JP2750333B2 - 広波長域ビームスプリッタ、光学装置、広波長域ビームスプリッタの製造方法及び光ビーム合併法 - Google Patents
広波長域ビームスプリッタ、光学装置、広波長域ビームスプリッタの製造方法及び光ビーム合併法Info
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/14—Beam splitting or combining systems operating by reflection only
- G02B27/144—Beam splitting or combining systems operating by reflection only using partially transparent surfaces without spectral selectivity
-
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光学素子、特に紫外線、
可視光線及び赤外線の波長域内において光ビームを反射
する広波長域ビームスプリッタ、光学装置、広波長域ビ
ームスプリッタの製造方法及び光ビーム合併法に関す
る。
可視光線及び赤外線の波長域内において光ビームを反射
する広波長域ビームスプリッタ、光学装置、広波長域ビ
ームスプリッタの製造方法及び光ビーム合併法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】光学分野において、ビームスプリッタは
入射する光ビームの一部を反射し、残部を透過する部分
鏡である。すべてのビームスプリッタは事実上、可視ス
ペクトルに使用される。この種のビームスプリッタで
は、一方の表面上に１ｍｍ程度の厚さの反射防止被覆を
設け、他方の表面上に部分反射被覆を設けて、入射する
光ビームの所定量を反射したり透過するように容易に構
成し、設計の対象となる可視スペクトルに対して適当に
機能させることができる。
入射する光ビームの一部を反射し、残部を透過する部分
鏡である。すべてのビームスプリッタは事実上、可視ス
ペクトルに使用される。この種のビームスプリッタで
は、一方の表面上に１ｍｍ程度の厚さの反射防止被覆を
設け、他方の表面上に部分反射被覆を設けて、入射する
光ビームの所定量を反射したり透過するように容易に構
成し、設計の対象となる可視スペクトルに対して適当に
機能させることができる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】最近の光学は、マイク
ロスペクトロメータ及び他の高度に発達した特殊機器の
発展で可視スペクトルから赤外スペクトル、更に紫外ス
ペクトルの分野まで拡大している。可視領域のビームス
プリッタに使用される反射防止被覆及び部分反射被覆
は、約３００ｎｍ（ナノメータ）以下の波長に対して不
透明であるため、赤外及び紫外の非可視領域を含む波長
１９０ｎｍ〜９００ｎｍの広い範囲をカバーできない。
即ち、従来の可視領域ビームスプリッタに設けられた被
覆は、赤外及び紫外領域での正常動作を妨害する問題が
生じる。
ロスペクトロメータ及び他の高度に発達した特殊機器の
発展で可視スペクトルから赤外スペクトル、更に紫外ス
ペクトルの分野まで拡大している。可視領域のビームス
プリッタに使用される反射防止被覆及び部分反射被覆
は、約３００ｎｍ（ナノメータ）以下の波長に対して不
透明であるため、赤外及び紫外の非可視領域を含む波長
１９０ｎｍ〜９００ｎｍの広い範囲をカバーできない。
即ち、従来の可視領域ビームスプリッタに設けられた被
覆は、赤外及び紫外領域での正常動作を妨害する問題が
生じる。
【０００４】また、１ｍｍ厚の透明プレートの両表面か
ら反射防止被覆及び部分反射被覆を除去して紫外スペク
トルに使用することは、プレートの前面と後面に起こる
複反射のため実際的ではない。
ら反射防止被覆及び部分反射被覆を除去して紫外スペク
