it is necessary to store a large amount of a developing solution to be used in a developing processing tank. There was a problem that it was deposited on the bottom surface and turned into sludge. Sludge is generated due to generation of swarf of the photosensitive material in a cutting step of cutting the roll-shaped photosensitive material into a predetermined size, and elution of gelatin which forms a surface layer of the photosensitive material. Sludge accumulates and sludges when left for a long period of time, and there is a problem that simply discharging the processing liquid does not flow out of the tank and requires washing the processing tank with water. If the washing is neglected, the tip of the photosensitive material carried into the processing tank hits the sludge deposited on the bottom of the processing tank, and the conveyance is hindered.
In some cases, the photosensitive material was stopped in the processing solution or the processing solution was wavy, resulting in uneven development. Furthermore, in immersion type development in which a large amount of developer is stored,
There has been a problem that it is difficult to maintain a constant developer temperature. In addition, there is a problem in that when the apparatus is started to be used, the temperature of the developer is raised to a temperature suitable for processing, that is, a so-called warm-up takes a considerable time. In order to shorten the warm-up time, a heater or the like for adjusting the temperature must have a large electric power. It is an object of the present invention to realize a light-sensitive material processing apparatus that realizes maintenance-free operation of the apparatus and facilitates management of a processing liquid temperature. The configuration of the present invention that achieves the above object will be described below.

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

本発明の感材処理装置は、 印画紙,ダイレクト製版用の感光紙もしくはフィルム
などの銀塩タイプの感材を処理する処理装置であって、 前記感材用の処理液を貯留し、該処理液中に搬入され
る前記感材がその搬送方向に沿って一部のみ浸漬する長
さの処理槽と、 該処理槽に、少なくとも前記感材の通過中は、新たな
処理液を供給する処理液供給手段と 前記処理槽の底部に該処理槽の幅方向に亘って設けら
れた溝と、 該溝の内部に配設され、前記処理液の温度を管理する
温度制御手段と を備えたことを要旨とする。 更に、この感材処理装置において、 処理槽の底部に設けられた溝に、開弁時に該処理槽内
の処理液を排出するバルブを備えることも、処理液の処
置をより容易にする上で好適である。
The photosensitive material processing apparatus of the present invention is a processing apparatus for processing a silver salt type photosensitive material such as photographic paper, photosensitive paper for direct plate making, or a film, wherein the processing solution for the photosensitive material is stored, A processing tank having a length in which the photosensitive material carried into the liquid is only partially immersed along the transport direction, and a processing for supplying a new processing liquid to the processing tank at least while the photosensitive material is passing therethrough. A liquid supply unit, a groove provided at the bottom of the processing tank across the width of the processing tank, and a temperature control unit disposed inside the groove and managing the temperature of the processing liquid. Is the gist. Further, in this light-sensitive material processing apparatus, the groove provided at the bottom of the processing tank may be provided with a valve for discharging the processing liquid in the processing tank when the valve is opened. It is suitable.

【作用】[Action]

上記構成を有する本発明の感材処理装置は、処理液を
貯留する処理槽を感材がその搬送方向に沿って一部のみ
浸漬する長さのものとして、処理槽に貯留される処理液
の液量を少量にしている。また、処理槽底部の溝内に設
けられた温度制御手段により溝内の処理液は暖められ、
暖められた処理液は処理槽内に対流する。こうして処理
槽内の処理液は均一にかつ短時間のうちに所定の温度に
管理され、しかも感材がこの処理槽を通過するときに
は、処理液供給手段により新たな処理液が供給される。
従って、感材は、少量の処理液により十分に処理され
る。 加えて、本発明の感材処理装置は、処理液中のスラッ
ジをこの溝に回収するから、スラッジが感材搬送を阻害
するという問題を生じない。 なお、この溝の底部にバルブを設ければ、このバルブ
から、溝内に沈降したスラッジを処理液と共に排出する
ことも容易である。
The light-sensitive material processing apparatus of the present invention having the above configuration has a processing tank for storing the processing liquid having a length such that the light-sensitive material is only partially immersed in the transport direction, and the processing liquid stored in the processing tank is The volume is small. Further, the processing liquid in the groove is warmed by temperature control means provided in the groove at the bottom of the processing tank,
The warmed processing liquid flows into the processing tank. In this way, the processing liquid in the processing tank is controlled uniformly and within a short time at a predetermined temperature, and when the photosensitive material passes through this processing tank, a new processing liquid is supplied by the processing liquid supply means.
Therefore, the light-sensitive material is sufficiently processed by a small amount of the processing solution. In addition, the light-sensitive material processing apparatus of the present invention collects sludge in the processing liquid in this groove, so that there is no problem that the sludge hinders conveyance of the light-sensitive material. If a valve is provided at the bottom of the groove, it is easy to discharge sludge settled in the groove together with the processing liquid from the valve.