トルに使用することは、プレートの前面と後面に起こる
複反射のため実際的ではない。
【０００５】そこで、本発明は、紫外線から赤外線まで
の非常に広い波長域で使用できかつ未被覆の透明物質で
構成されるビームスプリッタ、光学装置、ビームスプリ
ッタの製造方法及び光ビーム合併法を提供することを目
的とする。
の非常に広い波長域で使用できかつ未被覆の透明物質で
構成されるビームスプリッタ、光学装置、ビームスプリ
ッタの製造方法及び光ビーム合併法を提供することを目
的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明による広波長域ビ
ームスプリッタは、紫外線から赤外線までの波長域内で
動作し、平行な未被覆の両表面（42、44）及び０.１５
ｍｍ以下の厚さを有しかつ融解シリカ又はサファイアか
ら成る透明物質（34）で構成される。また、本発明によ
る光学装置は、少なくとも第１及び第２の広波長域ビー
ムスプリッタ（51、52）を含み、第１及び第２のビーム
スプリッタ（51、52）の各々は、それぞれ平行な未被覆
の両表面（61、62、63、64）及び０.１５ｍｍ以下の厚
さを有しかつ融解シリカ又はサファイアから成る透明物
質で構成され、第１及び第２のビームスプリッタ（51、
52）は、第１のビームスプリッタ（51）の一方の表面
（61）から反射された第１の光ビーム（50）が隣接する
第２のビームスプリッタ（52）上の第２の光ビーム（5
5）に対し第２のビームスプリッタ（52）の一方の表面
（63）上の入射点（58）において整列するように配置さ
れ、紫外線から赤外線までの波長域内の第１及び第２の
光ビーム（50、55）を合併させて第１及び第２の光ビー
ム（50、55）の全特性を有する１つの光ビーム（53）を
出力する。
ームスプリッタは、紫外線から赤外線までの波長域内で
動作し、平行な未被覆の両表面（42、44）及び０.１５
ｍｍ以下の厚さを有しかつ融解シリカ又はサファイアか
ら成る透明物質（34）で構成される。また、本発明によ
る光学装置は、少なくとも第１及び第２の広波長域ビー
ムスプリッタ（51、52）を含み、第１及び第２のビーム
スプリッタ（51、52）の各々は、それぞれ平行な未被覆
の両表面（61、62、63、64）及び０.１５ｍｍ以下の厚
さを有しかつ融解シリカ又はサファイアから成る透明物
質で構成され、第１及び第２のビームスプリッタ（51、
52）は、第１のビームスプリッタ（51）の一方の表面
（61）から反射された第１の光ビーム（50）が隣接する
第２のビームスプリッタ（52）上の第２の光ビーム（5
5）に対し第２のビームスプリッタ（52）の一方の表面
（63）上の入射点（58）において整列するように配置さ
れ、紫外線から赤外線までの波長域内の第１及び第２の
光ビーム（50、55）を合併させて第１及び第２の光ビー
ム（50、55）の全特性を有する１つの光ビーム（53）を
出力する。
【０００７】紫外線から赤外線までの波長域内で動作す
る本発明の広波長域ビームスプリッタの製造方法は、平
行な未被覆の両表面（42、44）及び０.１５ｍｍ以下の
厚さを有しかつ融解シリカ又はサファイアから成る透明
物質（34）を準備する過程と、透明物質（34）を光ビー
ム（36）の通路内に該光ビーム（36）に対して一定角度
で配置する過程とを含む。
る本発明の広波長域ビームスプリッタの製造方法は、平
行な未被覆の両表面（42、44）及び０.１５ｍｍ以下の
厚さを有しかつ融解シリカ又はサファイアから成る透明
物質（34）を準備する過程と、透明物質（34）を光ビー
ム（36）の通路内に該光ビーム（36）に対して一定角度
で配置する過程とを含む。
【０００８】また、少なくとも第１及び第２の光ビーム
（50、55）を合併させて１つの光ビーム（53）を出力す
る本発明の光ビーム合併法は、それぞれ平行な未被覆の
両表面（61、62、63、64）及び０.１５ｍｍ以下の厚さ
を有しかつ融解シリカ又はサファイアから成る透明物質
で構成された少なくとも第１及び第２の広波長域ビーム
スプリッタ（51、52）を得る過程と、第１及び第２のビ
ームスプリッタ（51、52）を相互に平行に配置する過程
と、紫外線から赤外線までの波長域内の少なくとも第１
及び第２の平行な光ビーム（50、55）を発生させる過程
と、第１のビームスプリッタ（51）の一方の表面（61）
から反射された第１の光ビーム（50）を隣接する第２の
ビームスプリッタ（52）上の第２の光ビーム（55）に対
し第２のビームスプリッタ（52）の一方の表面（63）上
の入射点（58）において整列させ、第１及び第２の光ビ
ーム（50、55）を合併させて第１及び第２の光ビーム
（50、55）の全特性を有する１つの光ビーム（53）を出
力するように第１及び第２のビームスプリッタ（51、5
2）を調整する過程とを含む。
（50、55）を合併させて１つの光ビーム（53）を出力す
る本発明の光ビーム合併法は、それぞれ平行な未被覆の
両表面（61、62、63、64）及び０.１５ｍｍ以下の厚さ
を有しかつ融解シリカ又はサファイアから成る透明物質
で構成された少なくとも第１及び第２の広波長域ビーム
スプリッタ（51、52）を得る過程と、第１及び第２のビ
ームスプリッタ（51、52）を相互に平行に配置する過程
と、紫外線から赤外線までの波長域内の少なくとも第１
及び第２の平行な光ビーム（50、55）を発生させる過程
と、第１のビームスプリッタ（51）の一方の表面（61）
から反射された第１の光ビーム（50）を隣接する第２の
ビームスプリッタ（52）上の第２の光ビーム（55）に対
し第２のビームスプリッタ（52）の一方の表面（63）上
の入射点（58）において整列させ、第１及び第２の光ビ
ーム（50、55）を合併させて第１及び第２の光ビーム
（50、55）の全特性を有する１つの光ビーム（53）を出
力するように第１及び第２のビームスプリッタ（51、5
2）を調整する過程とを含む。
【０００９】
【作用】本発明による広波長域ビームスプリッタは、平
行な未被覆の両表面（42、44）及び０.１５ｍｍ以下の
厚さを有しかつ融解シリカ又はサファイアから成る透明
物質（34）で構成され、紫外線から赤外線までの波長域
内で動作が可能である。ビームスプリッタに入射される
単一の光ビーム（36）は、ビームスプリッタの両表面
（42、44）において非常に接近した二重の光ビーム（3
8、40）として反射される。ビームスプリッタを構成す
る透明物質（34）の厚さは０.１５ｍｍ以下であるた
め、二重の光ビーム（38、40）間の分離距離（39）はき
わめて小さい。
行な未被覆の両表面（42、44）及び０.１５ｍｍ以下の
厚さを有しかつ融解シリカ又はサファイアから成る透明
物質（34）で構成され、紫外線から赤外線までの波長域
内で動作が可能である。ビームスプリッタに入射される
単一の光ビーム（36）は、ビームスプリッタの両表面
（42、44）において非常に接近した二重の光ビーム（3
8、40）として反射される。ビームスプリッタを構成す
る透明物質（34）の厚さは０.１５ｍｍ以下であるた
め、二重の光ビーム（38、40）間の分離距離（39）はき
わめて小さい。
【００１０】
【実施例】以下、従来の技術及び本発明の実施例を図１
〜図４について説明する。図１は約１ｍｍ厚の透明な融
解シリカのプレート１０で形成された従来技術のビーム
スプリッタの小片を示す。プレート１０の一方の表面に
は公知の技法により反射防止被覆１２が設けられ、他方
の表面には多層の絶縁性部分反射被覆１４が設けられ
る。可視領域の狭い光ビーム１６が部分反射被覆１４に
対して４５゜の角度でプレート１０に入射されると、光
ビーム１６の一部は光ビーム１８として部分反射被覆１
４において反射される。一方、入射されたビーム１６の
残部はプレート１０を通り、更に反射防止物質１２を通