【実施例】【Example】

以上説明した本発明の構成・作用を一層明らかにする
ために、以下本発明の感材処理装置の好適な実施例につ
いて説明する。第1図は、感材処理装置の一実施例であ
る現像処理装置の構成図、第2図はこの現像処理装置を
組み込んだスリット露光式複写カメラ1を示す概略構成
図である。スリット露光式複写カメラ1は、原稿を複写
して軽印刷用の刷版を作製する装置である。 まず、第2図に従って、スリット露光式複写カメラ1
の全体構成について説明する。図示するように、このス
リット露光式複写カメラ1は、筐体2内に後述する投影
光学系や現像処理装置を組み込んだものであり、筐体2
の上面に設けられたコンソールパネル4と、筐体2の上
面にそって水平方向(図における左右方向)に往復動可
能に構成された原稿ホルダ10と、シート状の感材PMを露
光位置に搬送する感材搬送装置20と、原稿ホルダ10内に
保持された原稿に光を照射するとともに原稿で反射され
た光を感材PM上面に投影してこれを露光する投影光学系
30と、露光済みの感材PMの現像および安定化処理を行な
う現像処理装置40と、現像処理装置40から搬出された感
材PMを乾燥させる乾燥ユニット50と、種々のモータや後
述の電磁弁等の駆動制御を司る電子制御装置60とを備え
る。 コンソールパネル4は、露光条件の設定等を行なう各
種設定スイッチや、電源スイッチ,スタートスイッチ等
が設けられており、オペレータにより操作される。コン
ソールパネル4の各スイッチは、電子制御装置60に接続
されている。 原稿ホルダ10は、透明なガラス板で構成された原稿台
11と開閉自在な原稿カバー12とを備えており、原稿は原
稿台11と原稿カバー12との間に下向きに保持される。こ
の原稿ホルダ10は、筐体2に設けられたモータ13によ
り、スプロケット,チェーン,ベルト等の図示しない駆
動系を介して、水平方向に往復駆動され、露光用の照射
光源に対して原稿を搬送する。 感材搬送装置20は、第1の感材ロール21,第2の感材
ロール22の他、第1の感材ロール21からの感材送り出し
専用のローラ対23,第2の感材ロール22からの感材送り
出し専用のローラ対24及び各感材ロールからの感材送り
出しに共通して用いる2つのローラ対25,26を備えてお
り、必要に応じてどちらか一方の感材ロール21,22から
シート状の感材PMを送り出す。本実施例では、感材PMと
して、シルバーマスター(製品名:三菱製紙株式会社
製、型式SLM−R2)を用いたが、銀塩系の製版用感光紙
であれば、スーパーマスター(製品名:アグファゲバル
ト社製、型式SPP)なども用いることができる。 第2図は、感材PMが、第1の感材ロール21から3組の
ローラ対23,25,26によって順次その下流に搬送されてい
る状態を示している。第2の感材ロール22の感材PMを用
いる場合には、上記ローラ対23に替わるローラ対24と2
組のローラ対25,26によって、感材PMが第2の感材ロー
ル22から搬送される。 なお、第1の感材ロール21または第2の感材ロール22
からの感材PMの送り出しは、原稿ホルダ10の水平方向移
動に同期して行なわれる。 こうして搬送された感材PMは、2組のローラ対25,26
の間に設定された露光位置にて露光され、この露光位置
における感材PMの裏面側に設けられた切断装置27によ
り、コンソールパネル4から設定された寸法に切断され
る。 感材PMを露光する投影光学系30は、原稿ホルダ10内に
保持された原稿の幅方向に亘って光を照射するための光
源31と、原稿からの反射光LBを反射する3つのミラー32
a,32b,32cからなるミラー群32と、露光位置の感材PM上
面に原稿の像を結像させる投影レンズ33と、感材PM上面
に投影される反射光LBの幅を制限するスリット34とを備
える。投影レンズ33とミラー群32を構成するミラー32b,
32cとは、傾斜台35上に取り付けられたミラー支持板36
およびレンズ支持台37にそれぞれ固定されており、この
投影光学系30における投影倍率は値1に設定されてい
る。なお、上記ミラー支持板36およびレンズ支持台37
は、投影倍率のアライメントの際に傾斜台35上でその位
置が調整され、アライメント完了後に傾斜台35に固定さ
れる。 光源31から原稿に向けて照射された光は原稿下面で反
射し、この反射光LBはミラー群32の各ミラーで順次反射
され、投影レンズ33とスリット34とを通過した後、感材
PMの感光面に結像される。従って、搬送されつつある感
材PMの感光面には、原稿の幅方向に亘るスリット状画像
が投影される。感材PMの搬送は、原稿ホルダ10の水平方
向移動に同期しているので、原稿ホルダ10の水平方向の
移動が完了すると、原稿全体の露光が完了する。 なお、ローラ対26の下方側には、感材PMを一様に露光
するため複数個のLED38がライン上に設けられており、
このLED38を駆動して感材PMを照射することにより、縮
小して露光する際に原稿からの反射光LBで露光できない
感材PMの周辺部分を像形成不要部として焼きとばしてい
る。その後、感材PMは切断装置27によって切断される。 現像処理装置40は、投影光学系30の下方に設置されて
おり、導入ローラ41を介して導入される感材PMに対する
現像処理および安定化処理を行なうものである。この現
像処理装置40は、現像液を貯蔵する現像液メインタンク
42と安定化剤を貯蔵する安定化剤メインタンク43が装着
可能で、図示しないモータによりローラ等が一体に駆動
される処理ユニット44として構成され、筐体2内に収納
されている。現像処理装置40の構成の詳細については後
述する。 感材PMの搬送路に沿って現像処理装置40の下流には乾
燥ユニット50が配設されている。この乾燥ユニット50
は、現像処理装置40にて処理された感材PMを張力を掛け
つつ搬送する2組のローラ対51,52と、このローラ対51,
52間に設けられた搬送トレイ53と、この搬送トレイ53に
感材PMの搬送路を挟んで対向する位置に設けられた感材
乾燥用ヒータ54およびファン55と、筐体2の外部に取り
付けられ乾燥された感材PMを収納する外部トレイ56とを
備える。 従って、露光済みの感材PMは、現像処理装置40におけ
る現像・安定化処理を経て感材乾燥用ヒータ54により乾
燥され、筐体2外の外部トレイ56に送り出される。こう
して、原稿からオフセット印刷用の刷版が作製される。 次に、感材PMへの現像・安定化処理を行なう現像処理
装置40について説明する。現像処理装置40の説明には、
その概略構成を示す第1図の他、斜視図(第3図,第4
図),断面図(第5図)を適宜援用する。 第1図に示すように、この現像処理装置40は、導入ロ
ーラ41から導入された露光済みの感材PMを現像液メイン
タンク42内の現像液を用いて現像する現像部70と、安定
化剤メインタンク43内の安定化剤を用いて現像済みの感
材PMに安定化処理を施しこれを乾燥ユニット50のローラ
対51に送り出す安定化処理部(以下、安定部と呼ぶ)72
とを備える。 現像部70は、現像液の供給系として、現像液メインタ
ンク42の他、この現像液メインタンク42が着脱され、メ
インタンク42から現像液を受けて液面を一定に管理する
液面管理筒74と、液面管理筒74から導通管76を介して現
像液が流入する現像液シスターンタンク78と、現像液シ
スターンタンク78からの現像液の流出用の管路79を開閉
する流入用電磁弁80と、現像液を吐出する現像液ノズル
82とを備えている。この現像液ノズル82には、オリフィ
ス(第5図参照)が組み込まれており、流入用電磁弁80
の開弁期間における現像液ノズル82先端からの現像液吐
出量を制限している。現像液ノズル82先端からの現像液
の吐出量は、オリフィスの部位に加わる圧力、即ち液面
管理筒74における液面の高さとオリフィスの径とによっ
て定まる。本実施例では、液面の高さを一定に保ってい
るので、流入用電磁弁80開弁時における現像液の流量は
一定に保たれる。 現像液シスターンタンク78には、その内部を液流入室
78aおよび液滞留室78bに区分けする仕切板84がタンクの
底から立設されており、液流入室78aには導通管76が開
口されている。一方、液滞留室78bの上面には、底面に
向けて挿入されたヒータ86と、タンク内の液量に応じて
上下動するフロート87を有し現像液シスターンタンク78
内の液量を検出するフロートセンサ88とが設けられてい
る。また、現像液シスターンタンク78の底部に連通され
た管路79の入り口には、流出する現像液からごみ等を除
去するメッシュフィルタ90が設けられている。 従って、現像液メインタンク42から導通管76を介して
流入した冷たい現像液は、まず液流入室78aに流入して
仕切板84上端を越え液滞留室78b上部に流れ込む。液滞
留室78b内の現像液はヒータ86により暖められる。ヒー
タ86による現像液の温度は、後述する電子制御装置60に
より所定温度に管理されている。こうして所定温度に維
持された現像液は、流入用電磁弁80が開弁すると、現像
液ノズル82から流出する。 次に、感材PMの現像が実際に行なわれる現像処理槽96
まわりの概略構成と働きの概要とについて説明する。現
像部70に感材PMを導入する導入ローラ41の下方には、第
5図矢印X方向に回転して感材PMを送り込む入り口ロー
ラ対92が設けられ、更にその下方には、送り込まれた感
材PMに接して感材PMをガイドし、搬送に際して感材PMに
いわゆる腰を付けるフリーローラ94が配設されている。 現像処理槽96は、断面略U字形であり、第3図に示す
ように、感材PMの幅に応じた幅を有し、現像液の貯留部
95を形成している。この現像処理槽96内には、現像処理
槽96の幅方向に亘って、現像処理槽96の底面に若干の距
離を残した位置に現像液供給ローラ98が配設されてい
る。従って、現像処理槽96の貯留部95に現像液が貯留さ
れれば、現像液供給ローラ98の下部は現像液に一部分浸
漬する。現像液供給ローラ98の表面はスポンジ質の材質
で形成されており、スポンジ質を構成する気泡は個々に
独立した気泡(単独気泡)とされている。現像液供給ロ
ーラ98には、第4図に示すように、上部から滴下する現
像液を現像液供給ローラ98との間に一時的に貯留する現
像液一時貯留部100が組み付けられている。 また、現像処理槽96の底部には、第3図,第5図に示
すように、底部液溜め室101が形成されており、現像処
理槽96の底に開口された複数の連通光102により、現像
液が流入可能とされている。底部液溜め室101の内部に
は、現像液加熱用の棒状ヒータ103が2本配設されてい
る。底部液溜め室101の中央底部には、管路を開閉する
排出用電磁弁104を介してこの底部液溜め室101と導通し
使用済み現像液を廃液受けトレイ106に排出する現像液
排出管108が連設されている。 現像処理槽96の感材PMの搬出側には、安定部72に向け
て所定の仰角αを持ってガイド板110が配設されてい
る。ガイド板110は、感材PMとの接触面積を小さくする
ために波板を用いて形成されており(第3図参照)、安
定部72の絞りローラ対109に向けた現像済み感材PMの進
入経路を形成する。ガイド板110の下面には、自己温度
調整機能を有する加熱用の面状ヒータ112が取着されて
いる。面状ヒータ112は、第3図に示すように、現像処
理槽96側に設けられた取付金具113や図示しない他の金
具により、ガイド板110に一体に固定されている。 現像処理槽96の詳細な構成について説明する。現像処