過して光ビーム２０として射出される。光ビーム２０は
入射された光ビーム１６と平行であるが、プレート１０
の厚さと屈折率によって変動する大きさだけずれてい
る。
〜図４について説明する。図１は約１ｍｍ厚の透明な融
解シリカのプレート１０で形成された従来技術のビーム
スプリッタの小片を示す。プレート１０の一方の表面に
は公知の技法により反射防止被覆１２が設けられ、他方
の表面には多層の絶縁性部分反射被覆１４が設けられ
る。可視領域の狭い光ビーム１６が部分反射被覆１４に
対して４５゜の角度でプレート１０に入射されると、光
ビーム１６の一部は光ビーム１８として部分反射被覆１
４において反射される。一方、入射されたビーム１６の
残部はプレート１０を通り、更に反射防止物質１２を通
過して光ビーム２０として射出される。光ビーム２０は
入射された光ビーム１６と平行であるが、プレート１０
の厚さと屈折率によって変動する大きさだけずれてい
る。
【００１１】前記のように、透明プレート１０上の反射
防止被覆１２及び部分反射被覆１４は、波長の短い紫外
線領域の光ビームに対しては実質的に不透明である。透
明プレートからこれらの被覆を単に除去しても実用的な
ビームスプリッタは得られない。反射防止被覆及び部分
反射被覆のない１ｍｍの厚の透明プレート２２を図２に
示す。入射される紫外領域の狭い光ビーム２４が図１と
同様に４５゜の角度でプレート２２の一面に入射される
と、光ビーム２４の一部は光ビーム２６としてこの表面
から反射される。一方、光ビーム２４の残部はプレート
２２を通り、さらにその一部は光ビーム２８として反対
面から反射され、残部は反対面を通過して光ビーム３０
として射出される。光ビーム３０は入射された光ビーム
２４と平行であるが、プレート２２の厚さと屈折率によ
って変動する大きさだけずれている。もしプレート２２
の厚さが１ｍｍで屈折率を約１.５と仮定すると、二つ
の反射された光ビーム２６、２８間の分離距離３２は約
０.６６ｍｍとなる。即ち、二つの反射された光ビーム
２６、２８は分離距離が大きく単一のビームに集束でき
ないため、多くの精密機器に対して不具合が生じる。
防止被覆１２及び部分反射被覆１４は、波長の短い紫外
線領域の光ビームに対しては実質的に不透明である。透
明プレートからこれらの被覆を単に除去しても実用的な
ビームスプリッタは得られない。反射防止被覆及び部分
反射被覆のない１ｍｍの厚の透明プレート２２を図２に
示す。入射される紫外領域の狭い光ビーム２４が図１と
同様に４５゜の角度でプレート２２の一面に入射される
と、光ビーム２４の一部は光ビーム２６としてこの表面
から反射される。一方、光ビーム２４の残部はプレート
２２を通り、さらにその一部は光ビーム２８として反対
面から反射され、残部は反対面を通過して光ビーム３０
として射出される。光ビーム３０は入射された光ビーム
２４と平行であるが、プレート２２の厚さと屈折率によ
って変動する大きさだけずれている。もしプレート２２
の厚さが１ｍｍで屈折率を約１.５と仮定すると、二つ
の反射された光ビーム２６、２８間の分離距離３２は約
０.６６ｍｍとなる。即ち、二つの反射された光ビーム
２６、２８は分離距離が大きく単一のビームに集束でき
ないため、多くの精密機器に対して不具合が生じる。
【００１２】これに対して、紫外線から赤外線までの波
長域内で動作する本発明によるビームスプリッタを図３
に示す。このビームスプリッタは、透明物質の非常に薄
いプレート３４で構成され、２つの平行の未被覆表面４
２、４４を有する。プレート３４は０.１５ｍｍ以下の
厚さを有し、融解シリカ又はサファイアから成る透明物
質で構成される。プレート３４の厚さは０.１０ｍｍが
好適で、これより薄いプレートは構造的に実用に適さな
い。４５゜の角度でプレート３４に入射される単一の光
ビーム３６は、プレート３４を通過して光ビーム３６と
平行に射出される光ビーム４６のほかに、プレート３４