理槽96の貯留部95は、第3図に示すように、湾曲した周
面板120の両側面に略半月状の側面板122(図において、
向かって左側の側面板は省略されている)を各々接合・
固定することにより形成される。周面板120のガイド板1
10側のおよそ中央には、周面板120を貫通する貫通孔126
が設けられている。現像液が現像液ノズル82から供給さ
れて貯留部95の液量が増加すると、現像液はこの貫通孔
126から流出する。従って、貯留部95の現像液の液面
は、貫通孔126の高さに保持される。 なお、現像処理槽96直下の排出用電磁弁104には、第
1図に示すように、防滴カバー114が設けられ、現像処
理槽96やガイド板110から落下する現像液の付着を防止
している。 現像液一時貯留部100は、第4図および第5図にその
詳細を示すように、現像液供給ローラ98の両端面に当該
ローラの回転を許容して当接する2枚の端面板134と、
この端面板134を両端に固定した断面「フ」の字形状の
支持板136とを備える。また、支持板136を構成する上板
136a中央、現像液ノズル82の先端に対応した位置には、
液通過孔138が設けられ、一方、支持板136を構成する背
板136bには、現像液供給ローラ98に向けて付勢され、こ
のローラ98外周に当接するステンレス薄板の板ばね140
が設けられている。 液通過孔138の真下には、上板136aの前端中央からこ
の板ばね140に向けて、液受け板142が連接されている。
液受け板142の先端と板ばね140との間には、僅かな隙間
が設けられている。現像液供給ローラ98とその両端面に
当接された端面板134とローラ98外周面に当接された板
ばね140とで囲まれた部位は、現像液供給ローラ98がこ
の部位では上方に向けて回転していることも相俟って、
現像液ノズル82から滴下する現像液を一時的に溜め置く
ことができる。この部位を、液溜まり部143と呼ぶ。 なお、液受け板142は、現像液を現像液供給ローラ98
の軸方向に効率良く広げる役割をはたしているが、液受
け板142がなくとも、現像液は液溜まり部143に一旦溜ま
るから、現像液供給ローラ98の軸方向に広がることに変
わりはない。 現像液ノズル82から滴下する現像液は、第4図および
第5図に示すように、液通過孔138を通過して液受け板1
42に至り、液受け板142の両端や板ばね140との間に形成
された僅かな隙当から板ばね140表面に沿って流れ落ち
る。つまり、現像液供給ローラ98の軸線方向に沿って広
がりつつ液溜まり部143に至り、ここに一時的に貯留さ
れる。液溜まり部143に貯留された現像液の一部は、現
像液供給ローラ98表面の単独気泡層における個々の気泡
に保持され、現像液供給ローラ98の第5図矢印Y方向へ
の回転に伴って汲み出される。 現像液供給ローラ98は、その下部が現像処理槽96に貯
留された現像液に浸漬しているから、回転に伴って汲み
出された新たな現像液は、このローラ98の回転に伴って
既に貯留されている現像液中に供給される。新たな現像
液は、現像処理槽96における感材の搬入側に拡散するこ
とになる。現像液が供給されて貯留部95内の現像液が増
加すると、新たに供給された現像液に相当する量から感
材PMの搬出に伴って失われる現像液分を除いた量の現像
液(旧現像液)が、周面板120の貫通孔126から外部に流
れ出て、現像処理槽96内の現像液の量はバランスする。 現像液は、底部液溜め室101にも流れ込んでおり、こ
こに内蔵された2本の棒状ヒータ103により加熱され
る。加熱された現像液は、連通孔102を介して貯留部95
との間で対流する。棒状ヒータ103の通電が温度検出器
か検出した現状液温度によりフィードバック制御されて
いることも相俟って、現像処理槽96内の現像液は、極め
て短時間に昇温され所定の温度に維持される。 感材PMが現像処理槽96の現像液の貯留部95を通過すれ
ば、感材PMの現像処理に伴い、スラッジが現像液中に混
入する。こうしたスラッジは、貯留部95から連通孔102
を介して底部液溜め室101に沈降する。底部液溜め室101
に溜まったスラッジは、排出用電磁弁104が開弁される
と、現像液と共に、現像液排出管108を介して廃液受け
トレイ106に排出される。 次に感材PMの搬送について説明する。入り口ローラ対
92により送り込まれた露光済みの感材PMは、フリーロー
ラ94によりガイドされつつ貯留部95に進入し、周面板12
0の内周面にそって貯留部95内を通過する。貯留部95内
を通過する間に、そこに貯留された現像液に反応し現像
処理が開始される。現像液供給ローラ98と周面板120と
の間隙を抜けて貯留部95を通過した後は、傾斜したガイ
ド板110上面に沿って安定部72の入り口に設けられた絞
りローラ対109に向けて送り出される。ガイド板110上の
雰囲気は、温度制御機能を有する面状ヒータ112による
加熱によって所定の温度近傍となっているから、ガイド
板110上を搬送されている間にも、感材PM表面に付着し
ている現像液により感材PMの現像処理は継続する。感材
PMの表面に付着している現像液は、絞りローラ対109に
より絞り取られ除去される。 次に、安定化剤による感材PMの安定化系である安定部
72について、第1図を用いて簡略に説明する。なお、上
記した現像部70と同一の部材または同一の機能を有する
部材については、その説明を省略し、現像部70における
説明に用いた符号(数値)に補助符号Aを付加して表わ
すこととする。 安定部72は、安定化剤の供給系として、上記現像部70
の現像液供給系と同様に、安定化剤メインタンク43,こ
の安定化剤メインタンク43が着脱される液面管理筒74A,
仕切板84Aを内部に立設した安定化剤シスターンタンク7
8A,液面管理筒74Aと安定化剤シスターンタンク78Aとを
導通する導通管76A,流入用電磁弁80Aを介装した安定化
剤ノズル82A等を備える。安定化剤シスターンタンク78A
内には、現像液シスターンタンク78と同様、フロート87
Aを備えるフロートセンサ88A,メッシュフィルタ90Aも備
えられている。流入用電磁弁80Aと安定化剤ノズル82Aと
を介して安定化剤シスターンタンク78Aから安定化剤が
流出すると、その分だけ導通管76Aから安定化剤が流入
する。 安定部72の他の構成部品について、感材PMの搬送に沿
って簡略に説明する。現像部70のガイド板110の上端に
配置された絞りローラ対109を通過した感材PMは、感材P
Mの搬送路に沿って配置されたガイドカバー144およびフ
リーローラ146にガイドされて、安定化処理槽96Aへと搬
入される。安定化処理槽96Aの入口には、感材PMにいわ
ゆる腰を付けるフリーローラ94Aが設けられている。安
定化剤の貯留部95Aを形成する安定化処理槽96Aには、現
像処理槽96と同様、スポンジ質の安定化剤供給ローラ98
Aと、この安定化剤供給ローラ98Aとで安定化剤の液溜ま
り部134Aを形成する安定化剤一時貯留部100Aが設けら
れ、貯留部95Aの感材PMの搬入側に安定化剤を供給す
る。一方、安定化処理槽96Aの底には、現像処理槽96と
同様、底部液溜め室101Aが設けられている。防滴カバー
114A付の排出用電磁弁104Aが開弁されたとき、使用済み
の安定化剤は、安定化剤排出管108Aを介して、底部液溜
め室101Aから廃液受けトレイ106Aに排出される。なお、
安定化剤は温度管理を行なう必要がないことから、底部
液溜め室101Aにヒータは設けられていない。 感材PMの搬送路に沿った安定化処理槽96Aの下流に
は、安定化済み感材PMの進入経路を形成するガイド板11
0Aが安定化処理槽96Aから上方に向けて傾斜して配置し
ており、ガイド板110Aの上端には、第1図矢印Z方向に
回転して安定化済み感材PMを乾燥ユニット50(第2図参
照)のローラ対51に向けて搬送しつつ感材表面から余分
な安定化剤を絞り取る絞りローラ対109Aが配設されてい
る。なお、安定化剤供給ローラ98Aおよび各絞りローラ
対109,109Aは、既述した現像処理槽96の各ローラと共通
の駆動源により駆動され、同期して回転されている。 第1図矢印Z方向に回転して現像および安定化済みの
感材PMを搬送しつつ感材PMの表面から余分な現像液およ
び安定化剤を絞り取る各絞りローラ対109,109Aは、図示
するように、個々のローラの中心を通る平面がローラの
中心を通る平面がローラの中心を通る鉛直面から図示反
時計方向に角度βだけ傾斜して設けられている。従っ
て、この絞りローラ対109,109Aに感材PMが挟み込まれる
と、絞りローラ対109,109A部分での感材PMの搬送方向
は、角度βに対応した角度だけ下向きとなる。この結
果、絞られた現像液もしくは安定化剤は、感材PMの通過
中は感材PMと絞りローラ対109,109Aとの間に留まり、感
材PMの側に垂れてくるといったことがない。 感材PM搬送中、各絞りローラ対109,109Aに留まる現像
液もしくは安定化剤は、感材PMの切断後端面が絞りロー
ラ対109もしくは109Aを通過すると同時に、絞りローラ
対109,109Aにおける下側のローラ表面を伝って、各絞り
ローラ対109,109A下方に配設された右側絞り液収集板15
2または左側絞り液収集板154上に落下し、廃液受けトレ
イ106A内に流入する。また、各絞りローラ対109,109Aに
は、各々2個のスクレーパ150がその先端の板ばねがロ
ーラに当接する位置に設けられており、スクレーパによ
り掻き落とされたスラッジや廃液も、右側絞り液収集板
152および左側絞り液収集板154上に落下し、廃液受けト
レイ106Aに回収される。なお、現像部70と安定部72の各
廃液受けトレイ106,106Aには、廃液タンク156に至る配
管158が設けられており、各トレイ106,106Aに集められ
た廃液は、配管158を介して最終的には廃液タンク156に
回収される。 以上のように構成された安定部72では、現像部70から
送り込まれる現像済みの感材PMは、絞りローラ対109に
より、付着した現像液を絞り取られ、フリーローラ94A
等によりガイドされつつ貯留部95Aに搬入される。感材P
Mが、貯留部95Aの安定化剤中に入ると安定化処理が開始
され、貯留部95Aを通過した後、ガイド板110A上面にそ
って搬送される間も安定化の処理は進行する。絞りロー
ラ対109Aを通過する際、感材PM上面からは余分な安定化
剤が絞り取られ、その後、感材PMは、ローラ対51によっ
て乾燥ユニット50に搬送される。 次に、現像液シスターンタンク78等における温度管理
や現像液供給ローラ98等の駆動制御等を司る電子制御装
置60について、第6図に示すブロック図を用いて説明す
る。 第6図に示すように、電子制御装置60は、周知のCPU1
62,ROM164,RAM166や複数の自走式タイマカウンタを内蔵
したタイマ168等を中心に算術論理演算回路として構成
され、これらとコモンバス170を介して相互に接続され
た露光用出力ポート172,現像用入力ポート174,現像用出
力ポート176等の入出力インタフェースを備える。ま
た、電子制御装置60のコモンバス170には、底部液溜め
室101に連通した貯留部95内の現像液および現像液シス
ターンタンク78内の現像液の温度調節を行なう温度調整
回路178と、オペレータが各種の設定等を行なうコンソ
ールパネル4とが接続されている。 露光用出力ポート172には、原稿ホルダ10の駆動用の
モータ13と、感材PMを切断するための切断装置27と、原
稿ホルダ10内の原稿に光を照射するための光源31と、第
1の感材ロール21または第2の感材ロール22から感材PM
を送り出すためのモータ28と、感材PMを一様に露光する
ためのLED38と、安定化済み感材を乾燥するための乾燥
ユニット50とが接続されている。 一方、現像用入力ポート174には、現像液シスターン
タンク78内のフロートセンサ88と安定化剤シスターンタ
ンク78A内のフロートセンサ88Aとが接続されており、現
像用出力ポート176には、処理ユニット44の各ローラを
同期して駆動する駆動モータ180と、現像液ノズル82に
設けられた流入用電磁弁80と、安定化剤ノズル82Aに設
けられた流入用電磁弁80Aと、現像液排出管108に設けら
れた排出用電磁弁104と、安定化剤排出管108Aに設けら
れた排出用電磁弁104Aと、ガイド板110の近傍雰囲気を
ある程度の温度に加熱するための面状ヒータ112とが接
続されている。 また、温度調整回路178には、現像液シスターンタン
ク78内に設置されたヒータ86及びこのタンク内の液温を
検出する温度センサ85と、底部液溜め室101内に設置さ
れた2本の棒状ヒータ103およびこの液溜め室101内の液
温を検出する温度センサ103aとが接続されている。この
温度調整回路178は、貯留部95内の現像液および現像液
シスターンタンク78内の現像液の温度をそれぞれ所定温
度範囲に維持するよう上記各ヒータを加熱制御し、液温
が所定温度範囲内に維持されているか否かを示す信号を
CPU162に出力する。 次に、電子制御装置60が実行する処理のうち、本発明
に直接関係する部分について、フローチャートを用いて
説明する。第7図は電源投入時に実行される初期処理ル
ーチンを示すフローチャート、第8図は露光・現像可能
な状態まで制御し現像処理を実行する待機・現像処理ル
ーチンを示すフローチャートである。 本実施例のスリット露光式複写カメラに電源が投入さ
れると、電子制御装置60は、まず第7図に示す初期処理
ルーチンを実行する。この処理は、スリット露光式複写
カメラの使用開始時に一度だけ実行される処理である。 本ルーチンが開始されると、まず排出用電磁弁104,10
4Aを開弁する処理を行ない(ステップS10)、現像処理
槽96および安定化処理槽96A(以下、必要に応じて、両
者をまとめて処理槽96とも呼ぶ)に残存する現像液もし
くは安定化剤(以下、必要に応じて、両者をまとめて処
理液とも呼ぶ)がすべて排出されるのに十分な排出時間
だけ待機する(ステップS20)。処理槽96に貯留される
処理液の量は定まっているから、排出時間を予め設定し
ておくことは容易である。 所定の排出時間待機してから排出用電磁弁104,104Aを
閉弁した後(ステップS30)、次に流入用電磁弁80,80A
を開弁する処理を行ない(ステップS40)、更に現像用
出力ポート176を介して駆動モータ180の運転を開始する
処理を行なう(ステップS50)。流入用電磁弁80,80Aが
開弁すると、現像液シスターンタンク78および安定化剤
シスターンタンク78Aから処理液が現像液ノズル82,安定
化剤ノズル82Aを介して流出し始め、駆動モータ180によ
る現像液供給ローラ98,安定化剤供給ローラ98Aの回転に
伴って処理液は処理槽96に供給される。 処理槽96には、処理液が次第に貯留されるから、予め
設定された貯留時間(貯留に要する時間)だけ待機して
から(ステップS60)、流入用電磁弁80,80Aを閉弁する
処理(ステップS70)と駆動モータ180を停止して各ロー
ラの回転を停止する処理(ステップS80)とを行なう。
この結果、各処理槽96には、現像と安定化の処理に必要
な処理液が貯留される。 こうして処理液の貯留が完了した後、現像液温度調整
開始指示を温度調整回路178に出力する(ステップS9
0)。この指示を受けた温度調整回路178は、温度センサ
85,103aの検出信号を算出しつつ、ヒータ86,103に通電
し、現像液シスターンタンク78および現像処理槽96内の
現像液の温度を、およそ28℃ないし31℃の範囲に管理す
る。温度調整回路178は、現像液を加熱してこの温度範
囲内に制御すると、温度調整が完了したことを示す信号
をCPU162に出力する。そこで、この調整完了信号が入力
されるまで待機し(ステップS100)、この信号が入力さ
れるとコンソールパネル4にウォームアップが完了した
ことを示す表示を行ない(ステップS110)、初期処理を
総て完了したとして、次の待機処理に移行する。 以上説明した各電磁弁の開閉やウォームアップ信号の
出力等のタイミングを第9図に示した。この初期処理を
実行することにより、スリット露光式複写カメラ1の現
像処理装置40は、現像処理槽96,安定化処理槽96Aに残存
していた処理液(現像液および安定化剤)をスラッジ等
と共に排出し、新たな処理液を供給すると共に、現像液
の温度を処理に必要な適温に調整する。 初期処理終了後に実行される待機・現像処理では、第
8図に示すように、まずコンソールパネル4から各種設
定のためのキー入力を行ない(ステップS200)、入力し
たキーに従って各種の設定、例えば原稿の大きさや露光
の度合い等の設定を行なう(ステップS210)。次に、現
像液シスターンタンク78および安定化剤シスターンタン
ク78Aの各フロートセンサ88,88Aの状態を読み込み(ス
テップS220)、フロートセンサ88,88Aがオンであるか否
かの判断を行なう(ステップS230)。フロートセンサ8
8,88Aがオフ、即ち現像液シスターンタンク78もしくは
安定化剤シスターンタンク78Aの液面が低下していれ
ば、現像液もしくは安定化剤メインタンク42,43の補充
の指示を、コンソールパネル4に表示する処理を行なっ
て(ステップS235)、ステップ200から上述した処理を
繰り返す。 一方、フロートセンサ88,88Aが共にオンであれば(ス
テップ230)、続いて現像液の温度は適正か否かの判断
を行ない(ステップS240)、適正であれば更にコンソー
ルパネル4の上の露光の開始を指示するスタートキーが
オンとなったか否かを判別する(ステップS250)。現像
液の温度は、温度調整回路178により調整されており、
初期処理(第7図)が終了すれば適温となっているべき
ものであるが、ヒータ86,103の故障により液温が低下す
ることも有り得るので、ここで再度チェックしているの
である。温度が適正でないかスタートキーがオンとなっ
ていなければ、上述したステップ200から処理を繰り返
す。 スタートキーが押されてオンとなった場合には、露光
・現像処理(ステップS260)を実行した後、「END」に
抜けて本ルーチンを終了する。ここで、露光・現像処理
とは、原稿を載置した原稿ホルダ10の搬送、投影光学系
30による感材PMの露光、原稿ホルダ10の搬送と同期した
感材PMの送り出し、現像処理装置40における現像・安定
化処理、切断装置27による感材PMの切断、面状ヒータ11
2及び乾燥ユニット50による感材PMの乾燥等の処理であ
る。投影光学系30によって露光された感材PMは、現像処
理槽96を通過する間に現像されると共に、安定化処理槽
96Aを通過する間に安定化され、その後乾燥されて、筐
体2外の外部トレイ56にオフセット印刷用の刷版として
送り出される。 以上説明したように、スリット露光式複写カメラ1に
組み込まれた本実施例の現像処理装置40は、感材PMの搬
送中、現像処理槽96に新たな現像液を供給すると共に、
感材PMを現像処理槽96から搬出した後も現像処理を継続
する。従って、少量の現像液を貯留するだけで感材PMの
現像が可能となった。しかも、大量の現像液を長期に亘
って貯留しておく必要がないこと、および現像処理槽96
底部に底部液溜め室101が設けてあり処理液中のスラッ
ジが底部液溜め室101に沈降することから、現像処理槽9
6の貯留部95の底にスラッジが固着してヘドロ化するこ
とがない。従って、感材PMの先端かヘドロ化したスラッ
ジに当たって滑らかな搬送が阻害されるということがな
い。このため、感材PMの現像ムラという問題も生じな
い。 更に、本実施例では、現像処理槽96に貯留された少量
の現像液は、底部液溜め室101内で棒状ヒータ103により
加熱された現像液が対流することにより温められる。従
って、感材PMが搬送される貯留部95の現像液は、容易か
つ短時間に所定の温度に均一に温められる。この結果、
現像液を処理可能な温度に調整するまでのウォームアッ
プの時間的ロスという問題は解消され、省電力化も図ら
れている。 また、本実施例では、スリット露光式複写カメラの使
用開始時に、現像処理槽96および安定化処理槽96Aから
底部液溜め室101,101Aを介して、各処理槽96,96Aに貯留
されていた現像液および安定化剤を排出している。従っ
て、使用済みの処理液中のスラッジは処理液と共に容易
に排出される。この結果、処理槽96は、水洗等を特に必
要とせず、装置をメンテナンスフリーにすることが可能
となった。 このほか、本実施例では、現像液ノズル82からの吐出
現像液を現像液供給ローラ98の軸線方向にそって広げつ
つ、即ち感材PMの幅方向に亘って均一に液溜まり部143
に溜め置き、現像液供給ローラ98表面の単独気泡層にお
ける個々の気泡に保持された現像液(新たな現像液)を
現像液供給ローラ98の回転に基づき貯留部95に供給する
ので、貯留部95内の現像液の液面に、波立ち等の乱れを
生じることがない。この結果、現像液液面の乱れ(波)
に基づく現像ムラ(液面の乱れが反映して感材表面に生
じる不規則なスジムラ)を生じることもない。 なお、安定化処理槽96Aも、加熱用のヒータが設けら
れていない点を除いて同様な構成であり、スラッジの排
出,処理の効率化,安定化により処理品質の向上といっ
た効果を奏するのは勿論である。 以上本発明の実施例について説明したが、本発明はこ
うした実施例に何等限定されるものではなく、例えば使
用する安定化剤がその性質上液温維持が必要な薬剤であ
れば安定化処理にも加熱用のヒータを設けた構成にして
もよく、あるいは銀塩方式の印画紙や製版用フィルムの
現像装置に適用するなど、本発明の要旨を逸脱しない範
囲において、種々なる態様で実施し得ることは勿論であ
る。
The configuration and operation of the present invention described above will be further clarified.
Therefore, a preferred embodiment of the photosensitive material processing apparatus of the present invention will be described below.
Will be described. FIG. 1 is an embodiment of a photosensitive material processing apparatus.
FIG. 2 is a block diagram of a developing processing apparatus according to the present invention.
Schematic configuration showing the built-in slit exposure type copying camera 1
FIG. The slit exposure type copying camera 1 copies an original
This is an apparatus for producing a printing plate for light printing. First, according to FIG.