の両表面４２、４４において非常に接近した二重の光ビ
ーム３８、４０として反射される。プレート３４の厚さ
は０.１５ｍｍ以下であるため、二重の光ビーム３８、
４０間の分離距離３９はきわめて小さく、実質的には単
一の光ビームとして取り扱うことができる。プレート３
４の厚さが０.１ｍｍで屈折率が約１.５の場合、光ビー
ム３８、４０間の分離距離３９は僅かに約０.０７ｍｍ
である。
長域内で動作する本発明によるビームスプリッタを図３
に示す。このビームスプリッタは、透明物質の非常に薄
いプレート３４で構成され、２つの平行の未被覆表面４
２、４４を有する。プレート３４は０.１５ｍｍ以下の
厚さを有し、融解シリカ又はサファイアから成る透明物
質で構成される。プレート３４の厚さは０.１０ｍｍが
好適で、これより薄いプレートは構造的に実用に適さな
い。４５゜の角度でプレート３４に入射される単一の光
ビーム３６は、プレート３４を通過して光ビーム３６と
平行に射出される光ビーム４６のほかに、プレート３４
の両表面４２、４４において非常に接近した二重の光ビ
ーム３８、４０として反射される。プレート３４の厚さ
は０.１５ｍｍ以下であるため、二重の光ビーム３８、
４０間の分離距離３９はきわめて小さく、実質的には単
一の光ビームとして取り扱うことができる。プレート３
４の厚さが０.１ｍｍで屈折率が約１.５の場合、光ビー
ム３８、４０間の分離距離３９は僅かに約０.０７ｍｍ
である。
【００１３】本発明による広波長域ビームスプリッタの
両面には反射防止被覆又は部分反射被覆がないから、紫
外線から赤外線までの波長域内において光ビームエネル
ギの吸収が発生せず、ビームスプリッタの透過及び反射
特性が大幅に向上する。本発明によれば、例えば従来の
ビームスプリッタに比べて、直径０.５〜１.０ｍｍのア
パーチュアを有する重水素放電管等の小さい点光源から
ほぼ２倍の反射エネルギが広波長域ビームスプリッタを
通じて得られる。
両面には反射防止被覆又は部分反射被覆がないから、紫
外線から赤外線までの波長域内において光ビームエネル
ギの吸収が発生せず、ビームスプリッタの透過及び反射
特性が大幅に向上する。本発明によれば、例えば従来の
ビームスプリッタに比べて、直径０.５〜１.０ｍｍのア
パーチュアを有する重水素放電管等の小さい点光源から
ほぼ２倍の反射エネルギが広波長域ビームスプリッタを
通じて得られる。
【００１４】本発明の広波長域ビームスプリッタは、前
記の通り高透過特性を有するため入射された光ビームの
エネルギを減殺させないので、２個又は３個以上のビー
ムスプリッタを重ねて使用することができる。第１及び
第２の広波長域ビームスプリッタ５１、５２を平行に重
ねた状態を図４に示す。第１のビームスプリッタ５１は
平行な未被覆の両表面６１、６２を有し、第２のビーム
スプリッタ５２は平行な未被覆の両表面６３、６４を有
する。第１及び第２のビームスプリッタ５１、５２は、
それぞれ０.１５ｍｍ以下の厚さを有しかつ融解シリカ
又はサファイアから成る透明物質で構成される。第１及
び第２のビームスプリッタ５１、５２は、第１のビーム
スプリッタ５１の一方の表面６１から反射された第１の
光ビーム５０が隣接する第２のビームスプリッタ５２上
の第２の光ビーム５５に対し第２のビームスプリッタ５
２の一方の表面６３上の入射点５８において整列するよ
うに配置される。この実施例では、第１の光ビーム５０
は紫外域であり、第２の光ビーム５５は可視域である。
また、第１及び第２のビームスプリッタ５１、５２は相
互に平行に、かつ第１及び第２の光ビーム５０、５５と
は好適には４５゜の角度で設けられる。第１及び第２の
ビームスプリッタ５１、５２により、機械的切換装置な
しに紫外線から赤外線までの波長域内の第１及び第２の
光ビーム５０、５５を合併させて第１及び第２の光ビー
ム５０、５５の全特性を有する単一の広波長域光ビーム
５３を出力することができる。所望により、反射表面５
６から光ビーム５４を反射させるように光ビーム５３を
使用することもできる。僅かに２個のビームスプリッタ
を図４に示したが、数個を重ねて幾つかの複雑な特性を
組み合わせ、種々の複雑な特性を有する出力ビームを形
成することが可能である。
記の通り高透過特性を有するため入射された光ビームの
エネルギを減殺させないので、２個又は３個以上のビー
ムスプリッタを重ねて使用することができる。第１及び
第２の広波長域ビームスプリッタ５１、５２を平行に重
ねた状態を図４に示す。第１のビームスプリッタ５１は
平行な未被覆の両表面６１、６２を有し、第２のビーム
スプリッタ５２は平行な未被覆の両表面６３、６４を有
する。第１及び第２のビームスプリッタ５１、５２は、
それぞれ０.１５ｍｍ以下の厚さを有しかつ融解シリカ
又はサファイアから成る透明物質で構成される。第１及
び第２のビームスプリッタ５１、５２は、第１のビーム
スプリッタ５１の一方の表面６１から反射された第１の
光ビーム５０が隣接する第２のビームスプリッタ５２上
の第２の光ビーム５５に対し第２のビームスプリッタ５
２の一方の表面６３上の入射点５８において整列するよ
うに配置される。この実施例では、第１の光ビーム５０
は紫外域であり、第２の光ビーム５５は可視域である。
また、第１及び第２のビームスプリッタ５１、５２は相
互に平行に、かつ第１及び第２の光ビーム５０、５５と
は好適には４５゜の角度で設けられる。第１及び第２の
ビームスプリッタ５１、５２により、機械的切換装置な
しに紫外線から赤外線までの波長域内の第１及び第２の
光ビーム５０、５５を合併させて第１及び第２の光ビー
ム５０、５５の全特性を有する単一の広波長域光ビーム
５３を出力することができる。所望により、反射表面５
６から光ビーム５４を反射させるように光ビーム５３を
使用することもできる。僅かに２個のビームスプリッタ
を図４に示したが、数個を重ねて幾つかの複雑な特性を
組み合わせ、種々の複雑な特性を有する出力ビームを形
成することが可能である。
【００１５】前記のビームスプリッタの各表面は反射性
が低いため、反射イメージにはゴーストが発生せず、ま
た２個又は３個以上のビームスプリッタを積み重ねても
イメージの品質は良好に維持される。
が低いため、反射イメージにはゴーストが発生せず、ま
た２個又は３個以上のビームスプリッタを積み重ねても
イメージの品質は良好に維持される。
【００１６】紫外線から赤外線までの波長域内で動作す
る本発明のビームスプリッタを製造する際は、平行な未
被覆の両表面４２、４４及び０.１５ｍｍ以下の厚さを
有しかつ融解シリカ又はサファイアから成る透明物質３
４を準備し、次に透明物質３４を光ビーム３６の通路内
に光ビーム３６に対して一定角度で配置する。
る本発明のビームスプリッタを製造する際は、平行な未
被覆の両表面４２、４４及び０.１５ｍｍ以下の厚さを
有しかつ融解シリカ又はサファイアから成る透明物質３
４を準備し、次に透明物質３４を光ビーム３６の通路内
に光ビーム３６に対して一定角度で配置する。
【００１７】また、少なくとも第１及び第２の光ビーム
５０、５５を合併させて１つの光ビーム５３を出力する
光ビーム合併法では、それぞれ平行な未被覆の両表面６
１、６２、６３、６４及び０.１５ｍｍ以下の厚さを有
しかつ融解シリカ又はサファイアから成る透明物質で構
成された少なくとも第１及び第２の広波長域ビームスプ
リッタ５１、５２を得る。次に、第１及び第２のビーム
スプリッタ５１、５２を相互に平行に配置する。その
後、紫外線から赤外線までの波長域内の少なくとも第１
及び第２の平行な光ビーム５０、５５を発生させる。続
いて、第１のビームスプリッタ５１の一方の表面６１か
ら反射された第１の光ビーム５０を隣接する第２のビー
ムスプリッタ５２上の第２の光ビーム５５に対し第２の
ビームスプリッタ５２の一方の表面６３上の入射点５８
において整列させ、第１及び第２の光ビーム５０、５５