Will be described. As shown,
The lit-exposure type copying camera 1 has a projection
It incorporates an optical system and a development processing device.
Console panel 4 provided on the upper surface of the
Reciprocable in horizontal direction (left-right direction in the figure) along the surface
Document holder 10 and the sheet-shaped photosensitive material PM
The photosensitive material transport device 20 that transports to the light position and the document holder 10
Irradiates the held document with light and is reflected by the document.
Projection optical system that projects the exposed light onto the upper surface of the photosensitive material PM and exposes it
30 and develop and stabilize the exposed photosensitive material PM.
Development processing device 40 and the feeling carried out of the development processing device 40.
Drying unit 50 for drying material PM, various motors and rear
And an electronic control unit 60 that controls the drive of the solenoid valve and the like described above.
You. The console panel 4 is used to set exposure conditions and the like.
Seed setting switch, power switch, start switch, etc.
Is provided, and is operated by an operator. Con
Each switch on the sole panel 4 is connected to the electronic control unit 60
Have been. The document holder 10 is a platen made of a transparent glass plate.
11 and an openable / closable document cover 12.
It is held downward between the platen 11 and the document cover 12. This
The original holder 10 is driven by a motor 13 provided in the housing 2.
Not shown, such as sprockets, chains, belts, etc.
Reciprocatingly driven in the horizontal direction via a dynamic system, and irradiation for exposure
The original is conveyed to the light source. The photosensitive material transport device 20 includes a first photosensitive material roll 21 and a second photosensitive material.
Sending out the photosensitive material from the first photosensitive material roll 21 in addition to the roll 22
Special roller pair 23, photosensitive material feed from second photosensitive material roll 22
Roller pair 24 for feeding and photosensitive material from each photosensitive material roll
With two roller pairs 25 and 26 commonly used for
From one of the photosensitive material rolls 21 and 22 as necessary
Sends out the sheet of photosensitive material PM. In this embodiment, the photosensitive material PM and
Silver Master (Product name: Mitsubishi Paper Mills, Ltd.)
SLM-R2) was used, but silver salt-based photosensitive paper for plate making
Then, Super Master (Product name: Agfagebar
And SPP (manufactured by Toshiba Corporation) can also be used. FIG. 2 shows that the photosensitive material PM is composed of three sets from the first photosensitive material roll 21.
Roller pairs 23, 25, 26
It shows a state in which Using the photosensitive material PM of the second photosensitive material roll 22
The roller pair 24 and 2 instead of the roller pair 23
The photosensitive material PM is transferred to the second photosensitive material row by the set of roller pairs 25 and 26.
Conveyed from the file 22. The first photosensitive material roll 21 or the second photosensitive material roll 22
Of the photosensitive material PM from the
It is performed in synchronization with the movement. The photosensitive material PM thus transported is composed of two roller pairs 25 and 26.
Exposure is performed at the exposure position set between
The cutting device 27 provided on the back side of the photosensitive material PM
And cut to the dimensions set from the console panel 4.
You. The projection optical system 30 for exposing the photosensitive material PM
Light for irradiating light across the width of the held document
Source 31 and three mirrors 32 for reflecting the reflected light LB from the original
a mirror group 32 composed of a, 32b, and 32c and a photosensitive material PM at an exposure position
Projection lens 33 that forms an image of the original on the surface, and upper surface of photosensitive material PM
And a slit 34 for limiting the width of the reflected light LB projected on the
I can. A projection lens 33 and a mirror 32b constituting a mirror group 32,
32c is a mirror support plate 36 mounted on a tilt base 35.
And the lens support 37, respectively.
The projection magnification in the projection optical system 30 is set to a value of 1.
You. The mirror support plate 36 and the lens support 37
Is positioned on the tilt table 35 during alignment of the projection magnification.
Position is adjusted, and after alignment is complete,
It is. Light emitted from the light source 31 toward the original is reflected by the lower surface of the original.
The reflected light LB is sequentially reflected by each mirror of the mirror group 32.
After passing through the projection lens 33 and the slit 34,
An image is formed on the photosensitive surface of PM. Therefore, the feeling of being conveyed
On the photosensitive surface of the material PM, there is a slit-shaped image
Is projected. The photosensitive material PM is transported horizontally on the original holder 10.
The document holder 10 in the horizontal direction.
When the movement is completed, exposure of the entire document is completed. The photosensitive material PM is uniformly exposed to the lower side of the roller pair 26.
A plurality of LEDs 38 are provided on the line to
By driving the LED 38 and irradiating the photosensitive material PM,
Unable to expose with reflected light LB from original when exposing with small size
The peripheral part of the photosensitive material PM is skipped as an image forming unnecessary part.
You. Thereafter, the photosensitive material PM is cut by the cutting device 27. The development processing device 40 is installed below the projection optical system 30.
The photosensitive material PM introduced through the introduction roller 41
A development process and a stabilization process are performed. This present
The image processing device 40 is a developer main tank for storing the developer.
42 and stabilizer main tank 43 for storing stabilizer
Possible, rollers and other components are driven together by a motor (not shown)
And is housed in the housing 2
Have been. The details of the configuration of the development processing device 40 will be described later.
Will be described. Along the path of the photosensitive material PM, a dry
A drying unit 50 is provided. This drying unit 50
Applies tension to the photosensitive material PM processed by the development processing device 40.
Pairs of rollers 51 and 52 for conveying while moving,
And a transfer tray 53 provided between the transfer trays 53.
Sensitive material provided at a position facing the photosensitive material PM across the transport path
The drying heater 54 and the fan 55 and the outside of the housing 2 are installed.
An external tray 56 for storing the attached and dried photosensitive material PM
Prepare. Accordingly, the exposed photosensitive material PM is transferred to the developing device 40.
After the development and stabilization process, the photosensitive material is dried by the heater 54 for drying the photosensitive material.
It is dried and sent to an external tray 56 outside the housing 2. like this
Then, a printing plate for offset printing is manufactured from the original. Next, a development process for developing and stabilizing the photosensitive material PM
The device 40 will be described. In the description of the development processing device 40,
In addition to FIG. 1 showing the schematic configuration, perspective views (FIGS.
Figures) and cross-sectional views (Fig. 5) are used as appropriate. As shown in FIG. 1, this development processing device 40
The exposed photosensitive material PM introduced from the
Developing unit 70 that develops using developer in tank 42 and stable
Developed using the stabilizer in the main tank 43
The material PM is subjected to a stabilization process, and this is rolled in the drying unit 50.
Stabilization processing unit (hereinafter referred to as “stabilization unit”) 72 sent out to pair 51
And The developing unit 70 includes a developer mainter as a developer supply system.
In addition to the ink tank 42, this developer main tank 42 is attached and detached.
Receiving the developer from the in-tank 42 and keeping the liquid level constant
The liquid level control cylinder 74 and the liquid level control cylinder 74
A developer system tank 78 into which the image solution flows, and a developer system tank 78.
Opens and closes the conduit 79 for the developer outflow from the stern tank 78
Inflow solenoid valve 80 and developer nozzle for discharging developer
82 and. The developer nozzle 82 has an orifice
(See Fig. 5).
Of developer from the tip of the developer nozzle 82 during the valve opening period
The output is restricted. Developer solution from the tip of developer nozzle 82
Depends on the pressure applied to the orifice, that is, the liquid level.
It depends on the height of the liquid level in the control cylinder 74 and the diameter of the orifice.
Is determined. In this embodiment, the liquid level is kept constant.
Therefore, when the inflow solenoid valve 80 is opened, the flow rate of the developer is
Be kept constant. The developer cistern tank 78 has a liquid inflow chamber
A partition plate 84, which is divided into a liquid storage chamber 78b and a liquid storage chamber 78b,
It stands upright from the bottom, and a conduit 76 opens in the liquid inflow chamber 78a.
Has been spoken. On the other hand, on the bottom of the liquid
According to the amount of liquid in the tank and the heater 86
A developer cistern tank 78 having a float 87 that moves up and down
And a float sensor 88 for detecting the amount of liquid in the
You. It is also connected to the bottom of the developer system tank 78.
At the entrance of the duct 79, dust is removed from the developing solution flowing out.
A mesh filter 90 to be removed is provided. Therefore, from the developer main tank 42 through the conduit 76
The flowing cold developer first flows into the liquid inflow chamber 78a.
It flows over the upper end of the partition plate 84 and into the upper part of the liquid retaining chamber 78b. Stagnation
The developer in the reservoir 78b is heated by the heater 86. He
The temperature of the developer by the heater 86 is sent to an electronic control unit 60 described later.
The temperature is controlled at a predetermined temperature. Thus, the temperature is maintained at a predetermined temperature.
When the inflow solenoid valve 80 is opened, the developer retained is developed.
It flows out of the liquid nozzle 82. Next, a developing tank 96 where the development of the photosensitive material PM is actually performed is performed.
The outline configuration of the surroundings and the outline of the operation will be described. Present
Below the introduction roller 41 for introducing the photosensitive material PM into the image section 70,
Fig. 5 Entrance row that rotates in the direction of arrow X and sends photosensitive material PM
La pair 92 is provided, and further below it,
Guides the photosensitive material PM in contact with the material PM and transfers it to the photosensitive material PM during transport.
A so-called waist-free roller 94 is provided. The developing tank 96 has a substantially U-shaped cross section and is shown in FIG.
The width of the photosensitive material PM has a width corresponding to
Form 95. The developing tank 96 contains a developing process.
A little distance from the bottom of the developing tank 96 over the width of the tank 96
The developer supply roller 98 is disposed at a position where the separation is left.
You. Therefore, the developer is stored in the storage section 95 of the development processing tank 96.
Then, the lower part of the developer supply roller 98 is partially immersed in the developer.
Pickle. The surface of the developer supply roller 98 is made of a spongy material
And the bubbles that make up the sponge are individually
It is an independent bubble (single bubble). Developer supply
As shown in FIG. 4, the roller 98
The image liquid is temporarily stored between the developing liquid supply roller 98 and the developing liquid supply roller 98.
An image liquid temporary storage unit 100 is assembled. The bottom of the developing tank 96 is shown in FIGS.
As shown in FIG.
Developed by a plurality of communication lights 102 opened at the bottom of the bath 96
The liquid can flow in. Inside the bottom sump chamber 101
Has two bar heaters 103 for heating the developer.
You. At the center bottom of the bottom reservoir 101, open and close the pipeline
It communicates with the bottom reservoir 101 via the discharge solenoid valve 104.
Developer that discharges used developer to waste liquid receiving tray 106
A discharge pipe 108 is provided continuously. On the unloading side of the photosensitive material PM in the developing tank 96,
The guide plate 110 is arranged with a predetermined elevation angle α.
You. Guide plate 110 reduces the contact area with photosensitive material PM
(See Fig. 3).
Of the developed photosensitive material PM toward the squeezing roller pair 109 in the fixed section 72
Form an entry path. The lower surface of the guide plate 110 has a self-temperature
A heating planar heater 112 having an adjustment function is attached.
I have. As shown in FIG. 3, the planar heater 112
The mounting bracket 113 provided on the treatment tank 96 side and other metal
Tool, it is integrally fixed to the guide plate 110. The detailed configuration of the developing tank 96 will be described. Development
As shown in FIG. 3, the storage section 95 of the treatment tank 96 has a curved periphery.
On both sides of the face plate 120, a substantially half-moon shaped side plate 122 (in the figure,
(The side plate on the left side is omitted)
It is formed by fixing. Guide plate 1 for peripheral plate 120
At the approximate center of the 10 side, a through hole 126 penetrating the peripheral plate 120
Is provided. The developer is supplied from the developer nozzle 82.
When the amount of liquid in the storage section 95 increases due to the
Outflow from 126. Therefore, the developer level in the reservoir 95 is
Is held at the height of the through hole 126. The discharge solenoid valve 104 immediately below the developing tank 96 has a
As shown in FIG. 1, a drip-proof cover 114 is provided,
Prevents developer from dropping from bath 96 or guide plate 110
doing. The temporary developer storage 100 is shown in FIGS. 4 and 5.
As shown in detail, both ends of the developer supply roller 98 are
Two end face plates 134 that contact the roller while allowing rotation of the roller,
The end plate 134 is fixed at both ends.
And a support plate 136. Also, the upper plate constituting the support plate 136
At the position corresponding to the center of 136a, the tip of the developer nozzle 82,
A liquid passage hole 138 is provided, while a spine constituting a support plate 136 is provided.
The plate 136b is urged toward the developer supply roller 98,
Stainless steel leaf spring 140 that abuts the outer periphery of the roller 98
Is provided. Immediately below the liquid passage hole 138, start from the center of the front end of the upper plate 136a.
The liquid receiving plate 142 is connected to the leaf spring 140.
A slight gap is provided between the tip of the liquid receiving plate 142 and the leaf spring 140.
Is provided. The developer supply roller 98 and both end faces
The end face plate 134 in contact and the plate in contact with the outer peripheral surface of the roller 98
The portion surrounded by the spring 140 is covered with the developer supply roller 98.
In the part of, together with the fact that it rotates upward,
Temporarily store the developer dropped from the developer nozzle 82
be able to. This part is called a liquid pool part 143. The liquid receiving plate 142 is used to supply the developing solution to the developing solution supply roller 98.
Plays the role of efficiently spreading in the axial direction of the
Even if the plate 142 is not provided, the developer temporarily collects in the liquid reservoir 143.
The developer supply roller 98 spreads in the axial direction.
Not really. The developer dropped from the developer nozzle 82 is shown in FIG.
As shown in FIG. 5, the liquid receiving plate 1
42, formed between both ends of the liquid receiving plate 142 and the leaf spring 140
Flow down along the surface of the leaf spring 140 from the slight gap
You. In other words, the developing solution supply roller 98 spreads along the axial direction.
It reaches the liquid pool part 143 while falling, and is temporarily stored here.
It is. Some of the developer stored in the liquid reservoir 143 is
Individual bubbles in the single bubble layer on the surface of the image supply roller 98
And the developer supply roller 98 in the direction of arrow Y in FIG.
Pumped out with the rotation of. The lower portion of the developer supply roller 98 is stored in a developing tank 96.
Since it is immersed in the retained developer,
The discharged new developing solution is caused by the rotation of the roller 98.
It is supplied into the developer already stored. New development
The liquid diffuses to the photosensitive material carry-in side in the developing tank 96.
And When the developer is supplied, the amount of the developer in the reservoir 95 increases.
When the developer is added, the amount
Of the amount excluding the amount of developer lost when the material PM is unloaded
The liquid (old developer) flows to the outside through the through hole 126 of the peripheral plate 120.
Then, the amount of the developer in the developing tank 96 is balanced. The developer also flows into the bottom liquid storage chamber 101,
It is heated by two built-in rod heaters 103
You. The heated developer is supplied to the reservoir 95 through the communication hole 102.
Convection between and. Energization of the rod-shaped heater 103 is a temperature detector
Feedback control based on the current liquid temperature detected
The developer in the processing tank 96 is extremely low.
The temperature is raised in a short time and maintained at a predetermined temperature. When the photosensitive material PM passes through the developer reservoir 95 of the developing tank 96,
For example, sludge is mixed into the developer with the development of the photosensitive material PM.
Enter. Such sludge is supplied from the storage section 95 to the communication hole 102.
And settles down in the bottom liquid storage chamber 101. Bottom liquid storage chamber 101
Sludge accumulated in the tank is opened by the discharge solenoid valve 104
And the waste liquid together with the developer through the developer discharge pipe 108
The sheet is discharged to the tray 106. Next, conveyance of the photosensitive material PM will be described. Entrance roller pair
The exposed photosensitive material PM sent by 92 is
While entering the storage section 95 while being guided by the
It passes through the inside of the storage part 95 along the inner peripheral surface of 0. Inside storage unit 95
Reacts with the developer stored in the
Processing is started. The developer supply roller 98 and the peripheral plate 120
After passing through the storage section 95 after passing through the gap of
A diaphragm provided at the entrance of the stabilizer 72 along the upper surface of the plate 110
Is sent out to the roller pair 109. On guide plate 110
The atmosphere is provided by a planar heater 112 having a temperature control function.
Since the temperature is near the specified temperature by heating, the guide
While being transported on the plate 110, it adheres to the surface of the photosensitive material PM.
The developing process of the photosensitive material PM is continued by the developing solution. Sensitive material
The developer adhering to the surface of the PM is sent to the squeeze roller pair 109.
More squeezed and removed. Next, the stabilizing part, which is a stabilizing system
72 will be briefly described with reference to FIG. In addition, above
It has the same members or the same functions as the developing unit 70 described above.
The description of the members is omitted, and the developing unit 70
Auxiliary code A is added to the code (numerical value) used in the description.
I will decide. The stabilizing section 72 serves as a stabilizing agent supply system.
Stabilizer main tank 43
Liquid level control cylinder 74A to which the stabilizer main tank 43 is attached and detached,
Stabilizer cistern tank 7 with partition plate 84A standing inside
8A, liquid level control cylinder 74A and stabilizer cistern tank 78A
Stabilization with conductive tube 76A and inflow solenoid valve 80A
It has an agent nozzle 82A and the like. Stabilizer cistern tank 78A
In the same manner as the developer cistern tank 78, the float 87
A with float sensor 88A and mesh filter 90A
Has been obtained. Inlet solenoid valve 80A and stabilizer nozzle 82A
Stabilizer from the cistern tank 78A
When flowing out, the stabilizer flows in from the conduit 76A
I do. With respect to the other components of the stabilizer 72,
This will be briefly described. At the upper end of the guide plate 110 of the developing section 70
The photosensitive material PM that has passed through the arranged squeezing roller pair 109 becomes the photosensitive material P
The guide cover 144 and the
Guided by the lead roller 146, transported to the stabilization tank 96A
Is entered. At the entrance of the stabilization tank 96A,
A free roller 94A for providing a loose waist is provided. Cheap
The stabilization tank 96A, which forms the storage area 95A for the stabilizing agent,
As with the image processing tank 96, a sponge-type stabilizer supply roller 98 is provided.
A and the stabilizing agent supply roller 98A.
A temporary storage section 100A for forming the stabilizer 134A is provided.
Supply the stabilizer to the loading side of the photosensitive material PM in the storage section 95A.
You. On the other hand, at the bottom of the stabilization tank 96A,
Similarly, a bottom liquid storage chamber 101A is provided. Drip-proof cover
Used when the discharge solenoid valve 104A with 114A is opened
Of the bottom liquid via the stabilizer discharge pipe 108A.
The liquid is discharged from the storage chamber 101A to the waste liquid receiving tray 106A. In addition,
Stabilizers do not require temperature control, so the bottom
No heater is provided in liquid storage chamber 101A. Downstream of stabilization tank 96A along photosensitive material PM transport path
Is the guide plate 11 that forms the entry path of the stabilized photosensitive material PM.
0A is arranged to be inclined upward from the stabilization tank 96A.