を合併させて第１及び第２の光ビーム５０、５５の全特
性を有する１つの光ビーム５３を出力するように第１及
び第２のビームスプリッタ５１、５２を調整する。
５０、５５を合併させて１つの光ビーム５３を出力する
光ビーム合併法では、それぞれ平行な未被覆の両表面６
１、６２、６３、６４及び０.１５ｍｍ以下の厚さを有
しかつ融解シリカ又はサファイアから成る透明物質で構
成された少なくとも第１及び第２の広波長域ビームスプ
リッタ５１、５２を得る。次に、第１及び第２のビーム
スプリッタ５１、５２を相互に平行に配置する。その
後、紫外線から赤外線までの波長域内の少なくとも第１
及び第２の平行な光ビーム５０、５５を発生させる。続
いて、第１のビームスプリッタ５１の一方の表面６１か
ら反射された第１の光ビーム５０を隣接する第２のビー
ムスプリッタ５２上の第２の光ビーム５５に対し第２の
ビームスプリッタ５２の一方の表面６３上の入射点５８
において整列させ、第１及び第２の光ビーム５０、５５
を合併させて第１及び第２の光ビーム５０、５５の全特
性を有する１つの光ビーム５３を出力するように第１及
び第２のビームスプリッタ５１、５２を調整する。
【００１８】
【発明の効果】本発明によれば、融解シリカ又はサファ
イアから成る透明物質で構成されるビームスプリッタに
より、入射された紫外線から赤外線までの波長域内の光
ビームのエネルギを失うことなく広波長域の光ビームの
反射を得ることができる。
イアから成る透明物質で構成されるビームスプリッタに
より、入射された紫外線から赤外線までの波長域内の光
ビームのエネルギを失うことなく広波長域の光ビームの
反射を得ることができる。
【図１】 従来のビームスプリッタの部分拡大断面図
【図２】 反射防止被覆及び部分反射被覆のない従来の
ビームスプリッタの部分拡大断面図
ビームスプリッタの部分拡大断面図
【図３】 本発明による広波長域ビームスプリッタの実
施例を示す拡大断面図
施例を示す拡大断面図
【図４】 本発明による広波長域ビームスプリッタを積
み重ねた状態を示す略示図
み重ねた状態を示す略示図
３４．．．プレート（透明物質）、 ３６、５３．．．
光ビーム、 ５０．．．第１の光ビーム、 ５１．．．
第１のビームスプリッタ、 ５２．．．第２のビームス
プリッタ、 ５５．．．第２の光ビーム、 ５８．．．
入射点、
光ビーム、 ５０．．．第１の光ビーム、 ５１．．．
第１のビームスプリッタ、 ５２．．．第２のビームス
プリッタ、 ５５．．．第２の光ビーム、 ５８．．．
入射点、
Claims (4)
- 【請求項１】 紫外線から赤外線までの波長域内で動作
し、平行な未被覆の両表面及び０.１５ｍｍ以下の厚さ
を有しかつ融解シリカ又はサファイアから成る透明物質
で構成されたことを特徴とする広波長域ビームスプリッ
タ。 - 【請求項２】 少なくとも第１及び第２の広波長域ビー
ムスプリッタを含み、 第１及び第２のビームスプリッタの各々は、それぞれ平
行な未被覆の両表面及び０.１５ｍｍ以下の厚さを有し
かつ融解シリカ又はサファイアから成る透明物質で構成
され、 第１及び第２のビームスプリッタは、第１のビームスプ
リッタの一方の表面から反射された第１の光ビームが隣
接する第２のビームスプリッタ上の第２の光ビームに対
し第２のビームスプリッタの一方の表面上の入射点にお
いて整列するように配置され、 紫外線から赤外線までの波長域内の第１及び第２の光ビ
ームを合併させて第１及び第２の光ビームの全特性を有
する１つの光ビームを出力することを特徴とする光学装
置。 - 【請求項３】 平行な未被覆の両表面及び０.１５ｍｍ
以下の厚さを有しかつ融解シリカ又はサファイアから成
る透明物質を準備する過程と、 透明物質を光ビームの通路内に該光ビームに対して一定
角度で配置する過程とを含み、 紫外線から赤外線までの波長域内で動作することを特徴
とする広波長域ビームスプリッタの製造方法。 - 【請求項４】 それぞれ平行な未被覆の両表面及び０.