And the upper end of the guide plate 110A
Rotating the stabilized photosensitive material PM into a drying unit 50 (see Fig. 2)
Extra) from the surface of the photosensitive material while transporting it toward the roller pair 51
Squeezing roller pair 109A for squeezing the various stabilizers
You. The stabilizer supply roller 98A and each squeezing roller
The pair 109 and 109A are common to each roller of the developing tank 96 described above.
, And are rotated synchronously. Rotation in the direction of arrow Z in FIG.
While transporting the photosensitive material PM, excess developer and
Squeezing roller pairs 109 and 109A for squeezing and stabilizing
The plane passing through the center of each roller is
The plane passing through the center is opposite to the vertical plane passing through the center of the roller.
It is provided clockwise inclined by an angle β. Follow
The photosensitive material PM is sandwiched between the squeezing roller pair 109 and 109A.
And the transport direction of the photosensitive material PM at the squeeze roller pair 109 and 109A
Becomes downward by an angle corresponding to the angle β. This result
As a result, the squeezed developer or stabilizer passes through the photosensitive material PM
The inside stays between the photosensitive material PM and the pair of squeezing rollers 109 and 109A,
It does not hang down on the side of the material PM. Development while staying at each squeezing roller pair 109,109A during transport of photosensitive material PM
After cutting the photosensitive material PM, the end surface of the liquid or stabilizer
At the same time as passing through
Along the lower roller surface of the pair 109,109A
Right squeeze liquid collecting plate 15 disposed below roller pair 109, 109A.
2 or drop on the left squeeze liquid collecting plate 154,
Flows into 106A. Also, each squeeze roller pair 109, 109A
The two scrapers 150 each have a leaf spring at the tip.
Is provided at the position where it contacts the roller.
Sludge and waste liquid scraped off can also be collected on the right
152 and the left squeeze liquid collecting plate 154,
Collected by Ray 106A. Each of the developing unit 70 and the stabilizing unit 72
The waste liquid receiving trays 106 and 106A are
A tube 158 is provided and collected in each tray 106, 106A.
The waste liquid finally reaches the waste liquid tank 156 via the pipe 158.
Collected. In the stabilizing section 72 configured as described above, the developing section 70
The developed photosensitive material PM is sent to the squeeze roller pair 109.
The remaining developer is squeezed out, and the free roller 94A
It is carried into the storage part 95A while being guided by the like. Sensitive material P
The stabilization process starts when M enters the stabilizer in the storage section 95A
After passing through the storage section 95A, it is placed on the upper surface of the guide plate 110A.
The stabilization process proceeds during the transfer. Aperture low
Extra stabilization from the top of the photosensitive material PM when passing through the pair 109A
After the agent is squeezed out, the photosensitive material PM is then removed by the roller pair 51.
And transported to the drying unit 50. Next, temperature control in the developer cistern tank 78 etc.
Control device that controls the drive of the developer and developer supply roller 98, etc.
The device 60 will be described with reference to the block diagram shown in FIG.
You. As shown in FIG. 6, the electronic control unit 60 includes a well-known CPU 1
Built-in 62, ROM164, RAM166 and multiple self-running timer counters
As an arithmetic and logic operation circuit with the timer 168 etc.
Connected to each other via a common bus 170.
Exposure output port 172, development input port 174, development output
An input / output interface such as a power port 176 is provided. Ma
The common reservoir 170 of the electronic control unit 60 has a bottom reservoir.
The developer and the developer system in the reservoir 95 communicating with the chamber 101
Temperature adjustment for adjusting the temperature of the developer in the turn tank 78
A circuit 178 and a console for the operator to make various settings
To the control panel 4. The exposure output port 172 has a drive
A motor 13; a cutting device 27 for cutting the photosensitive material PM;
A light source 31 for irradiating the document in the document holder 10 with light;
From the first photosensitive material roll 21 or the second photosensitive material roll 22 to the photosensitive material PM
Motor 28 for sending out the light, and uniformly exposing the photosensitive material PM
LED38 for drying and drying to dry the stabilized photosensitive material
The unit 50 is connected. On the other hand, the developer input port 174
Float sensor 88 and stabilizer cistern in tank 78
Is connected to the float sensor 88A in the
Each roller of the processing unit 44 is connected to the image output port 176.
Drive motor 180, which is driven synchronously, and developer nozzle 82
The inflow solenoid valve 80 and the stabilizer nozzle 82A
The inflow solenoid valve 80A and the developer discharge pipe 108
Installed in the discharged electromagnetic valve 104 and the stabilizer discharge pipe 108A.
The discharged electromagnetic valve 104A and the atmosphere near the guide plate 110.
The sheet heater 112 for heating to a certain temperature
Has been continued. The temperature adjusting circuit 178 includes a developing solution cistern tank.
The temperature of the heater 86 and the tank
A temperature sensor 85 to be detected, and a temperature sensor 85
Two rod-shaped heaters 103 and the liquid in the liquid storage chamber 101.
A temperature sensor 103a for detecting a temperature is connected. this
The temperature adjustment circuit 178 is provided for storing the developer and the developer in the reservoir 95.
Set the temperature of the developer in the
Control the heating of each of the above heaters to maintain the temperature range.
Signal indicating whether or not is maintained within a predetermined temperature range.
Output to CPU162. Next, of the processes executed by the electronic control unit 60, the present invention
For the part directly related to
explain. FIG. 7 shows the initial processing routine executed when the power is turned on.
8 is a flow chart showing the routine.
Standby and development processing
It is a flowchart which shows a routine. The power is turned on to the slit exposure type copying camera of this embodiment.
Then, the electronic control unit 60 first performs the initial processing shown in FIG.
Execute the routine. This process is a slit exposure type copy
This is a process that is executed only once at the start of using the camera. When this routine is started, first, the discharge solenoid valves 104, 10
4A is opened (Step S10), and development is performed.
Tank 96 and stabilization tank 96A (hereinafter, if necessary,
Developer also remains in the processing tank 96).
Or a stabilizing agent (hereinafter collectively treated as necessary)
Drainage time is sufficient for all of the
Only wait (step S20). Stored in processing tank 96
Since the amount of processing solution is fixed, set the discharge time in advance.
It is easy to keep. After waiting for a predetermined discharge time, the discharge solenoid valves 104 and 104A are turned on.
After closing (Step S30), then the inflow solenoid valves 80, 80A
Is opened (step S40) and further developed.
Start operation of drive motor 180 via output port 176
Processing is performed (step S50). Inlet solenoid valve 80, 80A
When the valve is opened, the developer cistern tank 78 and the stabilizer
Processing liquid from the cistern tank 78A, developer nozzle 82, stable
Begins to flow out through the dispensing agent nozzle 82A,
Of the developer supply roller 98 and the stabilizer supply roller 98A
Accordingly, the processing liquid is supplied to the processing tank 96. Since the processing liquid is gradually stored in the processing tank 96,
Wait for the set storage time (time required for storage)
From (Step S60), close the inflow solenoid valves 80 and 80A
Processing (step S70), stop the drive motor 180, and
(Step S80).
As a result, each processing tank 96 is required for development and stabilization processing.
The processing liquid is stored. After the storage of the processing liquid is completed, the developer temperature is adjusted.
A start instruction is output to the temperature adjustment circuit 178 (step S9
0). Upon receiving this instruction, the temperature adjustment circuit 178
Calculates the detection signals of 85 and 103a while energizing the heaters 86 and 103
The developer solution tank 78 and the developing tank 96
Control the temperature of the developer within the range of about 28 ° C to 31 ° C.
You. The temperature adjusting circuit 178 heats the developing solution and
When controlled within the box, a signal indicating that temperature adjustment has been completed
Is output to the CPU 162. Therefore, this adjustment completion signal is input
(Step S100) until this signal is input.
Is warmed up on the console panel 4
Is displayed (step S110), and initial processing is performed.
Assuming that all the processes have been completed, the process proceeds to the next standby process. The opening and closing of each solenoid valve and the warm-up signal
The timing of the output and the like are shown in FIG. This initial processing
By executing, the current state of the slit exposure type copying camera 1 is
The image processing device 40 remains in the development processing tank 96 and the stabilization processing tank 96A.
Processing solution (developing solution and stabilizer) that has been
Together with a new processing solution and a developing solution
Is adjusted to an appropriate temperature required for processing. In the standby / development process executed after the end of the initial process,
First, as shown in FIG.
Key input for setting (step S200)
Various settings, such as the size of the original and the exposure
Are set (step S210). Next,
Image solution cistern tank 78 and stabilizer cisterntan
Read the status of each float sensor 88, 88A of the
Step S220), whether or not the float sensors 88 and 88A are on
Is determined (step S230). Float sensor 8
8,88A is off, that is, the developer cistern tank 78 or
If the liquid level in the stabilizer cistern tank 78A is low
Replenish the developer or stabilizer main tanks 42 and 43
Display on the console panel 4
(Step S235), and repeats the above-described processing from Step 200.
repeat. On the other hand, if the float sensors 88 and 88A are both on (the
Step 230) Next, determine whether the temperature of the developer is appropriate
(Step S240) and, if appropriate, the console
Start key on the control panel 4
It is determined whether the switch is turned on (step S250). developing
The temperature of the liquid is adjusted by a temperature adjustment circuit 178,
If the initial processing (Fig. 7) is completed, the temperature should be appropriate
However, the temperature of the liquid drops due to the failure of the heaters 86 and 103.
I'm checking again here
It is. Incorrect temperature or start key turned on
If not, repeat the processing from step 200 described above.
You. If the start key is pressed and turned on, the exposure
・ After executing development processing (step S260), change to “END”
Exit and end this routine. Here, exposure and development processing
Means the transport of the original holder 10 on which the original is placed, and the projection optical system.