１５ｍｍ以下の厚さを有しかつ融解シリカ又はサファイ
アから成る透明物質で構成された少なくとも第１及び第
２の広波長域ビームスプリッタを得る過程と、 第１及び第２のビームスプリッタを相互に平行に配置す
る過程と、 紫外線から赤外線までの波長域内の少なくとも第１及び
第２の平行な光ビームを発生させる過程と、 第１のビームスプリッタの一方の表面から反射された第
１の光ビームを隣接する第２のビームスプリッタ上の第
２の光ビームに対し第２のビームスプリッタの一方の表
面上の入射点において整列させ、第１及び第２の光ビー
ムを合併させて第１及び第２の光ビームの全特性を有す
る１つの光ビームを出力するように第１及び第２のビー
ムスプリッタを調整する過程とを含み、 少なくとも第１及び第２の光ビームを合併させて１つの
光ビームを出力することを特徴とする光ビーム合併法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/719,509 US5164857A (en) | 1991-06-24 | 1991-06-24 | Wide band non-coated beam splitter |
| US719509 | 1991-06-24 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05264813A JPH05264813A (ja) | 1993-10-15 |
| JP2750333B2 true JP2750333B2 (ja) | 1998-05-13 |
Family
ID=24890348
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4160991A Expired - Fee Related JP2750333B2 (ja) | 1991-06-24 | 1992-06-19 | 広波長域ビームスプリッタ、光学装置、広波長域ビームスプリッタの製造方法及び光ビーム合併法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5164857A (ja) |
| JP (1) | JP2750333B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5900975A (en) * | 1997-10-30 | 1999-05-04 | Cognex Corporation | Ghost image extinction in an active range sensor |
| GB2377754B (en) * | 2001-06-09 | 2005-08-17 | Anthony Gerald Booth | Movement detection apparatus and method |
| JP4655263B2 (ja) * | 2004-08-12 | 2011-03-23 | ブラザー工業株式会社 | 画像表示装置及びその板状反射素子 |
| US7672342B2 (en) * | 2005-05-24 | 2010-03-02 | MAX-PLANCK-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. | Method and radiation source for generating pulsed coherent radiation |
| WO2014190473A1 (zh) * | 2013-05-27 | 2014-12-04 | 华为技术有限公司 | 滤波器、滤波器的制造方法和激光波长监控装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4627688A (en) * | 1983-07-01 | 1986-12-09 | Sano Kiko Co., Ltd. | Beam splitter |
| JPS6019101A (ja) * | 1983-07-13 | 1985-01-31 | Hoya Corp | ビ−ムスプリツタ |
| US4632553A (en) * | 1985-02-25 | 1986-12-30 | Nicolet Instrument Corporation | Silicon beamsplitter |
| JPS622204A (ja) * | 1985-06-27 | 1987-01-08 | Jeol Ltd | 半透鏡 |
| JPS6394219A (ja) * | 1986-10-09 | 1988-04-25 | Toshiba Corp | レ−ザビ−ムの合成分配装置 |
-
1991
- 1991-06-24 US US07/719,509 patent/US5164857A/en not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-06-19 JP JP4160991A patent/JP2750333B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05264813A (ja) | 1993-10-15 |
| US5164857A (en) | 1992-11-17 |
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