Synchronized with exposure of photosensitive material PM by 30 and conveyance of original holder 10
Delivery of photosensitive material PM, development and stability in development processing unit 40
Processing, cutting of photosensitive material PM by cutting device 27, sheet heater 11
2 and processing such as drying of the photosensitive material PM by the drying unit 50.
You. The photosensitive material PM exposed by the projection optical system 30 is developed.
Developed while passing through the control tank 96, and stabilization processing tank
Stabilized while passing through 96A, then dried,
As a printing plate for offset printing on the external tray 56 outside the body 2
Will be sent out. As described above, the slit exposure type copying camera 1
The built-in development processing apparatus 40 of the present embodiment transports the photosensitive material PM.
During transport, a new developing solution is supplied to the developing tank 96,
Development processing continues even after photosensitive material PM is unloaded from development tank 96
I do. Therefore, storing only a small amount of developing solution can reduce the sensitivity of photosensitive material PM.
Development became possible. In addition, a large amount of developer can be
It is not necessary to store it in the developing tank 96
A bottom liquid storage chamber 101 is provided at the bottom,
The developer settles in the bottom liquid storage chamber 101, so the developing tank 9
Sludge sticks to the bottom of the storage part 95 of 6 and becomes sludge.
And not. Therefore, the tip of the photosensitive material PM
The smooth conveyance is not impeded.
No. Therefore, there is no problem of uneven development of the photosensitive material PM.
No. Further, in the present embodiment, a small amount stored in the developing tank 96 is used.
Of the developer is supplied by a rod-shaped heater 103 in the bottom liquid reservoir 101.
The heated developer is warmed by convection. Obedience
Therefore, is the developer in the storage section 95 to which the photosensitive material PM is transported easy?
In a short time, it is uniformly heated to a predetermined temperature. As a result,
Warm up until the developer is adjusted to a processable temperature.
The problem of the time loss of the power supply has been solved, and
Have been. In this embodiment, a slit exposure type copying camera is used.
At the start of use, from development processing tank 96 and stabilization processing tank 96A
Stored in each processing tank 96, 96A via the bottom liquid storage chamber 101, 101A
The discharged developer and stabilizer are discharged. Follow
The sludge in the used processing solution is easy to use together with the processing solution.
Is discharged. As a result, the treatment tank 96 requires particularly washing with water.
Maintenance-free equipment without the need
It became. In addition, in the present embodiment, the discharge from the developer nozzle 82 is
Spread the developer along the axis of developer supply roller 98
In other words, the liquid reservoir 143 is uniformly distributed over the width direction of the photosensitive material PM.
To a single bubble layer on the surface of the developer supply roller 98.
The developer (new developer) held in each bubble
Supply to the storage unit 95 based on the rotation of the developer supply roller 98
Therefore, the surface of the developer in the storage section 95 may be disturbed by ripples or the like.
Will not occur. As a result, the turbulence (wave) of the developer liquid level
Unevenness on the surface of the photosensitive material
(Irregular uneven streaks). The stabilization tank 96A is also provided with a heater for heating.
The configuration is the same except that it is not
Process efficiency and stabilization to improve processing quality.
Of course, the above-mentioned effect is achieved. The embodiment of the present invention has been described above.
The present invention is not limited to the above-described embodiment.
The stabilizer used is a drug that needs to maintain the liquid temperature due to its nature.
If it is a stabilization process, a heater for heating is provided.
Or silver halide photographic paper or plate making film
A range that does not deviate from the gist of the present invention, such as application to a developing device.
Of course, it can be implemented in various modes.
You.

【発明の効果】【The invention's effect】

以上詳述したように、本発明の感材処理装置によれ
ば、感材処理のために処理槽に貯留する処理液が少量で
済みかつ処理槽の底部に溝が設けられていることから、
処理液中のスラッジが処理槽の底部に固着してヘドロ化
することがない。従って、固着したスラッジが感材の搬
送を阻害して感材の処理に悪影響を及ぼすことがなく、
しかも処理槽のメンテナンスを不要として、従来装置の
メンテナンスに要した労力を格段に低減することができ
るという優れた効果を奏する。また、この溝内に設けら
れた温度管理手段により、少量貯留された処理液の温度
を管理するから、処理液の温度を容易かつ短時間に均一
に管理することができる。 更に、使用された処理液を溝の底部に設けたバルブを
介して排出するものとすれば、スラッジの排出を一層容
易にすることが可能となる。
As described in detail above, according to the light-sensitive material processing apparatus of the present invention, since a small amount of processing liquid is stored in the processing tank for processing the light-sensitive material and a groove is provided at the bottom of the processing tank,
Sludge in the processing solution does not adhere to the bottom of the processing tank and does not sludge. Therefore, the fixed sludge does not hinder the transport of the photosensitive material and does not adversely affect the processing of the photosensitive material.
Moreover, there is an excellent effect that the maintenance required for the conventional apparatus can be remarkably reduced by eliminating the need for the maintenance of the processing tank. Further, the temperature of the processing liquid stored in a small amount is controlled by the temperature control means provided in the groove, so that the temperature of the processing liquid can be easily and uniformly controlled in a short time. Further, if the used processing liquid is discharged through a valve provided at the bottom of the groove, the discharge of sludge can be further facilitated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の一実施例である現像処理装置の構成
図、 第2図は実施例の現像処理装置を組み込んだスリット露
光式複写カメラ1を示す概略構成図、 第3図は現像処理槽96の要部斜視図、 第4図は現像液供給ローラ98及び現像液一時貯留部100
の斜視図、 第5図は現像処理槽96における現像液供給ローラ98や現
像液一時貯留部100等の配置を示す断面図、 第6図は電子制御装置60の構成を中心に示すブロック
図、 第7図は電子制御装置60が実行する初期処理ルーチンを
示すフローチャート、 第8図は同じく待機・現像処理ルーチンを示すフローチ
ャート、 第9図は初期処理における各電磁弁の開閉等のタイミン
グを示すタイミングチャート、である。 1……スリット露光式複写カメラ 10……原稿ホルダ 20……感材搬送装置 21,22……感材ロール 30……投影光学系、40……現像処理装置 50……乾燥ユニット、60……電子制御装置 95,95A……貯留部 96……現像処理槽 96A……安定化処理槽 98……現像液供給ローラ 98A……安定化剤供給ローラ 100……現像液一時貯留部 100A……安定化剤一時貯留部 101……底部液溜め室 101A……底部液溜め室 102……連通孔、103……棒状ヒータ 143,143A……液溜まり部 PM……感材
FIG. 1 is a configuration diagram of a development processing apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing a slit exposure type copying camera 1 incorporating the development processing apparatus of the embodiment, and FIG. FIG. 4 is a perspective view of a main part of a tank 96, and FIG.
FIG. 5 is a cross-sectional view showing an arrangement of a developer supply roller 98 and a developer temporary storage unit 100 in the developing tank 96. FIG. 6 is a block diagram mainly showing the configuration of the electronic control unit 60. FIG. 7 is a flowchart showing an initial processing routine executed by the electronic control unit 60, FIG. 8 is a flowchart showing a standby / developing processing routine, and FIG. 9 is a timing showing the timing of opening / closing of each solenoid valve in the initial processing. Chart. 1 Slit exposure type copying camera 10 Document holder 20 Sensitive material transport device 21,22 Sensitive material roll 30 Projection optical system 40 Development processing device 50 Drying unit 60 Electronic control device 95, 95A Storage section 96 Development processing tank 96A Stabilization processing tank 98 Developer supply roller 98A Stabilizer supply roller 100 Temporary developer storage section 100A Stable Agent temporary storage section 101 Bottom liquid storage chamber 101A Bottom liquid storage chamber 102 Communication hole 103 Bar heater 143, 143A Liquid storage section PM Sensitive material

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−77061(JP,A) 特開 昭63−132238(JP,A) 実公 昭31−9954(JP,Y1) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G03D 3/00 - 5/06──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-2-77061 (JP, A) JP-A-63-132238 (JP, A) Jikken Sho 31-9954 (JP, Y1) (58) Field (Int.Cl. 6 , DB name) G03D 3/00-5/06

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】印画紙,ダイレクト製版用の感光紙もしく
はフィルムなどの銀塩タイプの感材を処理する処理装置
であって、 前記感材用の処理液を貯留し、該処理液中に搬入される
前記感材がその搬送方向に沿って一部のみ浸漬する長さ
の処理槽と、 該処理槽に、少なくとも前記感材の通過中は、新たな処
理液を供給する処理液供給手段と 前記処理槽の底部に該処理槽の幅方向に亘って設けられ
た溝と、 該溝の内部に配設され、前記処理液の温度を管理する温
度制御手段と を備える感材処理装置。
1. A processing apparatus for processing a silver salt type photosensitive material such as a photographic paper, a photosensitive paper for direct plate making or a film, wherein the processing solution for the photosensitive material is stored and carried into the processing solution. A processing tank having a length in which the photosensitive material to be immersed only partially along the transport direction; and a processing liquid supply unit for supplying a new processing liquid to the processing tank at least while the photosensitive material is passing therethrough. A light-sensitive material processing apparatus, comprising: a groove provided in a bottom portion of the processing tank in a width direction of the processing tank; and a temperature control unit disposed inside the groove and managing a temperature of the processing liquid.
【請求項2】請求項1記載の感材処理装置であって、 処理槽の底部に設けられた溝に、開弁時に該処理槽内の
処理液を排出するバルブを備えた感材処理装置。
2. A light-sensitive material processing apparatus according to claim 1, further comprising a valve provided in a groove provided at a bottom of the processing tank to discharge a processing liquid in the processing tank when the valve is opened. .
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